JPH0581841U - Slit scanning projection exposure system - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 スリット走査型投影露光装置における光源か
らの光の有効利用を図り、露光装置の大型化を回避する
一方で露光時間の短縮を可能にする。 【構成】 フォトマスク６とワーク７とを走査テーブル
１上に載置した上でフォトマスク６をスリット状に照明
し、このスリット状照明部分を投影光学系によりワーク
に結像させながら走査テーブルを移動させるスリット走
査型投影露光装置において、同一光源８からの光を複数
個のスリット９（９ａ，９ｂ）を用いてそれぞれフォト
マスク６の異なる部分を照明し、かつこれらスリット状
照明部分Ｓ１，Ｓ２をそれぞれ個別の投影光学系１１，
１２によりワーク７に投影露光するように構成する。 (57) [Summary] [Object] To effectively utilize light from a light source in a slit scanning type projection exposure apparatus, and avoid exposure of the exposure apparatus to a large size while shortening exposure time. A photomask 6 and a work 7 are placed on a scanning table 1, the photomask 6 is illuminated in a slit shape, and the scanning table is moved while the slit-shaped illuminated portion is imaged on the work by a projection optical system. In the slit scanning type projection exposure apparatus which is moved, light from the same light source 8 is used to illuminate different portions of the photomask 6 by using a plurality of slits 9 (9a, 9b), and these slit-shaped illumination portions S1, S2. The individual projection optical systems 11,
12 is used to project and expose the work 7.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案はスリット走査型投影露光装置に関し、特に露光時間の短縮を図った露 光装置に関する。 The present invention relates to a slit scanning type projection exposure apparatus, and more particularly, to an exposure apparatus which shortens the exposure time.

【０００２】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

この種の露光装置として、例えば本出願人が提案したものがある（平成３年特 許願第２８７４３２号）。この露光装置は、所要のパターンが形成されたフォト マスクと、パターンが露光されるワークとを同一のテーブルに載置し、フォトマ スクのスリット状の領域をミラーと投影レンズで構成された投影光学系によりワ ークに投影させる。そして、テーブルを投影光学系に対して移動させることで、 フォトマスクを走査しながらワークに対するパターン投影を可能とするものであ る。 As this type of exposure apparatus, for example, there is one proposed by the present applicant (1991 Japanese Patent Application No. 287432). In this exposure system, a photomask on which a desired pattern is formed and a work on which the pattern is exposed are placed on the same table, and the slit-shaped area of the photomask is a projection optical system composed of a mirror and a projection lens. It is projected on the work by the system. By moving the table with respect to the projection optical system, it is possible to project the pattern onto the work while scanning the photomask.

【０００３】[0003]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

この先の露光装置では、投影光学系が１つの系統であるため、フォトマスクを 照明する光源からの光のうち、投影光学系で走査を行うスリット状の領域の光の みが利用され、スリット以外の領域の光は利用されないことになる。このため、 光源の全光量に対する投影光量の割合が小さく、露光を完了するまでの時間が長 くなるという問題がる。 In the exposure apparatus beyond this, since the projection optical system is one system, of the light from the light source that illuminates the photomask, only the light in the slit-shaped area that is scanned by the projection optical system is used, and other than the slit. The light in the area will not be used. Therefore, there is a problem that the ratio of the projected light amount to the total light amount of the light source is small and the time until the exposure is completed becomes long.

【０００４】 或いは、露光時間を短縮するためには、光源に大光量のものを用いる必要があ り、露光装置の大型化、高価格化をまねき、実用的ではないという問題がある。 本考案の目的は、光源からの光の有効利用を図り、露光装置の大型化を回避す る一方で露光時間の短縮を可能にしたスリット走査型投影露光装置を提供するこ とにある。Alternatively, in order to shorten the exposure time, it is necessary to use a light source having a large amount of light, which causes a problem that the exposure apparatus becomes large in size and expensive and is not practical. It is an object of the present invention to provide a slit scanning type projection exposure apparatus capable of effectively utilizing the light from a light source and avoiding the enlargement of the exposure apparatus while shortening the exposure time.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】 本考案の露光装置は、同一光源からの光を複数個のスリットを用いてそれぞれ フォトマスクの異なる部分を照明し、かつこれらスリット状照明部分をそれぞれ 個別の投影光学系によりワークに結像するように構成する。An exposure apparatus according to the present invention uses a plurality of slits to illuminate different portions of a photomask with light from the same light source, and projects these slit-shaped illuminated portions individually. An optical system is used to form an image on a work.

【０００６】[0006]

【実施例】【Example】

次に、本考案について図面を参照して説明する。図１は本考案の一実施例の概 略斜視構成図、図２はその正面構成図である。これらの図において、１は走査テ ーブルであり、一対のレール２上を往復移動できるように構成される。この走査 テーブル１上には走査テーブルと略同形状のキャリッジ３がノブ４により上下位 置が調整できるように搭載され、更にこのキャリッジ３上の一側には支持台５が 搭載されてここにフォトマスク６が支持される。この支持台はキャリッジ３上で のＸ方向、Ｙ方向の平面位置が調整可能とされているがそのための機構の図示は 省略する。又、前記キャリッジ上の他側にはフォトマスク６のパターンが投影さ れるワーク７が載置されている。 Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic perspective view of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a front view of the same. In these drawings, reference numeral 1 denotes a scanning table, which is configured to be capable of reciprocating on a pair of rails 2. A carriage 3 having substantially the same shape as that of the scanning table is mounted on the scanning table 1 so that the upper and lower positions can be adjusted by a knob 4, and a support base 5 is mounted on one side of the carriage 3 and mounted on the scanning table 1. The photomask 6 is supported. The plane position of this support base in the X and Y directions on the carriage 3 can be adjusted, but the mechanism for that purpose is omitted in the drawing. A work 7 on which the pattern of the photomask 6 is projected is placed on the other side of the carriage.

【０００７】 一方、前記走査テーブル１の下方、更に言えばフォトマスク６を支持する支持 台５の下方位置には光源８が配置され、かつ光源と走査テーブルとの間には前記 レール２と直交する方向に延びる一対のスリット９ａ，９ｂを互いに所要の間隔 で離して形成したスリット板９が配置される。又、光源８とこのスリット板９と の間にはコンデンサレンズ１０が介挿され、コンデンサレンズ１０は光源８から の光をそれぞれのスリット９ａ，９ｂに集光させる。On the other hand, a light source 8 is arranged below the scanning table 1, that is, below a supporting table 5 that supports a photomask 6, and is orthogonal to the rail 2 between the light source and the scanning table. The slit plate 9 is formed by forming a pair of slits 9a and 9b that extend in the direction in which the slits 9a and 9b are separated from each other at a required interval. A condenser lens 10 is inserted between the light source 8 and the slit plate 9, and the condenser lens 10 focuses the light from the light source 8 on the respective slits 9a and 9b.

【０００８】 又、前記走査テーブルの上方には、一対の投影光学系１１，１２が配設される 。これら投影光学系１１，１２は、それぞれの投影レンズ１３，１４が前記レー ル２方向に向けて配置されており、各投影レンズ１３，１４と前記フォトマスク ６及びワーク７との間にはそれぞれ走査テーブル１の上面に対して４５度傾斜さ れたミラー１５〜２０を配設している。ここで、ミラー１５〜１７はスリット９ ａからの光を垂直に反射させて投影レンズ１３に入射させるように構成し、ミラ ー１８はスリット９ｂからの光を垂直に反射させて投影レンズ１４に入射させる ように構成する。又、ミラー１９，２０はそれぞれ投影レンズ１３，１４からの 光を垂直に反射させてワーク７上に投射するように構成される。尚、この実施例 においては、一方の投影光学系１１に設けたミラー１５〜１７は、他方の投影光 学系１２との光軸距離を等しくするために複数枚のミラー構成とされている。A pair of projection optical systems 11 and 12 is arranged above the scanning table. In these projection optical systems 11 and 12, respective projection lenses 13 and 14 are arranged in the rail 2 direction, and between the projection lenses 13 and 14 and the photomask 6 and the work 7, respectively. Mirrors 15 to 20 which are inclined by 45 degrees with respect to the upper surface of the scanning table 1 are arranged. Here, the mirrors 15 to 17 are configured to vertically reflect the light from the slit 9a and make it enter the projection lens 13, and the mirror 18 vertically reflects the light from the slit 9b to the projection lens 14. It is configured to be incident. The mirrors 19 and 20 are configured to vertically reflect the light from the projection lenses 13 and 14 and project the light onto the work 7. In this embodiment, the mirrors 15 to 17 provided on the one projection optical system 11 are formed of a plurality of mirrors in order to make the optical axis distances from the other projection optical system 12 equal.

【０００９】 この構成によれば、光源８からの光はコンデンサレンズ１０で集光された上で 対応するスリット９ａ，９ｂを通して射出され、走査テーブル１及び支持台５を 通してフォトマスク６をスリット状Ｓ１，Ｓ２に照明する。更に、フォトマスク ６を透過した光はそれぞれの投影光学系１１，１２によりワーク上に結像される 。即ち、フォトマスク６の透過光はミラー１５，１６，１７と、１８とでそれぞ れ走査テーブル１の上面と平行な方向に反射され、投影レンズ１３，１４を透過 し、ミラー１９，２０で走査テーブルの上面と垂直な方向に向けて反射されてワ ーク７上に結像される。一方、走査テーブル１はレール２上を移動されるため、 一対のスリット９ａ，９ｂによりスリット状照明部分はフォトマスク６上で走査 されることになり、この結果このスリット状照明部分はワーク７面上を移動され ながら順次投影露光されることになり、走査による投影露光が行われる。According to this configuration, the light from the light source 8 is condensed by the condenser lens 10 and then emitted through the corresponding slits 9 a and 9 b, and passes through the scanning table 1 and the support base 5 to slit the photomask 6. Illuminate the states S1 and S2. Further, the light transmitted through the photomask 6 is imaged on the work by the respective projection optical systems 11 and 12. That is, the transmitted light of the photomask 6 is reflected by the mirrors 15, 16, 17 and 18 in a direction parallel to the upper surface of the scanning table 1, passes through the projection lenses 13 and 14, and is reflected by the mirrors 19 and 20. The light is reflected in a direction perpendicular to the upper surface of the scanning table and imaged on the work 7. On the other hand, since the scanning table 1 is moved on the rail 2, the slit-shaped illuminated portion is scanned on the photomask 6 by the pair of slits 9a and 9b. The projection exposure is sequentially performed while moving up, and the projection exposure by scanning is performed.

【００１０】 そして、このとき一対のスリット９ａ，９ｂが隣接されているため、フォトマ スク６ではスリット状照明部分Ｓ１，Ｓ２が並列された状態となり、したがって フォトマスクの同一パターンが連続して２回照明され、これに対応してワーク７ では同一部分が連続して２回投影露光されることになる。このとき各スリット９ ａ，９ｂを通してフォトマスク６の照明を行い、かつワーク７に対して露光を行 うために用いられるそれぞれの光は同一光源８からの光を利用しているため、結 果として２倍の光量で露光を行うことと等価になる。これにより、従来に比較し て露光光量を増大させ、その分露光時間を短縮することが可能となる。一方、露 光光量を２倍にしても光源は従来と同一のものでよく、露光装置が大型になるこ とはない。 尚、前記実施例ではスリットを２個設けた例を示しているが、スリット及び投 影光学系を３個以上設けてもよい。At this time, since the pair of slits 9a and 9b are adjacent to each other, the slit-shaped illumination portions S1 and S2 are arranged side by side in the photomask 6, and therefore, the same pattern of the photomask is continuously formed twice. The work 7 is illuminated and the same portion of the work 7 is continuously projected and exposed twice. At this time, since the photomask 6 is illuminated through the slits 9a and 9b and the light used for exposing the work 7 is the light from the same light source 8, the result is obtained. Is equivalent to performing exposure with twice the amount of light. As a result, the exposure light amount can be increased and the exposure time can be shortened by that amount as compared with the conventional case. On the other hand, even if the amount of exposed light is doubled, the light source may be the same as the conventional one, and the exposure apparatus does not become large. Although the above embodiment shows an example in which two slits are provided, three or more slits and projection optical systems may be provided.

【００１１】[0011]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上説明したように本考案は、同一光源からの光を複数個のスリットを用いて それぞれフォトマスクの異なる部分を照明し、このスリット状照明部分をそれぞ れ個別の投影光学系によりワークに結像するように構成しているので、光源の光 を有効利用して露光光量を増大させ、露光時間を短縮することができるとともに 、光源に大光量のものを用いる必要もなく、露光装置の大型化が防止できる。 As described above, according to the present invention, light from the same light source is used to illuminate different portions of the photomask using a plurality of slits, and these slit-shaped illuminated portions are connected to the workpiece by individual projection optical systems. Since it is configured to form an image, it is possible to effectively use the light of the light source to increase the exposure light amount and shorten the exposure time, and it is not necessary to use a large light amount for the light source, and the size of the exposure apparatus is large. Can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本考案の一実施例の光学系の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an optical system according to an embodiment of the present invention.

【図２】図１の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 走査テーブル ６ フォトマスク ７ ワーク ８ 光源 ９ スリット板 １１，１２ 投影光学系 １３，１４ 投影レンズ １５〜２０ ミラー 1 Scanning Table 6 Photo Mask 7 Work 8 Light Source 9 Slit Plate 11, 12 Projection Optical System 13, 14 Projection Lens 15-20 Mirror

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項１】 フォトマスクとワークとを走査テーブル
上に載置した上でフォトマスクをスリット状に照明し、
このスリット状照明部分を投影光学系によりワークに結
像させた状態で前記走査テーブルを移動させるようにし
たスリット走査型投影露光装置において、同一光源から
の光を複数個のスリットを用いてそれぞれフォトマスク
の異なる部分を照明し、かつこれら複数のスリット状照
明部分をそれぞれ個別の投影光学系によりワークに結像
するように構成したことを特徴とするスリット走査型投
影露光装置。1. A photomask and a work are placed on a scanning table, and the photomask is illuminated in a slit shape,
In the slit scanning type projection exposure apparatus in which the scanning table is moved while the slit-shaped illumination portion is imaged on the work by the projection optical system, the light from the same light source is used as a photo by using a plurality of slits. A slit scanning projection exposure apparatus, characterized in that different portions of a mask are illuminated, and a plurality of these slit-shaped illumination portions are imaged on a work by individual projection optical systems.