JPH055853A - 光走査光学系および光走査装置 - Google Patents
光走査光学系および光走査装置Info
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- JPH055853A JPH055853A JP15673491A JP15673491A JPH055853A JP H055853 A JPH055853 A JP H055853A JP 15673491 A JP15673491 A JP 15673491A JP 15673491 A JP15673491 A JP 15673491A JP H055853 A JPH055853 A JP H055853A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】光スポットの集束性を向上させる。
【構成】光源装置１からの光束を、第１の結像光学系２
により主走査対応方向に長い線像ＬＩとして結像させ、
線像ＬＩの近傍に偏光反射面３ａを持つ回転多面鏡３に
より等角速度的に偏向させ、第２の結像光学系７により
被走査面６上に光スポットとして集光させて光走査を行
う光走査装置において、上記第１および第２の結像光学
系２，７により構成される光学系であって、光学系全体
としての副走査対応方向の球面収差が補正過剰となるよ
うに、第１の結像光学系２の球面収差を補正過剰に設定
する。
により主走査対応方向に長い線像ＬＩとして結像させ、
線像ＬＩの近傍に偏光反射面３ａを持つ回転多面鏡３に
より等角速度的に偏向させ、第２の結像光学系７により
被走査面６上に光スポットとして集光させて光走査を行
う光走査装置において、上記第１および第２の結像光学
系２，７により構成される光学系であって、光学系全体
としての副走査対応方向の球面収差が補正過剰となるよ
うに、第１の結像光学系２の球面収差を補正過剰に設定
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は光走査光学系および光
走査装置に関する。
走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この明細書において、主走査対応方向と
は、光走査装置の光源から被走査面に到る光路を直線的
に展開した状態を想定し、この仮想的な光路上において
主走査方向と対応する方向であり、上記仮想的な光路上
で副走査方向と対応する方向を副走査対応方向と呼ぶ。
は、光走査装置の光源から被走査面に到る光路を直線的
に展開した状態を想定し、この仮想的な光路上において
主走査方向と対応する方向であり、上記仮想的な光路上
で副走査方向と対応する方向を副走査対応方向と呼ぶ。
【０００３】「光源装置からの光束を、第１の結像光学
系により主走査対応方向に長い線像として結像させ、上
記線像の近傍に偏向反射面を持つ回転多面鏡により等角
速度的に偏向させ、第２の結像光学系により被走査面上
に光スポットとして集光させて光走査を行う光走査装
置」は、従来から良く知られている。この種の光走査装
置では、回転多面鏡の偏向反射面近傍に結像する主走査
対応方向に長い線像の像が、第２の結像光学系により被
走査面上に結像されるので、第２の結像光学系の屈折力
は主走査対応方向に比して副走査対応方向において相対
的に強くなる。このアナモフィックな性質のため、第２
の結像光学系の副走査対応方向における球面収差の補正
が不足ぎみになりやすく、これが光スポットの集束状態
に影響して、高密度光走査の妨げになるという問題があ
った。
系により主走査対応方向に長い線像として結像させ、上
記線像の近傍に偏向反射面を持つ回転多面鏡により等角
速度的に偏向させ、第２の結像光学系により被走査面上
に光スポットとして集光させて光走査を行う光走査装
置」は、従来から良く知られている。この種の光走査装
置では、回転多面鏡の偏向反射面近傍に結像する主走査
対応方向に長い線像の像が、第２の結像光学系により被
走査面上に結像されるので、第２の結像光学系の屈折力
は主走査対応方向に比して副走査対応方向において相対
的に強くなる。このアナモフィックな性質のため、第２
の結像光学系の副走査対応方向における球面収差の補正
が不足ぎみになりやすく、これが光スポットの集束状態
に影響して、高密度光走査の妨げになるという問題があ
った。
【０００４】この問題を解決する方法として、「第１の
結像光学系における副走査対応方向の球面収差を補正過
剰とし、第２の結像光学系の同方向における球面収差の
補正不足を相殺し、第１，第２の結像光学系全体として
副走査対応方向の球面収差を良好に補正する」方法が知
られている（特開昭６２−２４０９２１号公報）。
結像光学系における副走査対応方向の球面収差を補正過
剰とし、第２の結像光学系の同方向における球面収差の
補正不足を相殺し、第１，第２の結像光学系全体として
副走査対応方向の球面収差を良好に補正する」方法が知
られている（特開昭６２−２４０９２１号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、光スポッ
トの収束状態を上記従来法よりも更に良好にできる光走
査光学系および、この光走査光学系を用いる光走査装置
の提供を目的とする。
トの収束状態を上記従来法よりも更に良好にできる光走
査光学系および、この光走査光学系を用いる光走査装置
の提供を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の光走査光学系
は、図１に示すような光走査装置、即ち「光源装置１か
らの光束を第１の結像光学系２により、主走査対応方向
に長い線像ＬＩとして結像させ、線像ＬＩの近傍に偏光
反射面３ａを持つ回転多面鏡３により等角速度的に偏向
させ、第２の結像光学系７により被走査面６上に光スポ
ットとして集光させて光走査を行う光走査装置］におい
て、上記第１および第２の結像光学系により構成される
光学系であり、「光学系全体としての副走査対応方向の
球面収差が、補正過剰となるように第１の結像光学系２
の球面収差を補正過剰に設定した」ことを特徴とする。
は、図１に示すような光走査装置、即ち「光源装置１か
らの光束を第１の結像光学系２により、主走査対応方向
に長い線像ＬＩとして結像させ、線像ＬＩの近傍に偏光
反射面３ａを持つ回転多面鏡３により等角速度的に偏向
させ、第２の結像光学系７により被走査面６上に光スポ
ットとして集光させて光走査を行う光走査装置］におい
て、上記第１および第２の結像光学系により構成される
光学系であり、「光学系全体としての副走査対応方向の
球面収差が、補正過剰となるように第１の結像光学系２
の球面収差を補正過剰に設定した」ことを特徴とする。
【０００７】第１の結像光学系は、「副走査対応方向に
正の屈折力を持つシリンダーレンズと、副走査対応方向
に負の屈折力を持つシリンダーレンズ」とにより構成す
ることができ（請求項２）、さらに、上記正の屈折力を
持つシリンダーレンズを「平凸シリンダーレンズ」と
し、負の屈折力を持つシリンダーレンズを「平凹シリン
ダーレンズ」とすることができる（請求項３）。
正の屈折力を持つシリンダーレンズと、副走査対応方向
に負の屈折力を持つシリンダーレンズ」とにより構成す
ることができ（請求項２）、さらに、上記正の屈折力を
持つシリンダーレンズを「平凸シリンダーレンズ」と
し、負の屈折力を持つシリンダーレンズを「平凹シリン
ダーレンズ」とすることができる（請求項３）。
【０００８】また、第２の結像光学系は、「主走査対応
方向に関してｆθ機能を持たせ、回転多面鏡の側から被
走査面側へ向かって第１レンズ，第２レンズの順に配備
される２群２枚構成とし、第１レンズの少なくとも１つ
の面を球面とし、第２レンズの少なくとも１つの面をト
ーリック面とする」ことができる（請求項４）。
方向に関してｆθ機能を持たせ、回転多面鏡の側から被
走査面側へ向かって第１レンズ，第２レンズの順に配備
される２群２枚構成とし、第１レンズの少なくとも１つ
の面を球面とし、第２レンズの少なくとも１つの面をト
ーリック面とする」ことができる（請求項４）。
【０００９】請求項５の光走査装置は、光源装置と、第
１，第２の結像光学系と、回転多面鏡とを有する。「第
１の結像光学系」は、光源装置からの光束を主走査対応
方向に長い線像に結像させる。「回転多面鏡」は第１の
結像光学系により結像される線像の近傍に偏向反射面を
持ち、反射光束を等角速度的に偏向させる。「第２の結
像光学系」は、回転多面鏡による偏向光束を被走査面上
に光スポットとして集光させる。このように、第２の結
像光学系は副走査対応方向においては、上記線像の像を
被走査面上に結像させるので、同方向に関して「偏向反
射面位置と被走査面位置とを、幾何光学的に共役な関係
とする」機能を持ち、この機能により回転多面鏡の面倒
れが補正される。
１，第２の結像光学系と、回転多面鏡とを有する。「第
１の結像光学系」は、光源装置からの光束を主走査対応
方向に長い線像に結像させる。「回転多面鏡」は第１の
結像光学系により結像される線像の近傍に偏向反射面を
持ち、反射光束を等角速度的に偏向させる。「第２の結
像光学系」は、回転多面鏡による偏向光束を被走査面上
に光スポットとして集光させる。このように、第２の結
像光学系は副走査対応方向においては、上記線像の像を
被走査面上に結像させるので、同方向に関して「偏向反
射面位置と被走査面位置とを、幾何光学的に共役な関係
とする」機能を持ち、この機能により回転多面鏡の面倒
れが補正される。
【００１０】上記第１及び第２の結像光学系は、上記請
求項１または２または３または４の光走査光学系を構成
する。
求項１または２または３または４の光走査光学系を構成
する。
【００１１】
【作用】第１、第２の結像光学系で構成される光走査光
学系全体で副走査対応方向の球面収差をフルコレクショ
ンするよりも、「光走査光学系全体として副走査対応方
向の球面収差を補正過剰の状態にするように、第１の結
像光学系の球面収差を補正過剰に設定する」方が光スポ
ットの収束状態をより良好にできることが、発明者の研
究により分った。
学系全体で副走査対応方向の球面収差をフルコレクショ
ンするよりも、「光走査光学系全体として副走査対応方
向の球面収差を補正過剰の状態にするように、第１の結
像光学系の球面収差を補正過剰に設定する」方が光スポ
ットの収束状態をより良好にできることが、発明者の研
究により分った。
【００１２】請求項２，３の光走査光学系のように、第
１の結像光学系を正・負のシリンダーレンズで構成する
と、光走査光学系全体としての副走査対応方向の球面収
差の高次の補正が可能となり球面収差のコントロールが
容易である。また第２の結像光学系として、請求項４の
ものを用いると、等速光走査で像面湾曲を良好に補正す
ることが可能となる。
１の結像光学系を正・負のシリンダーレンズで構成する
と、光走査光学系全体としての副走査対応方向の球面収
差の高次の補正が可能となり球面収差のコントロールが
容易である。また第２の結像光学系として、請求項４の
ものを用いると、等速光走査で像面湾曲を良好に補正す
ることが可能となる。
【００１３】
【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。
【００１４】図２は、光源装置１から被走査面６に到る
光路を直線的に展開し、上下方向が副走査対応方向にな
るように描いたものである。光源装置１は、例えば半導
体レーザーとコリメートレンズの組合せであり、実質的
な平行光束を放射する。この平行光束は第１の結像光学
系２により副走査対応方向にのみ収束されて、回転多面
鏡の偏向反射面３ａの位置に、主走査対応方向（図面に
直交する方向）に長い線像ＬＩとして結像する。偏向反
射面３ａによる反射光束は、第２の結像光学系７により
被走査面６上に光スポットとして集光する。
光路を直線的に展開し、上下方向が副走査対応方向にな
るように描いたものである。光源装置１は、例えば半導
体レーザーとコリメートレンズの組合せであり、実質的
な平行光束を放射する。この平行光束は第１の結像光学
系２により副走査対応方向にのみ収束されて、回転多面
鏡の偏向反射面３ａの位置に、主走査対応方向（図面に
直交する方向）に長い線像ＬＩとして結像する。偏向反
射面３ａによる反射光束は、第２の結像光学系７により
被走査面６上に光スポットとして集光する。
【００１５】第１の結像光学系２は副走査対応方向にの
み正の屈折力を持つ平凸シリンダーレンズ２−１と、副
走査対応方向にのみ負の屈折力を持つ平凹シリンダーレ
ンズ２−２とにより構成されている。この第１の結像光
学系において、光源側から数えて第ｉ番目のレンズ面の
曲率半径を、主・副走査対応方向に就いてそれぞれ：ｒ
Xi，ｒYi（ｉ＝１〜４）、第ｉ番目のレンズ面と第ｉ＋
１番目のレンズ面との間の光軸上の面間隔を：ｄi（ｉ
＝１〜３）、光源側から数えて第ｊ番目のレンズの屈折
率を：ｎj（ｊ＝１，２）とする。
み正の屈折力を持つ平凸シリンダーレンズ２−１と、副
走査対応方向にのみ負の屈折力を持つ平凹シリンダーレ
ンズ２−２とにより構成されている。この第１の結像光
学系において、光源側から数えて第ｉ番目のレンズ面の
曲率半径を、主・副走査対応方向に就いてそれぞれ：ｒ
Xi，ｒYi（ｉ＝１〜４）、第ｉ番目のレンズ面と第ｉ＋
１番目のレンズ面との間の光軸上の面間隔を：ｄi（ｉ
＝１〜３）、光源側から数えて第ｊ番目のレンズの屈折
率を：ｎj（ｊ＝１，２）とする。
【００１６】第２の結像光学系７は、少なくとも偏向反
射面３側の面が球面である第１レンズ４と、被走査面６
側の面がトーリック面である第２レンズ５により構成さ
れている。この第２の結像光学系において、偏向反射面
側から数えて第ｉ番目のレンズ面の、曲率半径を主・副
走査対応方向に就いてそれぞれ：ＲXi，ＲYi（ｉ＝１〜
４）、偏向反射面を第０面として、第ｉ番目の面と第ｉ
＋１番目の面との間の光軸上の面間隔を：Ｄi（ｉ＝０
〜３）、偏向反射面側から数えて第ｊ番目のレンズの屈
折率を：Ｎj（ｊ＝１，２）とする。
射面３側の面が球面である第１レンズ４と、被走査面６
側の面がトーリック面である第２レンズ５により構成さ
れている。この第２の結像光学系において、偏向反射面
側から数えて第ｉ番目のレンズ面の、曲率半径を主・副
走査対応方向に就いてそれぞれ：ＲXi，ＲYi（ｉ＝１〜
４）、偏向反射面を第０面として、第ｉ番目の面と第ｉ
＋１番目の面との間の光軸上の面間隔を：Ｄi（ｉ＝０
〜３）、偏向反射面側から数えて第ｊ番目のレンズの屈
折率を：Ｎj（ｊ＝１，２）とする。
【００１７】また、主・副走査対応方向における焦点距
離を、第１の結像光学系に対してそれぞれ：ｆM，ｆS、
第２の結像光学系に対してそれぞれ：ＦM，ＦSとし、Ｆ
Mの値を１００に規格化する。また第２の結像光学系７
の副走査対応方向における結像倍率を：βで表す。
離を、第１の結像光学系に対してそれぞれ：ｆM，ｆS、
第２の結像光学系に対してそれぞれ：ＦM，ＦSとし、Ｆ
Mの値を１００に規格化する。また第２の結像光学系７
の副走査対応方向における結像倍率を：βで表す。
【００１８】実施例１ 第１の結像光学系：ｆM＝∞，ｆS＝４５．１５ ｉ ｒXi ｒYi ｄi ｊ ｎj １ ∞ １２．３２８ １．１３４ １ １．８２４８５ ２ ∞ ∞ ０．１７ ３ ∞ −１０．８１６ １．１３４ ２ １．５１１１８ ４ ∞ ∞ 第２の結像光学系：ＦM＝１００，ＦS＝２６．８８１，β＝−１．９１５ ｉ ＲXi ＲYi Ｄi ｊ Ｎj ０ ９．０７６ １ −４１．３６ −４１．３６ ４．６８９ １ １．７８５７１ ２ −３８．６０９ ∞ ２６．６９８ ３ ∞ −４７．４６ ７．１８５ ２ １．６０９０９ ４ −７７．９０６ −１３．８４１ 。
【００１９】実施例２ 第１の結像光学系：ｆM＝∞，ｆS＝３３．７４２ ｉ ｒXi ｒYi ｄi ｊ ｎj １ ∞ １１．１６ １．５１６ １ １．８２４８５ ２ ∞ ∞ ０．２６５ ３ ∞ −１０．６１１ １．１３７ ２ １．５１１１８ ４ ∞ ∞ 第２の結像光学系：ＦM＝１００，ＦS＝２８．５９４，β＝−２．５６３ ｉ ＲXi ＲYi Ｄi ｊ Ｎj ０ １８．３７９ １ −４８．８３１ −４８．８３１ ７．５７９ １ １．７８５７１ ２ −４７．３５３ −４７．３５３ １２．１２７ ３ ∞ −４５．０２ ７．２ ２ １．６０９０９ ４ −７５．８１４ −１４．１５８ 。
【００２０】実施例３ 第１の結像光学系：ｆM＝∞，ｆS＝３５．６９１ ｉ ｒXi ｒYi ｄi ｊ ｎj １ ∞ １２．４３８ １．１３８ １ １．８２４８５ ２ ∞ ∞ ０．１９ ３ ∞ −１２．６２８ １．１３８ ２ １．５１１１８ ４ ∞ ∞ 第２の結像光学系：ＦM＝１００，ＦS＝３０．８９６，β＝−２．４６５ ｉ ＲXi ＲYi Ｄi ｊ Ｎj ０ ２０．０９８ １ −３０．１２９ −３０．１２９ ７．３９５ １ １．５１１１８ ２ −３０．１８２ −２２．５４ １７．１７８ ３ ∞ −７５．４９６ ５．６８８ ２ １．８２４８５ ４ −１００．９１８ −２２．５４ 。
【００２１】実施例１における第１の結像光学系に関す
る球面収差（以下、単に球面収差と言うときは、副走査
対応方向の球面収差を意味する）を図３（ａ）に示す。
縦軸は第１の結像光学系のＦＮｏ．である。図３（ｂ）
は実施例１の光走査光学系全体に関する球面収差を示
す。第１の結像光学系の球面収差を補正過剰としたこと
に伴い、光走査光学系全体の球面収差も補正過剰となっ
ている。
る球面収差（以下、単に球面収差と言うときは、副走査
対応方向の球面収差を意味する）を図３（ａ）に示す。
縦軸は第１の結像光学系のＦＮｏ．である。図３（ｂ）
は実施例１の光走査光学系全体に関する球面収差を示
す。第１の結像光学系の球面収差を補正過剰としたこと
に伴い、光走査光学系全体の球面収差も補正過剰となっ
ている。
【００２２】図４には実施例２に関する球面収差を示
す。
す。
【００２３】同図（ａ）は第１の結像光学系の球面収差
であり補正過剰である。第２の結像光学系の球面収差
は、同図（ｂ）に示すように補正不足であるが、光走査
光学系全体としての球面収差は図４（ｃ）に示すように
補正過剰となっている。
であり補正過剰である。第２の結像光学系の球面収差
は、同図（ｂ）に示すように補正不足であるが、光走査
光学系全体としての球面収差は図４（ｃ）に示すように
補正過剰となっている。
【００２４】図５には実施例３に関する球面収差を示
す。
す。
【００２５】同図（ａ）は第１の結像光学系の球面収差
であり補正過剰である。第２の結像光学系の球面収差は
同図（ｂ）に示すように補正不足であるが、光走査光学
系全体としての球面収差は図５（ｃ）に示すように補正
過剰となっている。
であり補正過剰である。第２の結像光学系の球面収差は
同図（ｂ）に示すように補正不足であるが、光走査光学
系全体としての球面収差は図５（ｃ）に示すように補正
過剰となっている。
【００２６】この発明における光スポットの集束性を見
るために、実施例１に就いてのスポットダイヤグラムを
図６に示す。同図（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれ、画角
θが３２．５度、０度、−３２．５度のときのスポット
ダイヤグラムを示す。ｄｅｆ．とあるのは、デフォーカ
ス量を表す。被走査面側を（＋）側、第２の結像光学系
側を（−）側とする。また（主）（副）とあるのは主・
副走査方向を示す。
るために、実施例１に就いてのスポットダイヤグラムを
図６に示す。同図（ａ）（ｂ）（ｃ）はそれぞれ、画角
θが３２．５度、０度、−３２．５度のときのスポット
ダイヤグラムを示す。ｄｅｆ．とあるのは、デフォーカ
ス量を表す。被走査面側を（＋）側、第２の結像光学系
側を（−）側とする。また（主）（副）とあるのは主・
副走査方向を示す。
【００２７】比較のために比較例を２例挙げる。比較例
１は、第１の結像光学系の球面収差が図７（ａ）、第２
の結像光学系の球面収差が同図（ｂ）に示すごとき光走
査光学系である。第１の結像光学系の球面収差が略完全
に補正されているため、光走査光学系全体として相当な
球面収差が補正不足の状態で残存する（同図（ｃ））。
１は、第１の結像光学系の球面収差が図７（ａ）、第２
の結像光学系の球面収差が同図（ｂ）に示すごとき光走
査光学系である。第１の結像光学系の球面収差が略完全
に補正されているため、光走査光学系全体として相当な
球面収差が補正不足の状態で残存する（同図（ｃ））。
【００２８】比較例１に関するスポットダイヤグラム
を、図６と同様の要領で図８に示す。
を、図６と同様の要領で図８に示す。
【００２９】比較例２は、第１の結像光学系の球面収差
を図９（ａ）に示すように補正過剰とし、光走査光学系
全体の球面収差を同図（ｂ）に示すようにフルコレクシ
ョンした例である。この場合のスポットダイヤグラムを
図１０に示す。
を図９（ａ）に示すように補正過剰とし、光走査光学系
全体の球面収差を同図（ｂ）に示すようにフルコレクシ
ョンした例である。この場合のスポットダイヤグラムを
図１０に示す。
【００３０】これら図６，８，１０のスポットダイヤグ
ラムを比較してみれば、直ちに明らかなように、光スポ
ットの集束性は、比較例１，２，実施例１の順に、順次
改良されている。従って、この発明のように光走査光学
系全体の球面収差が補正過剰となるように、第１の結像
光学系の球面収差を補正過剰に設定することにより、光
スポットの集束性をより向上させることが可能である。
ラムを比較してみれば、直ちに明らかなように、光スポ
ットの集束性は、比較例１，２，実施例１の順に、順次
改良されている。従って、この発明のように光走査光学
系全体の球面収差が補正過剰となるように、第１の結像
光学系の球面収差を補正過剰に設定することにより、光
スポットの集束性をより向上させることが可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば新規な
光走査光学系と光走査装置を提供できる。この発明は上
記の如き構成となっているので、光スポットの集束性を
高め、従来にない高密度の光走査を可能とすることがで
きる。
光走査光学系と光走査装置を提供できる。この発明は上
記の如き構成となっているので、光スポットの集束性を
高め、従来にない高密度の光走査を可能とすることがで
きる。
【図１】この発明の適用される光走査装置の１例を示す
図である。
図である。
【図２】光走査光学系の１実施例を説明するための図で
ある。
ある。
【図３】実施例１に関する、第１の結像光学系の球面収
差図（ａ）と光走査光学系全体の球面収差図（ｂ）であ
る。
差図（ａ）と光走査光学系全体の球面収差図（ｂ）であ
る。
【図４】実施例２に関する、第１の結像光学系の球面収
差図（ａ）と、第２の結像光学系の球面収差図（ｂ）
と、光走査光学系全体の球面収差図（ｃ）である。
差図（ａ）と、第２の結像光学系の球面収差図（ｂ）
と、光走査光学系全体の球面収差図（ｃ）である。
【図５】実施例３に関する、第１の結像光学系の球面収
差図（ａ）と、第２の結像光学系の球面収差図（ｂ）
と、光走査光学系全体の球面収差図（ｃ）である。
差図（ａ）と、第２の結像光学系の球面収差図（ｂ）
と、光走査光学系全体の球面収差図（ｃ）である。
【図６】実施例１に関するスポットダイヤグラムであ
る。
る。
【図７】比較例１に関する、第１の結像光学系の球面収
差図（ａ）と、第２の結像光学系の球面収差図（ｂ）
と、光走査光学系全体の球面収差図（ｃ）である。
差図（ａ）と、第２の結像光学系の球面収差図（ｂ）
と、光走査光学系全体の球面収差図（ｃ）である。
【図８】比較例１に関するスポットダイヤグラムであ
る。
る。
【図９】比較例２に関する、第１の結像光学系の球面収
差図（ａ）と、光走査光学系全体の球面収差図（ｂ）で
ある。
差図（ａ）と、光走査光学系全体の球面収差図（ｂ）で
ある。
【図１０】比較例２に関するスポットダイヤグラムであ
る。
る。
１ 光源装置 ２ 第１の結像光学系 ３ 回転多面鏡 ６ 被走査面 ７ 第２の結像光学系
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】光源装置からの光束を、第１の結像光学系
により主走査対応方向に長い線像として結像させ、上記
線像の近傍に偏光反射面を持つ回転多面鏡により等角速
度的に偏向させ、第２の結像光学系により被走査面上に
光スポットとして集光させて光走査を行う光走査装置に
おいて、上記第１および第２の結像光学系により構成さ
れる光学系であって、光学系全体としての副走査対応方
向の球面収差が補正過剰となるように、第１の結像光学
系の球面収差を補正過剰に設定することを特徴とする光
走査光学系。 【請求項２】請求項１において、第１の結像光学系が、
副走査対応方向に正の屈折力を持つシリンダーレンズ
と、副走査対応方向に負の屈折力を持つシリンダーレン
ズとにより構成されることを特徴とする光走査光学系。 【請求項３】請求項２において、正の屈折力を持つシリ
ンダーレンズが平凸シリンダーレンズであり、負の屈折
力を持つシリンダーレンズが平凹シリンダーレンズであ
ることを特徴とする光走査光学系。 【請求項４】請求項１または２または３において、第２
の結像光学系が、主走査対応方向に関してｆθ機能を有
し、回転多面鏡側から被走査面側へ向かって第１レン
ズ，第２レンズの順に配備される２群２枚構成であり、
上記第１レンズは少なくとも１面が球面であり、上記第
２レンズは少なくとも１面がトーリック面であることを
特徴とする光走査光学系。 【請求項５】光源装置と、光源装置からの光束を主走査
対応方向に長い線像に結像させる第１の結像光学系と、
上記線像の近傍に偏向反射面をもつ回転多面鏡と、回転
多面鏡による偏向光束を被走査面上に光スポットとして
集光させる第２の結像光学装置とを有し、上記第１及び
第２の結像光学系により構成される光走査光学系が、請
求項１または２または３または４の光走査光学系である
ことを特徴とする光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15673491A JP3034648B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 光走査光学系および光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15673491A JP3034648B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 光走査光学系および光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH055853A true JPH055853A (ja) | 1993-01-14 |
| JP3034648B2 JP3034648B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=15634159
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15673491A Expired - Fee Related JP3034648B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 光走査光学系および光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034648B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005326875A (ja) * | 2005-06-27 | 2005-11-24 | Toshiba Corp | マルチビーム露光装置 |
| KR101012697B1 (ko) * | 2003-06-20 | 2011-02-09 | 삼성테크윈 주식회사 | 결상 광학계 |
| WO2020071003A1 (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光源装置、およびそれを用いた投影装置、ならびに蛍光励起装置 |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP15673491A patent/JP3034648B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101012697B1 (ko) * | 2003-06-20 | 2011-02-09 | 삼성테크윈 주식회사 | 결상 광학계 |
| JP2005326875A (ja) * | 2005-06-27 | 2005-11-24 | Toshiba Corp | マルチビーム露光装置 |
| WO2020071003A1 (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-09 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光源装置、およびそれを用いた投影装置、ならびに蛍光励起装置 |
| JPWO2020071003A1 (ja) * | 2018-10-05 | 2021-09-24 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光源装置、およびそれを用いた投影装置、ならびに蛍光励起装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3034648B2 (ja) | 2000-04-17 |
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