JPH0558435B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0558435B2
JPH0558435B2 JP60045872A JP4587285A JPH0558435B2 JP H0558435 B2 JPH0558435 B2 JP H0558435B2 JP 60045872 A JP60045872 A JP 60045872A JP 4587285 A JP4587285 A JP 4587285A JP H0558435 B2 JPH0558435 B2 JP H0558435B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
general formula
solution
mmol
added
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60045872A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS61205273A (ja
Inventor
Fumie Sato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP60045872A priority Critical patent/JPS61205273A/ja
Publication of JPS61205273A publication Critical patent/JPS61205273A/ja
Publication of JPH0558435B2 publication Critical patent/JPH0558435B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Description

【発明の詳細な説明】
(1) 産業上の利用分野 本発明は新規なグリセロール誘導体に関し、さ
らに詳しくは、一般式〔〕で表わされる 〔式中、R1は水素原子、R2
【式】で 表わされる置換ビニルトリメチルシリル基又は
〔式中MはLi、Mg、X、Zn、又はTi(oi・pr)3等の金属又は有機金属、Xはハロゲン原子を示し、R2は前記に同じ〕
有機金属化合物又はR2MgXとハロゲン化第1
銅とから例えば次式のように合成することが出来
即ち、一般式〔〕で表わされる本発明化合物
は、ジアステレオマーである一般式〔C〕及び一
般式〔D〕で表わされる化合物を包含しているも
のである。 又当然のことながら、本発明化合物は構造式
〔B〕で表わされる。 絶対配置を有するグリセルアルデヒドを使用す
る場合は例えば次式のごとく 合成することができる。 従つて、一般式〔〕で表わされる本発明化合
物は一般式〔C〕、一般式〔D〕、一般式〔E〕及
び一般式〔F〕で表わされる4化合物を包含して
いるものである。 以下一般式〔C〕及び一般式〔E〕をシン型、
一般式〔D〕及び一般式〔F〕をアンチ型と呼称
する。 更に詳しく例示すると、D−マンニトールを
2,2ジメトキシプロパン等で処理して得られる
ジアセトニドを、四酢酸鉛又は過ヨー素酸ナトリ
ウムと反応させて一般式〔〕で表わされる化合
物の1つである2,3−O−イソプロピリデン−
D−グリセルアルデヒドを得、一般式〔〕で表
わされる有機金属化合物又はR2MgXと反応さ
せ、必要に応じ通常行なわれる水酸基の保護を行
なうことにより本発明化合物を得ることが出来
る。水酸基の保護基としてはベンジル基、アルキ
ル基、トリアルキルシリル基、テトラヒドロピラ
ニル基、等を挙げることができる。 一般式〔〕で表わされる化合物と一般式
〔〕で表わされる有機金属化合物又はR2MgX
との反応においては、不活性ガス雰囲気下、無水
状態で行なうのが好ましく、反応温度は−78℃か
ら−10℃の範囲で実施可能であるが、好ましくは
−78℃から−30℃の範囲で一度反応させた後、室
温において反応を完結させる方が収率も高く好ま
しい。 一般式〔〕で表わされる本発明化合物の1つ
であるグリセロール誘導体〔X〕を用いて糖誘導
体を合成する方法を例示すれば次のとおりであ
る。 更にグリセロール誘導体〔X〕を用いる昆虫フ
エロモン等の合成中間体の1つの合成例を挙げる
と、次式のようになる。 (5) 発明の効果 一般式〔〕で表わされる本発明化合物を用い
ることにより種々の生理活性を有する光学活性化
合物及び糖誘導体を従来法に比べ立体選択的に、
かつ経済的に合成出来るようになり、大量合成が
困難であつた農薬、医薬、食品等の化合物群の工
業的製造を可能にした。 以下に実施例を掲げて本発明方法を詳細に説明
する。 実施例 1 アルゴン雰囲気下0℃に冷やした臭化イソブチ
ルマグネシウム(23.4ml、1.39M、32.5mmol)
エーテル溶液にチタノセンジクロリド(400mg、
1.6mmol)つづいて1−トリメチルシリル−ヘ
キシン−11〜(5.00g、32.5mmol)を加えた。
溶液は26〜30℃に保ちながら一夜かきまぜた。次
にこの溶液を、ドライアイス−アセトンバスで−
70℃に冷やした沃化第一銅(7.14g、37.5mmol)
ならびにジメチルサルフアイド(9.2ml)の均一
テトラヒドロフラン(70ml)溶液の中に滴下し
た。15分後、この溶液の中にグリセルアルデヒド
3〜(3.25g、25mmol)のTHF(12ml)溶液を加
えた。ドライアイスアセトンバスをはずし、室温
(約20℃)下2時間かきまぜたのち、飽和塩化ア
ンモニウム水溶液(30ml)ならびに濃アンモニア
水(30ml)を加えた。ヘキサンを加え生じた沈殿
をセライトを使用して、ろかし、ろ液を減圧下濃
縮した。得られた残査をもう一度、ヘキサンを用
いてセライトを使用してろかした。ろ液を減圧下
再び濃縮し、生じた油状物質にヘキサンを加え
た。このヘキサン溶液は飽和塩化アンモニウム水
溶液で洗浄、乾燥(硫酸マグネシウム)した。溶
媒を減圧下留去し、得られた油状物質をシリカゲ
ルカラムクロマトにより精製すると4〜が4.58g
(64.1%)得られた。シン型4〜とアンチ型の比率
(モル比)は40:1であつた。 〔α〕25 D−6.07°(C1.12、CHCl31 H NMR(CCl4)δ0.14(s、9H、3CH3)、0.88
(t、J=7Hz、3H、CH3)、1.26and1.32(2s、
6H、2CH3)、1.1−1.6(m、4H、(CH22)、
1.93−2.25(m、2H、CH2C=C)、2.36(br s、
1H、OH)、3.38−4.14(m、4H、CH2(o)CH(o)
CH(OH))、6.10(t、J=7.5Hz、1H、CH=
C)。 実施例 2 アルゴン雰囲気下、沃化第1銅(0.97g、5.1
mmol)のテトラヒドロフラン(10ml)懸濁液に
ジメチルサルフアイド(2ml、27mmol)を加え
沃化第1銅を溶かした(約5分)。この溶液を−
78℃に冷やしい、臭化ビニルトリメチルシリルマ
グネシウムのTHF溶液(10ml、5.1mmol)を滴
下したところ、滴下終了時点でこげ茶色になつ
た。10分間かきまぜたのち、グリセルアルデヒド
3〜(298mg、2.29mmol)のTHF溶液(1ml)を
加えた。−78℃〜−70℃で1時間かきまぜた後室
温に戻した。実施例1の場合と同様な後処理を行
い5〜を451mg(86%)得た。尚アンチ型は検出さ
れなつた。 アルコール5〜 〔α〕25 D−10.4°(C1.07、CHCl31 HNMR(CCl4)δ0.14(s、9H、3CH3)、
1.18and1.36(2s、6H、2CH3)、2.69(br S、
1H、OH)、3.52−4.18(m、4H、(O)CH2(o)
CHCHO)、5.41and5.68(2d、J=2.4Hz、2H、
CH2=C).13 CNMR(CDCl3)δ−0.4、25.4、26.8、66.2、
7.83、78.5、109.7、127.3、151.6. 実施例 3 アルゴン雰囲気下沃化第1銅821mg(4.32m
mol)のテトラヒドロフラン25mlの懸濁液にジメ
チルサルフアイド3.2mlを加え、沃化第1銅を溶
解した。 この溶液−78℃に冷却しBrMg(SiMe3)C=
C−CH2OMgBrのエーテル溶液6.2ml(3.6m
mol)を滴下する。3分間撹拌した後グリセルア
ルデヒド3〜 328mg(2.52mmol)を加えた。−78
℃で5分間撹拌した後室温に戻した。抽出溶媒を
酢酸エチルに代えた以外は実施例1と同様な後処
理を行ない6〜が457mg(収率70%)得られた。な
おアンチ型6〜とシン型7〜の比率は、12:1(モル
比)であつた。1 H NMR(CDCl3)δ1.30、1.38(2s、6H、2CH3
2.56〜2.82(m、2H、CH2、OH、CHOH)3.80
−4.30(m、5H、CH2(O)、CH(O)、CH2 OH)
4.66(brS、1H、CHOH)6.10(t、J=7.5Hz、
1H、CH=C) 実施例 4 アルゴン雰囲気下沃化第1銅4.98g(26.1m
mol)のテトラヒドロフラン溶液(110ml)懸濁
液にジメチルサルフアイド19ml(26mmol)を加
え沃化第1銅を溶解させた。この溶液を−78℃に
冷却し臭化4−メトキシフエニルマグネシウムの
テトラヒドロフラン溶液25ml(23.1mmol)を滴
下しはじめると溶液はただちに黄変してきた。10
分間撹拌した後グリセルアルデヒド3〜2.0g
(15.4mmol)のテトラヒドロフラン溶液6mlを
加えた。−78℃〜−70℃で10分間撹拌した後室温
に戻した。1時間後飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え反応を停止した。 実施例1と同様な後処理を行なうと、9〜が2.87
g(収率80%)得られた。アンチ型は1H NMR
で分析の結果殆ど検出されなかつた。1 H NMR(C Cl4)δ1.27and1.34(2s、6H、
2CH3)3.69(S、3H、CH3O)
3.20−3.80(m、2H、CH2)4.04
(dt.J=6Hz、7Hz、1H、CH)、
4.36(d.J=7Hz、1H、CH OH)
6.71and7.13(2d、J=9Hz、4H、
C6H4) 実施例 5 実施例4において臭化4−メトキシフエニルマ
グネシウムを臭化−4−クロロフエニルマグネシ
ウムに替えた他は同様に反応を行ない。10〜を
3.40g(収率93%)得た。アンチ型は1H NMR
で分析の結果殆ど検出されなかつた。1 H NMR(CCl4)δ1.26and1.34(2s、6H、2CH3
3.20−3.50(m、1H、OH)3.50−3.80(m、2H、
CH2)4.03)(dt、J=6Hz、7Hz、1H、CH)
4.40(dd J=3Hz、7Hz、1H CH OH)7.20
(s、4H、C6H4)mp51〜52℃ 実施例 6 アルゴン雰囲気下、1−トリメチルシリル−6
−ヘプテン−1イン11(4.52g、25.1mmol)の
ジエチルエーテル溶液(17.5ml)に0℃で臭化イ
ソブチルマグネシムウム(17.8ml、26.4mmol)
のジエチルエーテル溶液及びチタノセンジクロラ
イド(508mg、2.0mmol)を加え、28℃で12時間
撹拌した。 次に、この溶液を−72℃に冷却した沃化第一銅
(6.21g、32.6mmol)及びジメチルサウフアイド
(20ml)のテトラヒドロフラン(200ml)溶液にゆ
つくり滴下し1時間撹拌後、グリセルアルデヒド
3(7.21g、17.6mmol)のテトラヒドロフラン
溶液を加え−72℃で50分撹拌し、ゆつくり室温に
戻した。 次に、実施例−1と同様に処理を行い13を得
た。1 H NMR(CCl4、D2O) δ0.14(S、9H)、1.16と1.22
(2S、6H)、0.76〜2.30(m、9H)、
3.38〜4.27(m、4H)、5.12〜5.55
(m、2H)、5.12(t、J=7.0Hz)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式[]で表わされるグリセロール
    誘導体。 [式中、R1は水素原子、R2は【式】で 表わされる置換ビニルトリメチルシリル基又は
    【式】で表わされる置換フエニル基、 R3は水素原子、アルキル基、アルケニル基又は
    −(CH2oOH基であり、Zは低級アルコキシ基又
    はハロゲン原子、nは1〜5の整数を示す。]
JP60045872A 1985-03-08 1985-03-08 新規なグリセロール誘導体 Granted JPS61205273A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60045872A JPS61205273A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 新規なグリセロール誘導体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60045872A JPS61205273A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 新規なグリセロール誘導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61205273A JPS61205273A (ja) 1986-09-11
JPH0558435B2 true JPH0558435B2 (ja) 1993-08-26

Family

ID=12731293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60045872A Granted JPS61205273A (ja) 1985-03-08 1985-03-08 新規なグリセロール誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61205273A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS61205273A (ja) 1986-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007538041A (ja) ジフェニルアゼチジノン誘導体の製造方法
EP0550313A1 (fr) Nouveaux dérivés de 2-(tétrazol-5-yl)-(1,1'-biphényle), leur préparation et leur utilisation comme intermédiaires de synthèse
JP2667135B2 (ja) ジイソピノカンフェイルクロロボランのインシトゥー製造
JPH0558435B2 (ja)
JP3386596B2 (ja) 5(e),8(z),11(z)−テトラデカトリエン−2−オンの製造方法
KR100878363B1 (ko) 잔토리졸의 신규 합성방법
JPH0696564B2 (ja) α−(ω−ヒドロキシアルキル)フルフリルアルコ−ル及びその製造法
JPS6352036B2 (ja)
JP3340760B2 (ja) パラ−第三級ブトキシフェニルジメチルカルビノールおよびその製造法
JPH0267250A (ja) 2,2‐ジフルオロ‐3‐ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造法
JP3254745B2 (ja) ジオール化合物およびその製造法
JP3403761B2 (ja) 3,5―ジヒドロキシ―1―オクテン―7―イン類及びその製造方法
KR100502833B1 (ko) 심바스타틴 및 이의 중간체 화합물들의 개선된 제조방법
JPS6231700B2 (ja)
JP2773118B2 (ja) 光学活性なアリルアルコール誘導体
JP3712077B2 (ja) ヒドロインダン−4−オール誘導体およびその製造方法
JP2737214B2 (ja) 4―ヒドロキシ―2―シクロペンテノン誘導体の製造法
JPH10101614A (ja) α,α−ジフルオロ−β−ヒドロキシエステルの製造方法
JP3634874B2 (ja) トリフルオロメチルアセチレン誘導体、その製造方法およびその中間体の製造方法
JP3635118B2 (ja) プロパルギルフリルメチルアルコールの製造方法
JPS6228781B2 (ja)
JPS6113698B2 (ja)
JPS6252735B2 (ja)
JPS631930B2 (ja)
JP2003311156A (ja) 触媒、及びそれを用いたアリル化合物の製法