JP2003257316A - Manufacturing method for display device - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a display device, capable of reducing impurity gas remaining in a discharge space of a display device using gas discharge such as a plasma display device. <P>SOLUTION: A chemical seed rich in energy is generated by discharge, and impurity is removed by physical and chemical action thereof. In glow discharge taking hydrogen gas as discharge gas, hydrogen base active seed (hydrogen atom or hydrogen ion) having a strong reducing action is generated to thereby remove water adsorbed to the inner wall and oxides such as an oxide coat on an electrode by reducing. Organic contaminant is decomposed by reducing to be changed into small molecules easy to be exhausted. In the glow discharge taking oxygen gas as discharge gas, oxygen active seed (oxygen atom and oxygen ion rich in energy) having a strong oxidizing action is generated to thereby decompose organic contaminant adhering to the inner wall by oxidizing so that the contaminant is changed into small molecules easy to be exhausted. As a result, impurity gas such as water remaining in the discharge space can be decreased so as to stabilize the discharge characteristic and lengthen the life of the device. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ表示装
置、電界放出型表示装置、プラズマアドレス液晶表示装
置等の表示装置の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a display device such as a plasma display device, a field emission display device, and a plasma addressed liquid crystal display device.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、陰極線管（Cathode Ray Tube；Ｃ
ＲＴ）に比べて奥行きが短いプラズマ表示装置（Plasma
Display Panel；以下、ＰＤＰと略記することもあ
る。）や電界放出型表示装置（Field Emission Displa
y；以下、ＦＥＤと略記することもある。）やプラズマ
アドレス液晶表示装置（Plasma Address Liquid Crysta
l Display；以下、ＰＡＬＣと略記することもある。）
等の放電管系又は真空管系のフラットパネル型表示装置
（Flat Panel Display）が開発されている。2. Description of the Related Art In recent years, a cathode ray tube (Cathode Ray Tube; C)
Plasma display device (Plasma
Display Panel; sometimes abbreviated as PDP hereinafter. ) And field emission display devices (Field Emission Displa
y; Hereinafter, it may be abbreviated as FED. ) And Plasma Address Liquid Crysta
l Display; sometimes abbreviated as PALC hereinafter. )
A flat panel display device (Flat Panel Display) of a discharge tube system or a vacuum tube system has been developed.

【０００３】例えば、ＰＤＰパネルの製造では、２枚の
基板にそれぞれ対向電極の一方を形成し、これらの基板
を一定の放電ギャップ（プラズマ放電させる電極間の距
離）を保った状態に保持し、封着材として基板周辺部に
枠状に設けておいたフリットガラス等の低融点ガラス層
を加熱融着して２枚の基板を封着する。For example, in the manufacture of a PDP panel, one of the opposing electrodes is formed on each of two substrates, and these substrates are held with a constant discharge gap (distance between electrodes for plasma discharge). As a sealing material, a low melting point glass layer such as frit glass provided in a frame shape in the peripheral portion of the substrates is heat-sealed to seal the two substrates.

【０００４】次に、上記２枚の基板の間に形成された放
電空間を真空に排気した後、放電ガスとしてネオン、ア
ルゴン、キセノン等の不活性ガスを導入する。Next, after the discharge space formed between the two substrates is evacuated to vacuum, an inert gas such as neon, argon or xenon is introduced as a discharge gas.

【０００５】しかしながら、このようなＰＤＰパネルで
は、放電ギャップが３００〜５００μｍ程度と小さく、
しかも、１つ１つの画素に対応して放電空間が細分化さ
れているので、ロータリーポンプ、ターボポンプ、スパ
ッタイオンポンプ等の真空ポンプで排気するだけでは、
放電空間の到達真空度に限界があり、放電空間内に不純
物ガスが残留する。However, in such a PDP panel, the discharge gap is as small as about 300 to 500 μm,
Moreover, since the discharge space is subdivided corresponding to each pixel, just by evacuating with a vacuum pump such as a rotary pump, a turbo pump or a sputter ion pump,
The ultimate vacuum of the discharge space is limited, and the impurity gas remains in the discharge space.

【０００６】ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＰＡＬＣ等の放電空間又
は真空空間（以下、放電空間について主として説明す
る。）に水や二酸化炭素等の不純物ガスが残存すると、
放電特性あるいは電子放出特性が不安定になったり、異
常放電によって電極が損傷を受け、装置寿命が短くなっ
たりする原因となる。したがって、放電空間内に残留す
る不純物ガスをできるだけ少なくすることが望ましい。When impurities gases such as water and carbon dioxide remain in the discharge space or vacuum space of PDP, FED, PALC, etc. (hereinafter, the discharge space will be mainly explained),
This may cause unstable discharge characteristics or electron emission characteristics, or damage the electrodes due to abnormal discharge, resulting in shortened device life. Therefore, it is desirable to minimize the amount of impurity gas remaining in the discharge space.

【０００７】そこで、排気プロセス中に放電空間を適温
（３００〜５００℃、例えば３００〜３５０℃）に加熱
し、壁面に吸着あるいは吸蔵されている不純物の脱離を
促進しながら放電空間の排気を行い、不純物の除去（清
浄化）と放電空間の高真空化を図る加熱脱ガス処理や、
加熱脱ガス処理の途中で一旦排気を止め、加熱状態のま
ま放電空間に放電ガスを導入して所定時間放電を生じさ
せたのち排気するエージング排気や、洗浄ガスによるフ
ラッシング等の方法が、単独に又は複合的に行われる。Therefore, the discharge space is heated to an appropriate temperature (300 to 500 ° C., for example, 300 to 350 ° C.) during the exhaust process to promote the desorption of impurities adsorbed or occluded on the wall surface to exhaust the discharge space. And degassing treatment to remove impurities (clean) and make the discharge space high vacuum,
During the heating degassing process, once the exhaust is stopped, the discharge gas is introduced into the discharge space in the heated state to generate discharge for a predetermined time, and then the exhaust is exhausted. Or it is carried out in combination.

【０００８】例えば、ＰＤＰパネルの製造では、通常、
放電ガスの充填後に全画素に対応する放電空間全体で放
電を生じさせ、エージングを行う。エージングには、各
画素ごとの放電電圧および放電輝度を均一化し、これら
の放電特性の安定化を図る効果とともに、放電で生じる
プラズマガスによって不純物を物理的及び化学的に除去
するクリーニング効果がある。For example, in the manufacture of PDP panels,
After filling the discharge gas, discharge is generated in the entire discharge space corresponding to all pixels, and aging is performed. The aging has an effect of making the discharge voltage and the discharge brightness of each pixel uniform and stabilizing these discharge characteristics, and a cleaning effect of physically and chemically removing impurities by the plasma gas generated by the discharge.

【０００９】このエージングによるクリーニング効果
は、放電空間の内壁面が加熱されている加熱脱ガス工程
の合間にエージングを行うと一層効果的である。これ
が、上述したエージング排気である。The cleaning effect by this aging is more effective when the aging is performed between the heating and degassing steps in which the inner wall surface of the discharge space is heated. This is the above-mentioned aging exhaust.

【００１０】特開２０００-１０６０８９号公報には、
ＡＣ（交流）面放電型ＰＤＰにおいて、各走査電極対に
平行にダミー電極を敷設し、エージング中はダミー電極
にも交流高電圧を印加して、放電空間を隅々までプラズ
マガスで満たし、エージング及びエージング排気のクリ
ーニング効果を高める方法が提案されている。しかし、
これにはダミー電極を形成する必要があり、そのために
表示装置の輝度が低下し、製作工程数が増加する等のデ
メリットがある。Japanese Patent Laid-Open No. 2000-106089 discloses that
In an AC (alternating current) surface discharge PDP, dummy electrodes are laid in parallel with each scanning electrode pair, and high AC voltage is applied also to the dummy electrodes during aging to fill the discharge space with plasma gas in every corner to perform aging. Also, a method for enhancing the cleaning effect of aging exhaust has been proposed. But,
This requires the formation of dummy electrodes, which has the disadvantages of lowering the brightness of the display device and increasing the number of manufacturing steps.

【００１１】上記のような排気工程やガス導入工程での
工夫に加えて、排気工程で残留している不純物ガスや排
気工程の後に発生してくる不純物ガスを極力除去するた
めに、不純物ガスを吸収するゲッター材を放電空間に連
通する収納部に組み込み、放電ガス導入前又は導入後に
加熱して活性化するゲッタリング工程も一般的に行われ
ている。In addition to the above contrivances in the exhausting process and the gas introducing process, in order to remove the impurity gas remaining in the exhausting process and the impurity gas generated after the exhausting process as much as possible, the impurity gas is removed. A gettering step of incorporating a getter material to be absorbed into a storage section communicating with the discharge space and heating and activating it before or after introducing the discharge gas is also generally performed.

【００１２】ゲッターの材料は、ＺｒＡｌ（ジルコニウ
ムアルミニウム）合金やＭｇＡｌ（マグネシウムアルミ
ニウム）合金等である。ゲッターは、製造後はガスの吸
収を防止するために真空下で密封保存することが望まし
い。しかし、流通過程においては一般に、乾燥容器や窒
素を封入した容器に入れて保存される。したがって、購
入時には、多かれ少なかれ、水、窒素、酸素、二酸化炭
素等を吸着あるいは吸蔵していると考えられる。The getter material is a ZrAl (zirconium aluminum) alloy, a MgAl (magnesium aluminum) alloy, or the like. It is desirable that the getter be hermetically stored under vacuum to prevent gas absorption after manufacturing. However, in the distribution process, it is generally stored in a dry container or a container containing nitrogen. Therefore, at the time of purchase, it is considered that water, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, etc. are adsorbed or occluded to a greater or lesser extent.

【００１３】このような市販のゲッターをそのまま放電
空間に連通する収納部に組み込み、排気工程終了後に活
性化のための加熱を行うと、吸着あるいは吸蔵していた
水、窒素、二酸化炭素等を放電空間に放出してしまうこ
とになる。これらの不純物ガスは、ゲッターによって再
吸収しなければならない。When such a commercially available getter is directly installed in the storage part communicating with the discharge space and heated for activation after the exhaust process is completed, the adsorbed or stored water, nitrogen, carbon dioxide or the like is discharged. It will be released into the space. These impurity gases must be reabsorbed by the getter.

【００１４】そこで、特開平１１-１６４８９号公報に
は、排気工程中に予めゲッターを加熱処理して、ゲッタ
ーが吸着あるいは吸蔵していたガスを放出させ、排気し
て除去してしまう方法が提案されている。この方法によ
れば、ゲッターが不純物ガスを吸収する能力を最大限に
発揮させることができ、ゲッターの効果を従来よりも高
めることができるが、その効果の大きさは、ゲッターの
種類やゲッターの保存状態、表示パネルの大きさ、ゲッ
タリング条件等にも依存する。Therefore, Japanese Patent Laid-Open No. 11-16489 proposes a method in which the getter is preheated during the exhaust step to release the gas adsorbed or occluded by the getter and exhausted and removed. Has been done. According to this method, the ability of the getter to absorb the impurity gas can be maximized, and the effect of the getter can be enhanced more than before. However, the magnitude of the effect depends on the type of getter and the getter. It also depends on the storage state, the size of the display panel, the gettering condition, and the like.

【００１５】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、有用な
提案がいくつか成されているとは言え、ＰＤＰ、ＦＥ
Ｄ、ＰＡＬＣ等の放電空間又は真空空間は、構造的・サ
イズ的に排気の難しい空間であること、その内壁面の一
部に水などを吸着あるいは吸蔵しやすい蛍光体層や酸化
マグネシウムＭｇＯ層が含まれる場合が多いこと、表示
装置の性能を安定化するためには、放電空間に残留する
不純物ガスをできるだけ少なくするのが望ましいこと等
から、排気工程のさらなる改善が必要であることは明ら
かである。As mentioned above, although some useful proposals have been made, PDP, FE
The discharge space or vacuum space of D, PALC, etc. is a space that is difficult to exhaust structurally and in size, and a phosphor layer or magnesium oxide MgO layer that easily adsorbs or stores water etc. on a part of its inner wall surface. Since it is often contained, and it is desirable to minimize the impurity gas remaining in the discharge space in order to stabilize the performance of the display device, it is clear that further improvement of the exhaust process is necessary. is there.

【００１６】そこで、本発明の目的は、プラズマ表示装
置、電界放出型表示装置、プラズマアドレス液晶表示装
置等のガス放電又は真空中での電子放出を利用する表示
装置の製造方法として、これらの表示装置の放電空間又
は真空空間中に存在しているか、又はその内壁面に吸着
あるいは吸蔵されている不純物を物理的及び化学的に除
去し、放電空間又は真空空間内に残留する不純物ガスを
効果的に減少させることのできる製造方法を提供するこ
とにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a plasma display device, a field emission display device, a plasma addressed liquid crystal display device, etc. as a method of manufacturing a display device utilizing gas discharge or electron emission in vacuum. Impurities existing in the discharge space or vacuum space of the device, or adsorbed or occluded on the inner wall surface of the device are physically and chemically removed to effectively remove the impurity gas remaining in the discharge space or vacuum space. It is to provide a manufacturing method which can be reduced to

【００１７】[0017]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、第一の
基体とこれに対向した第二の基体との間に表示領域を有
するとともに、前記表示領域に対応した空間に表示に必
要なエネルギーを発生させるように構成した表示装置に
おいて、前記空間を水素系ガス又は／及び酸素系ガスの
存在下でグロー放電させる工程を有する、表示装置の製
造方法に係る。That is, the present invention has a display area between a first substrate and a second substrate facing the first substrate, and is required for display in a space corresponding to the display region. A method of manufacturing a display device, comprising the step of glow-discharging the space in the presence of a hydrogen-based gas and / or an oxygen-based gas in a display device configured to generate energy.

【００１８】本発明によれば、前記表示領域に対応した
前記空間を用いて、前記酸素系ガスを放電ガスとしてグ
ロー放電させて、酸素プラズマ中に強い酸化作用を持つ
化学種である酸素系活性種（エネルギーに富んだ酸素原
子や酸素イオン）を生成し、また、前記水素系ガスを放
電ガスとしてグロー放電させて、水素プラズマ中に強い
還元作用を持つ化学種である水素系活性種（エネルギー
に富んだ水素原子や水素イオン）を生成し、これらのエ
ネルギーに富んだ活性種による物理的、化学的作用によ
り前記空間内の不純物を効果的かつ十分に除去すること
ができる。According to the present invention, the space corresponding to the display area is used to cause glow discharge of the oxygen-based gas as a discharge gas to generate oxygen-based active oxygen species that are strong oxidizing agents in oxygen plasma. Hydrogen-based active species (energy, which is a chemical species having a strong reducing action in hydrogen plasma, is generated by generating a species (enriched oxygen atoms and oxygen ions) and using the hydrogen-based gas as a discharge gas for glow discharge. Abundant hydrogen atoms and hydrogen ions) and the physical and chemical actions of these energy-rich active species can effectively and sufficiently remove impurities in the space.

【００１９】前記酸素系活性種は、強い酸化作用で、ガ
ラス基板、隔壁（バリアリブ）、透明誘電体層、酸化マ
グネシウム保護層、蛍光体層等に付着した有機汚染物を
酸化分解して、二酸化炭素等の排気されやすい小さな分
子に変えると同時に、酸化マグネシウム等の上記の酸化
物に酸素を供給して酸化を促進し、それぞれの本来の特
性を引き出し、特性を安定化させる。The oxygen-based active species oxidize and decompose organic contaminants adhering to the glass substrate, partition walls (barrier ribs), transparent dielectric layer, magnesium oxide protective layer, phosphor layer, etc. by a strong oxidative action, and are oxidized. At the same time as changing to small molecules such as carbon that are easily exhausted, oxygen is supplied to the above oxides such as magnesium oxide to accelerate the oxidation, bring out the original characteristics of each, and stabilize the characteristics.

【００２０】前記水素系活性種は、強い還元作用で、エ
ミッタ、カソード電極、アノード電極、ガラス基板、隔
壁（バリアリブ）、透明誘電体層、酸化マグネシウム保
護層、蛍光体層等に吸着されている水をはじめとする残
留不純物を還元して排除する。The hydrogen-based active species is adsorbed on the emitter, the cathode electrode, the anode electrode, the glass substrate, the partition wall (barrier rib), the transparent dielectric layer, the magnesium oxide protective layer, the phosphor layer, etc. by a strong reducing action. Reduces and eliminates residual impurities including water.

【００２１】前記水素系活性種は、強い還元作用で、電
極上の酸化被膜等の前記放電空間の内壁上に形成された
汚染酸化物等を還元する。内壁面から汚染酸化物を除く
ことで、これら酸化物に吸着されやすい水や二酸化炭素
等の不純物を排気しやすくするとともに、電極の放電特
性あるいは電子放出特性を安定化する。The hydrogen-based active species has a strong reducing action to reduce the contaminated oxide and the like formed on the inner wall of the discharge space such as the oxide film on the electrode. By removing the contaminating oxides from the inner wall surface, impurities such as water and carbon dioxide, which are easily adsorbed by these oxides, can be easily exhausted and the discharge characteristics or electron emission characteristics of the electrodes are stabilized.

【００２２】また、水素は多くの元素と水素化物を作り
得る元素なので、前記水素系活性種は、例えば前記有機
汚染物と反応して、これを小さな水素化物分子に還元分
解し、排気しやすくする（水素プラズマのエッチング効
果）。Further, since hydrogen is an element capable of forming hydrides with many elements, the hydrogen-based active species reacts with the organic contaminants, for example, to reduce and decompose them into small hydride molecules, which is easy to exhaust. Yes (hydrogen plasma etching effect).

【００２３】さらに、水素は小さな粒子であるので拡散
しやすく、前記放電空間内のより広い範囲にその物理的
及び化学的作用が及ぶ。Further, since hydrogen is a small particle, it is easily diffused, and its physical and chemical actions extend to a wider area in the discharge space.

【００２４】なお、本発明の方法と既述したエージング
排気とは、放電によってエネルギーに富んだ化学種を生
成し、その物理的及び化学的作用によって不純物を除去
しようとする主旨では共通している。The method of the present invention and the above-described aging exhaust have a common point in that chemical species rich in energy are generated by discharge and impurities are removed by physical and chemical actions thereof. .

【００２５】しかしながら、不活性ガスを放電ガスとす
るエージング排気では、エネルギーに富んだ不活性ガス
元素の原子又はイオンが作られるが、その作用は、高エ
ネルギーの不活性ガス原子又はイオンによる衝撃によっ
て、前記放電空間の内壁面に吸着あるいは吸蔵されてい
る不純物を叩き出すといった物理的作用が主である。However, in the aging exhaust using the inert gas as the discharge gas, atoms or ions of the energy-rich inert gas element are produced, and the action is caused by the impact of the high energy inert gas atoms or ions. The main physical action is to knock out impurities adsorbed or occluded on the inner wall surface of the discharge space.

【００２６】なぜなら、不活性ガス元素の原子は他の元
素の原子と結合を作りにくいので、化学的作用として
は、衝突を通じて過剰なエネルギーを不純物粒子等に譲
り渡し、エネルギーを付与された不純物粒子等がその後
何らかの化学反応を行うといった間接的な作用に限られ
るからである。Because the atom of the inert gas element is hard to form a bond with the atom of the other element, the chemical action is to give excess energy to the impurity particles through collision, and the impurity particles to which the energy is applied. Because it is limited to indirect actions such as performing some chemical reaction thereafter.

【００２７】これに対して、本発明では、上記したよう
に、前記酸素系ガス又は／及び前記水素系ガスのグロー
放電でエネルギーに富んだ活性種を生成するので、これ
らの活性種による物理的、化学的作用により前記空間内
の不純物を効果的かつ十分に除去することができるので
ある。しかも、このグロー放電は、前記表示領域に対応
して既に設けられている電極を用いて行うので、ダミー
電極の形成による問題点が生じることはない。On the other hand, in the present invention, as described above, active species rich in energy are generated by glow discharge of the oxygen-based gas and / or the hydrogen-based gas, so that the physical species by these active species are generated. The impurities in the space can be effectively and sufficiently removed by the chemical action. Moreover, since this glow discharge is performed by using the electrodes already provided corresponding to the display area, no problem occurs due to the formation of the dummy electrode.

【００２８】[0028]

【発明の実施の形態】本発明においては、前記水素系ガ
スを、純水素、又は水素とアルゴン、ネオン、クリプト
ン、キセノン等の不活性ガスとの混合ガス、又は、水素
と一酸化炭素とアルゴン、ネオン、クリプトン、キセノ
ン等の不活性ガスとの混合ガスとするのが望ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the hydrogen gas is pure hydrogen, or a mixed gas of hydrogen and an inert gas such as argon, neon, krypton, or xenon, or hydrogen, carbon monoxide, and argon. It is desirable to use a mixed gas with an inert gas such as neon, krypton, or xenon.

【００２９】前記水素とともに前記一酸化炭素を導入す
ると、次の２つの反応 Ｈ＋Ｈ₂Ｏ→Ｈ₂＋ＯＨ （１） ＣＯ＋ＯＨ→ＣＯ₂＋Ｈ （２） が起こる。２つの反応をまとめると ＣＯ＋Ｈ₂Ｏ→ＣＯ₂＋Ｈ₂ （３） となる。このように、水素プラズマ中では、前記一酸化
炭素は水を二酸化炭素に変換する働きをする。水分子が
壁面に最も吸着されやすく排気の難しい分子であるのに
対し、二酸化炭素分子は、水に比べると吸着されにくく
排気しやすい分子である。したがって、水を二酸化炭素
に変換する反応（３）は、結果として前記放電空間の残
留ガスを減少させる効果をもっている。When the carbon monoxide is introduced together with the hydrogen, the following two reactions H + H ₂ O → H ₂ + OH (1) CO + OH → CO ₂ + H (2) occur. Combining the two reactions results in CO + H ₂ O → CO ₂ + H ₂ (3). Thus, in hydrogen plasma, the carbon monoxide acts to convert water into carbon dioxide. Water molecules are the molecules that are most easily adsorbed on the wall surface and difficult to exhaust, whereas carbon dioxide molecules are the molecules that are less adsorbed and easier to exhaust than water. Therefore, the reaction (3) for converting water into carbon dioxide has the effect of reducing the residual gas in the discharge space.

【００３０】また、ＡＣ（交流）面放電型ＰＤＰのよう
に、電極が前記放電空間に露出しない構造を持つ表示装
置の製造方法では、前記水素系ガスのグロー放電を起こ
させる工程の前に、前記空間に前記酸素系ガスを導入
し、前記酸素系ガスの存在下で前記空間にグロー放電を
起こさせる工程を行うのが望ましい。Further, in a method of manufacturing a display device having a structure in which electrodes are not exposed to the discharge space, such as an AC (alternating current) surface discharge PDP, before the step of causing glow discharge of the hydrogen-based gas, It is desirable to perform the step of introducing the oxygen-based gas into the space and causing glow discharge in the space in the presence of the oxygen-based gas.

【００３１】前記酸素系ガスを、純酸素、酸素とアルゴ
ン、ネオン、クリプトン、キセノン等の不活性ガスとの
混合ガス、純オゾン、又は、オゾンとアルゴン、ネオ
ン、クリプトン、キセノン等の不活性ガスとの混合ガス
とするのが望ましい。The oxygen-based gas is pure oxygen, a mixed gas of oxygen and an inert gas such as argon, neon, krypton, or xenon, pure ozone, or an inert gas such as ozone and argon, neon, krypton, or xenon. It is desirable to use a mixed gas of

【００３２】また、前記空間を加熱しながら前記グロー
放電を起こさせるのが望ましく、前記グロー放電により
前記空間内に不純物を放出し、これを排出する。Further, it is desirable to cause the glow discharge while heating the space, and the glow discharge releases impurities into the space and discharges them.

【００３３】本発明においては、前記グロー放電工程の
前に前記空間に連通する収納部にゲッター材を組み込
み、このゲッター材を加熱処理しながら真空引きを行う
のが望ましい。In the present invention, it is preferable that before the glow discharge step, a getter material is incorporated in the storage section communicating with the space, and the getter material is subjected to heat treatment to perform vacuuming.

【００３４】本発明は、前記第一の基体とこれに対向し
た透光性の前記第二の基体との間に前記表示領域を有
し、前記表示領域を構成する対向電極間に前記空間が存
在している、プラズマ表示装置又は電界放出型表示装置
の製造に適用するのがよい。According to the present invention, the display area is provided between the first substrate and the light-transmissive second substrate facing the first substrate, and the space is provided between the counter electrodes forming the display region. It is preferably applied to manufacture of existing plasma display devices or field emission display devices.

【００３５】また本発明は、前記第一の基体とこれに対
向した透光性の前記第二の基体との間に前記表示領域を
有し、前記第一の基体に前記空間が電位設定用として設
けられている、プラズマアドレス液晶表示装置の製造に
適用するのがよい。In the present invention, the display region is provided between the first substrate and the translucent second substrate facing the first substrate, and the space is provided in the first substrate for potential setting. It is preferably applied to the manufacture of a plasma addressed liquid crystal display device provided as.

【００３６】以下、本発明の好ましい実施の形態を図面
参照下に詳しく説明する。Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【００３７】図１は、実施の形態としての表示装置の製
造方法で使用する製造装置の構成例を示す図であり、図
２は、その製造方法における作業工程を示すフロー図で
ある。図３は、ＡＣ型ＰＤＰパネルの一例の構造を示す
概略断面図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration example of a manufacturing apparatus used in a manufacturing method of a display device as an embodiment, and FIG. 2 is a flow chart showing working steps in the manufacturing method. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an example of the AC type PDP panel.

【００３８】以下、初めに、図３を参照しながらＡＣ型
ＰＤＰパネルの概略を説明した後、図１を参照しなが
ら、図２の順序に従って表示装置の製造方法を説明す
る。なお、ここでは表示装置の例としてＡＣ型ＰＤＰパ
ネルを用いて説明するが、これに特に限定されるもので
はなく、酸素存在下でのグロー放電を行わないことを除
けば、基本となる工程は、図４に示すＤＣ（直流）型Ｐ
ＤＰパネル、図５に示すＦＥＤパネル、図６に示すＰＡ
ＬＣパネル等でも同様である。Hereinafter, the outline of the AC type PDP panel will be first described with reference to FIG. 3, and then the manufacturing method of the display device will be described with reference to FIG. 1 in the order of FIG. Although an AC type PDP panel will be described as an example of a display device here, the invention is not particularly limited to this, and the basic steps are the same except that glow discharge is not performed in the presence of oxygen. , DC (direct current) type P shown in FIG.
DP panel, FED panel shown in FIG. 5, PA shown in FIG.
The same applies to LC panels and the like.

【００３９】図３は、ＡＣ型カラーＰＤＰパネル１１の
一例の構造を示す断面図である。背面ガラス基板１２上
に厚膜印刷などでリヤ電極１３を帯状に設ける。各表示
セルは絶縁体の隔壁１８で区切り、リヤ電極１３から隔
壁１８の側面にかけてリヤ電極１３を覆うように蛍光体
層１９を塗布する。FIG. 3 is a sectional view showing the structure of an example of the AC type color PDP panel 11. The rear electrode 13 is provided in a strip shape on the rear glass substrate 12 by thick film printing or the like. Each display cell is divided by an insulating partition wall 18, and a phosphor layer 19 is applied from the rear electrode 13 to the side surface of the partition wall 18 so as to cover the rear electrode 13.

【００４０】前面ガラス基板１６上には、透明導電膜か
らなるフロント電極１７を帯状に設け、それを覆うよう
に誘電体層１４を２０μｍ程度の厚みに印刷し、溶融す
る。さらにその上に２００ｎｍ程度の酸化マグネシウム
ＭｇＯ層１５を被着させる。A front electrode 17 made of a transparent conductive film is provided in a strip shape on the front glass substrate 16, and a dielectric layer 14 is printed so as to cover the front electrode 17 in a thickness of about 20 μm and melted. Further, a magnesium oxide MgO layer 15 having a thickness of about 200 nm is deposited thereon.

【００４１】前面ガラス基板１６上の酸化マグネシウム
層１５表面と背面ガラス基板１２表面との間隔は隔壁１
８で一定に保持し、封着材として基板周辺部に枠状に設
けておいたフリットガラス等の低融点ガラス層を加熱融
着して２枚のガラス基板１２、１６を封着する。The interval between the surface of the magnesium oxide layer 15 on the front glass substrate 16 and the surface of the rear glass substrate 12 is the partition wall 1.
A low melting point glass layer such as frit glass provided in a frame shape around the substrate as a sealing material is heat-fused to fix the two glass substrates 12 and 16 together.

【００４２】ＡＣ型カラーＰＤＰパネル１１の放電は、
誘電体層１４表面に蓄積される電荷が交番電場の印加に
よって周期的に交代することに基づいている。交番電場
の半サイクルではフロント電極１７側の電位が高いとす
ると、この間は放電によって誘電体層１４上の酸化マグ
ネシウム層１５表面には電子が蓄積され、一方、蛍光体
層１９表面には陽イオンが蓄積される。やがて蓄積され
た電荷が放電電圧を打ち消すようになると、放電は停止
する。しかし、次の半サイクルでは電場が逆転するの
で、再び放電が始まり、電子は蛍光体層１９側に移動
し、陽イオンは誘電体層１４側に移動する。この放電は
蓄積された電荷が放電電圧を打ち消すようになるまで続
く。The discharge of the AC type color PDP panel 11 is as follows.
This is based on the fact that the electric charges accumulated on the surface of the dielectric layer 14 are periodically changed by applying an alternating electric field. Assuming that the potential on the front electrode 17 side is high in the half cycle of the alternating electric field, during this period, electrons are accumulated on the surface of the magnesium oxide layer 15 on the dielectric layer 14 by the discharge, while cations are accumulated on the surface of the phosphor layer 19. Is accumulated. When the accumulated charge eventually cancels the discharge voltage, the discharge stops. However, in the next half cycle, the electric field is reversed, so that the discharge starts again, the electrons move to the phosphor layer 19 side, and the cations move to the dielectric layer 14 side. This discharge continues until the accumulated charge cancels the discharge voltage.

【００４３】このように、半サイクルごとに、酸化マグ
ネシウム層１５と蛍光体層１９のそれぞれの表面に蓄積
されている電子と陽イオンが、放電空間を飛行して互い
に入れ替わる。この時、電子は放電空間２内の放電ガ
ス、例えばキセノン原子に衝突し、キセノン原子を励起
して発光させる。キセノン原子が発した紫外光が蛍光体
１９を励起し、可視光を発光させる。Thus, every half cycle, the electrons and cations accumulated on the respective surfaces of the magnesium oxide layer 15 and the phosphor layer 19 fly in the discharge space and exchange with each other. At this time, the electrons collide with the discharge gas in the discharge space 2, for example, xenon atoms, and excite the xenon atoms to emit light. The ultraviolet light emitted by the xenon atom excites the phosphor 19 to emit visible light.

【００４４】帯状に設けられたリヤ電極１３及びフロン
ト電極１７は互いに直交して、ＸＹマトリックスを構成
するようにする。一方の電極を走査し、他方の電極に走
査に同期した表示信号を印加することで、ＸＹマトリッ
クスの所望の位置を選択して、発光させることができ
る。The strip-shaped rear electrode 13 and the strip-shaped front electrode 17 are orthogonal to each other to form an XY matrix. By scanning one electrode and applying a display signal synchronized with the scanning to the other electrode, it is possible to select a desired position of the XY matrix and emit light.

【００４５】次に、図１、図２を参照しながら、ＰＤＰ
パネル１１の製造方法における作業工程を説明する。 ＜工程１ ＰＤＰパネル１１の組立・加熱封着＞２枚の
基板にそれぞれ対向電極の一方を形成し、これらの基板
を一定の放電ギャップ（プラズマ放電させる電極間の距
離）を保った状態に保持し、封着材として基板周辺部に
枠状に設けておいたフリットガラス等の低融点ガラス層
を加熱融着して２枚の基板を封着する。Next, referring to FIGS. 1 and 2, the PDP
The work process in the manufacturing method of the panel 11 will be described. <Step 1 Assembly of PDP panel 11 and heat sealing> One of opposite electrodes is formed on each of two substrates, and these substrates are kept in a state where a constant discharge gap (distance between electrodes for plasma discharge) is maintained. Then, a low-melting-point glass layer such as frit glass provided in a frame shape in the peripheral portion of the substrate as a sealing material is heat-sealed to seal the two substrates.

【００４６】＜工程２ チップ排気管３の取り付け＞次
に、図１に示すように、放電空間２を真空に排気した
り、放電空間２にガスを導入したりするためのチップ排
気管３を、ＰＤＰパネル１１の放電空間２に連通してフ
リットガラス等により溶接して取り付ける。<Step 2 Attachment of Chip Exhaust Pipe 3> Next, as shown in FIG. 1, a chip exhaust pipe 3 for exhausting the discharge space 2 to a vacuum or introducing gas into the discharge space 2 is installed. , Is connected to the discharge space 2 of the PDP panel 11 by welding with frit glass or the like.

【００４７】チップ排気管３の数が多いほど、真空排気
の能率は良くなり、放電空間２の到達真空度も向上す
る。しかし、多すぎるとその効果が薄れる反面、配管や
封止等も含めた、そのための作業量は多くなりコストも
高くなる。したがって、ＰＤＰパネルの大きさや構造を
ふまえて、チップ排気管３の適切な個数を選ぶことが必
要である。通常、１つのＰＤＰパネルに、１〜６個のチ
ップ排気管３を取り付ける。As the number of tip exhaust pipes 3 increases, the efficiency of vacuum exhaust improves and the ultimate vacuum of the discharge space 2 also improves. However, if the amount is too large, the effect is diminished, but the amount of work, including piping and sealing, is large and the cost is high. Therefore, it is necessary to select an appropriate number of chip exhaust pipes 3 in consideration of the size and structure of the PDP panel. Usually, one to six chip exhaust pipes 3 are attached to one PDP panel.

【００４８】図１に示すように、チップ排気管３を複数
個設けると、一方のチップ排気管３からガスを導入しな
がら、他方のチップ排気管３から排気して、常にガスを
流しながらプラズマ処理が行えるので好都合である。As shown in FIG. 1, when a plurality of tip exhaust pipes 3 are provided, the gas is introduced from one tip exhaust pipe 3 and exhausted from the other tip exhaust pipe 3 so that the plasma is constantly supplied. It is convenient because it can be processed.

【００４９】図１の２つのチップ排気管３のうち、１つ
はガス導入バルブ４をへてガス供給系５に接続する。ガ
ス供給系５には、図示は省略するが、流量調節バルブを
へてガスボンベが接続され、水素、酸素、オゾン、及び
ネオン等の不活性ガスを必要なときに必要な量で供給で
きるようになっている。One of the two tip exhaust pipes 3 in FIG. 1 is connected to the gas supply system 5 through the gas introduction valve 4. Although not shown in the figure, a gas cylinder is connected to the gas supply system 5 through a flow rate control valve so that an inert gas such as hydrogen, oxygen, ozone and neon can be supplied in a necessary amount when needed. Has become.

【００５０】もう１つのチップ排気管３は排気バルブ６
をへて排気系７に接続する。放電空間２の排気は、排気
バルブ６によって調節する。図示は省略するが、排気系
７には、ロータリーポンプ、ターボポンプ、スパッタイ
オンポンプ等からなる排気装置が設けられている。The other tip exhaust pipe 3 is an exhaust valve 6
To the exhaust system 7. The exhaust of the discharge space 2 is adjusted by the exhaust valve 6. Although not shown, the exhaust system 7 is provided with an exhaust device including a rotary pump, a turbo pump, a sputter ion pump, and the like.

【００５１】チップ排気管３の一部に、内径が後述する
ゲッター集合体の外径よりやや大きいゲッター収納部８
を、２０〜３０インチのＰＤＰパネルに対し長さ１０〜
１５ｍｍの割合で設けておく。A part of the tip exhaust pipe 3 has a getter housing portion 8 whose inner diameter is slightly larger than the outer diameter of the getter assembly described later.
For a 20 to 30 inch PDP panel with a length of 10
It is provided at a ratio of 15 mm.

【００５２】＜工程３ ゲッターの組み込み＞ゲッター
は、ＺｒＡｌ（ジルコニウムアルミニウム）合金やＭｇ
Ａｌ（マグネシウムアルミニウム）合金、又は、それら
の粉末状体などからなる。ゲッター単体の形状はリング
状で、おおよそ、外径が６ｍｍ、内径が４ｍｍ、厚みが
１ｍｍである。ゲッター単体の数はＰＤＰパネル１１の
大きさにもよるが、例えば、２０〜３０インチ程度のパ
ネルに対しゲッター単体１０個ほどの割合で用いる。<Step 3 Incorporation of Getter> The getter is a ZrAl (zirconium aluminum) alloy or Mg.
It is made of an Al (magnesium aluminum) alloy or a powdery material thereof. The getter itself has a ring shape, and has an outer diameter of 6 mm, an inner diameter of 4 mm, and a thickness of 1 mm. Although the number of getters alone depends on the size of the PDP panel 11, for example, about 10 to 30 getters are used for a panel of about 20 to 30 inches.

【００５３】ゲッターは、製造後はガスの吸収を防止す
るために真空下で密封保存することが望ましいが、流通
過程においては、一般に乾燥容器や窒素を封入した容器
に入れて保存され輸送される。したがって、購入時に
は、多かれ少なかれ、水、窒素、酸素、二酸化炭素等を
吸着あるいは吸蔵していると考えられる。よって、購入
後はゲッターを真空中で加熱処理（空焼き）して脱ガス
した後、真空デシケータや真空封止容器に移して保存す
る。耐熱性の真空容器に入れて加熱処理し、そのまま放
冷して保存してもよい。大気中に曝す機会をなるべく少
なくすることで、ゲッターのガス吸収能力の低下を抑え
られる。It is desirable that the getter is hermetically stored under vacuum in order to prevent absorption of gas after manufacturing, but in the distribution process, it is generally stored and transported in a drying container or a container filled with nitrogen. . Therefore, at the time of purchase, it is considered that water, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, etc. are adsorbed or occluded to a greater or lesser extent. Therefore, after purchase, the getter is heated (vacuum-baked) in vacuum to be degassed, and then transferred to a vacuum desiccator or a vacuum sealed container for storage. It may be placed in a heat-resistant vacuum container, heat-treated, and allowed to cool as it is for storage. By reducing the exposure to the atmosphere as much as possible, it is possible to prevent the getter from lowering its gas absorption capacity.

【００５４】真空封止容器からゲッター単体を必要な個
数取り出して、それらを積み重ね、金属性の４本の支持
体に４箇所で溶接することにより一体化する。組立作業
は真空中で行うことが好ましいが、現状では乾燥雰囲気
の大気中もしくは不活性ガス雰囲気中で行われる。この
ゲッター集合体をチップ排気管３に設けたゲッター収納
部８に組み込む。A required number of getters are taken out from the vacuum sealed container, they are stacked, and they are integrated by welding to four metal supports at four positions. The assembling work is preferably performed in a vacuum, but at present, it is performed in a dry atmosphere of air or an inert gas atmosphere. This getter assembly is incorporated into the getter housing portion 8 provided in the tip exhaust pipe 3.

【００５５】＜工程４ 放電空間２の排気・ゲッターの
加熱処理＞排気バルブ６を開き、放電空間２及びそれと
連通するゲッター収納部８を真空排気する。このとき、
加熱チャンバ９の温度を徐々に上昇させた後、温度を適
温（３００〜５００℃、例えば３５０℃）に保ってＰＤ
Ｐパネル１１の放電空間２の加熱脱ガス処理を行うのが
望ましい。この工程で、放電空間２の内壁に吸着あるい
は吸蔵されている不純物の脱離を促進し、脱離したガス
を排気する。<Step 4 Evacuation of Discharge Space 2 and Heat Treatment of Getter> The exhaust valve 6 is opened, and the discharge space 2 and the getter housing 8 communicating with it are evacuated. At this time,
After gradually raising the temperature of the heating chamber 9, the temperature is kept at an appropriate temperature (300 to 500 ° C., for example 350 ° C.), and the PD
It is desirable to perform a heat degassing process on the discharge space 2 of the P panel 11. In this step, the desorption of impurities adsorbed or occluded on the inner wall of the discharge space 2 is promoted, and the desorbed gas is exhausted.

【００５６】ガスの脱離速度（単位時間あたりに脱離す
るガスの量）が大きいと排気装置の真空度は低下するか
ら、ガスの脱離速度の変化は排気装置の真空度の変化か
ら間接的に知ることができる。ガスの脱離速度が所定の
値より小さくなったら、ＰＤＰパネル１１の放電空間２
の加熱脱ガス処理を終了する。When the desorption rate of gas (the amount of gas desorbed per unit time) is large, the vacuum degree of the exhaust device is lowered. Therefore, the change of the gas desorption rate is indirectly caused by the change of the vacuum degree of the exhaust device. You can know it. When the gas desorption rate becomes smaller than a predetermined value, the discharge space 2 of the PDP panel 11
The heating degassing process of 1 is completed.

【００５７】ゲッターの加熱処理は、ゲッターの種類に
応じてその温度を３００〜６００℃に上昇させて行う。
加熱時間は５〜１０分程度である。この加熱処理は繰り
返し行ってもよい。この加熱処理の間に、大気に曝され
ること等によって製造後にゲッターが吸着あるいは吸蔵
していた水、窒素、酸素、二酸化炭素等の一部が放出さ
れる。The heat treatment of the getter is performed by raising the temperature thereof to 300 to 600 ° C. depending on the type of getter.
The heating time is about 5 to 10 minutes. This heat treatment may be repeated. During this heat treatment, some of the water, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, etc. that the getter has absorbed or occluded after the production is released by being exposed to the atmosphere or the like.

【００５８】ＺｒＡｌ合金を使用したゲッターの例で
は、ゲッターを加熱し始めてから１．５分を経過すると
ゲッターからガスが出始めて排気装置の真空度が低下
し、２．５分で排気装置中の圧力が最大値に達し、６分
を経過するころには脱ガスが終了して排気装置の真空度
は元の値にもどる。In the example of the getter using the ZrAl alloy, when 1.5 minutes have passed since the start of heating the getter, gas began to be emitted from the getter and the degree of vacuum of the exhaust device was lowered. When the pressure reaches the maximum value and 6 minutes elapses, degassing is completed and the vacuum degree of the exhaust device returns to the original value.

【００５９】ゲッターの加熱手段としては、抵抗発熱体
による電熱加熱や高周波誘導加熱等を使用する。As the getter heating means, electric heating by a resistance heating element, high frequency induction heating, or the like is used.

【００６０】放電空間２の加熱脱ガス処理とゲッターの
加熱処理は同時に行ってよい。放電空間２の加熱手段が
ゲッターの加熱処理にも使える場合は、兼用できる。The heating degassing treatment of the discharge space 2 and the heat treatment of the getter may be performed simultaneously. If the heating means of the discharge space 2 can also be used for the heat treatment of the getter, it can also be used.

【００６１】＜工程５ 酸素系ガスのグロー放電＞工程
５は、電極が放電空間２に露出していないＡＣ型ＰＤＰ
パネルのみで行う。電極が放電空間２に露出しているＤ
Ｃ型ＰＤＰパネル、ＦＥＤパネルおよびＰＡＬＣパネル
では、電極が損傷を受けるので、工程５は行わない。<Step 5 Glow Discharge of Oxygen-Based Gas> Step 5 is an AC type PDP whose electrodes are not exposed in the discharge space 2.
Only on the panel. The electrode is exposed in the discharge space 2 D
In the C type PDP panel, the FED panel and the PALC panel, step 5 is not performed because the electrodes are damaged.

【００６２】放電空間２に酸素系ガスを導入する。この
とき、図１の排気バルブ６を閉じ、ガス導入バルブ４を
開いて酸素系ガス、例えば酸素とアルゴンとの混合ガス
（酸素のモル百分率５０％以上）を導入して、放電空間
２の全圧を所定の圧力、例えば、０.１〜０.５Ｔｏｒｒ
（１３．３〜６６．５Ｐａ）とした後、ガス導入バルブ
４を閉じる。An oxygen-based gas is introduced into the discharge space 2. At this time, the exhaust valve 6 in FIG. 1 is closed, the gas introduction valve 4 is opened, and an oxygen-based gas, for example, a mixed gas of oxygen and argon (a mole percentage of oxygen of 50% or more) is introduced, and the entire discharge space 2 is discharged. The pressure is a predetermined pressure, for example, 0.1 to 0.5 Torr
After setting the pressure to (13.3 to 66.5 Pa), the gas introduction valve 4 is closed.

【００６３】フロント電極１７とリヤ電極１３との間に
交流高電圧を印加して放電空間２にグロー放電を起こさ
せ、酸素プラズマを形成し、活性酸素種（エネルギーに
富んだ酸素原子及び酸素イオン）を生成する。放電時間
はパネルの大きさ、その効果等を勘案して適宜設定して
よい。An AC high voltage is applied between the front electrode 17 and the rear electrode 13 to cause glow discharge in the discharge space 2 to form oxygen plasma, and active oxygen species (energy-rich oxygen atoms and oxygen ions) are formed. ) Is generated. The discharge time may be appropriately set in consideration of the size of the panel, its effect, and the like.

【００６４】終了後、排気バルブ６を開いて放電空間２
を排気する。After the completion, the exhaust valve 6 is opened to open the discharge space 2
Exhaust.

【００６５】上記の操作は、必要回数繰り返し行っても
よい。The above operation may be repeated as many times as necessary.

【００６６】上記の操作では、ガスの流れを停止させた
状態でグロー放電を起こさせた。これを変更し、ガス導
入バルブ４と排気バルブ６をわずかに開いて、放電空間
内に常にガスを流しながらグロー放電を起こさせるよう
にしてもよい。In the above operation, glow discharge was caused with the gas flow stopped. This may be changed so that the gas introduction valve 4 and the exhaust valve 6 are slightly opened so that the glow discharge is caused while constantly flowing the gas in the discharge space.

【００６７】このようにすると、不純物分子をガスの流
れに乗せて排出しながらグロー放電を起こさせるので、
一旦壁面から脱着した不純物分子が再び壁面に吸着され
る割合を減少させることができる。また、反応生成物が
逆反応によって元の分子にもどる割合も減少させること
ができる。In this way, the glow discharge is caused while the impurity molecules are carried on the gas flow and discharged.
It is possible to reduce the rate at which the impurity molecules once desorbed from the wall surface are adsorbed to the wall surface again. Further, the rate at which the reaction product returns to the original molecule by the reverse reaction can be reduced.

【００６８】前記酸素プラズマ中の中性酸素原子及び活
性化酸素イオンの作用により、（ａ）前面ガラス基板１
６、背面ガラス基板１２、隔壁１８、蛍光体層１９、表
示電極（透明電極）、透明誘電体層１４、酸化マグネシ
ウムＭｇＯ保護層１５等に付着した有機汚染物を酸化分
解して、二酸化炭素等の排気されやすい小さな分子に変
える。By the action of neutral oxygen atoms and activated oxygen ions in the oxygen plasma, (a) the front glass substrate 1
6, the rear glass substrate 12, the partition wall 18, the phosphor layer 19, the display electrode (transparent electrode), the transparent dielectric layer 14, the magnesium oxide MgO protective layer 15 and the like to oxidize and decompose organic contaminants, carbon dioxide and the like. Change into small molecules that are easily exhausted.

【００６９】（ｂ）蛍光体層１９、表示電極（透明電
極）、透明誘電体層１４、酸化マグネシウム保護層１５
等の酸化物に酸素供給して酸化作用を促進し、それぞれ
の本来の性能を引き出し、その特性の安定化を図る。(B) Phosphor layer 19, display electrode (transparent electrode), transparent dielectric layer 14, magnesium oxide protective layer 15
Oxygen is supplied to oxides such as the above to promote the oxidizing action, bring out the original performance of each, and stabilize the characteristics.

【００７０】＜工程６ 水素系ガスのグロー放電＞放電
空間２に水素系ガスを導入する。このとき、図１の排気
バルブ６を閉じ、ガス導入バルブ４を開いて水素系ガ
ス、例えば水素とアルゴンとの混合ガス（水素のモル百
分率５０％以上）を導入して、放電空間２の全圧を所定
の圧力、例えば、０.１〜０.５Ｔｏｒｒ（１３．３〜６
６．５Ｐａ）とした後、ガス導入バルブ４を閉じる。<Step 6 Glow Discharge of Hydrogen Gas> Hydrogen gas is introduced into the discharge space 2. At this time, the exhaust valve 6 of FIG. 1 is closed, the gas introduction valve 4 is opened, and a hydrogen-based gas, for example, a mixed gas of hydrogen and argon (mol percentage of hydrogen: 50% or more) is introduced, and the entire discharge space 2 is discharged. The pressure is set to a predetermined pressure, for example, 0.1 to 0.5 Torr (13.3 to 6).
After setting the pressure to 6.5 Pa), the gas introduction valve 4 is closed.

【００７１】フロント電極１７とリヤ電極１３間に交流
高電圧を印加してグロー放電を起こさせ、水素プラズマ
を形成し、活性水素種（エネルギーに富んだ水素原子及
び水素イオン）を生成する。放電時間はパネルの大き
さ、その効果等を勘案して適宜設定してよい。An AC high voltage is applied between the front electrode 17 and the rear electrode 13 to cause glow discharge to form hydrogen plasma and generate active hydrogen species (hydrogen atoms and hydrogen ions rich in energy). The discharge time may be appropriately set in consideration of the size of the panel, its effect, and the like.

【００７２】終了後、排気バルブ６を開いて放電空間２
を排気する。After the end, the exhaust valve 6 is opened and the discharge space 2 is opened.
Exhaust.

【００７３】上記の操作は、必要回数繰り返し行っても
よい。The above operation may be repeated as many times as necessary.

【００７４】上記の操作では、ガスの流れを停止させた
状態でグロー放電を起こさせた。これを変更して、ガス
導入バルブ４と排気バルブ６をわずかに開いて、放電空
間内に常にガスを流しながらグロー放電を起こさせるよ
うにしてもよい。In the above operation, glow discharge was caused with the gas flow stopped. This may be changed so that the gas introduction valve 4 and the exhaust valve 6 are slightly opened so that the glow discharge is caused while constantly flowing the gas into the discharge space.

【００７５】このようにすると、不純物分子をガスの流
れに乗せて排出しながらグロー放電を起こさせるので、
一旦壁面から脱着した不純物分子が再び壁面に吸着され
る割合を減少させることができる。また、反応生成物が
逆反応によって元の分子にもどる割合も減少させること
ができる。By doing so, the glow discharge is caused while the impurity molecules are carried on the gas flow and discharged.
It is possible to reduce the rate at which the impurity molecules once desorbed from the wall surface are adsorbed to the wall surface again. Further, the rate at which the reaction product returns to the original molecule by the reverse reaction can be reduced.

【００７６】水素プラズマ中の中性水素原子及び活性化
水素イオンの作用により、（ａ）前面ガラス基板１６、
背面ガラス基板１２、隔壁１８、表示電極（透明電
極）、蛍光体層１９、透明誘電体層１４、酸化マグネシ
ウムＭｇＯ保護層１５等に吸着されている水をはじめと
する残留不純物を還元して除去する。By the action of neutral hydrogen atoms and activated hydrogen ions in hydrogen plasma, (a) the front glass substrate 16,
Residual impurities such as water adsorbed on the rear glass substrate 12, partition walls 18, display electrodes (transparent electrodes), phosphor layer 19, transparent dielectric layer 14, magnesium oxide MgO protective layer 15 and the like are reduced and removed. To do.

【００７７】酸素系ガスのグロー放電を行う＜工程５＞
を省略して＜工程６＞を行う場合には、（ｂ）前面ガラ
ス基板１６、背面ガラス基板１２、隔壁１８、表示電極
（透明電極）、蛍光体層１９、透明誘電体層１４、酸化
マグネシウムＭｇＯ保護層１５等に付着している有機汚
染物を還元分解して除去する。Glow discharge of oxygen-based gas is performed <Step 5>
In the case of performing <Step 6> by omitting the above, (b) the front glass substrate 16, the rear glass substrate 12, the partition wall 18, the display electrode (transparent electrode), the phosphor layer 19, the transparent dielectric layer 14, the magnesium oxide. Organic contaminants adhering to the MgO protective layer 15 and the like are reduced and decomposed and removed.

【００７８】＜工程７ 不活性ガスの導入・パネルの封
止＞ガス導入バルブ４を開いて、放電空間２にＮｅ、Ａ
ｒ、Ｋｒ等の所定の不活性ガスを導入し、全圧を所定の
圧力（数百Ｔｏｒｒ；数万Ｐａ）にしてガス導入バルブ
４を閉じた後、ガス封止を行う。ガス封止は、チップ排
気管３の中間部を７００〜８００℃程度に加熱溶融して
行う。<Step 7 Introduction of Inert Gas / Sealing of Panel> The gas introduction valve 4 is opened and the discharge space 2 is filled with Ne and A gas.
A predetermined inert gas such as r or Kr is introduced, the total pressure is set to a predetermined pressure (hundreds of Torr; tens of thousands of Pa), the gas introduction valve 4 is closed, and then gas sealing is performed. Gas sealing is performed by heating and melting the middle portion of the chip exhaust pipe 3 to about 700 to 800 ° C.

【００７９】＜工程８ ゲッターの活性化＞その後、ガ
ス封止されたＰＤＰパネル１１のチップ排気管３内のゲ
ッター集合体を活性化する。加熱温度は７００〜９００
゜Ｃ程度で、加熱時間は１０分程度である。この活性化
により、放電空間２内の不活性ガスから不純物ガスがゲ
ッターに吸収されてゲッタリング処理が完了する。<Step 8 Activation of Getter> After that, the getter assembly in the chip exhaust pipe 3 of the gas-sealed PDP panel 11 is activated. Heating temperature is 700-900
At about ° C, the heating time is about 10 minutes. By this activation, the gettering process is completed because the getter absorbs the impurity gas from the inert gas in the discharge space 2.

【００８０】ここでは、ゲッター集合体の加熱脱ガス処
理を放電空間２への不活性ガス導入や封止の前に＜工程
４＞で行っているので、脱ガスした分だけ従来よりも多
量の不純物ガスを放電空間２から吸収できる。このた
め、放電空間２から不純物ガスを減少させ、放電特性を
安定化できるとともに、不純物ガスを原因とする異常放
電やスパッタによる電極劣化を減少させ、ＰＤＰパネル
１１の長寿命化を図ることができる。Here, the heat degassing treatment of the getter assembly is performed in <Process 4> before introducing the inert gas into the discharge space 2 or sealing it. Impurity gas can be absorbed from the discharge space 2. Therefore, the impurity gas can be reduced from the discharge space 2 and the discharge characteristics can be stabilized, and abnormal discharge due to the impurity gas and electrode deterioration due to sputtering can be reduced, and the life of the PDP panel 11 can be extended. .

【００８１】ここまでは表示装置の例をＡＣ型ＰＤＰパ
ネル１１として説明してきたが、ＤＣ型ＰＤＰパネル１
１Ａ、ＦＥＤパネル２１、ＰＡＬＣパネル３１の場合で
も同様な効果が得られる。次に、ＡＣ型ＰＤＰパネル１
１との相違点に的を絞って、これらのパネルの製造方法
について説明する。Although the example of the display device has been described as the AC type PDP panel 11 so far, the DC type PDP panel 1 is described.
Similar effects can be obtained in the case of 1A, FED panel 21, and PALC panel 31. Next, AC type PDP panel 1
The manufacturing method of these panels will be described focusing on the difference from the first embodiment.

【００８２】図４は、ＤＣ型カラーＰＤＰパネル１１Ａ
の一例である。直流放電であることを除けば、発光の原
理はＡＣ型カラーＰＤＰパネル１１と同じである。ＤＣ
型カラーＰＤＰパネル１１Ａでは、電極が放電空間に露
出している。このため、酸素系ガスのグロー放電を行う
＜工程５＞は、電極が酸化されてしまい不都合なので、
省略する。FIG. 4 shows a DC type color PDP panel 11A.
Is an example. The principle of light emission is the same as that of the AC type color PDP panel 11 except that it is a DC discharge. DC
In the mold color PDP panel 11A, the electrodes are exposed in the discharge space. Therefore, in the step 5 of performing glow discharge of the oxygen-based gas, the electrodes are oxidized, which is inconvenient.
Omit it.

【００８３】水素系ガスのグロー放電を行う＜工程６＞
では、アノード電極１３Ａとカソード電極１７Ａの間に
直流高電圧を印加する。水素プラズマ中の中性水素原子
及び活性化水素イオンの作用により、（ａ）前面ガラス
基板１６、背面ガラス基板１２、隔壁１８等に吸着され
ている水をはじめとする残留不純物を還元して除去し、
また、付着している有機汚染物を還元分解して除去す
る。Glow discharge of hydrogen-based gas is performed <Step 6>
Then, a DC high voltage is applied between the anode electrode 13A and the cathode electrode 17A. Due to the action of neutral hydrogen atoms and activated hydrogen ions in the hydrogen plasma, (a) residual impurities such as water adsorbed on the front glass substrate 16, the rear glass substrate 12, the partition walls 18 are reduced and removed. Then
Further, the attached organic contaminants are reduced and decomposed and removed.

【００８４】（ｂ）アノード電極１３Ａやカソード電極
１７Ａに吸着されている水をはじめとする残留不純物を
還元して除去し、また、付着している有機汚染物を還元
分解して除去する。同時にアノード電極１３Ａやカソー
ド電極１７Ａの表面の酸化被膜等の汚染酸化物を還元除
去して、水や二酸化炭素等の不純物の吸着量を減らすと
ともに、放電特性の安定化を図る。(B) The residual impurities such as water adsorbed on the anode electrode 13A and the cathode electrode 17A are reduced and removed, and the attached organic contaminants are reduced and decomposed to be removed. At the same time, contaminating oxides such as oxide films on the surfaces of the anode electrode 13A and the cathode electrode 17A are reduced and removed to reduce the adsorption amount of impurities such as water and carbon dioxide and stabilize the discharge characteristics.

【００８５】他は、ＡＣ型ＰＤＰパネル１１の場合と同
じである。Others are the same as in the case of the AC type PDP panel 11.

【００８６】図５は、スピント型ＦＥＤパネル２１の一
例である。背面ガラス基板２２にカソード電極２３を設
け、その上に抵抗層２４を形成する。次に、絶縁層２
５、ゲート電極２６を積層して形成する。ゲート電極２
６及び絶縁層２５をエッチングして微細なホール２７ａ
（例えば直径約１μｍ）を形成し、そのホール２７ａの
中に真空蒸着法等によりエミッタ２７ｂを形成する。全
体は、エミッタ２７ｂがゲート電極２６及び絶縁層２５
に形成されたホール２７ａの中に埋め込まれた形状にな
る。エミッタ２７ｂの材料としては、モリブデン等を用
いる。FIG. 5 shows an example of the Spindt-type FED panel 21. The cathode electrode 23 is provided on the rear glass substrate 22, and the resistance layer 24 is formed thereon. Next, the insulating layer 2
5, the gate electrode 26 is formed by stacking. Gate electrode 2
6 and the insulating layer 25 are etched to form fine holes 27a.
(For example, a diameter of about 1 μm) is formed, and an emitter 27b is formed in the hole 27a by a vacuum deposition method or the like. As a whole, the emitter 27b has the gate electrode 26 and the insulating layer 25.
The hole 27a is formed in the hole 27a. Molybdenum or the like is used as the material of the emitter 27b.

【００８７】前面ガラス基板２８上には、透明導電膜か
らなるアノード電極２９及び蛍光体層３０を積層して形
成する。An anode electrode 29 made of a transparent conductive film and a phosphor layer 30 are laminated and formed on the front glass substrate 28.

【００８８】２枚の基板２２と２８は、ゲート電極２６
とアノード電極２９の間隔が１〜２ｍｍ程度になるよう
に保持し、ＰＤＰパネル等と同様の方法で封着する。こ
の２枚の基板に挟まれる空間が、ＦＥＤが表示装置とし
て働く時は電子が飛行する真空空間になり、本発明の実
施の形態においてはグロー放電を生じさせる放電空間２
となる。The two substrates 22 and 28 have the gate electrode 26.
The gap between the anode electrode 29 and the anode electrode 29 is held so as to be about 1 to 2 mm, and the anode electrode 29 is sealed by the same method as in the PDP panel and the like. The space sandwiched between the two substrates becomes a vacuum space in which electrons fly when the FED functions as a display device, and in the embodiment of the present invention, a discharge space 2 that causes glow discharge.
Becomes

【００８９】カソード電極２３及びゲート電極２６は、
それぞれ帯状に形成し、両者は互いに直交してＸＹマト
リックスを構成するようにする。このスピント型ＦＥＤ
パネル２１を駆動するには、一方の電極を走査し、他方
の電極に走査に同期した表示信号を印加する。これによ
って、ＸＹマトリックスの所望の位置を選択して、エミ
ッタ２７ｂから電子を放出させることができる。放出さ
れた電子の大部分は、アノード電極２９まで飛行し、手
前にある蛍光体層３０を衝撃により発光させる。The cathode electrode 23 and the gate electrode 26 are
Each of them is formed in a strip shape, and both are orthogonal to each other to form an XY matrix. This Spindt type FED
To drive the panel 21, one electrode is scanned and a display signal synchronized with the scanning is applied to the other electrode. As a result, electrons can be emitted from the emitter 27b by selecting a desired position in the XY matrix. Most of the emitted electrons fly to the anode electrode 29 and cause the phosphor layer 30 in the front to emit light by impact.

【００９０】ＦＥＤパネルの場合、＜工程２＞では放電
空間２に連通して図示しない排気口を設け、ＰＤＰパネ
ルと同様に、この排気口にチップ排気管３をフリットガ
ラス等により溶接する。In the case of the FED panel, in <Step 2>, an exhaust port (not shown) is provided so as to communicate with the discharge space 2, and the chip exhaust pipe 3 is welded to this exhaust port by frit glass or the like, similarly to the PDP panel.

【００９１】ＦＥＤパネルの場合は、酸素系ガスのグロ
ー放電を行う＜工程５＞は電極が酸化されてしまい、不
都合なので、省略する。In the case of the FED panel, the <step 5> of performing glow discharge of the oxygen-based gas is inconvenient because the electrodes are oxidized, and therefore the description thereof is omitted.

【００９２】水素系ガスのグロー放電を行う＜工程６＞
では、アノード電極２９とカソード電極２３の間に直流
高電圧を印加する。Glow discharge of hydrogen gas is performed <Step 6>
Then, a high DC voltage is applied between the anode electrode 29 and the cathode electrode 23.

【００９３】水素プラズマ中の中性水素原子及び活性化
水素イオンの作用により、（ａ）前面ガラス基板２８、
背面ガラス基板２２、隔壁２５、ゲート電極２６、アノ
ード電極２９、エミッタ（冷陰極チップ）２７ｂ、蛍光
体層３０等に吸着されている水をはじめとする残留不純
物を還元して除去し、また、付着している有機汚染物を
還元分解して除去する。By the action of neutral hydrogen atoms and activated hydrogen ions in hydrogen plasma, (a) the front glass substrate 28,
Residual impurities such as water adsorbed on the rear glass substrate 22, the partition walls 25, the gate electrodes 26, the anode electrodes 29, the emitters (cold cathode chips) 27b, the phosphor layer 30 and the like are reduced and removed. The attached organic contaminants are reduced and decomposed and removed.

【００９４】（ｂ）ゲート電極２６、アノード電極２
９、エミッタ（冷陰極チップ）２７ｂに吸着されている
水をはじめとする残留不純物を還元して除去し、また、
付着している有機汚染物を還元分解して除去する。同時
にゲート電極２６、アノード電極２９、エミッタ（冷陰
極チップ）２７ｂの表面の酸化被膜を還元除去して、水
や二酸化炭素等の不純物の吸着量を減らすとともに、エ
ミッタからの電子放出特性の安定化を図る。(B) Gate electrode 26, anode electrode 2
9. Remaining impurities such as water adsorbed on the emitter (cold cathode chip) 27b are reduced and removed, and
The attached organic contaminants are reduced and decomposed and removed. At the same time, the oxide film on the surface of the gate electrode 26, the anode electrode 29, and the emitter (cold cathode chip) 27b is reduced and removed to reduce the adsorption amount of impurities such as water and carbon dioxide, and stabilize the electron emission characteristics from the emitter. Plan.

【００９５】放電ガスは不要なので、＜工程７＞では、
ガスの導入は行わず、真空排気後に封止のみ行う。Since discharge gas is unnecessary, in <Step 7>,
No gas is introduced, only sealing is performed after evacuation.

【００９６】他は、ＡＣ型ＰＤＰパネル１１の場合と同
じである。Others are the same as the case of the AC type PDP panel 11.

【００９７】図６は、ＰＡＬＣパネル３１の一例であ
る。ＰＡＬＣパネル３１は液晶表示パネル４１と、プラ
ズマパネル５１と、それらの間に介在する誘電体シート
３２を積層したフラットパネル構造を有している。誘電
体シート３２は薄板ガラス等で構成される。FIG. 6 shows an example of the PALC panel 31. The PALC panel 31 has a flat panel structure in which a liquid crystal display panel 41, a plasma panel 51, and a dielectric sheet 32 interposed therebetween are laminated. The dielectric sheet 32 is made of thin glass plate or the like.

【００９８】液晶表示パネル４１は透明基板４２を用い
て構成される。透明基板４２の一方の面には、帯状のデ
ータ電極４３が設けられる。透明基板４２は図示しない
がスペーサによって所定間隔を保持して誘電体シート３
２に接合される。透明基板４２と誘電体シート３２との
間には液晶が充填されて液晶層４４が形成される。The liquid crystal display panel 41 is composed of a transparent substrate 42. A band-shaped data electrode 43 is provided on one surface of the transparent substrate 42. Although not shown, the transparent substrate 42 is held at a predetermined interval by a spacer, and the dielectric sheet 3 is held.
It is joined to 2. Liquid crystal is filled between the transparent substrate 42 and the dielectric sheet 32 to form a liquid crystal layer 44.

【００９９】一方、プラズマパネル５１は背面ガラス基
板５２を用いて構成する。背面ガラス基板５２の内側に
複数の溝部５３を並列に形成する。各溝部５３は誘電体
シート３２で密封し、個々に分離した溝部５３で放電空
間２を構成する。放電チャネルにはネオン等の不活性ガ
スを導入する。溝部５３の底部にはプラズマ電極を構成
する互いに平行なカソード電極５４及びアノード電極５
５が溝部５３に沿って設けられる。On the other hand, the plasma panel 51 is constructed by using the rear glass substrate 52. A plurality of groove portions 53 are formed in parallel inside the rear glass substrate 52. Each groove 53 is hermetically sealed with the dielectric sheet 32, and the discharge space 2 is constituted by the groove 53 which is individually separated. An inert gas such as neon is introduced into the discharge channel. At the bottom of the groove 53, the cathode electrode 54 and the anode electrode 5 which are parallel to each other and constitute a plasma electrode are provided.
5 are provided along the groove 53.

【０１００】それぞれ帯状に形成した溝部５３とデータ
電極４３は、互いに直交してＸＹマトリックスを構成す
るようにする。このＰＡＬＣパネル３１を駆動するに
は、次のようにする。The groove portion 53 and the data electrode 43, which are formed in strips, respectively, are orthogonal to each other to form an XY matrix. The PALC panel 31 is driven as follows.

【０１０１】所定の放電空間２を選択するには、その放
電空間２に対応する溝部５３にあるカソード電極５４と
アノード電極５５との間に所定電圧（アドレス電圧）を
印加して、その放電空間２に放電を発生させる。放電中
は、放電空間２の電位はアノード電位に保たれる。この
状態でデータ電極４３にデータ電圧を印加すると、その
放電空間２に対応して帯状に並ぶ複数の画素の液晶層４
４に誘電体シート３２を介してデータ電圧が書き込まれ
る。In order to select a predetermined discharge space 2, a predetermined voltage (address voltage) is applied between the cathode electrode 54 and the anode electrode 55 in the groove 53 corresponding to the discharge space 2 and the discharge space 2 is selected. A discharge is generated in 2. During discharge, the potential of the discharge space 2 is kept at the anode potential. When a data voltage is applied to the data electrode 43 in this state, the liquid crystal layer 4 of a plurality of pixels arranged in strips corresponding to the discharge space 2 is formed.
A data voltage is written on the data sheet 4 through the dielectric sheet 32.

【０１０２】放電が終了すると、その放電空間２の電位
は浮遊電位となり、各画素の液晶層４４に書き込まれた
データ電圧は、次の書き込みまでの期間保持される。When the discharge is completed, the potential of the discharge space 2 becomes a floating potential, and the data voltage written in the liquid crystal layer 44 of each pixel is held until the next writing.

【０１０３】このように、所定の放電空間２における放
電はサンプリングスイッチとして機能し、液晶層２４は
キャパシタとして機能する。各画素に対応する液晶は、
その液晶層２４に書き込まれたデータ電圧にしたがって
動作し、パネル下部に設けられたバックライトからの光
の透過量を変化させる。引き続き、放電空間２を順次走
査することで二次元表示が可能になる。As described above, the discharge in the predetermined discharge space 2 functions as a sampling switch, and the liquid crystal layer 24 functions as a capacitor. The liquid crystal corresponding to each pixel is
It operates according to the data voltage written in the liquid crystal layer 24, and changes the amount of light transmitted from the backlight provided at the bottom of the panel. Subsequently, the discharge space 2 is sequentially scanned to enable two-dimensional display.

【０１０４】ＰＡＬＣパネルの場合、＜工程２＞では溝
部３２に連通して放電空間２の図示しない排気口を設
け、ＰＤＰパネルと同様に、この排気口にチップ排気管
３をフリットガラス等により溶接する。In the case of a PALC panel, in <Step 2>, an exhaust port (not shown) of the discharge space 2 is provided so as to communicate with the groove 32, and the chip exhaust pipe 3 is welded to this exhaust port by frit glass or the like, similarly to the PDP panel. To do.

【０１０５】ＰＡＬＣパネルの場合は、酸素系ガスのグ
ロー放電を行う＜工程５＞は電極が酸化されてしまい、
不都合なので、省略する。In the case of a PALC panel, the electrode is oxidized in the <process 5> of glow discharge of an oxygen-based gas,
Since it is inconvenient, I will omit it.

【０１０６】水素系ガスのグロー放電を行う＜工程６＞
では、アノード電極５５とカソード電極５４の間に直流
高電圧を印加する。水素プラズマ中の中性水素原子及び
活性化水素イオンの作用により、（ａ）誘電体シート３
２，背面ガラス基板５２、隔壁等に吸着されている水を
はじめとする残留不純物を還元して除去し、また、付着
している有機汚染物を還元分解して除去する。Glow discharge of hydrogen-based gas is performed <Step 6>
Then, a DC high voltage is applied between the anode electrode 55 and the cathode electrode 54. Due to the action of neutral hydrogen atoms and activated hydrogen ions in hydrogen plasma, (a) the dielectric sheet 3
2. Residual impurities such as water adsorbed on the back glass substrate 52 and partition walls are reduced and removed, and the attached organic contaminants are reduced and decomposed to be removed.

【０１０７】（ｂ）多孔質のニッケル等よりなるカソー
ド電極５４、アノード電極５５に吸着されている水をは
じめとする残留不純物を還元して除去し、また、付着し
ている有機汚染物を還元分解して除去する。同時にカソ
ード電極５４、アノード電極５５の表面の酸化被膜を還
元除去して、水や二酸化炭素等の不純物の吸着量を減ら
すとともに、放電特性の安定化を図る。(B) The residual impurities such as water adsorbed on the cathode electrode 54 and the anode electrode 55 made of porous nickel or the like are reduced and removed, and the attached organic contaminants are reduced. Disassemble and remove. At the same time, the oxide films on the surfaces of the cathode electrode 54 and the anode electrode 55 are reduced and removed to reduce the adsorption amount of impurities such as water and carbon dioxide and stabilize the discharge characteristics.

【０１０８】他の工程は、ＡＣ型ＰＤＰパネル１１の場
合と同じである。The other steps are the same as in the case of the AC type PDP panel 11.

【０１０９】上記したように、本実施の形態によれば、
次の（１）〜（４）の顕著な作用効果を得ることができ
る。 （１）電空間を排気した後、水素系ガスを導入してグロ
ー放電を起こさせ、水素プラズマを形成し、エネルギー
に富んだ水素原子及び活性化水素イオンを生成する。そ
の作用により、次の（ａ）〜（ｅ）の効果が得られる。As described above, according to this embodiment,
The following remarkable effects of (1) to (4) can be obtained. (1) After evacuating the electric space, a hydrogen-based gas is introduced to cause a glow discharge to form hydrogen plasma and generate hydrogen atoms and activated hydrogen ions rich in energy. Due to the action, the following effects (a) to (e) can be obtained.

【０１１０】（ａ）前面ガラス基板、背面ガラス基板、
隔壁（バリアリブ）等に吸着されている水をはじめとす
る残留不純物を還元して除去する。 （ｂ）カソード電極、アノード電極、表示電極（透明電
極）、ゲート電極、エミッタ（冷陰極チップ）等の電極
に吸着されている水をはじめとする残留不純物を還元し
て除去する。 （ｃ）蛍光体層、透明誘電体層、酸化マグネシウム保護
層等に吸着されている水をはじめとする残留不純物を還
元して除去する。(A) Front glass substrate, rear glass substrate,
Remaining impurities such as water adsorbed on partition walls (barrier ribs) are reduced and removed. (B) Residual impurities such as water adsorbed on electrodes such as the cathode electrode, the anode electrode, the display electrode (transparent electrode), the gate electrode, and the emitter (cold cathode chip) are reduced and removed. (C) Residual impurities such as water adsorbed on the phosphor layer, the transparent dielectric layer, the magnesium oxide protective layer, etc. are reduced and removed.

【０１１１】（ｄ）前面ガラス基板、背面ガラス基板、
隔壁、電極、透明誘電体層、酸化マグネシウム保護層、
蛍光体層等に付着した有機汚染物を小さな水素化物分子
に還元分解して除去し、表面をクリーニングする。(D) Front glass substrate, rear glass substrate,
Partition wall, electrode, transparent dielectric layer, magnesium oxide protective layer,
Organic contaminants adhering to the phosphor layer and the like are reduced and decomposed into small hydride molecules to be removed, and the surface is cleaned.

【０１１２】（ｅ）ゲート電極、冷陰極チップ（エミッ
タ）等の電極表面の酸化被膜を還元除去して電子を放出
しやすくし、また、カソード電極、アノード電極の電極
表面の酸化被膜を還元除去して放電しやすくする。(E) The oxide film on the electrode surface of the gate electrode, the cold cathode chip (emitter), etc. is reduced and removed to facilitate the emission of electrons, and the oxide film on the electrode surface of the cathode electrode and the anode electrode is reduced and removed. And make it easier to discharge.

【０１１３】従って、長時間使用しても放電特性及び電
子放出特性が安定し、焼き付きが少ない高性能高品質の
ＰＤＰ、ＰＡＬＣ、ＦＥＤ等の放電管系又は真空管系の
フラットパネルが可能になる。Therefore, a discharge panel system or vacuum tube system flat panel such as a high-performance and high-quality PDP, PALC, FED, or the like, which has stable discharge characteristics and electron emission characteristics even when used for a long period of time, and has little seizure, becomes possible.

【０１１４】（２）ＡＣ型ＰＤＰの場合、放電空間を排
気した後、酸素系ガスを導入して、グロー放電を起こさ
せ、酸素プラズマを形成し、エネルギーに富んだ酸素原
子及び活性化酸素イオンを生成する。その作用により、
次の（ａ）及び（ｂ）の効果が得られる。(2) In the case of the AC type PDP, after the discharge space is evacuated, an oxygen-based gas is introduced to cause a glow discharge, oxygen plasma is formed, and energy-rich oxygen atoms and activated oxygen ions are formed. To generate. By that action,
The following effects (a) and (b) can be obtained.

【０１１５】（ａ）前面ガラス基板、背面ガラス基板、
隔壁（バリアリブ）、透明誘電体層、酸化マグネシウム
保護層、蛍光体層等に付着した有機汚染物を酸化分解し
て、二酸化炭素等の排気されやすい小さな分子に変え
る。これにより、高真空度維持が可能になる。パネルが
大きくなるほど、この効果は大きい。(A) Front glass substrate, rear glass substrate,
Organic contaminants attached to barrier ribs, transparent dielectric layers, magnesium oxide protective layers, phosphor layers, etc. are oxidized and decomposed into small molecules such as carbon dioxide that are easily exhausted. This makes it possible to maintain a high degree of vacuum. The larger the panel, the greater this effect.

【０１１６】（ｂ）蛍光体層、透明誘電体層、酸化マグ
ネシウム保護層等の酸化物に酸素を供給して酸化作用を
促進し、それぞれの本来の性能を引き出し、特性の安定
化を可能とする。(B) Oxygen is supplied to the oxides of the phosphor layer, the transparent dielectric layer, the magnesium oxide protective layer, etc. to accelerate the oxidizing action, bring out the original performance of each, and stabilize the characteristics. To do.

【０１１７】（３）パネルの放電空間を封止するのに先
立って、排気工程で予めゲッターの加熱脱ガス処理を行
うので、従来よりも多量の水、窒素、酸素、二酸化炭素
等の残留ガスを吸収できる。このために、従来のような
異常放電が無くなりスパッタによる電極劣化もなくなっ
て電極寿命が延び、表示装置の長寿命化を図ることがで
きる。(3) Prior to sealing the discharge space of the panel, the getter is heated and degassed in advance in the exhausting step. Can be absorbed. For this reason, abnormal discharge as in the prior art is eliminated, electrode deterioration due to sputtering is eliminated, the electrode life is extended, and the life of the display device can be extended.

【０１１８】（４）本実施の形態では、単に水素系ガス
又は酸素系ガスを導入し、表示パネル自身が備えている
電極に電圧を印加するだけなので、従来技術の項で前述
した特開２０００-１０６０８９号公報に開示されてい
るダミー電極を追加してエージングする方法に比べ、装
置が簡単になり、作業の負担も少ない。(4) In the present embodiment, hydrogen-based gas or oxygen-based gas is simply introduced and a voltage is applied to the electrodes of the display panel itself. Compared with the method of adding a dummy electrode and aging disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 106089, the apparatus is simpler and the work load is less.

【０１１９】以上に説明した実施の形態は、本発明の技
術的思想に基づいて更に変形が可能であることは言うま
でもない。It goes without saying that the embodiment described above can be further modified based on the technical idea of the present invention.

【０１２０】[0120]

【発明の作用効果】本発明では、放電によってエネルギ
ーに富んだ化学種を生成し、その物理的及び化学的作用
によって不純物を除去する。According to the present invention, a chemical species rich in energy is generated by discharge, and impurities are removed by its physical and chemical action.

【０１２１】水素系ガスを放電ガスとするグロー放電で
は、強い還元作用を持つ水素系活性種（エネルギーに富
んだ水素原子や活性化水素イオン）を生成し、内壁に吸
着された水や電極上の酸化被膜をはじめとする酸化物等
を還元して除く。また、有機汚染物を還元分解して排気
されやすい小さな分子に変える。In glow discharge using a hydrogen-based gas as the discharge gas, hydrogen-based active species (energy-rich hydrogen atoms and activated hydrogen ions) having a strong reducing action are generated, and water adsorbed on the inner wall or on the electrode is generated. Oxide film and other oxides are reduced and removed. It also decomposes organic pollutants into small molecules that are easily exhausted.

【０１２２】酸素系ガスを放電ガスとするグロー放電で
は、強い酸化作用を持つ酸素系活性種（エネルギーに富
んだ酸素原子や活性化酸素イオン）を生成し、内壁に付
着した有機汚染物を酸化分解して、二酸化炭素等の排気
されやすい小さな分子に変える。In glow discharge using an oxygen-based gas as a discharge gas, oxygen-based active species having a strong oxidizing action (enriched oxygen atoms and activated oxygen ions) are generated to oxidize organic contaminants attached to the inner wall. Decomposes and transforms into small molecules such as carbon dioxide that are easily exhausted.

【０１２３】その結果、表示装置の放電空間に残留する
水などの不純物ガスを減少させ、放電特性を安定化し、
異常放電による電極の損傷を防いで、装置寿命を延長す
ることができる。As a result, the impurity gas such as water remaining in the discharge space of the display device is reduced and the discharge characteristics are stabilized,
It is possible to prevent damage to the electrodes due to abnormal discharge and extend the life of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の実施の形態としての表示装置の製造方
法で使用する製造装置の構成例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration example of a manufacturing apparatus used in a method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention.

【図２】同、表示装置の製造方法における作業順序を示
すフロー図である。FIG. 2 is a flow diagram showing a work order in the manufacturing method of the display device.

【図３】ＡＣ型カラーＰＤＰパネルの一例の構造を示す
概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an example of an AC type color PDP panel.

【図４】ＤＣ型カラーＰＤＰパネルの一例の構造を示す
概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an example of a DC type color PDP panel.

【図５】ＦＥＤパネルの一例の構造を示す概略断面図で
ある。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an example of an FED panel.

【図６】ＰＡＬＣパネルパネルの一例の構造を示す概略
断面図である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an example of a PALC panel panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

２…放電空間、３…チップ排気管、４…ガス導入バル
ブ、５…ガス供給系、６…排気バルブ、７…排気系、８
…ゲッター収納部、９…加熱チャンバ、１１…ＡＣ型カ
ラーＰＤＰパネル、１１Ａ…ＤＣ型カラーＰＤＰパネ
ル、１２…背面ガラス基板、１３…リヤ電極、１３Ａ…
アノード電極、１４…誘電体層、１５…酸化マグネシウ
ムＭｇＯ層、１６…前面ガラス基板、１７…透明導電膜
フロント電極、１７Ａ…カソード電極、１８…隔壁、１
９…蛍光体層、２１…ＦＥＤパネル、２２…背面ガラス
基板、２３…カソード電極、２４…抵抗層、２５…絶縁
層、２６…ゲート電極、２７ａ…ホール、２７ｂ…エミ
ッタ（冷陰極チップ）、２８…前面ガラス基板、２９…
アノード電極、３０…蛍光体層、３１…ＰＡＬＣパネ
ル、３２…誘電体シート、４１…液晶表示パネル、４２
…透明基板、４３…データ電極、４４…液晶層、５１…
プラズマパネル、５２…背面ガラス基板、５３…溝部、
５４…カソード電極、５５…アノード電極2 ... Discharge space, 3 ... Chip exhaust pipe, 4 ... Gas introduction valve, 5 ... Gas supply system, 6 ... Exhaust valve, 7 ... Exhaust system, 8
... getter housing, 9 ... heating chamber, 11 ... AC type color PDP panel, 11A ... DC type color PDP panel, 12 ... rear glass substrate, 13 ... rear electrode, 13A ...
Anode electrode, 14 ... Dielectric layer, 15 ... Magnesium oxide MgO layer, 16 ... Front glass substrate, 17 ... Transparent conductive film front electrode, 17A ... Cathode electrode, 18 ... Partition wall, 1
9 ... Phosphor layer, 21 ... FED panel, 22 ... Rear glass substrate, 23 ... Cathode electrode, 24 ... Resistive layer, 25 ... Insulating layer, 26 ... Gate electrode, 27a ... Hole, 27b ... Emitter (cold cathode chip), 28 ... Front glass substrate, 29 ...
Anode electrode, 30 ... Phosphor layer, 31 ... PALC panel, 32 ... Dielectric sheet, 41 ... Liquid crystal display panel, 42
... transparent substrate, 43 ... data electrode, 44 ... liquid crystal layer, 51 ...
Plasma panel, 52 ... Rear glass substrate, 53 ... Groove part,
54 ... Cathode electrode, 55 ... Anode electrode

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 第一の基体とこれに対向した第二の基体
との間に表示領域を有するとともに、前記表示領域に対
応した空間に表示に必要なエネルギーを発生させるよう
に構成した表示装置を製造する方法において、前記空間
を水素系ガス又は／及び酸素系ガスの存在下でグロー放
電させる工程を有している、表示装置の製造方法。1. A display device having a display region between a first substrate and a second substrate facing the first substrate, and configured to generate energy required for display in a space corresponding to the display region. The method for manufacturing a display device according to claim 1, further comprising the step of glow-discharging the space in the presence of a hydrogen-based gas and / or an oxygen-based gas. 【請求項２】 前記水素系ガスが、純水素、又は水素と
アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等の不活性ガ
スとの混合ガスである、請求項１に記載した表示装置の
製造方法。2. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the hydrogen-based gas is pure hydrogen or a mixed gas of hydrogen and an inert gas such as argon, neon, krypton, or xenon. 【請求項３】 前記水素系ガスが、水素と一酸化炭素と
アルゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等の不活性ガ
スとの混合ガスである、請求項１に記載した表示装置の
製造方法。3. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein the hydrogen-based gas is a mixed gas of hydrogen, carbon monoxide, and an inert gas such as argon, neon, krypton, or xenon. 【請求項４】 前記水素系ガスの存在下でグロー放電さ
せる工程の前に、前記空間に前記酸素系ガスを導入し、
前記空間を前記酸素系ガスの存在下でグロー放電させる
工程を有する、請求項１に記載した表示装置の製造方
法。4. The oxygen-based gas is introduced into the space before the step of glow discharge in the presence of the hydrogen-based gas,
The method for manufacturing a display device according to claim 1, further comprising a step of causing glow discharge in the space in the presence of the oxygen-based gas. 【請求項５】 前記酸素系ガスが、純酸素、酸素とアル
ゴン、ネオン、クリプトン、キセノン等の不活性ガスと
の混合ガス、純オゾン、又は、オゾンとアルゴン、ネオ
ン、クリプトン、キセノン等の不活性ガスとの混合ガス
である、請求項４に記載した表示装置の製造方法。5. The oxygen-based gas is pure oxygen, a mixed gas of oxygen and an inert gas such as argon, neon, krypton, or xenon, pure ozone, or ozone and an inert gas such as argon, neon, krypton, or xenon. The method for manufacturing a display device according to claim 4, wherein the display device is a mixed gas with an active gas. 【請求項６】 前記空間を加熱しながら前記グロー放電
を起こす、請求項１に記載した表示装置の製造方法。6. The method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein the glow discharge is generated while heating the space. 【請求項７】 前記グロー放電により前記空間内に不純
物を放出し、これを排出する、請求項１に記載した表示
装置の製造方法。7. The method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein impurities are discharged into the space by the glow discharge and are discharged. 【請求項８】 前記グロー放電工程の前に前記空間に連
通する収納部にゲッター材を組み込み、前記ゲッター材
を加熱処理しながら真空引きを行う、請求項１に記載し
た表示装置の製造方法。8. The method of manufacturing a display device according to claim 1, wherein before the glow discharge step, a getter material is incorporated in a storage section communicating with the space, and vacuuming is performed while heat-treating the getter material. 【請求項９】 前記第一の基体とこれに対向した透光性
の前記第二の基体との間に前記表示領域を有し、前記表
示領域を構成する対向電極間に前記空間が存在してい
る、請求項１に記載した表示装置の製造方法。9. The display region is provided between the first substrate and the translucent second substrate facing the first substrate, and the space is present between the counter electrodes forming the display region. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein 【請求項１０】 プラズマ表示装置又は電界放出型表示
装置を製造する、請求項９に記載した表示装置の製造方
法。10. The method of manufacturing a display device according to claim 9, wherein a plasma display device or a field emission display device is manufactured. 【請求項１１】 前記第一の基体とこれに対向した透光
性の前記第二の基体との間に前記表示領域を有し、前記
第一の基体に前記空間が電位設定用として設けられてい
る、請求項１に記載した表示装置の製造方法。11. The display area is provided between the first base body and the translucent second base body facing the first base body, and the space is provided in the first base body for potential setting. The method for manufacturing a display device according to claim 1, wherein 【請求項１２】 プラズマアドレス液晶表示装置を製造
する、請求項１１に記載した表示装置の製造方法。12. The method of manufacturing a display device according to claim 11, wherein a plasma addressed liquid crystal display device is manufactured.