JPH0534364B2 - - Google Patents
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- JPH0534364B2 JPH0534364B2 JP61146339A JP14633986A JPH0534364B2 JP H0534364 B2 JPH0534364 B2 JP H0534364B2 JP 61146339 A JP61146339 A JP 61146339A JP 14633986 A JP14633986 A JP 14633986A JP H0534364 B2 JPH0534364 B2 JP H0534364B2
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高速液体クロマトグラフ装置の分離
カラム等に充填されて被測定成分をクロマトグラ
フイツクに分離する陰イオン交換樹脂の製造方法
に関する。
カラム等に充填されて被測定成分をクロマトグラ
フイツクに分離する陰イオン交換樹脂の製造方法
に関する。
（従来の技術）
高速液体クロマトグラフ装置は、試料中の被測
定成分を高感度かつ高精度に分析できるため、近
年さまざまな分野で広く使用されている。また、
この装置に装着される分離カラムは、試料中の被
測定部分を他の成分（干渉成分等）から分離する
機能を有し、該分離カラムの性能が高速液体クロ
マトグラフ装置自体の性能を大きく左右する。こ
のため、上記分離カラム等に充填される陰イオン
交換樹脂の研究が進められ、特にその製造方法に
ついて様々な研究開発が行なわれるようになつて
きている。
定成分を高感度かつ高精度に分析できるため、近
年さまざまな分野で広く使用されている。また、
この装置に装着される分離カラムは、試料中の被
測定部分を他の成分（干渉成分等）から分離する
機能を有し、該分離カラムの性能が高速液体クロ
マトグラフ装置自体の性能を大きく左右する。こ
のため、上記分離カラム等に充填される陰イオン
交換樹脂の研究が進められ、特にその製造方法に
ついて様々な研究開発が行なわれるようになつて
きている。
一方、上述のような陰イオン交換樹脂の製造方
法としては、次の２つの製造方法が従来から知ら
れている。即ち、第１の製造方法は、スルホン基
（−SO3Ｈ）を表面に有する基材に陰イオン交換
基をもつた微粒子を静電的に付着させる方法であ
り、第２の製造方法は、基材を化学的に修飾して
のち陰イオン交換基を化学結合によつて基材に直
接的に導入する方法である。然し乍ら、このよう
な第１の製造方法は、基材表面のスルホン基のた
めに該基材と陰イオンの相互作用が小さいという
利点があるものの、陰イオン交換基（若しくは陰
イオン交換基をもつた微粒子）が基材から脱落し
易く陰イオン交換樹脂の安定性に欠けるという大
きな欠点があつた。また、上記第２の製造方法
は、陰イオン交換基が基材と化学結合しているた
め該基材から陰イオン交換基が脱離し難く安定し
ているものの、陰イオン交換基と基材の相互作用
が生じ易く該作用によつてイオン交換以外の分離
作用を惹起し易いという大きな欠点があつた。
法としては、次の２つの製造方法が従来から知ら
れている。即ち、第１の製造方法は、スルホン基
（−SO3Ｈ）を表面に有する基材に陰イオン交換
基をもつた微粒子を静電的に付着させる方法であ
り、第２の製造方法は、基材を化学的に修飾して
のち陰イオン交換基を化学結合によつて基材に直
接的に導入する方法である。然し乍ら、このよう
な第１の製造方法は、基材表面のスルホン基のた
めに該基材と陰イオンの相互作用が小さいという
利点があるものの、陰イオン交換基（若しくは陰
イオン交換基をもつた微粒子）が基材から脱落し
易く陰イオン交換樹脂の安定性に欠けるという大
きな欠点があつた。また、上記第２の製造方法
は、陰イオン交換基が基材と化学結合しているた
め該基材から陰イオン交換基が脱離し難く安定し
ているものの、陰イオン交換基と基材の相互作用
が生じ易く該作用によつてイオン交換以外の分離
作用を惹起し易いという大きな欠点があつた。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は上述のような従来例の欠点に鑑みてな
されたものであり、その目的は、基材の影響を殆
んど受けず分離カラムに充填されて良好な分離特
性を与えるような陰イオン交換樹脂を製造する方
法を提供することにある。
されたものであり、その目的は、基材の影響を殆
んど受けず分離カラムに充填されて良好な分離特
性を与えるような陰イオン交換樹脂を製造する方
法を提供することにある。
（問題点を解決する手段）
上述のような問題点を解決する本発明の特徴
は、陰イオン交換樹脂の製造方法において、複数
のモノマー等からなる混合物を重合させて粒状共
重合体を得、該共重合体を化学修飾するようにし
たことにある。
は、陰イオン交換樹脂の製造方法において、複数
のモノマー等からなる混合物を重合させて粒状共
重合体を得、該共重合体を化学修飾するようにし
たことにある。
（実施例）
以下、本発明について図を用いて詳しく説明す
る。第１図は本発明実施例の方法説明図であり、
第２図は本発明実施例によつて製造されたイオン
交換樹脂を説明する図である。これらの図におい
て、１は基材を示し、Ｒ，R′およびR″はアルキ
レン基やアルキル基を示している。
る。第１図は本発明実施例の方法説明図であり、
第２図は本発明実施例によつて製造されたイオン
交換樹脂を説明する図である。これらの図におい
て、１は基材を示し、Ｒ，R′およびR″はアルキ
レン基やアルキル基を示している。
第１図において、例えばポリオールジメタクリ
レートからなるモノマーＡ，例えばヒドロキシメ
タクリレート（若しくはグリシジルメタクリレー
ト）からなるモノマーＢ，例えばメチルアクリレ
ート（若しくはエチルアクリレート）からなるモ
ノマーＣ，クロルベンゼン，およびヘキサノール
を夫々40部，30部，30部，20部，および20部と、
これらモノマーの総量に対し0.5％の重合開始剤
（例えばアゾビスイソブチロニトリル）とを混合
させる。その後、該混合物を、１％のポリビニル
アルコール水溶液に入れ、例えば60℃で約８時間
攪拌して重合させる。このような重合によつて生
成した球状の共重合体を分級し、例えば粒径10〜
15μmのものを取り出す。このようにして得られ
た共重合体を、例えば0.2％の水素化ホウ素ナト
リウム（NaBH4）を含む1Nの水酸化ナトリウム
（NaOH）溶液中でジグリシジルエーテルと反応
させる。この反応は上記共重合体の10gとジグリ
シジルエーテル5gを、0.2％のNaBH4を含む上記
水酸化ナトリウム溶液20ml中に入れ、例えば40℃
で５時間攪拌することによつて行なわせる。この
ような反応によつて得られた反応生成物を水およ
びエタノールで順次洗浄し、その後、トリメチル
アミン水溶液中で例えば40℃に保ちながら約４時
間攪拌するアミン処理を行なつて目的の陰イオン
交換樹脂となす。第２図は、このようにして製造
された陰イオン交換樹脂の要部を示しており、基
材１の表面に付着しているカルボキシル基（−
COOH）や水酸基（−OH）は次のような挙動を
示す。即ち、カルボキシル基（−COOH）は解
離してカルボキシルイオン（−COO-）となり、
周辺の陰イオンと電気的に反発する。このため、
周辺の陰イオンは基材１の表面近傍から排除さ
れ、該基材との相互作用を殆んど受けなくなる。
また、水酸基（−OH）は基材１の親水性を高め
る役割を果す。このため、基材１に疎水性物質が
吸着するのを防止できるようになる。このような
状況の下で、トリアルキルアンモニウム基（−Ｎ
R3）でイオン交換が行なわれる。このため、
陰イオンの分離は、基材１にイオンが吸着したり
して生ずる他の分離作用を受けることがなくな
り、究極的に良好な分離特性を与えるようにな
る。
レートからなるモノマーＡ，例えばヒドロキシメ
タクリレート（若しくはグリシジルメタクリレー
ト）からなるモノマーＢ，例えばメチルアクリレ
ート（若しくはエチルアクリレート）からなるモ
ノマーＣ，クロルベンゼン，およびヘキサノール
を夫々40部，30部，30部，20部，および20部と、
これらモノマーの総量に対し0.5％の重合開始剤
（例えばアゾビスイソブチロニトリル）とを混合
させる。その後、該混合物を、１％のポリビニル
アルコール水溶液に入れ、例えば60℃で約８時間
攪拌して重合させる。このような重合によつて生
成した球状の共重合体を分級し、例えば粒径10〜
15μmのものを取り出す。このようにして得られ
た共重合体を、例えば0.2％の水素化ホウ素ナト
リウム（NaBH4）を含む1Nの水酸化ナトリウム
（NaOH）溶液中でジグリシジルエーテルと反応
させる。この反応は上記共重合体の10gとジグリ
シジルエーテル5gを、0.2％のNaBH4を含む上記
水酸化ナトリウム溶液20ml中に入れ、例えば40℃
で５時間攪拌することによつて行なわせる。この
ような反応によつて得られた反応生成物を水およ
びエタノールで順次洗浄し、その後、トリメチル
アミン水溶液中で例えば40℃に保ちながら約４時
間攪拌するアミン処理を行なつて目的の陰イオン
交換樹脂となす。第２図は、このようにして製造
された陰イオン交換樹脂の要部を示しており、基
材１の表面に付着しているカルボキシル基（−
COOH）や水酸基（−OH）は次のような挙動を
示す。即ち、カルボキシル基（−COOH）は解
離してカルボキシルイオン（−COO-）となり、
周辺の陰イオンと電気的に反発する。このため、
周辺の陰イオンは基材１の表面近傍から排除さ
れ、該基材との相互作用を殆んど受けなくなる。
また、水酸基（−OH）は基材１の親水性を高め
る役割を果す。このため、基材１に疎水性物質が
吸着するのを防止できるようになる。このような
状況の下で、トリアルキルアンモニウム基（−Ｎ
R3）でイオン交換が行なわれる。このため、
陰イオンの分離は、基材１にイオンが吸着したり
して生ずる他の分離作用を受けることがなくな
り、究極的に良好な分離特性を与えるようにな
る。
（発明の効果）
以上詳しく説明したような本発明によれば、複
数のモノマー等から混合物を重合させて粒状共重
合体を得、該共重合体を化学修飾するような構成
であるため、基材の影響を殆んど受けず分離カラ
ムに充填されて良好な分離特性を与えるような陰
イオン交換樹脂を製造できるようになる。
数のモノマー等から混合物を重合させて粒状共重
合体を得、該共重合体を化学修飾するような構成
であるため、基材の影響を殆んど受けず分離カラ
ムに充填されて良好な分離特性を与えるような陰
イオン交換樹脂を製造できるようになる。
第１図は本発明実施例の方法説明図、第２図は
本発明実施例によつて製造されたイオン交換樹脂
を説明する図である。 １……基材。
本発明実施例によつて製造されたイオン交換樹脂
を説明する図である。 １……基材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高速液体クロマトグラフ装置の分離カラム等
に充填されて被測定成分をクロマトグラフイツク
に分離する陰イオン交換樹脂を下記(イ)乃至(ニ)の工
程によつて製造する方法。 (イ) 40部のポリオールジメタクリレートからなる
モノマーＡ，30部のヒドロキシメタクリレート
若しくはグリシジルメタクリレートからなるモ
ノマーＢ，30部のメチルアクリレート若しくは
エチルアクリレートからなるモノマーＣ，20部
のクロルベンゼンおよび20部のヘキサノール
と、これらモノマーの総量に対し0.5％のアゾ
ビスイソブチロニトリルからなる重合開始剤と
を混合させる工程。 (ロ) 上記混合物を１％のポリビニルアルコール溶
液中で攪拌して重合する工程。 (ハ) 上記重合によつて生じた生成物を水およびエ
タノールで洗浄したのち、アミンで処理する工
程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61146339A JPS633006A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 陰イオン交換樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61146339A JPS633006A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 陰イオン交換樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS633006A JPS633006A (ja) | 1988-01-08 |
| JPH0534364B2 true JPH0534364B2 (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=15405458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61146339A Granted JPS633006A (ja) | 1986-06-23 | 1986-06-23 | 陰イオン交換樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS633006A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3706355A1 (de) * | 1987-02-27 | 1988-09-08 | Basf Ag | Additionsprodukte aus acrylaten und aminen sowie deren verwendung in strahlungshaertbaren massen |
| WO2006011723A1 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | Sk Telecom Co., Ltd. | Quadrifilar helical antenna |
| CN110267740B (zh) * | 2017-02-27 | 2022-03-15 | 昭和电工株式会社 | 体积排阻色谱用填充剂和其制造方法 |
-
1986
- 1986-06-23 JP JP61146339A patent/JPS633006A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS633006A (ja) | 1988-01-08 |
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