JPH0574816B2 - - Google Patents
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- JPH0574816B2 JPH0574816B2 JP60121913A JP12191385A JPH0574816B2 JP H0574816 B2 JPH0574816 B2 JP H0574816B2 JP 60121913 A JP60121913 A JP 60121913A JP 12191385 A JP12191385 A JP 12191385A JP H0574816 B2 JPH0574816 B2 JP H0574816B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/3021—Imagewise removal using liquid means from a wafer supported on a rotating chuck
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、半導体製造プロセスのうち写真製
版工程において用いられるネガレジスト現像装置
に関するものである。
版工程において用いられるネガレジスト現像装置
に関するものである。
[従来の技術]
従来よりスプレー方式によるネガレジストの現
像装置が知られている。第5図は、従来一般的に
用いられているスプレー方式によるネガレジスト
現像装置の一例を示す図であり、第6図は第5図
に示す洗浄液(以下、リンス液と称す)と現像液
との流量を現像プロセスに従つて示した図であ
る。次に、第5図および第6図を参照して、従来
のネガレジスト現像装置について説明する。
像装置が知られている。第5図は、従来一般的に
用いられているスプレー方式によるネガレジスト
現像装置の一例を示す図であり、第6図は第5図
に示す洗浄液(以下、リンス液と称す)と現像液
との流量を現像プロセスに従つて示した図であ
る。次に、第5図および第6図を参照して、従来
のネガレジスト現像装置について説明する。
第5図において、従来のネガレジスト現像装置
は、現像液1、リンス液2、パイプ3,4、現像
液ポンプ7、リンス液ポンプ8、現像液ノズル2
1、リンス液ノズル22、モータ14および試料
台15から構成される。ここで、試料台15には
特定のパターンを介して、予め露光されたネガレ
ジストの試料16が載置される。現像液1は現像
液ポンプ7により吸い上げられ、ノズル21から
霧状になつて試料16に吹出される。現像液の噴
霧は一定時間行なわれるが、噴霧中は、現像液1
を均一に散布するために、試料16をモータ14
により回転運動させるのが一般的である。一定時
間経過後、続いて、リンス液2がリンス液ポンプ
8により吸い上げられ、ノズル22から霧状にな
つて試料16上に吹出される。このときも試料1
6を回転運動させる。
は、現像液1、リンス液2、パイプ3,4、現像
液ポンプ7、リンス液ポンプ8、現像液ノズル2
1、リンス液ノズル22、モータ14および試料
台15から構成される。ここで、試料台15には
特定のパターンを介して、予め露光されたネガレ
ジストの試料16が載置される。現像液1は現像
液ポンプ7により吸い上げられ、ノズル21から
霧状になつて試料16に吹出される。現像液の噴
霧は一定時間行なわれるが、噴霧中は、現像液1
を均一に散布するために、試料16をモータ14
により回転運動させるのが一般的である。一定時
間経過後、続いて、リンス液2がリンス液ポンプ
8により吸い上げられ、ノズル22から霧状にな
つて試料16上に吹出される。このときも試料1
6を回転運動させる。
第5図に示す現像プロセス(a)において、試料1
6の未露光部分では架橋の進んでいないレジスト
が現像液に溶けるが、露光部分の架橋の進んでい
る部分にも現像液が浸入し、架橋の進み具合に応
じてレジストの溶解が起きる。また、露光部分で
はレジストが現像液を含むために、その体積が著
しく増大(膨潤)する。現像プロセス(c)では、リ
ンス液2によつて膨潤したレジストが収縮する。
この収縮による体積はそのレジストに照射された
紫外線、X線あるいは電子ビームのエネルギによ
つて決定される。
6の未露光部分では架橋の進んでいないレジスト
が現像液に溶けるが、露光部分の架橋の進んでい
る部分にも現像液が浸入し、架橋の進み具合に応
じてレジストの溶解が起きる。また、露光部分で
はレジストが現像液を含むために、その体積が著
しく増大(膨潤)する。現像プロセス(c)では、リ
ンス液2によつて膨潤したレジストが収縮する。
この収縮による体積はそのレジストに照射された
紫外線、X線あるいは電子ビームのエネルギによ
つて決定される。
[発明が解決しようとする問題点]
このように、ネガレジストの現像プロセスで
は、現像液中でレジストは著しく膨潤し、引き続
き噴霧されるリンス液によつて収縮が起きる。架
橋が進んでいるレジストは、この突然の収縮によ
つてストレスを受ける。このストレスは現像後の
レジストパターン間のブリツジを引き起こし、微
細パターンの形成を不可能にしている。
は、現像液中でレジストは著しく膨潤し、引き続
き噴霧されるリンス液によつて収縮が起きる。架
橋が進んでいるレジストは、この突然の収縮によ
つてストレスを受ける。このストレスは現像後の
レジストパターン間のブリツジを引き起こし、微
細パターンの形成を不可能にしている。
また、従来のネガレジスト現像装置では、第5
図のプロセス(b)に示すように、膨潤から収縮への
突然の変化を緩和する目的で、現像液1とリンス
液2とを同時に噴霧するオーバラツプ時間を設け
ることは可能であつた。しかし、それはほとんど
効果がなく、ネガレジストによる微細パターンの
形成は極めて困難であつた。
図のプロセス(b)に示すように、膨潤から収縮への
突然の変化を緩和する目的で、現像液1とリンス
液2とを同時に噴霧するオーバラツプ時間を設け
ることは可能であつた。しかし、それはほとんど
効果がなく、ネガレジストによる微細パターンの
形成は極めて困難であつた。
さらに、上述の問題点を解消するために、現像
プロセス中において、現像液1とリンス液2との
流量を変化させることが考えられるが、従来のネ
ガレジスト現像装置のそれぞれ液体の流量はノズ
ルの噴射口の口径およびポンプの能力によつて規
定されるので、流量を変化させることができなか
つた。
プロセス中において、現像液1とリンス液2との
流量を変化させることが考えられるが、従来のネ
ガレジスト現像装置のそれぞれ液体の流量はノズ
ルの噴射口の口径およびポンプの能力によつて規
定されるので、流量を変化させることができなか
つた。
それゆえに、この発明は、上述のような問題点
を解消するためになされたもので、美しい形状の
ネガレジストパターンが得られるように改良され
た、ネガレジスト現像装置を提供することを目的
とする。
を解消するためになされたもので、美しい形状の
ネガレジストパターンが得られるように改良され
た、ネガレジスト現像装置を提供することを目的
とする。
[問題点を解決するための手段]
この発明に係るネガレジスト現像装置は、現像
液と洗浄液とを噴霧手段によりネガレジストに吹
き付けて現像する装置に係るものである。当該装
置は、現像中に、現像液の流量が連続的に減少
し、かつ洗浄液の流量が連続的に増大するよう
に、現像開始時点と現像終了時点における、噴霧
手段に供給すべき現像液および洗浄液の流量を予
め設定するための設定手段と、上記噴霧手段に供
給される現像液および洗浄液の流量を検出する流
量検出手段と、を備える。当該装置は、さらに、
上記噴霧手段に供給される現像液および洗浄液の
流量を増大または減少させるための流量制御弁
と、を備える。当該装置は、さらに、上記設定手
段が設定した現像開始時点および現像終了時点に
おける現像液と洗浄液の流量データに基づいて、
現像開始時点から現像終了時点までのそれぞれの
時点における流量変化を演算する演算手段と、上
記流量検出手段の検出したそれぞれの流量検出デ
ータと上記演算手段の演算したそれぞれの流量演
算データとに基づいて、現像液および洗浄液の流
量がそれぞれの設定流量に一致するように、上記
流量制御弁を制御する制御手段と、を備える。
液と洗浄液とを噴霧手段によりネガレジストに吹
き付けて現像する装置に係るものである。当該装
置は、現像中に、現像液の流量が連続的に減少
し、かつ洗浄液の流量が連続的に増大するよう
に、現像開始時点と現像終了時点における、噴霧
手段に供給すべき現像液および洗浄液の流量を予
め設定するための設定手段と、上記噴霧手段に供
給される現像液および洗浄液の流量を検出する流
量検出手段と、を備える。当該装置は、さらに、
上記噴霧手段に供給される現像液および洗浄液の
流量を増大または減少させるための流量制御弁
と、を備える。当該装置は、さらに、上記設定手
段が設定した現像開始時点および現像終了時点に
おける現像液と洗浄液の流量データに基づいて、
現像開始時点から現像終了時点までのそれぞれの
時点における流量変化を演算する演算手段と、上
記流量検出手段の検出したそれぞれの流量検出デ
ータと上記演算手段の演算したそれぞれの流量演
算データとに基づいて、現像液および洗浄液の流
量がそれぞれの設定流量に一致するように、上記
流量制御弁を制御する制御手段と、を備える。
[作用]
本発明に係る現像装置を用いると、現像液の量
が完全に制御されて減少していき、一方、洗浄液
の量が完全に制御されて増加していく。したがつ
て、ネガレジストは、現像中、収縮するのみで、
膨潤・収縮を繰返さない。ひいては、レジストパ
ターンの最終形状に「うねり」または「皺」は生
じず、美しい形状のネガレジストパターンが得ら
れる。
が完全に制御されて減少していき、一方、洗浄液
の量が完全に制御されて増加していく。したがつ
て、ネガレジストは、現像中、収縮するのみで、
膨潤・収縮を繰返さない。ひいては、レジストパ
ターンの最終形状に「うねり」または「皺」は生
じず、美しい形状のネガレジストパターンが得ら
れる。
[実施例]
第1図はこの発明の一実施例のネガレジスト現
像装置を示す図である。第1図において、ネガレ
ジスト現像装置は、現像液1とリンス液2と現像
液輸送パイプ3とリンス液輸送パイプ4と合流パ
イプ5と噴霧ノズル6と現像液ポンプ7とリンス
液ポンプ8と現像液流量制御弁9とリンス液流量
制御弁10と現像液流量計11とリンス液流量計
12と制御ユニツト13とモータ14と試料台1
5とから構成される。試料台15には試料16が
載置される。
像装置を示す図である。第1図において、ネガレ
ジスト現像装置は、現像液1とリンス液2と現像
液輸送パイプ3とリンス液輸送パイプ4と合流パ
イプ5と噴霧ノズル6と現像液ポンプ7とリンス
液ポンプ8と現像液流量制御弁9とリンス液流量
制御弁10と現像液流量計11とリンス液流量計
12と制御ユニツト13とモータ14と試料台1
5とから構成される。試料台15には試料16が
載置される。
現像液1は試料16を現像するものであり、リ
ンス液2は現像液1を洗い流して、試料16を洗
浄するものである。現像液輸送パイプ3およびリ
ンス液輸送パイプ4はそれぞれ現像液1またはリ
ンス液2をノズル6に輸送するためのものであ
る。現像液1とリンス液2とは合流パイプ5内で
混合される。噴霧ノズル6は合流パイプ5内で混
合された液体を霧状に試料16に吹き出すもので
ある。現像液ポンプ7およびリンス液ポンプ8は
それぞれ現像液1またはリンス液2を吸い上げて
噴霧ノズル6方向に送り出すものである。
ンス液2は現像液1を洗い流して、試料16を洗
浄するものである。現像液輸送パイプ3およびリ
ンス液輸送パイプ4はそれぞれ現像液1またはリ
ンス液2をノズル6に輸送するためのものであ
る。現像液1とリンス液2とは合流パイプ5内で
混合される。噴霧ノズル6は合流パイプ5内で混
合された液体を霧状に試料16に吹き出すもので
ある。現像液ポンプ7およびリンス液ポンプ8は
それぞれ現像液1またはリンス液2を吸い上げて
噴霧ノズル6方向に送り出すものである。
現像液流量制御弁9およびリンス液流量制御弁
10は噴霧ノズル6に供給される現像液1または
リンス液2の流量の増大または減少をさせるもの
である。現像液流量計11およびリンス液流量計
12はそれぞれ現像液1またはリンス液2の流量
を検出するものである。
10は噴霧ノズル6に供給される現像液1または
リンス液2の流量の増大または減少をさせるもの
である。現像液流量計11およびリンス液流量計
12はそれぞれ現像液1またはリンス液2の流量
を検出するものである。
上述の現像液流量制御弁9およびリンス液流量
制御弁10ならびに現像液流量計11およびリン
ス液流量計12は制御ユニツト13に電気的に接
続される。制御ユニツト13は予め現像液1とリ
ンス液2との流量を設定するための設定手段と現
像液流量制御弁9およびリンス液流量制御弁10
の開閉を制御する制御手段とを含む。モータ14
は試料台15を回転させるものである。
制御弁10ならびに現像液流量計11およびリン
ス液流量計12は制御ユニツト13に電気的に接
続される。制御ユニツト13は予め現像液1とリ
ンス液2との流量を設定するための設定手段と現
像液流量制御弁9およびリンス液流量制御弁10
の開閉を制御する制御手段とを含む。モータ14
は試料台15を回転させるものである。
第2図は第1図に示す制御ユニツト13の電気
的構成を示す概略ブロツク図である。第2図にお
いて、制御ユニツト13にはCPU17が設けら
れる。CPU17にはメモリ18とキーボード1
9とインターフエイス20とが接続される。
的構成を示す概略ブロツク図である。第2図にお
いて、制御ユニツト13にはCPU17が設けら
れる。CPU17にはメモリ18とキーボード1
9とインターフエイス20とが接続される。
CPU17はキーボード19から予め設定され
たデータに基づいてそれぞれの流量の時間変化を
演算するとともに、現像開始時点から現線終了時
点までの現像液1およびリンス液2の流量が演算
結果の流量に一致するように、現像液流量制御弁
9およびリンス液流量制御弁10の開閉を制御す
るための制御指令信号を発生するものである。メ
モリ18にはキーボード19から入力された設定
データなどの他、後の第3図に示すようなフロー
図に基づくCPU17の動作プログラムが格納さ
れる。
たデータに基づいてそれぞれの流量の時間変化を
演算するとともに、現像開始時点から現線終了時
点までの現像液1およびリンス液2の流量が演算
結果の流量に一致するように、現像液流量制御弁
9およびリンス液流量制御弁10の開閉を制御す
るための制御指令信号を発生するものである。メ
モリ18にはキーボード19から入力された設定
データなどの他、後の第3図に示すようなフロー
図に基づくCPU17の動作プログラムが格納さ
れる。
キーボード19は現像液1とリンス液2との流
量を予め設定するためものである。たとえば後の
第4図に示すように、設定される現像液とリンス
液の比率は現像開始時において3対1、現像終了
時点で1対3である。インターフエイス20は上
述の現像液流量制御弁9、リンス液流量制御弁1
0、現像液流量計11およびリンス液流量計12
とCPU17との接続を媒介するものである。
量を予め設定するためものである。たとえば後の
第4図に示すように、設定される現像液とリンス
液の比率は現像開始時において3対1、現像終了
時点で1対3である。インターフエイス20は上
述の現像液流量制御弁9、リンス液流量制御弁1
0、現像液流量計11およびリンス液流量計12
とCPU17との接続を媒介するものである。
第3図はこの発明の一実施例の動作を説明する
ためのフロー図であり、第4図は第3図に示すフ
ロー図に基づいて動作した結果の現像液とリンス
液の時間変化の一例を示す図である。
ためのフロー図であり、第4図は第3図に示すフ
ロー図に基づいて動作した結果の現像液とリンス
液の時間変化の一例を示す図である。
次に、第1図ないし第4図を参照してこの発明
の一実施例のネガレジスト現像装置の動作につい
て詳細に説明する。
の一実施例のネガレジスト現像装置の動作につい
て詳細に説明する。
ネガレジストの現像の開始に先立つて、キーボ
ード19から予め現像液とリンス液の現像開始時
点での比率と現像終了時点での比率を設定してお
く。現像が開始すると、現像液ポンプ7は現像液
1を吸い上げ、現像液流量制御弁9および現像液
流量計11を介して噴霧ノズル6方向に送出す
る。このとき現像液流量計11はその流量をモニ
タし、その流量データを制御ユニツト13にフイ
ードバツクする。同様にリンス液ポンプ8はリン
ス液2を吸い上げて、リンス液流量制御弁10お
よびリンス液流量計12をを介して噴霧ノズル6
方向に送出する。リンス液流量計12はリンス液
2の流量をモニタしその流量データを制御ユニツ
ト13にフイードバツクする。フイードバツクさ
れた現像液およびリンス液の流量データはインタ
ーフエイス20を介してCPU17に与えられる。
CPU17は予め設定された現像開始時点と現像
終了時点の現像液とリンス液の比率データに基づ
いて現像開始時点からの当該時間間隔における流
量を演算し演算したそれぞれの流量がそれぞれの
流量計の検出した流量に一致するか否かを判断す
る。
ード19から予め現像液とリンス液の現像開始時
点での比率と現像終了時点での比率を設定してお
く。現像が開始すると、現像液ポンプ7は現像液
1を吸い上げ、現像液流量制御弁9および現像液
流量計11を介して噴霧ノズル6方向に送出す
る。このとき現像液流量計11はその流量をモニ
タし、その流量データを制御ユニツト13にフイ
ードバツクする。同様にリンス液ポンプ8はリン
ス液2を吸い上げて、リンス液流量制御弁10お
よびリンス液流量計12をを介して噴霧ノズル6
方向に送出する。リンス液流量計12はリンス液
2の流量をモニタしその流量データを制御ユニツ
ト13にフイードバツクする。フイードバツクさ
れた現像液およびリンス液の流量データはインタ
ーフエイス20を介してCPU17に与えられる。
CPU17は予め設定された現像開始時点と現像
終了時点の現像液とリンス液の比率データに基づ
いて現像開始時点からの当該時間間隔における流
量を演算し演算したそれぞれの流量がそれぞれの
流量計の検出した流量に一致するか否かを判断す
る。
CPU17はそれらのデータが一致している場
合には、次に流量データが与えられるまで待機す
るが、一致していなければ、CPU17はたとえ
ばその流量差に応じて、それぞれの流量制御弁
9,10の開閉を制御するための制御指令信号を
インターフエイス20に与える。この制御指令信
号はインターフエイス20を介して当該流量制御
弁に与えられ、当該流量制御弁はその指令信号に
基づいてその流量弁を開閉する。
合には、次に流量データが与えられるまで待機す
るが、一致していなければ、CPU17はたとえ
ばその流量差に応じて、それぞれの流量制御弁
9,10の開閉を制御するための制御指令信号を
インターフエイス20に与える。この制御指令信
号はインターフエイス20を介して当該流量制御
弁に与えられ、当該流量制御弁はその指令信号に
基づいてその流量弁を開閉する。
ここにおいて、それぞれの流量計11,12か
らの流量データを絶えず制御ユニツト13に与え
てもよいが一定時間間隔ごとに検出したデータを
与えるようにしてもよい。CPU17はそれぞれ
の流量検出計11,12からの流量データが与え
られる都度上述の動作を繰返す。
らの流量データを絶えず制御ユニツト13に与え
てもよいが一定時間間隔ごとに検出したデータを
与えるようにしてもよい。CPU17はそれぞれ
の流量検出計11,12からの流量データが与え
られる都度上述の動作を繰返す。
現像液とリンス液とは合流パイプ5内で混合さ
れ、その混合液は噴霧ノズル6から試料16に霧
状に吹出される。このとき、試料16はモータ1
4によつて回転される。現像液とリンス液は予め
設定された比率に従つて時間変化し、たとえば第
4図に示すように現像開始時点で現像液とリンス
液の比率が3対1であつたのが現像終了時点では
その比率が1対3となるように、現像プロセスの
進行に従つて連続的に混合比が変化する。
れ、その混合液は噴霧ノズル6から試料16に霧
状に吹出される。このとき、試料16はモータ1
4によつて回転される。現像液とリンス液は予め
設定された比率に従つて時間変化し、たとえば第
4図に示すように現像開始時点で現像液とリンス
液の比率が3対1であつたのが現像終了時点では
その比率が1対3となるように、現像プロセスの
進行に従つて連続的に混合比が変化する。
このような現像プロセスがこの発明によつて可
能となつたために、膨潤から収縮への急激な変化
によつて引き起こされるストレスが軽減され、ネ
ガレジストによる微細パターン形成が初めて可能
となる。
能となつたために、膨潤から収縮への急激な変化
によつて引き起こされるストレスが軽減され、ネ
ガレジストによる微細パターン形成が初めて可能
となる。
たとえば、従来の現像装置においては、現像液
の残膜厚さを1μmとする場合の形成可能な最小
パターン幅は1.5μmであつたが、この発明のネガ
レジスト現像装置を用い、現像液とリンス液の比
率を連続的に変化することによつて、0.6μmのパ
ターン形成が可能になる。
の残膜厚さを1μmとする場合の形成可能な最小
パターン幅は1.5μmであつたが、この発明のネガ
レジスト現像装置を用い、現像液とリンス液の比
率を連続的に変化することによつて、0.6μmのパ
ターン形成が可能になる。
なお、ここで用いた試料は、シリコンウエハ上
に1.2μmのMES−X(日本合成ゴム)を塗布し、
軟X線により選択的に露光したものである。ま
た、現像液としてメチルエチルケトンを用い、リ
ンス液としてイソプロピルアルコールを用いた。
に1.2μmのMES−X(日本合成ゴム)を塗布し、
軟X線により選択的に露光したものである。ま
た、現像液としてメチルエチルケトンを用い、リ
ンス液としてイソプロピルアルコールを用いた。
なお、上述の実施例では、現像液とリンス液と
を噴霧ノズルから吹出す前に合流パイプにて両液
を混合しているが、噴霧ノズルから吹き出す直前
に噴霧ノズル内で混合してもよい。
を噴霧ノズルから吹出す前に合流パイプにて両液
を混合しているが、噴霧ノズルから吹き出す直前
に噴霧ノズル内で混合してもよい。
なお、上述の実施例では現像液とリンス液とを
同一の噴霧ノズルから噴射しているが、現像液と
リンス液とを別々の噴霧ノズルから吹出すように
してもよい。
同一の噴霧ノズルから噴射しているが、現像液と
リンス液とを別々の噴霧ノズルから吹出すように
してもよい。
また、上述の実施例では現像液とリンス液との
2液を用いる場合の現像装置について示したが、
3種以上の液体を用いる場合には、実施例に示し
た流量制御弁や流量計などの流量制御機構を液種
の数に対応して増加させることにより同様の効果
を得ることができる。
2液を用いる場合の現像装置について示したが、
3種以上の液体を用いる場合には、実施例に示し
た流量制御弁や流量計などの流量制御機構を液種
の数に対応して増加させることにより同様の効果
を得ることができる。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、現像中に、
現像液の流量が連続的に減少し、かつ洗浄液の流
量が連続的に増大するように、現像開始時点と現
像終了時点における、噴霧手段に供給すべき現像
液および洗浄液の流量を設定手段により設定す
る。設定手段が設定した現像開始時点および現像
終了時点における現像液と洗浄液の流量データに
基づいて、現像開始時点から現像終了時点までの
それぞれの時点における、現像液および洗浄液の
流量変化を演算手段が演算する。流量検出手段の
検出したそれぞれの流量検出データと演算手段の
演算したそれぞれの流量演算データとに基づい
て、現像液および洗浄液の流量がそれぞれの設定
流量に一致するように、制御手段が流量制御弁を
制御する。このように構成されているので、現像
液の量は、完成に制御された状態で、減少してい
き、一方、洗浄液の量は、現像中、完全に制御さ
れた状態で、増加していく。したがつて、ネガレ
ジストは、現像中、収縮するのみで、膨潤するこ
とはない。ひいては、最終形状のネガレジストパ
ターンには、「うねり」または「皺」は生じず、
美しい形状のネガレジストパターンが得られると
いう効果を奏する。
現像液の流量が連続的に減少し、かつ洗浄液の流
量が連続的に増大するように、現像開始時点と現
像終了時点における、噴霧手段に供給すべき現像
液および洗浄液の流量を設定手段により設定す
る。設定手段が設定した現像開始時点および現像
終了時点における現像液と洗浄液の流量データに
基づいて、現像開始時点から現像終了時点までの
それぞれの時点における、現像液および洗浄液の
流量変化を演算手段が演算する。流量検出手段の
検出したそれぞれの流量検出データと演算手段の
演算したそれぞれの流量演算データとに基づい
て、現像液および洗浄液の流量がそれぞれの設定
流量に一致するように、制御手段が流量制御弁を
制御する。このように構成されているので、現像
液の量は、完成に制御された状態で、減少してい
き、一方、洗浄液の量は、現像中、完全に制御さ
れた状態で、増加していく。したがつて、ネガレ
ジストは、現像中、収縮するのみで、膨潤するこ
とはない。ひいては、最終形状のネガレジストパ
ターンには、「うねり」または「皺」は生じず、
美しい形状のネガレジストパターンが得られると
いう効果を奏する。
第1図はこの発明の一実施例のネガレジスト現
像装置を示す図である。第2図は第1図に示す制
御ユニツトの電気的構成を示す概略ブロツク図で
ある。第3図はこの発明の一実施例の動作を説明
するためのフロー図である。第4図はこの発明に
よる現像液とリンス液の時間変化を示す図であ
る。第5図は従来のネガレジスト現像装置を示す
図である。第6図は従来のネガレジスト現像装置
による現像液とリンス液の流量を示す図である。 図において、1は現像液、2はリンス液、3は
現像液輸送パイプ、4はリンス液輸送パイプ、5
は合流パイプ、6は噴霧ノズル、7は現像液ポン
プ、8はリンス液ポンプ、9は現像液流量制御
弁、10はリンス液流量制御弁、11は現像液流
量計、12はリンス液流量計、13は制御ユニツ
ト、17はCPU、18はメモリ、19はキーボ
ード、20はインターフエイスを示す。
像装置を示す図である。第2図は第1図に示す制
御ユニツトの電気的構成を示す概略ブロツク図で
ある。第3図はこの発明の一実施例の動作を説明
するためのフロー図である。第4図はこの発明に
よる現像液とリンス液の時間変化を示す図であ
る。第5図は従来のネガレジスト現像装置を示す
図である。第6図は従来のネガレジスト現像装置
による現像液とリンス液の流量を示す図である。 図において、1は現像液、2はリンス液、3は
現像液輸送パイプ、4はリンス液輸送パイプ、5
は合流パイプ、6は噴霧ノズル、7は現像液ポン
プ、8はリンス液ポンプ、9は現像液流量制御
弁、10はリンス液流量制御弁、11は現像液流
量計、12はリンス液流量計、13は制御ユニツ
ト、17はCPU、18はメモリ、19はキーボ
ード、20はインターフエイスを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 現像液と洗浄液とを噴霧手段によりネガレジ
ストに吹き付けて現像する装置であつて、 現像中に、前記現像液の流量が連続的に減少
し、かつ前記洗浄液の流量が連続的に増大するよ
うに、現像開始時点と現像終了時点における前記
噴霧手段に供給すべき現像液および洗浄液の流量
を予め設定するための設定手段と、 前記噴霧手段に供給される現像液および洗浄液
の流量を検出する流量検出手段と、 前記噴霧手段に供給される現像液および洗浄液
の流量を増大または減少させるための流量制御弁
と、 前記設定手段が設定した現像開始時点および現
像終了時点における現像液と洗浄液の流量データ
に基づいて、現像開始時点から現像終了時点まで
のそれぞれの時点における、前記現像液および洗
浄液の流量変化を演算する演算手段と、 前記流量検出手段の検出したそれぞれの流量検
出データと前記演算手段の演算したそれぞれの流
量演算データとに基づいて、現像液および洗浄液
の流量がそれぞれの設定流量に一致するように、
前記流量制御弁を制御する制御手段とを備えたネ
ガレジスト現像装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60121913A JPS61279858A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | ネガレジスト現像装置 |
US06/841,468 US4688918A (en) | 1985-06-05 | 1986-03-20 | Negative type photoresist developing apparatus |
DE19863612692 DE3612692A1 (de) | 1985-06-05 | 1986-04-15 | Negativfotolack-entwicklungsgeraet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60121913A JPS61279858A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | ネガレジスト現像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61279858A JPS61279858A (ja) | 1986-12-10 |
JPH0574816B2 true JPH0574816B2 (ja) | 1993-10-19 |
Family
ID=14823010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60121913A Granted JPS61279858A (ja) | 1985-06-05 | 1985-06-05 | ネガレジスト現像装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4688918A (ja) |
JP (1) | JPS61279858A (ja) |
DE (1) | DE3612692A1 (ja) |
Families Citing this family (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5658387A (en) * | 1991-03-06 | 1997-08-19 | Semitool, Inc. | Semiconductor processing spray coating apparatus |
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EP0620495A1 (en) * | 1993-04-13 | 1994-10-19 | Kodak Limited | Photographic processing apparatus |
JP3276449B2 (ja) * | 1993-05-13 | 2002-04-22 | 富士通株式会社 | 回転塗布方法 |
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IT1291747B1 (it) * | 1997-05-16 | 1999-01-21 | Rosauto Srl | Apparecchiatura di lavaggio automatica e manuale a funzionamento variabile per pistole a spruzzo e loro componenti |
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-
1985
- 1985-06-05 JP JP60121913A patent/JPS61279858A/ja active Granted
-
1986
- 1986-03-20 US US06/841,468 patent/US4688918A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-04-15 DE DE19863612692 patent/DE3612692A1/de active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS51132972A (en) * | 1975-04-28 | 1976-11-18 | Ibm | Method of etching |
JPS56144444A (en) * | 1980-04-12 | 1981-11-10 | Victor Co Of Japan Ltd | Developing method |
JPS56145332A (en) * | 1980-04-12 | 1981-11-12 | Victor Co Of Japan Ltd | Detecting device for state of proper development |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61279858A (ja) | 1986-12-10 |
DE3612692A1 (de) | 1986-12-11 |
DE3612692C2 (ja) | 1989-08-31 |
US4688918A (en) | 1987-08-25 |
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