JPH05342993A - Plasma chamber and its manufacutre and plasma display apparatus - Google Patents
Plasma chamber and its manufacutre and plasma display apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマ表示装置での
使用に適したプラズマ室並びにその製造方法、及びかか
るプラズマ室を含むプラズマ表示装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma chamber suitable for use in a plasma display device, a method for manufacturing the same, and a plasma display device including the plasma chamber.
【０００２】[0002]
【従来の技術】発光型電子表示装置の一種にプラズマ表
示装置がある。このプラズマ表示装置はプラズマ室を備
え、このプラズマ室には希ガスから成る放電用ガスが封
入されている。そして、プラズマ室は、対向する一組の
電極アレイの交差領域の各々によって規定される複数の
セルを有する。プラズマ表示装置は、選択されたセルに
おける放電により希ガスのプラズマ放電を生じさせ、こ
のプラズマ放電に伴う発光を利用した表示装置である。2. Description of the Related Art A plasma display device is one type of light emitting electronic display device. This plasma display device includes a plasma chamber, and a discharge gas composed of a rare gas is sealed in the plasma chamber. The plasma chamber then has a plurality of cells defined by each of the intersecting regions of the pair of opposing electrode arrays. A plasma display device is a display device that uses a light emission caused by a plasma discharge of a rare gas caused by discharge in a selected cell.
【０００３】図１に模式的な断面図を示すように、プラ
ズマ表示装置は、基本的には、それぞれ交差する電極ア
レイ１４，２４を設けた２枚のガラス基板１２，２２で
形成された厚さ約０．１ｍｍのプラズマ室４０から構成
されており、Ｎｅを主体とする混合希ガスがプラズマ室
４０に数百Ｔｏｒｒ封入されている。プラズマ表示装置
は、交流駆動形と直流駆動形に大別される。交流駆動形
プラズマ表示装置においては、図１に示すように、電極
アレイ１４，２４は誘電体層１６，２６及び放電保護層
１８，２８で覆われており、間接放電方式である。ま
た、直流駆動形プラズマ表示装置は、誘電体層及び放電
保護層を除いた構造を有しており、電極アレイがプラズ
マ室に直接露出した直接放電方式である。As shown in the schematic sectional view of FIG. 1, a plasma display device basically has a thickness formed by two glass substrates 12 and 22 provided with intersecting electrode arrays 14 and 24, respectively. The plasma chamber 40 is about 0.1 mm thick, and the mixed rare gas mainly containing Ne is enclosed in the plasma chamber 40 for several hundred Torr. Plasma display devices are roughly classified into an AC drive type and a DC drive type. In the AC drive type plasma display device, as shown in FIG. 1, the electrode arrays 14 and 24 are covered with dielectric layers 16 and 26 and discharge protection layers 18 and 28, which is an indirect discharge type. Further, the DC drive type plasma display device has a structure excluding the dielectric layer and the discharge protection layer, and is a direct discharge type in which the electrode array is directly exposed to the plasma chamber.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】通常、プラズマ室を作
製する場合、Ｎｅ等の希ガスを数百Ｔｏｒｒ程度プラズ
マ室に封入する。プラズマ室におけるプラズマ発生時、
プラズマ室の内壁に吸着したＨ2Ｏ、ＣＯ2、ＣＯ、
Ｈ2、Ｎ2等の不純物がガス状となり、これらのガス状物
質が誘電体層や電極に付着する。その結果、プラズマ表
示装置の特性が劣化し、装置の寿命が短くなるという問
題がある。Usually, when a plasma chamber is manufactured, a rare gas such as Ne is sealed in the plasma chamber for about several hundred Torr. When plasma is generated in the plasma chamber,
H 2 O, CO 2 , CO adsorbed on the inner wall of the plasma chamber,
Impurities such as H 2 and N 2 become gaseous, and these gaseous substances adhere to the dielectric layer and electrodes. As a result, the characteristics of the plasma display device are deteriorated and the life of the device is shortened.
【０００５】ＣＲＴ等の陰極線管においては、内壁に吸
着したＨ2Ｏ、ＣＯ2、ＣＯ、Ｈ2、Ｎ2等の不純物を除去
するために、通常、例えばＢａから成る蒸発型ゲッタが
使用されている。蒸発型ゲッタは、少量で大きな吸着面
積が得られること、安価で取り扱いが容易であること、
低温での吸着特性が優れていること等の利点を有する。In a cathode ray tube such as a CRT, an evaporative getter made of, for example, Ba is usually used to remove impurities such as H 2 O, CO 2 , CO, H 2 and N 2 adsorbed on the inner wall. ing. Evaporative getters can obtain a large adsorption area with a small amount, are cheap and easy to handle,
It has advantages such as excellent adsorption characteristics at low temperatures.
【０００６】蒸発型ゲッタは飽和蒸気圧が低い。従っ
て、高周波加熱で蒸発型ゲッタを蒸発させる場合、陰極
線管の内部を１０-5〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空にしな
ければならない。陰極線管で使用されている蒸発型ゲッ
タをプラズマ表示装置のプラズマ室内壁に付着した不純
物を除去するために使用し、陰極線管と同様の方法でプ
ラズマ表示装置を作製する場合、プラズマ室内部にゲッ
タを配置し、次いで、プラズマ室にＮｅを主体とする混
合希ガスを数百Ｔｏｒｒ封入し、その後ゲッタを蒸発さ
せる必要がある。ところが、このような圧力条件では、
蒸発型ゲッタが蒸発しないという問題がある。The evaporative getter has a low saturated vapor pressure. Therefore, when the evaporation type getter is evaporated by high frequency heating, the inside of the cathode ray tube must be evacuated to about 10 -5 to 10 -6 Torr. When the evaporation type getter used in the cathode ray tube is used to remove impurities adhering to the plasma chamber inner wall of the plasma display device, and when the plasma display device is manufactured by the same method as the cathode ray tube, the getter is placed inside the plasma chamber. It is necessary to fill the plasma chamber with several hundred Torr of a mixed rare gas mainly containing Ne, and then to vaporize the getter. However, under such a pressure condition,
There is a problem that the evaporation type getter does not evaporate.
【０００７】プラズマ表示装置のプラズマ室内に、Ｚ
ｒ、Ｔｉ、Ｔａあるいはこれらの合金から成る非蒸発型
ゲッタを配置するが考えられるが、非蒸発型ゲッタの吸
着面積は蒸発型ゲッタよりも小さく、多量のゲッタを必
要とするために、コスト高、重量増加等の問題がある。In the plasma chamber of the plasma display device, Z
A non-evaporable getter made of r, Ti, Ta, or an alloy thereof may be arranged. However, the adsorption area of the non-evaporable getter is smaller than that of the evaporative getter, and a large amount of getter is required, resulting in high cost. However, there is a problem such as an increase in weight.
【０００８】従って、本発明の目的は、少量で大きな吸
着面積が得られ、安価で取り扱いが容易であり、低温で
の吸着特性が優れるといった蒸発型ゲッタの利点を活か
したプラズマ室、並びに蒸発型ゲッタを用いたプラズマ
室の製造方法、及びかかるプラズマ室を備えたプラズマ
表示装置を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to obtain a large adsorption area with a small amount, it is inexpensive and easy to handle, and the adsorption characteristics at low temperature are excellent. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a plasma chamber using a getter, and a plasma display device including the plasma chamber.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の放電用ガスが封
入されたプラズマ室は、プラズマ室の内壁に蒸発型ゲッ
タが付着していることを特徴とする。蒸発型ゲッタとし
て、例えば、Ｂａ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、あるいはこれら
の合金を使用することができる。放電用ガスとしては、
通常のＨｅ／Ｘｅ混合ガス、Ｎｅ／Ｘｅ混合ガス、Ｎｅ
／Ａｒ／Ｘｅ混合ガス等を使用することができる。The plasma chamber in which the discharge gas of the present invention is sealed is characterized in that an evaporative getter is attached to the inner wall of the plasma chamber. As the evaporation type getter, for example, Ba, Mg, Ca, Sr, or an alloy thereof can be used. As the discharge gas,
Normal He / Xe mixed gas, Ne / Xe mixed gas, Ne
/ Ar / Xe mixed gas or the like can be used.
【００１０】また、本発明のプラズマ室の製造方法は、
（イ）蒸発型ゲッタが配置されたプラズマ室を排気する
工程と、（ロ）蒸発型ゲッタを活性化し、プラズマ室の
内壁に蒸発型ゲッタを吸着させる工程と、（ハ）プラズ
マ室に放電用ガスを封入する工程、を含むことを特徴と
する。The plasma chamber manufacturing method of the present invention is
(A) A step of exhausting the plasma chamber in which the evaporative getter is placed, (b) a step of activating the evaporative getter and adsorbing the evaporative getter to the inner wall of the plasma chamber, and (c) a discharge for the plasma chamber. And a step of enclosing a gas.
【００１１】蒸発型ゲッタが配置されたとは、蒸発型ゲ
ッタがプラズマ室内に配置されている場合だけでなく、
プラズマ室を排気する排気系内に配置されている場合を
含む。プラズマ室は、蒸発型ゲッタの飽和蒸気圧程度に
排気することが望ましい。蒸発型ゲッタを加熱すること
によって活性化することができる。例えば、ＢａＡｌ4
にＮｉパウダーを混合した蒸発型ゲッタを用いる場合、
１０００゜Ｃ程度にゲッタを加熱すると反応が起こり活
性化する。加熱は、例えば、４００ｋＨｚ程度の高周波
を外部から与える高周波加熱することができる。Not only the evaporative getter is arranged in the plasma chamber, but also the evaporative getter is arranged.
Including the case where the plasma chamber is placed in an exhaust system that exhausts the plasma chamber. It is desirable that the plasma chamber be evacuated to about the saturated vapor pressure of the evaporative getter. It can be activated by heating the evaporative getter. For example, BaAl 4
When using an evaporation type getter mixed with Ni powder,
When the getter is heated to about 1000 ° C, a reaction occurs and it is activated. The heating can be performed by high-frequency heating in which a high frequency of about 400 kHz is externally applied.
【００１２】更に、本発明のプラズマ表示装置は、対向
する一組の電極アレイの交差領域の各々によって規定さ
れる複数のセルを有するプラズマ室を備え、選択された
セルにおける電荷の放電により表示を行う。そして、放
電用ガスを封入するプラズマ室の内壁に蒸発型ゲッタが
付着していることを特徴とする。電極アレイは、ＩＴＯ
膜、金属薄膜等の導電性薄膜をエッチングすることによ
って、あるいは、金属ペーストを印刷することによって
形成することができる。本発明のプラズマ表示装置は、
プラズマ室の各セルが液晶パネルの走査線のスイッチン
グ素子として機能するプラズマ装置も包含する。Furthermore, the plasma display device of the present invention comprises a plasma chamber having a plurality of cells defined by each of the intersecting regions of a pair of electrode arrays facing each other, and displays an image by discharging electric charges in the selected cells. To do. The evaporative getter is attached to the inner wall of the plasma chamber for enclosing the discharge gas. The electrode array is ITO
It can be formed by etching a conductive thin film such as a film or a metal thin film, or by printing a metal paste. The plasma display device of the present invention is
It also includes a plasma device in which each cell of the plasma chamber functions as a switching element of a scanning line of a liquid crystal panel.
【００１３】[0013]
【作用】本発明のプラズマ室及びプラズマ表示装置にお
いては、プラズマ室の内壁に蒸発型ゲッタが付着してい
る。蒸発型ゲッタは、少量で大きな吸着面積が得られ、
低温での吸着特性が優れており、極めて効果的にプラズ
マ室の内壁に吸着した不純物を除去することができる。
また、本発明のプラズマ室の製造方法においては、蒸発
型ゲッタが配置されたプラズマ室を蒸発型ゲッタの飽和
蒸気圧程度に排気した後、蒸発型ゲッタを活性化するの
で、プラズマ室の内壁に容易に且つ確実に蒸発型ゲッタ
を吸着させることができる。In the plasma chamber and the plasma display device of the present invention, the evaporation type getter is attached to the inner wall of the plasma chamber. The evaporation type getter can obtain a large adsorption area with a small amount,
The adsorption property at low temperature is excellent, and the impurities adsorbed on the inner wall of the plasma chamber can be removed very effectively.
Further, in the plasma chamber manufacturing method of the present invention, the evaporative getter is activated after the plasma chamber in which the evaporative getter is arranged is exhausted to about the saturated vapor pressure of the evaporative getter. The evaporation type getter can be easily and surely adsorbed.
【００１４】[0014]
【実施例】以下、図面を参照して、本発明を実施例に基
づき説明する。交流駆動形のプラズマ表示装置を製造す
るために、図１に模式的な一部断面図を示す装置１０を
準備する。この装置１０は、一対のガラス基板１２，２
２を具備する。図１において、一方のガラス基板１２の
内面には、電極アレイ（Ｘi電極群）１４が形成されて
いる。そして、その下にはガラスから成る誘電体層１
６、ＭｇＯから成る放電保護層１８、及び電極アレイ１
４と直交したスペーサー列群（図示せず）が形成されて
いる。他方のガラス基板２２の内面には、電極アレイ
（Ｙj電極群）２４が形成されている。そして、その上
にはガラスペーストやＳｉＯ2等から成る誘電体層２
６、ＭｇＯから成る放電保護層２８、及び電極アレイ２
４と直交したスペーサー列群（図示せず）が形成されて
いる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described based on embodiments with reference to the drawings. In order to manufacture an AC drive type plasma display device, a device 10 whose schematic partial sectional view is shown in FIG. 1 is prepared. The device 10 includes a pair of glass substrates 12 and 2
Equipped with 2. In FIG. 1, an electrode array (X i electrode group) 14 is formed on the inner surface of one glass substrate 12. And below that, a dielectric layer 1 made of glass
6, discharge protection layer 18 made of MgO, and electrode array 1
A group of spacer rows (not shown) orthogonal to 4 are formed. An electrode array (Y j electrode group) 24 is formed on the inner surface of the other glass substrate 22. Then, the dielectric layer 2 made of glass paste or SiO 2 or the like is formed on its
6, discharge protection layer 28 made of MgO, and electrode array 2
A group of spacer rows (not shown) orthogonal to 4 are formed.
【００１５】これらの一対のガラス基板１２，２２の間
に、ＢａＡｌ4にＮｉパウダーを混合した蒸発型ゲッタ
３０を、対角長１０インチのプラズマ表示装置の場合、
１０ｍｇ配置する。そしてこれらの一対のガラス基板１
２，２２を、対向する一組の電極アレイ１４，２４が直
交するように重ね合わせ、シール剤（図示せず）で気密
封止する。こうして、対向する一組の電極アレイ１４，
２４の交差領域の各々によって規定される複数のセル４
２を有するプラズマ室４０が形成される。尚、図１にお
いて、１つのセルを破線で囲まれた領域で表示した。In the case of a plasma display device having a diagonal length of 10 inches, an evaporation type getter 30 in which Ni powder is mixed with BaAl 4 is provided between the pair of glass substrates 12 and 22.
Place 10 mg. And these pair of glass substrates 1
The electrodes 2 and 22 are superposed so that the pair of electrode arrays 14 and 24 facing each other are orthogonal to each other, and are hermetically sealed with a sealant (not shown). Thus, a pair of opposing electrode arrays 14,
A plurality of cells 4 defined by each of the 24 intersection regions
A plasma chamber 40 having 2 is formed. In addition, in FIG. 1, one cell is displayed in a region surrounded by a broken line.
【００１６】図２に示すように、このような装置１０の
排気口４４を排気ポンプ（図示せず）に接続し、プラズ
マ室４０を１０-5〜１０-6Ｔｏｒｒまで排気する。次
に、排気ポンプの作動を停止させ、装置１０の外部から
高周波加熱によって蒸発型ゲッタ３０を活性化させ、プ
ラズマ室４０の内壁に蒸発型ゲッタを吸着させる。例え
ば、４００ｋＨｚ、３ｋＷのパワーで高周波加熱するこ
とによって、ゲッタの温度を約１０００゜Ｃとすること
ができる。As shown in FIG. 2, the exhaust port 44 of the apparatus 10 is connected to an exhaust pump (not shown) to exhaust the plasma chamber 40 to 10 -5 to 10 -6 Torr. Next, the operation of the exhaust pump is stopped, the evaporative getter 30 is activated from outside the apparatus 10 by high frequency heating, and the evaporative getter is adsorbed to the inner wall of the plasma chamber 40. For example, the getter temperature can be set to about 1000 ° C. by high-frequency heating with a power of 400 kHz and 3 kW.
【００１７】次いで、放電用ガス源からＮｅ／Ｘｅ混合
ガス（Ｘｅ：０．２％）から成る放電用ガスをプラズマ
室に２００Ｔｏｒｒ程度導入する。導入後、排気口４４
をガスバーナー、電封治具等で閉じ、プラズマ表示装置
を完成させる。Then, a discharge gas consisting of a Ne / Xe mixed gas (Xe: 0.2%) is introduced from the discharge gas source into the plasma chamber at about 200 Torr. After introduction, exhaust port 44
Is closed with a gas burner, an electric sealing jig, etc. to complete the plasma display device.
【００１８】あるいは又、図３に示すように、装置１０
のプラズマ室４０を排気する排気系内に小室５０を設
け、この小室５０内に蒸発型ゲッタ３０を配置すること
ができる。蒸発型ゲッタ３０の活性化は、小室５０の外
部から高周波加熱により行うことができる。Alternatively, as shown in FIG.
The small chamber 50 can be provided in the exhaust system for exhausting the plasma chamber 40, and the evaporation type getter 30 can be arranged in the small chamber 50. Activation of the evaporative getter 30 can be performed by high-frequency heating from outside the small chamber 50.
【００１９】以上、本発明を好ましい実施例に基づき説
明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。本発明のプラズマ室の構造は、公知の如何なる
形式のプラズマ室とすることができる。また、本発明の
プラズマ表示装置も公知の種々の形式のプラズマ表示装
置とすることもでき、例えば、直流駆動形とすることが
できる。このような直流駆動形プラズマ表示装置におけ
るプラズマ室並びにプラズマ室の製法に本発明を適用す
ることができる。Although the present invention has been described based on the preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments. The structure of the plasma chamber of the present invention can be any known type of plasma chamber. Further, the plasma display device of the present invention may be various known types of plasma display devices, for example, a direct current drive type. The present invention can be applied to a plasma chamber and a method of manufacturing the plasma chamber in such a DC drive type plasma display device.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明のプラズマ室及びプラズマ表示装
置においては、プラズマ室の内壁に蒸発型ゲッタが付着
している。蒸発型ゲッタは、少量で大きな吸着面積が得
られ、低温での吸着特性が優れており、極めて効果的に
プラズマ室の内壁に吸着した不純物を除去することがで
きる。また、本発明のプラズマ室の製造方法において
は、蒸発型ゲッタが配置されたプラズマ室を蒸発型ゲッ
タの飽和蒸気圧程度に排気した後、蒸発型ゲッタを活性
化するので、プラズマ室の内壁に容易に且つ確実に蒸発
型ゲッタを吸着させることができる。その結果、プラズ
マ室の内壁から放出されるガス状の不純物を効率良く蒸
発型ゲッタに吸着させることができるので、プラズマ表
示装置の特性劣化を防止でき、またプラズマ表示装置の
寿命を延ばすことができる。In the plasma chamber and the plasma display device of the present invention, the evaporation type getter is attached to the inner wall of the plasma chamber. The evaporation type getter can obtain a large adsorption area with a small amount, has excellent adsorption characteristics at low temperatures, and can extremely effectively remove impurities adsorbed on the inner wall of the plasma chamber. Further, in the plasma chamber manufacturing method of the present invention, the evaporative getter is activated after the plasma chamber in which the evaporative getter is arranged is exhausted to about the saturated vapor pressure of the evaporative getter. The evaporation type getter can be easily and surely adsorbed. As a result, the gaseous impurities emitted from the inner wall of the plasma chamber can be efficiently adsorbed by the evaporative getter, so that the characteristic deterioration of the plasma display device can be prevented and the life of the plasma display device can be extended. ..
【図１】交流駆動形のプラズマ表示装置を製造するため
の装置の模式的な一部断面図である。FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional view of a device for manufacturing an AC-driven plasma display device.
【図２】本発明のプラズマ室の製造方法の一例を説明す
るための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining an example of the plasma chamber manufacturing method of the present invention.
【図３】本発明のプラズマ室の製造方法の別の例を説明
するための図である。FIG. 3 is a drawing for explaining another example of the plasma chamber manufacturing method of the present invention.
１０ プラズマ表示装置を製造するための装置 １２，２２ ガラス基板 １４，２４ 電極アレイ １６，２６ 誘電体層 １８，２８ 放電保護層 ３０ 蒸発型ゲッタ ４０ プラズマ室 ４２ セル ４４ 排気口 ５０ 小室 10 Device for manufacturing plasma display device 12,22 Glass substrate 14,24 Electrode array 16,26 Dielectric layer 18,28 Discharge protection layer 30 Evaporative getter 40 Plasma chamber 42 Cell 44 Exhaust port 50 Small chamber
Claims (3)
て、プラズマ室の内壁に蒸発型ゲッタが付着しているこ
とを特徴とするプラズマ室。1. A plasma chamber in which a discharge gas is sealed, wherein an evaporative getter is attached to the inner wall of the plasma chamber.
室を排気する工程と、 （ロ）蒸発型ゲッタを活性化し、プラズマ室の内壁に蒸
発型ゲッタを吸着させる工程と、 （ハ）プラズマ室に放電用ガスを封入する工程、を含む
ことを特徴とするプラズマ室の製造方法。2. (a) Evacuating the plasma chamber in which the evaporative getter is arranged; (b) activating the evaporative getter and adsorbing the evaporative getter to the inner wall of the plasma chamber; A method of manufacturing a plasma chamber, comprising the step of enclosing a discharge gas in the plasma chamber.
々によって規定される複数のセルを有するプラズマ室を
備え、選択されたセルにおける電荷の放電により表示あ
るいはスイッチングを行うプラズマ表示装置であって、
放電用ガスを封入するプラズマ室の内壁に蒸発型ゲッタ
が付着していることを特徴とするプラズマ表示装置。3. A plasma display device comprising a plasma chamber having a plurality of cells defined by respective intersecting regions of a pair of opposing electrode arrays, and performing display or switching by discharging electric charges in the selected cells. hand,
A plasma display device, wherein an evaporative getter is attached to an inner wall of a plasma chamber for enclosing a discharge gas.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4168313A JPH05342993A (en) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | Plasma chamber and its manufacutre and plasma display apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4168313A JPH05342993A (en) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | Plasma chamber and its manufacutre and plasma display apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05342993A true JPH05342993A (en) | 1993-12-24 |
Family
ID=15865720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4168313A Pending JPH05342993A (en) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | Plasma chamber and its manufacutre and plasma display apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05342993A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000033347A1 (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-08 | Orion Electric Co., Ltd. | Plasma display panel |
| KR20010104469A (en) * | 2000-04-29 | 2001-11-26 | 김순택 | Plasma display panel including a coated getter and Method for the same |
| KR100334334B1 (en) * | 1998-05-21 | 2002-04-25 | 니시가키 코지 | Gas filling method and device, and method for filling discharge gas into plasma display panel |
-
1992
- 1992-06-04 JP JP4168313A patent/JPH05342993A/en active Pending
Cited By (3)
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