JPH0653113A - 走査投影露光装置 - Google Patents
走査投影露光装置Info
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- JPH0653113A JPH0653113A JP4204638A JP20463892A JPH0653113A JP H0653113 A JPH0653113 A JP H0653113A JP 4204638 A JP4204638 A JP 4204638A JP 20463892 A JP20463892 A JP 20463892A JP H0653113 A JPH0653113 A JP H0653113A
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- mirror
- optical system
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70791—Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体や液晶表示装置基板の製造に用いられる
走査投影露光装置を大型基板の露光が簡単に行なえ、走
査のヨーイングや横振れがパターン歪とならないように
する。 【構成】光源８の光をマスク１１に照射する手段と、２
個の凹面鏡１３，１５と１個の平面鏡１２と１個の凸面
鏡１４と１個の左右反転鏡１６より構成され、前記マス
ク１１のパターンを基板１７に投影する１：１正立投影
光学系と、マスク１１および基板１７を相対位置を変え
ずに保持する機構と、この保持機構を一体的に走査運動
させる走査手段を備えた構成とする。
走査投影露光装置を大型基板の露光が簡単に行なえ、走
査のヨーイングや横振れがパターン歪とならないように
する。 【構成】光源８の光をマスク１１に照射する手段と、２
個の凹面鏡１３，１５と１個の平面鏡１２と１個の凸面
鏡１４と１個の左右反転鏡１６より構成され、前記マス
ク１１のパターンを基板１７に投影する１：１正立投影
光学系と、マスク１１および基板１７を相対位置を変え
ずに保持する機構と、この保持機構を一体的に走査運動
させる走査手段を備えた構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体や液晶表示装置
基板の製造などに用いられる走査投影露光装置に関す
る。
基板の製造などに用いられる走査投影露光装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体や液晶表示装置基板などの
製造においては走査投影露光装置により露光処理をして
いる。
製造においては走査投影露光装置により露光処理をして
いる。
【０００３】図７は、従来の走査投影露光装置の概略構
成を示すものである。図中の１は照明光学系であり、水
銀灯１ａと各種の光学部品を備え、水銀灯１ａより円弧
スリット１ｂを通してマスク２に、図８に示すような円
弧状照明光を照射するようにしている。
成を示すものである。図中の１は照明光学系であり、水
銀灯１ａと各種の光学部品を備え、水銀灯１ａより円弧
スリット１ｂを通してマスク２に、図８に示すような円
弧状照明光を照射するようにしている。
【０００４】円弧状に照明されたマスク２のパターン
は、台形ミラー３、凹面鏡４、および凸面鏡５で構成さ
れる投影光学系を経て、基板６植えに投影される。した
がって、基板６上に投影される像の領域は円弧状とな
る。前記マスク２はキャリッジ７の上端に、また基板６
はキャリッジ７の下端に保持されており、キャリッジ７
をＢ方向に走査することにより、マスク２上の全パター
ンを基板６上に露光するようなっている。
は、台形ミラー３、凹面鏡４、および凸面鏡５で構成さ
れる投影光学系を経て、基板６植えに投影される。した
がって、基板６上に投影される像の領域は円弧状とな
る。前記マスク２はキャリッジ７の上端に、また基板６
はキャリッジ７の下端に保持されており、キャリッジ７
をＢ方向に走査することにより、マスク２上の全パター
ンを基板６上に露光するようなっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成では、大型基板を露光する場合、露光エリア
全面をカバーするためにおおよそ基板幅の２倍程度の直
径を持つ大口径凹面鏡などの大型光学部品を必要とする
ため製作が難しく高価である。さらには、倒立光学系で
あるため、キャリッジの直線走査のヨーイングおよび横
振れが露光のパターン歪となってしまうという問題点を
有していた。
ような構成では、大型基板を露光する場合、露光エリア
全面をカバーするためにおおよそ基板幅の２倍程度の直
径を持つ大口径凹面鏡などの大型光学部品を必要とする
ため製作が難しく高価である。さらには、倒立光学系で
あるため、キャリッジの直線走査のヨーイングおよび横
振れが露光のパターン歪となってしまうという問題点を
有していた。
【０００６】本発明は、上記問題点に鑑み、製作が容易
で、低コストであり、大型基板の露光が簡単に行え、走
査のヨーイングや横振れがパターン歪とならない走査投
影露光装置を提供することを目的とするものである。
で、低コストであり、大型基板の露光が簡単に行え、走
査のヨーイングや横振れがパターン歪とならない走査投
影露光装置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の走査投影露光装置は、光源と、その光をマス
クに照射する手段と、２個の凹面鏡と１個の平面鏡と１
個の凸面鏡と１個の左右反転鏡により構成され、前記マ
スクのパターンを基板に投影するに１正立投影光学系
と、前記マスクおよび基板を相対位置を変えずに保持す
る保持機構と、前記保持機構を一体的に走査運動させる
走査手段とを備えた構成とするものである。
に本発明の走査投影露光装置は、光源と、その光をマス
クに照射する手段と、２個の凹面鏡と１個の平面鏡と１
個の凸面鏡と１個の左右反転鏡により構成され、前記マ
スクのパターンを基板に投影するに１正立投影光学系
と、前記マスクおよび基板を相対位置を変えずに保持す
る保持機構と、前記保持機構を一体的に走査運動させる
走査手段とを備えた構成とするものである。
【０００８】
【作用】上記した構成において、マスクおよび基板を相
対位置を変えずに走査運動させることにより、光を照射
されたマスクの部分パターンの像を基板全面にわたって
１：１に投影露光する。そして１：１正立投影光学系を
用いるため、走査のヨーイングや横振れがパターン歪と
ならないこととなる。
対位置を変えずに走査運動させることにより、光を照射
されたマスクの部分パターンの像を基板全面にわたって
１：１に投影露光する。そして１：１正立投影光学系を
用いるため、走査のヨーイングや横振れがパターン歪と
ならないこととなる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の走査投影露光装置について、
図１〜図４を参照しながら説明する。
図１〜図４を参照しながら説明する。
【００１０】図１は、本発明の第１の実施例の走査投影
露光装置である。図中の８は光源である水銀灯であり、
この水銀灯８の光を反射するように熱線透過型の楕円面
反射鏡９を関係づけている。楕円面反射鏡９で反射され
た光は集光光学系１０を介して、マスク１１に投射され
るようになっている。マスクのパターン情報を含んだ光
は平面鏡１２、凹面鏡１３、凸面鏡１４、凹面鏡１５、
左右反転鏡１６を介して基板１７に投射されるようにな
っている。すなわち前記の１２〜１６で１：１正立投影
光学系を構成している。この１：１正立投影光学系は図
４に示すように、Ｏ2 は、凸面鏡１４の光軸３３上に位
置する凸面鏡１４の曲率半径ｒの中心となっており、前
記凹面鏡１３および１５は、曲率半径Ｒが等しくかつ曲
率半径の中心がＯ1 の位置で一致するが、Ｏ1 は前記凸
面鏡の光軸３３上からわずかだけずらした位置に配置さ
れている。
露光装置である。図中の８は光源である水銀灯であり、
この水銀灯８の光を反射するように熱線透過型の楕円面
反射鏡９を関係づけている。楕円面反射鏡９で反射され
た光は集光光学系１０を介して、マスク１１に投射され
るようになっている。マスクのパターン情報を含んだ光
は平面鏡１２、凹面鏡１３、凸面鏡１４、凹面鏡１５、
左右反転鏡１６を介して基板１７に投射されるようにな
っている。すなわち前記の１２〜１６で１：１正立投影
光学系を構成している。この１：１正立投影光学系は図
４に示すように、Ｏ2 は、凸面鏡１４の光軸３３上に位
置する凸面鏡１４の曲率半径ｒの中心となっており、前
記凹面鏡１３および１５は、曲率半径Ｒが等しくかつ曲
率半径の中心がＯ1 の位置で一致するが、Ｏ1 は前記凸
面鏡の光軸３３上からわずかだけずらした位置に配置さ
れている。
【００１１】前記マスク１１は支持部材１８に支持固定
されており、前記基板１７は支持部材１９で支持固定さ
れている。そしてこれに支持部材１８，１９は回転軸２
０に一体的に固定されている。前記回転軸２０は、キャ
リッジ２３に回転軸受２２により回転可能に取り付けら
れている。前記回転軸２０はモータ２１で回転させられ
るようになっており、前記キャリッジ２３は別のモータ
２４によりボールねじ３４を介してＸ方向に直動駆動さ
れるようになっている。
されており、前記基板１７は支持部材１９で支持固定さ
れている。そしてこれに支持部材１８，１９は回転軸２
０に一体的に固定されている。前記回転軸２０は、キャ
リッジ２３に回転軸受２２により回転可能に取り付けら
れている。前記回転軸２０はモータ２１で回転させられ
るようになっており、前記キャリッジ２３は別のモータ
２４によりボールねじ３４を介してＸ方向に直動駆動さ
れるようになっている。
【００１２】なお図２は、図１のＣＣ断面図であり、２
５は前記集光光学系１０から照射された、マスク１１上
の照明スポットである。図３は、前記左右反転鏡の作用
説明図であり、図２および図３におけるＲは、光学系内
での像の向きを表現するための記号である。
５は前記集光光学系１０から照射された、マスク１１上
の照明スポットである。図３は、前記左右反転鏡の作用
説明図であり、図２および図３におけるＲは、光学系内
での像の向きを表現するための記号である。
【００１３】以上のように構成された走査投影露光装置
についてその動作を説明する。水銀灯８から出た光は、
楕円面反射鏡９および集光光学系１０により集光され、
マスク１１の下面上に照明スポット２５を形成する。照
明スポット２５内のマスクパターン情報を含んだ光は、
次に平面鏡１２で反射して凹面鏡１３、凸面鏡１４、凹
面鏡１５、左右反転鏡１６を経て、基板１７の上面に前
記マスク１１の部分パターンの像を結ぶ。このとき、図
２で示される照明スポット２５内のマスクパターンは、
凹面鏡１５で反射した後は図３で示されるように左右が
反転しており、左右反転鏡１６により正立像に変換して
基板１７上に投影される。前記マスク１１および基板１
７は、支持部材１８，１９および回転軸２０により相対
位置が変化しないよう一体的に支持されており、モータ
２１によりθ方向に回転走査されると同時にモータ２４
によりＸ方向に直線走査される。したがって、照明スポ
ット２５はマスク１１の全面を走査し、基板１７上には
マスク１１の全パターンが露光されることになる。ま
た、本実施例では図１、図２に示すように、マスク１
１、基板１７を同時に複数処理できるよう構成されてい
る。
についてその動作を説明する。水銀灯８から出た光は、
楕円面反射鏡９および集光光学系１０により集光され、
マスク１１の下面上に照明スポット２５を形成する。照
明スポット２５内のマスクパターン情報を含んだ光は、
次に平面鏡１２で反射して凹面鏡１３、凸面鏡１４、凹
面鏡１５、左右反転鏡１６を経て、基板１７の上面に前
記マスク１１の部分パターンの像を結ぶ。このとき、図
２で示される照明スポット２５内のマスクパターンは、
凹面鏡１５で反射した後は図３で示されるように左右が
反転しており、左右反転鏡１６により正立像に変換して
基板１７上に投影される。前記マスク１１および基板１
７は、支持部材１８，１９および回転軸２０により相対
位置が変化しないよう一体的に支持されており、モータ
２１によりθ方向に回転走査されると同時にモータ２４
によりＸ方向に直線走査される。したがって、照明スポ
ット２５はマスク１１の全面を走査し、基板１７上には
マスク１１の全パターンが露光されることになる。ま
た、本実施例では図１、図２に示すように、マスク１
１、基板１７を同時に複数処理できるよう構成されてい
る。
【００１４】また、図４に示すように、凹面鏡１３，１
５の曲率半径の中心Ｏ1 を凸面鏡の光軸からわずかずら
すことにより、投影光学系の非点隔差を小さくでき、焦
点深度を大きくすることができる。
５の曲率半径の中心Ｏ1 を凸面鏡の光軸からわずかずら
すことにより、投影光学系の非点隔差を小さくでき、焦
点深度を大きくすることができる。
【００１５】以上のように、本実施例によれば、光源
と、その光をマスクに照射する手段と、２個の凹面鏡と
１個の平面鏡と１個の凸面鏡と１個の左右反転鏡よりな
り、前記マスクのパターンを基板に投影する１：１正立
投影光学系と、前記マスクおよび基板を相対位置を変え
ずに保持する保持機構と、前記保持機構を一体的に走査
運動させる回転走査機構および直線走査機構を備えたこ
とにより、以下のような優れた効果を有する。
と、その光をマスクに照射する手段と、２個の凹面鏡と
１個の平面鏡と１個の凸面鏡と１個の左右反転鏡よりな
り、前記マスクのパターンを基板に投影する１：１正立
投影光学系と、前記マスクおよび基板を相対位置を変え
ずに保持する保持機構と、前記保持機構を一体的に走査
運動させる回転走査機構および直線走査機構を備えたこ
とにより、以下のような優れた効果を有する。
【００１６】１）投影光学系および照明光学系を構成す
る光学部品は、小さなものでよいので、製作が容易で安
価である。 ２）露光の領域が光学系の大きさに制限されず、また、
非点隔差が小さく焦点深度が大きいので、大型基板の投
影露光が容易に行える。
る光学部品は、小さなものでよいので、製作が容易で安
価である。 ２）露光の領域が光学系の大きさに制限されず、また、
非点隔差が小さく焦点深度が大きいので、大型基板の投
影露光が容易に行える。
【００１７】３）１度に複数の基板を処理できるので、
生産性が高い。 ４）１：１正立投影光学系であるため、走査のヨーイン
グおよび横振れが露光のパターン歪とならない。
生産性が高い。 ４）１：１正立投影光学系であるため、走査のヨーイン
グおよび横振れが露光のパターン歪とならない。
【００１８】次に本発明の第２の実施例について図５お
よび図６を参照しながら説明する。図５は、本発明の第
２の実施例における走査投影露光装置である。この実施
例において、照明光学系（８〜１０）および１：１正立
投影光学系（１２〜１６）は第１の実施例と全く同様で
ある。そして、この実施例の特徴的構成は、マスク２６
と基板２７を相対位置を変えずに一体的に支持している
コ字状の支持部材を用いたこと、モーター３０により図
６のＹ方向に直線駆動されるＹステージ２９と、モータ
３２により図６のＸ方向に直線駆動されるＸステージ３
１を設けたことにある。図中の２５は前記マスク２６の
下面上に照射された照明スポットである。
よび図６を参照しながら説明する。図５は、本発明の第
２の実施例における走査投影露光装置である。この実施
例において、照明光学系（８〜１０）および１：１正立
投影光学系（１２〜１６）は第１の実施例と全く同様で
ある。そして、この実施例の特徴的構成は、マスク２６
と基板２７を相対位置を変えずに一体的に支持している
コ字状の支持部材を用いたこと、モーター３０により図
６のＹ方向に直線駆動されるＹステージ２９と、モータ
３２により図６のＸ方向に直線駆動されるＸステージ３
１を設けたことにある。図中の２５は前記マスク２６の
下面上に照射された照明スポットである。
【００１９】以上のように構成された走査投影露光装置
についてその動作を説明する。照明光学系（８〜１０）
および１：１正立投影光学系（１２〜１６）について
は、第１の実施例と全く同様である。前記マスク２６お
よび基板２７は、支持部材２８で、相対位置が変化しな
いよう一体的に支持されており、モータ３０、ボールね
じ３５およびモータ３２、ボールねじ３６によりＹ，Ｘ
方向に直線走査される。たとえば図６のように、Ｘ，Ｙ
方向に交互に走査運動させれば渦巻状の走査となり、前
記照明スポット２５はマスク２６の全面を走査し、基板
２７上にはマスク２６の全パターンが露光されることに
なる。
についてその動作を説明する。照明光学系（８〜１０）
および１：１正立投影光学系（１２〜１６）について
は、第１の実施例と全く同様である。前記マスク２６お
よび基板２７は、支持部材２８で、相対位置が変化しな
いよう一体的に支持されており、モータ３０、ボールね
じ３５およびモータ３２、ボールねじ３６によりＹ，Ｘ
方向に直線走査される。たとえば図６のように、Ｘ，Ｙ
方向に交互に走査運動させれば渦巻状の走査となり、前
記照明スポット２５はマスク２６の全面を走査し、基板
２７上にはマスク２６の全パターンが露光されることに
なる。
【００２０】以上のように、本実施例によれば、光源８
と、その光をマスク２６に照射する手段と、２個の凹面
鏡１３，１５と１個の平面鏡１２と１個の凸面鏡１４と
１個の左右反転鏡１６により構成される１：１正立投影
光学系と、前記マスク２６および基板２７を相対位置を
変えずに保持する保持機構と、前記保持機構を一体的に
走査運動させる２つの直線走査機構を備えたことによ
り、本発明の第１の実施例とほぼ同様の効果が得られる
他に、大型基板の露光を行う場合でも装置が小さくす
み、安価で製作できるという特有の効果を有する。
と、その光をマスク２６に照射する手段と、２個の凹面
鏡１３，１５と１個の平面鏡１２と１個の凸面鏡１４と
１個の左右反転鏡１６により構成される１：１正立投影
光学系と、前記マスク２６および基板２７を相対位置を
変えずに保持する保持機構と、前記保持機構を一体的に
走査運動させる２つの直線走査機構を備えたことによ
り、本発明の第１の実施例とほぼ同様の効果が得られる
他に、大型基板の露光を行う場合でも装置が小さくす
み、安価で製作できるという特有の効果を有する。
【００２１】なお第１、第２の実施例において、照明ス
ポット２５を形成するのに楕円面反射鏡９と屈折光学系
よりなる集光光学系１０を用いているが、要は光源であ
る水銀灯８の光をマスク１１，２６の下面上に集光させ
ればよく、他の光学部品を用いても同様の効果を奏す
る。
ポット２５を形成するのに楕円面反射鏡９と屈折光学系
よりなる集光光学系１０を用いているが、要は光源であ
る水銀灯８の光をマスク１１，２６の下面上に集光させ
ればよく、他の光学部品を用いても同様の効果を奏す
る。
【００２２】また、第１、第２の実施例において、光源
は水銀灯としているが、たとえばエキシマレーザー光
源、キセノンランプ、太陽光など、他の光源でも全く同
様の効果を奏する。
は水銀灯としているが、たとえばエキシマレーザー光
源、キセノンランプ、太陽光など、他の光源でも全く同
様の効果を奏する。
【００２３】また、第１、第２の実施例において、光学
系（８〜１６）を固定してマスク１１，２６と基板１
７，２７を一体的に走査運動させているが、逆にマスク
と基板を固定して光学系を走査運動させても全く同様の
効果を奏する。
系（８〜１６）を固定してマスク１１，２６と基板１
７，２７を一体的に走査運動させているが、逆にマスク
と基板を固定して光学系を走査運動させても全く同様の
効果を奏する。
【００２４】また、第１の実施例で、マスク１１と基板
１７を４組としているが、これは１組あるいは４以外の
複数でもよい。また、第１、第２の実施例において、マ
スク１１，２６と基板１６，２７は機械的に結合されて
一体的に走査運動しているが、これはたとえば複数の駆
動系により別々に走査運動させ、電気的に同期させても
同様の効果が得られる。
１７を４組としているが、これは１組あるいは４以外の
複数でもよい。また、第１、第２の実施例において、マ
スク１１，２６と基板１６，２７は機械的に結合されて
一体的に走査運動しているが、これはたとえば複数の駆
動系により別々に走査運動させ、電気的に同期させても
同様の効果が得られる。
【００２５】
【発明の効果】以上の実施例の説明より明らかなよう
に、本発明の走査投影露光装置は、光源と、その光をマ
スクに照射する手段と、２個の凹面鏡と１個の平面鏡と
１個の凸面鏡と１個の左右反転鏡により構成され、マス
クパターンを基板に投影する１：１正立投影光学系と、
前記マスクおよび基板を相対位置を変えずに保持する保
持機構と、前記保持機構または光学系を一体的に走査運
動させる走査手段とを備えたことにより、小型の光学部
品で構成でき、製作が容易で安価であり、大型基板の露
光が容易に行え、また、１：１正立投影光学系を用いる
ため、走査のヨーイングや横振れがパターン歪とならな
いという優れた効果が得られる。
に、本発明の走査投影露光装置は、光源と、その光をマ
スクに照射する手段と、２個の凹面鏡と１個の平面鏡と
１個の凸面鏡と１個の左右反転鏡により構成され、マス
クパターンを基板に投影する１：１正立投影光学系と、
前記マスクおよび基板を相対位置を変えずに保持する保
持機構と、前記保持機構または光学系を一体的に走査運
動させる走査手段とを備えたことにより、小型の光学部
品で構成でき、製作が容易で安価であり、大型基板の露
光が容易に行え、また、１：１正立投影光学系を用いる
ため、走査のヨーイングや横振れがパターン歪とならな
いという優れた効果が得られる。
【図１】本発明の第１の実施例の走査投影露光装置の構
成図
成図
【図２】図１のＣ−Ｃ断面矢視図
【図３】左右反転鏡の説明図
【図４】凹面鏡と凸面鏡の配置図
【図５】本発明の第２の実施例の走査投影露光装置の構
成図
成図
【図６】図５のＤ−Ｄ断面矢視図
【図７】従来の走査投影露光装置の１例を示す構成図
【図８】同露光パターンを示す平面図
８ 水銀灯（光源） １１ マスク １２ 平面鏡 １３，１５ 凹面鏡 １４ 凸面鏡 １６ 左右反転鏡 １７ 基板 １８，１９ 支持部材 ２３ キャリッジ
Claims (4)
- 【請求項１】 光源と、その光をマスクに照射する手段
と、２個の凹面鏡と１個の平面鏡と１個の凸面鏡と１個
の左右反転鏡により構成され、マスクのパターンを基板
に投影する１：１正立投影光学系と、前記マスクおよび
基板を相対位置を変えずに保持する保持機構と、前記保
持機構または光学系を一体的に走査運動させる走査手段
よりなる走査投影露光装置。 - 【請求項２】 １：１正立投影光学系において、２つの
凹面鏡の曲率が等しく、かつ曲率中心が合致するように
配置され、前記２つの凹面鏡の曲率中心が凸面鏡の光軸
上に位置しないように配置された請求項１記載の走査投
影露光装置。 - 【請求項３】 走査手段が、回転運動系と直線運動系に
より構成された請求項１記載の走査投影露光装置。 - 【請求項４】 走査手段が、直交する２つの直線運動系
により構成された請求項１記載の走査投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4204638A JPH0653113A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 走査投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4204638A JPH0653113A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 走査投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0653113A true JPH0653113A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16493797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4204638A Pending JPH0653113A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 走査投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653113A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5729331A (en) * | 1993-06-30 | 1998-03-17 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
| US6157497A (en) * | 1993-06-30 | 2000-12-05 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
| KR100374910B1 (ko) * | 1994-07-29 | 2003-05-09 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광장치 |
| JP2008233932A (ja) * | 2003-06-30 | 2008-10-02 | Asml Holding Nv | フラットパネルディスプレイ製造用露光システムおよびフラットパネルディスプレイ製造用ユニット拡大環状光学系 |
| CN104864241A (zh) * | 2015-05-28 | 2015-08-26 | 周子涵 | 摇摆移动的显示器平台 |
-
1992
- 1992-07-31 JP JP4204638A patent/JPH0653113A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6509954B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-01-21 | Nikon Corporation | Aperture stop having central aperture region defined by a circular ARC and peripheral region with decreased width, and exposure apparatus and method |
| US6556278B1 (en) | 1993-06-30 | 2003-04-29 | Nikon Corporation | Exposure/imaging apparatus and method in which imaging characteristics of a projection optical system are adjusted |
| US6795169B2 (en) | 1993-06-30 | 2004-09-21 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, optical projection apparatus and a method for adjusting the optical projection apparatus |
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