JPH0534926A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH0534926A JPH0534926A JP3189846A JP18984691A JPH0534926A JP H0534926 A JPH0534926 A JP H0534926A JP 3189846 A JP3189846 A JP 3189846A JP 18984691 A JP18984691 A JP 18984691A JP H0534926 A JPH0534926 A JP H0534926A
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- photomask
- light
- diffusion plate
- plate
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フォトマスクに設けられたパターンを介し
て、紫外線を、感光性材が表面にコーティングされた基
板に照射する、露光装置において、ランプから照射され
る紫外線の強度を均一にするとともに、特に照射方向を
照射面全面にわたり均一にする。 【構成】 紫外線を与えるランプ2とフォトマスク3と
の間に、紫外線を拡散させる拡散板8を設ける。紫外線
が拡散板8を通過するとき、あらゆる方向に放射され
る。
て、紫外線を、感光性材が表面にコーティングされた基
板に照射する、露光装置において、ランプから照射され
る紫外線の強度を均一にするとともに、特に照射方向を
照射面全面にわたり均一にする。 【構成】 紫外線を与えるランプ2とフォトマスク3と
の間に、紫外線を拡散させる拡散板8を設ける。紫外線
が拡散板8を通過するとき、あらゆる方向に放射され
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、プリント回路基板の
製作において、所望の導電パターンを形成する際に光露
光技術が用いられるが、このような光露光工程で用いら
れる露光装置に関するもので、特に、露光のための光を
与える光学系の改良に関するものである。
製作において、所望の導電パターンを形成する際に光露
光技術が用いられるが、このような光露光工程で用いら
れる露光装置に関するもので、特に、露光のための光を
与える光学系の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント回路基板上の回路すなわち配線
は、近年、ますます細密化する傾向にあり、したがっ
て、原版となるフォトマスクとプリント回路基板となる
べき基板とを位置合わせしてフォトマスク側より露光用
の光を照射して行なう露光工程においても、より高度な
技術が要求されるようになってきた。
は、近年、ますます細密化する傾向にあり、したがっ
て、原版となるフォトマスクとプリント回路基板となる
べき基板とを位置合わせしてフォトマスク側より露光用
の光を照射して行なう露光工程においても、より高度な
技術が要求されるようになってきた。
【0003】特に、露光のための光源は、その光の強度
が、必要な照射面の全面にわたり均一であることはもち
ろん、光の照射方向も照射面全面にわたり均一でなけれ
ばならない。
が、必要な照射面の全面にわたり均一であることはもち
ろん、光の照射方向も照射面全面にわたり均一でなけれ
ばならない。
【0004】現在、光源として、一般的に、円筒状のラ
ンプが使用され、このランプのまわりには、光を乱反射
させるために表面に凹凸のある反射板が備えられてい
る。この乱反射板によって、照射面に対して比較的均一
な光強度を与えようとするものである。
ンプが使用され、このランプのまわりには、光を乱反射
させるために表面に凹凸のある反射板が備えられてい
る。この乱反射板によって、照射面に対して比較的均一
な光強度を与えようとするものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光の照
射方向に関しては、必ずしも均一にはならず、多くの場
合、不均一なものとなっている。
射方向に関しては、必ずしも均一にはならず、多くの場
合、不均一なものとなっている。
【0006】すなわち、ランプのまわりに乱反射板が配
置されても、ランプから直接照射される光の強度は高
く、そのため、照射面の中央においては照射面に垂直方
向の光が強く、照射面の外周に近づくにつれて、光は照
射面に対する傾きを増していく傾向にある。このこと
は、フォトマスクのパターンを基板の全面にわたり忠実
に再生できないことを意味している。光がフォトマスク
に垂直に照射された部分と、斜め方向から照射された部
分とでは、パターンによって与えられる像の寸法が同一
ではなくなるためである。そのため、高精度の導電パタ
ーンの形成が必要なプリント回路基板製作のための露光
工程には、不適当である。
置されても、ランプから直接照射される光の強度は高
く、そのため、照射面の中央においては照射面に垂直方
向の光が強く、照射面の外周に近づくにつれて、光は照
射面に対する傾きを増していく傾向にある。このこと
は、フォトマスクのパターンを基板の全面にわたり忠実
に再生できないことを意味している。光がフォトマスク
に垂直に照射された部分と、斜め方向から照射された部
分とでは、パターンによって与えられる像の寸法が同一
ではなくなるためである。そのため、高精度の導電パタ
ーンの形成が必要なプリント回路基板製作のための露光
工程には、不適当である。
【0007】さらに、プリント回路基板に設けられる導
通穴内のめっき層を保護するレジストを露光する場合に
は、不均一な方向に照射される光によって完全な露光を
行なうことは不可能である。
通穴内のめっき層を保護するレジストを露光する場合に
は、不均一な方向に照射される光によって完全な露光を
行なうことは不可能である。
【0008】それゆえに、この発明の目的は、上述した
問題を解決するため、光源から照射される光の強度をさ
らに均一にするとともに、特に照射方向を照射面全面に
わたり均一にした、露光装置を提供しようとすることで
ある。
問題を解決するため、光源から照射される光の強度をさ
らに均一にするとともに、特に照射方向を照射面全面に
わたり均一にした、露光装置を提供しようとすることで
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明は、フォトマス
クに設けられたパターンを介して、紫外線を、感光性材
が表面にコーティングされた基板に照射する、露光装置
に向けられるものであって、上述した技術的課題を解決
するため、前記紫外線を与える光源と前記フォトマスク
との間に、紫外線を拡散させる拡散板を設けたことを特
徴としている。
クに設けられたパターンを介して、紫外線を、感光性材
が表面にコーティングされた基板に照射する、露光装置
に向けられるものであって、上述した技術的課題を解決
するため、前記紫外線を与える光源と前記フォトマスク
との間に、紫外線を拡散させる拡散板を設けたことを特
徴としている。
【0010】
【作用】この発明において、光源から与えられた紫外線
は、拡散板を通ることにより、あらゆる方向に放射され
た後、照射面としてのフォトマスクおよび基板に達す
る。
は、拡散板を通ることにより、あらゆる方向に放射され
た後、照射面としてのフォトマスクおよび基板に達す
る。
【0011】
【発明の効果】したがって、この発明によれば、照射面
の全面にわたり均一な光強度を得ることができるととも
に、照射方向も均一にすることができる。そのため、フ
ォトマスクのパターンを、基板上に忠実に再生すること
ができる。また、基板に設けられた穴内の露光にも有効
である。
の全面にわたり均一な光強度を得ることができるととも
に、照射方向も均一にすることができる。そのため、フ
ォトマスクのパターンを、基板上に忠実に再生すること
ができる。また、基板に設けられた穴内の露光にも有効
である。
【0012】拡散板とフォトマスクとの間であって、拡
散板の全周を取囲むように、反射板が設けられる場合に
は、拡散板の外周近くから放射された光が、この反射板
によって反射し、照射面に達する。このことは、照射面
に与えられる光の強度および方向の均一化を、拡散板の
全面にわたってより完全なものとする。したがって、こ
のような反射板は、基板が拡散板に匹敵する大きさを有
している場合に有効である。
散板の全周を取囲むように、反射板が設けられる場合に
は、拡散板の外周近くから放射された光が、この反射板
によって反射し、照射面に達する。このことは、照射面
に与えられる光の強度および方向の均一化を、拡散板の
全面にわたってより完全なものとする。したがって、こ
のような反射板は、基板が拡散板に匹敵する大きさを有
している場合に有効である。
【0013】拡散板として、その一方面に細かな凹凸が
形成された、紫外線の透過しやすいガラス板を用いるこ
とができる。このようなガラス板は、入手が容易であ
る。また、片面に細かい凹凸加工が砥粒による研磨また
は化学エッチング等によって均一になされているガラス
板を用いると、特に、紫外線に対して好ましい拡散状態
を与えることができる。
形成された、紫外線の透過しやすいガラス板を用いるこ
とができる。このようなガラス板は、入手が容易であ
る。また、片面に細かい凹凸加工が砥粒による研磨また
は化学エッチング等によって均一になされているガラス
板を用いると、特に、紫外線に対して好ましい拡散状態
を与えることができる。
【0014】また、拡散板および光源を含むアセンブリ
を、フォトマスクに対して、近接・離隔可能にされる
と、離隔状態とすることにより、フォトマスクと基板と
の位置合わせに際して、それぞれに設けられたマークを
読取るため、カメラがフォトマスクに沿って移動するこ
とが妨げられない。
を、フォトマスクに対して、近接・離隔可能にされる
と、離隔状態とすることにより、フォトマスクと基板と
の位置合わせに際して、それぞれに設けられたマークを
読取るため、カメラがフォトマスクに沿って移動するこ
とが妨げられない。
【0015】
【実施例】図1は、この発明の一実施例による露光装置
1を示す一部断面正面図である。
1を示す一部断面正面図である。
【0016】露光装置1は、紫外線を与える光源として
のランプ2を備え、このランプ2に対向して、互いに位
置合せされたフォトマスク3および基板4が配置され
る。フォトマスク3には、露光すべきパターンに応じた
パターンが設けられており、フォトマスクホルダ5によ
って保持される。基板4の、フォトマスク3に向かう面
には、感光性材がコーティングされている。基板4は、
たとえば真空吸引に基づき、基板ホルダ6によって保持
される。
のランプ2を備え、このランプ2に対向して、互いに位
置合せされたフォトマスク3および基板4が配置され
る。フォトマスク3には、露光すべきパターンに応じた
パターンが設けられており、フォトマスクホルダ5によ
って保持される。基板4の、フォトマスク3に向かう面
には、感光性材がコーティングされている。基板4は、
たとえば真空吸引に基づき、基板ホルダ6によって保持
される。
【0017】ランプ2のまわりには、乱反射板7が配置
される。これによって、ランプ2から出た紫外線すなわ
ち光に基づき、フォトマスク3方向に直接向かう成分と
乱反射板7で反射された後フォトマスク3方向に向かう
成分とが生み出される。このとき、乱反射板7は、ラン
プ2から出た光をできるだけフォトマスク3方向に集め
る役割と、フォトマスク3に向かう光の強度を均一にす
る役割とを果たす。
される。これによって、ランプ2から出た紫外線すなわ
ち光に基づき、フォトマスク3方向に直接向かう成分と
乱反射板7で反射された後フォトマスク3方向に向かう
成分とが生み出される。このとき、乱反射板7は、ラン
プ2から出た光をできるだけフォトマスク3方向に集め
る役割と、フォトマスク3に向かう光の強度を均一にす
る役割とを果たす。
【0018】しかし、ここまで述べた構成のみでは、前
述したように、ランプ2から照射される光が必ずしも全
方向に均一とならず、そのため、フォトマスク3および
基板4における照射面の全面にわたって乱反射光を均一
に受けることができない。すなわち、ランプ2から直接
照射する光の強度が強く、ランプ2から放射状に光が広
がり、そのため、照射面の中央部では、垂直方向に照射
される成分が強く、他方、周辺部では、斜めから照射さ
れる成分が強くなる。このように、光の照射方向が不均
一であると、フォトマスク3のパターンが、基板4上に
不均一に再生されるとともに、基板4に導通穴が設けら
れる場合には、導通穴内のレジスト露光を完全に行なう
ことは不可能となる。
述したように、ランプ2から照射される光が必ずしも全
方向に均一とならず、そのため、フォトマスク3および
基板4における照射面の全面にわたって乱反射光を均一
に受けることができない。すなわち、ランプ2から直接
照射する光の強度が強く、ランプ2から放射状に光が広
がり、そのため、照射面の中央部では、垂直方向に照射
される成分が強く、他方、周辺部では、斜めから照射さ
れる成分が強くなる。このように、光の照射方向が不均
一であると、フォトマスク3のパターンが、基板4上に
不均一に再生されるとともに、基板4に導通穴が設けら
れる場合には、導通穴内のレジスト露光を完全に行なう
ことは不可能となる。
【0019】このような問題を解決するため、この実施
例では、拡散板8が設けられ、さらに好ましくは、反射
板9が設けられている。
例では、拡散板8が設けられ、さらに好ましくは、反射
板9が設けられている。
【0020】拡散板8は、ランプ2とフォトマスク3と
の間に配置され、紫外線の透過しやすいガラス板から構
成される。このガラス板からなる拡散板8は、図2に示
すように、その一方面が平滑で、他方面に研磨等によっ
て細かい凹凸10が付されている。凹凸10は、拡散板
8の一方面全面にわたって均一に付与され、その加工
は、砥粒による研磨または化学エッチング等によって行
なうことができる。拡散板8に達したランプ2からの紫
外線は、その平滑な面側から入射し、拡散板8内を通過
した後、凹凸10によって、図2に矢印で示すように、
あらゆる方向に放射される。なお、好ましくは、拡散板
8の平滑な面側に、赤外線(熱線)を反射するためのコ
ーティング17が付与される。フォトマスク3および基
板4に悪影響を及ぼす熱線をカットするためである。
の間に配置され、紫外線の透過しやすいガラス板から構
成される。このガラス板からなる拡散板8は、図2に示
すように、その一方面が平滑で、他方面に研磨等によっ
て細かい凹凸10が付されている。凹凸10は、拡散板
8の一方面全面にわたって均一に付与され、その加工
は、砥粒による研磨または化学エッチング等によって行
なうことができる。拡散板8に達したランプ2からの紫
外線は、その平滑な面側から入射し、拡散板8内を通過
した後、凹凸10によって、図2に矢印で示すように、
あらゆる方向に放射される。なお、好ましくは、拡散板
8の平滑な面側に、赤外線(熱線)を反射するためのコ
ーティング17が付与される。フォトマスク3および基
板4に悪影響を及ぼす熱線をカットするためである。
【0021】反射板9は、拡散板8とフォトマスク3と
の間であって、拡散板8の全周を取囲むように配置され
る。この反射板9は、拡散板8の外周近くから放射され
た光を反射し、フォトマスク3および基板4方向に向け
る。
の間であって、拡散板8の全周を取囲むように配置され
る。この反射板9は、拡散板8の外周近くから放射され
た光を反射し、フォトマスク3および基板4方向に向け
る。
【0022】このように、この実施例によれば、拡散板
8および反射板9の存在により、照射面に均一な光を与
えることができ、それゆえに、フォトマスク3のパター
ンを忠実に基板4上に再現することができる。また、基
板4に穴が設けられる場合には、このような穴内の露光
も完全に行なうことができる。
8および反射板9の存在により、照射面に均一な光を与
えることができ、それゆえに、フォトマスク3のパター
ンを忠実に基板4上に再現することができる。また、基
板4に穴が設けられる場合には、このような穴内の露光
も完全に行なうことができる。
【0023】なお、反射板9は、必ずしも必要な要素で
はなく、たとえば基板4の大きさに対して拡散板8が十
分な大きさを有している場合には、不要である。
はなく、たとえば基板4の大きさに対して拡散板8が十
分な大きさを有している場合には、不要である。
【0024】図1には、フォトマスク3と基板4との位
置合わせに際して、それぞれに設けられたマークを読取
るためのカメラ11が図示されている。このカメラ11
は、複数箇所に設けられたマークを読取る際、矢印12
で示すように、フォトマスク3の延びる方向に沿って移
動する。したがって、このようなカメラ11の移動を妨
げないように、この実施例では、ランプ2、乱反射板
7、拡散板8および反射板9を含むアセンブリ13が、
台車14によって保持され、この台車14が、レール1
5上を移動するように構成されている。この移動は、た
とえばエアシリンダ16によって駆動され、カメラ11
が移動するときには、アセンブリ13がフォトマスク3
に対して離隔した状態とされる。
置合わせに際して、それぞれに設けられたマークを読取
るためのカメラ11が図示されている。このカメラ11
は、複数箇所に設けられたマークを読取る際、矢印12
で示すように、フォトマスク3の延びる方向に沿って移
動する。したがって、このようなカメラ11の移動を妨
げないように、この実施例では、ランプ2、乱反射板
7、拡散板8および反射板9を含むアセンブリ13が、
台車14によって保持され、この台車14が、レール1
5上を移動するように構成されている。この移動は、た
とえばエアシリンダ16によって駆動され、カメラ11
が移動するときには、アセンブリ13がフォトマスク3
に対して離隔した状態とされる。
【図1】この発明の一実施例による露光装置1を示す一
部断面正面図である。
部断面正面図である。
【図2】図1に示した拡散板8の一部を拡大して示す断
面図である。
面図である。
1 露光装置
2 ランプ
3 フォトマスク
4 基板
8 拡散板
9 反射板
10 凹凸
13 アセンブリ
14 台車
15 レール
17 コーティング
Claims (5)
- 【請求項1】 フォトマスクに設けられたパターンを介
して、紫外線を、感光性材が表面にコーティングされた
基板に照射する、露光装置において、 前記紫外線を与える光源と前記フォトマスクとの間に、
紫外線を拡散させる拡散板を設けたことを特徴とする、
露光装置。 - 【請求項2】 前記拡散板と前記フォトマスクとの間で
あって、前記拡散板の全周を取囲むように、反射板を設
けたことを特徴とする、請求項1に記載の露光装置。 - 【請求項3】 前記拡散板の前記光源に向く面には、赤
外線を反射するコーティングがなされたことを特徴とす
る、請求項1または2に記載の露光装置。 - 【請求項4】 前記拡散板は、紫外線の透過しやすいガ
ラス板であり、その片面に細かい凹凸加工が均一になさ
れていることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれ
かに記載の露光装置。 - 【請求項5】 前記拡散板および前記光源を含むアセン
ブリを、前記フォトマスクに対して、近接・離隔可能と
するための機構をさらに備える、請求項1ないし4のい
ずれかに記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3189846A JPH0534926A (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3189846A JPH0534926A (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0534926A true JPH0534926A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16248182
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3189846A Withdrawn JPH0534926A (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0534926A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06294953A (ja) * | 1993-04-07 | 1994-10-21 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶デバイスの製造方法 |
JP2000147663A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 連続搬送型露光装置 |
JP2000147667A (ja) * | 1998-11-16 | 2000-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | レンチキュラーシート露光装置 |
JP2003066615A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-05 | Nec Toppan Circuit Solutions Inc | パターン露光方法 |
KR101345375B1 (ko) * | 2006-03-28 | 2013-12-31 | 삼성전자주식회사 | 일체형도광판과 이를 구비하는 백라이트장치 및 일체형도광판 제조방법 |
KR20160092591A (ko) * | 2015-01-27 | 2016-08-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광학 패턴 형성장치 |
KR20160110156A (ko) | 2015-03-11 | 2016-09-21 | 마크텍 가부시키가이샤 | 자외선 탐상등 유닛, 및 자외선 탐상장치 |
WO2019131144A1 (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 光照射装置 |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP3189846A patent/JPH0534926A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06294953A (ja) * | 1993-04-07 | 1994-10-21 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶デバイスの製造方法 |
JP2000147663A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-26 | Toppan Printing Co Ltd | 連続搬送型露光装置 |
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KR101345375B1 (ko) * | 2006-03-28 | 2013-12-31 | 삼성전자주식회사 | 일체형도광판과 이를 구비하는 백라이트장치 및 일체형도광판 제조방법 |
KR20160092591A (ko) * | 2015-01-27 | 2016-08-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광학 패턴 형성장치 |
KR20160110156A (ko) | 2015-03-11 | 2016-09-21 | 마크텍 가부시키가이샤 | 자외선 탐상등 유닛, 및 자외선 탐상장치 |
WO2019131144A1 (ja) * | 2017-12-26 | 2019-07-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 光照射装置 |
JPWO2019131144A1 (ja) * | 2017-12-26 | 2020-11-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 光照射装置 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |