JPH05335400A - 基板収納装置 - Google Patents
基板収納装置Info
- Publication number
- JPH05335400A JPH05335400A JP4136513A JP13651392A JPH05335400A JP H05335400 A JPH05335400 A JP H05335400A JP 4136513 A JP4136513 A JP 4136513A JP 13651392 A JP13651392 A JP 13651392A JP H05335400 A JPH05335400 A JP H05335400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- cassette
- light receiving
- holding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板搬送装置との基板の受渡し動作の安全性
を確保するとともに、基板を正確に保持する。 【構成】 カセット本体201 の複数のマスクステージ20
5 のうち所望のマスク200 を吸着保持しているマスクス
テージ205 を所定の選択位置へ移動させる。選択位置に
移動したマスクステージ205 についてマスク200 の保持
状態の正常性を判断するため、2つの受光部123b、124b
の出力信号を参照し、受光部123bが受光状態で、受光部
124bが遮光状態であれば、前記マスク200 はマスクステ
ージ205 にて所定の位置に保持されていると判断してマ
スク搬送装置(不図示)へのマスク200 の受渡し動作を
行なわせる。
を確保するとともに、基板を正確に保持する。 【構成】 カセット本体201 の複数のマスクステージ20
5 のうち所望のマスク200 を吸着保持しているマスクス
テージ205 を所定の選択位置へ移動させる。選択位置に
移動したマスクステージ205 についてマスク200 の保持
状態の正常性を判断するため、2つの受光部123b、124b
の出力信号を参照し、受光部123bが受光状態で、受光部
124bが遮光状態であれば、前記マスク200 はマスクステ
ージ205 にて所定の位置に保持されていると判断してマ
スク搬送装置(不図示)へのマスク200 の受渡し動作を
行なわせる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置などの半導体製
造装置に使用する基板収納装置に関する。
造装置に使用する基板収納装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造装置における基板収納装置と
しては、X線露光装置に用いるマスクを収納するものが
特開平2−100311号公報に提案されている。
しては、X線露光装置に用いるマスクを収納するものが
特開平2−100311号公報に提案されている。
【0003】マスク収納装置について、図11および図
12を参照して説明する。
12を参照して説明する。
【0004】このマスク収納装置は、複数のマスク90
0を保持したマスクカセットが収納される、密閉された
マスクチャンバ800である。
0を保持したマスクカセットが収納される、密閉された
マスクチャンバ800である。
【0005】マスクカセットは、カセット本体901と
カセットカバー906から構成されている。
カセットカバー906から構成されている。
【0006】カセット本体901は、円筒体904の図
示上下端にそれぞれ設けられた上フランジ902と下フ
ランジ903を有し、これら上フランジ902と下フラ
ンジ903間には、複数のマスクステージ905が円筒
体904を中心にして放射状に配設されたものである。
示上下端にそれぞれ設けられた上フランジ902と下フ
ランジ903を有し、これら上フランジ902と下フラ
ンジ903間には、複数のマスクステージ905が円筒
体904を中心にして放射状に配設されたものである。
【0007】各マスクステージ905は、マスク900
を縦置に吸着保持するための、磁気吸着方式のマスクチ
ャック907を備えている。このマスクステージ905
のマスク吸着保持の解除は、カセット本体901の外部
に設けられた不図示の電源によって磁気回路を駆動して
前記マスクチャック907の、マスク吸着保持のための
磁界を打消すような磁界を発生させることで行なう。
を縦置に吸着保持するための、磁気吸着方式のマスクチ
ャック907を備えている。このマスクステージ905
のマスク吸着保持の解除は、カセット本体901の外部
に設けられた不図示の電源によって磁気回路を駆動して
前記マスクチャック907の、マスク吸着保持のための
磁界を打消すような磁界を発生させることで行なう。
【0008】前記カセット本体901は、前記カセット
カバー906によって覆われた密閉状態で、マスクチャ
ンバ800内のカセット台802上に載置される。カセ
ット本体901とカセットカバー906とが結合される
と、不図示のカバーロック機構によってロックされる。
カバー906によって覆われた密閉状態で、マスクチャ
ンバ800内のカセット台802上に載置される。カセ
ット本体901とカセットカバー906とが結合される
と、不図示のカバーロック機構によってロックされる。
【0009】前記マスクチャンバ800の外部下方に
は、該マスクチャンバ800内で前記カセット本体90
1を移動させるためのマスクカセットエレベータ803
が設置されており、該マスクカセットエレベータ803
からフィードスルーを通って前記マスクチャンバ800
内に延びるエレベータロッド811の先端には、前記カ
セット本体901がカセット台802上に載置された
際、該カセット本体901が固定される回転テーブル8
04が回動自在に取付けられている。エレベータロッド
811は、エレベータモータ810の動力によって送り
ねじ809が回転することで上下動し、それにともなっ
て、前記回転テーブル804がマスクチャンバ800内
で上下方向(Y方向)へ移動される。また、マスクチャ
ンバ800の外部上方には、前記回転テーブル804と
対向する位置に、カセット本体901を回転させるため
のインデクサ805が取付けられており、該インデクサ
805のインデクサ出力軸813は、フィードスルーを
通してマスクチャンバ800内へ延び、該マスクチャン
バ800に締結されているインデクサベース801を介
して、前記カセット本体901の位置決めのためのイン
デクサ突当て部817に連結されている。インデクサ突
当て部817は、カセット本体901の、前記インデク
サ出力軸813の軸方向の位置決めのためのボス818
と、前記インデクサ805による回転方向の位置決めの
ための位置決めピン819とが形成されている。
は、該マスクチャンバ800内で前記カセット本体90
1を移動させるためのマスクカセットエレベータ803
が設置されており、該マスクカセットエレベータ803
からフィードスルーを通って前記マスクチャンバ800
内に延びるエレベータロッド811の先端には、前記カ
セット本体901がカセット台802上に載置された
際、該カセット本体901が固定される回転テーブル8
04が回動自在に取付けられている。エレベータロッド
811は、エレベータモータ810の動力によって送り
ねじ809が回転することで上下動し、それにともなっ
て、前記回転テーブル804がマスクチャンバ800内
で上下方向(Y方向)へ移動される。また、マスクチャ
ンバ800の外部上方には、前記回転テーブル804と
対向する位置に、カセット本体901を回転させるため
のインデクサ805が取付けられており、該インデクサ
805のインデクサ出力軸813は、フィードスルーを
通してマスクチャンバ800内へ延び、該マスクチャン
バ800に締結されているインデクサベース801を介
して、前記カセット本体901の位置決めのためのイン
デクサ突当て部817に連結されている。インデクサ突
当て部817は、カセット本体901の、前記インデク
サ出力軸813の軸方向の位置決めのためのボス818
と、前記インデクサ805による回転方向の位置決めの
ための位置決めピン819とが形成されている。
【0010】前記カセット台802には、前記回転テー
ブル804を通すための、円形のエレベータ通路808
が形成されており、前記マスクカセットエレベータ80
3によって回転テーブル804が上方へ移動する際、該
回転テーブル804が前記エレベータ通路808を経
て、前記カセット台802上に載置されたカセット本体
901を、押上げ、前記インデクサ突当て部817へ押
当てる。このとき、前記インデクサ突当て部817のボ
ス818および位置決めピン819によって、カセット
本体901が位置決めされる。図12は、カセット本体
901がインデクサ突当て部817に押付けられた状態
を示している。
ブル804を通すための、円形のエレベータ通路808
が形成されており、前記マスクカセットエレベータ80
3によって回転テーブル804が上方へ移動する際、該
回転テーブル804が前記エレベータ通路808を経
て、前記カセット台802上に載置されたカセット本体
901を、押上げ、前記インデクサ突当て部817へ押
当てる。このとき、前記インデクサ突当て部817のボ
ス818および位置決めピン819によって、カセット
本体901が位置決めされる。図12は、カセット本体
901がインデクサ突当て部817に押付けられた状態
を示している。
【0011】また、前記カセット台802には、マスク
カセットが載置された際、カセットカバー906を前記
カセット台802に固定するための複数のカバーロック
ユニット806,812と、前記カセット本体901と
カセットカバー906とのロック状態を解除して該カセ
ット本体901を前記回転テーブル804に固定するた
めのカセットロックユニット807とが設けられてい
る。これらのカバーロックユニット806,812およ
びカセットロックユニット807により、前記カセット
カバー906はカセット台802に固定され、マスクカ
セットエレベータ803の駆動によってカセット本体9
01のみが移動されることになる。そして、前記カセッ
ト本体901をインデクサ突当て部817に押当てた状
態で、インデクサ805を駆動してカセット本体901
を回転させて所望のマスク900の選択を行なう。ま
た、前記インデクサベース801の一部位には、カセッ
ト本体901への電源供給用のコネクティングユニット
820が取付けられており、該コネクティングユニット
820によって、マスク900の吸着保持解除の際の磁
界発生用電源が供給される。
カセットが載置された際、カセットカバー906を前記
カセット台802に固定するための複数のカバーロック
ユニット806,812と、前記カセット本体901と
カセットカバー906とのロック状態を解除して該カセ
ット本体901を前記回転テーブル804に固定するた
めのカセットロックユニット807とが設けられてい
る。これらのカバーロックユニット806,812およ
びカセットロックユニット807により、前記カセット
カバー906はカセット台802に固定され、マスクカ
セットエレベータ803の駆動によってカセット本体9
01のみが移動されることになる。そして、前記カセッ
ト本体901をインデクサ突当て部817に押当てた状
態で、インデクサ805を駆動してカセット本体901
を回転させて所望のマスク900の選択を行なう。ま
た、前記インデクサベース801の一部位には、カセッ
ト本体901への電源供給用のコネクティングユニット
820が取付けられており、該コネクティングユニット
820によって、マスク900の吸着保持解除の際の磁
界発生用電源が供給される。
【0012】上述のマスクチャンバ800は、露光用ス
テージ等を備えたメインチャンバ814に隣接されてい
る。マスクチャンバ800とメインチャンバ814と
は、前記マスク900を搬送するためのマスクハンド8
16の通路がゲート弁815によって開閉され、該ゲー
ト弁815が開状態のとき、メインチャンバ814側か
らマスクハンド816が、マスクチャンバ800内へ進
入して、前記インデクサ805の回転によって選択され
た所望のマスク900を把持してメインチャンバ814
内へ搬送する構成となっている。
テージ等を備えたメインチャンバ814に隣接されてい
る。マスクチャンバ800とメインチャンバ814と
は、前記マスク900を搬送するためのマスクハンド8
16の通路がゲート弁815によって開閉され、該ゲー
ト弁815が開状態のとき、メインチャンバ814側か
らマスクハンド816が、マスクチャンバ800内へ進
入して、前記インデクサ805の回転によって選択され
た所望のマスク900を把持してメインチャンバ814
内へ搬送する構成となっている。
【0013】また、露光終了時については、メインチャ
ンバ814側からマスクハンド816がマスク900を
把持した状態でマスクチャンバ800内へ進入して、カ
セット本体901の所定のマスクステージ905へ収納
する。
ンバ814側からマスクハンド816がマスク900を
把持した状態でマスクチャンバ800内へ進入して、カ
セット本体901の所定のマスクステージ905へ収納
する。
【0014】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
述のようなマスクカセットからマスクハンドによりマス
クを取出す場合、マスクがマスクステージ上の所定の位
置に保持されていないと、マスクハンドによるマスクの
把持が不可能となるという問題点がある。すなわち、マ
スクステージがマスクを縦置に保持するため、その垂直
保持面内でマスクがずれた場合である。マスクがずれる
原因としては、マスクを保持したマスクカセットの運搬
時の衝撃、マスクカセットをカセット台に設置する際の
衝撃、等が考えられる。また、メインチャンバ側からマ
スクハンドによりマスクを搬送してマスクカセット内に
装着する際、マスクステージ上でマスクが位置ずれして
チャッキングされると、再びマスクハンドでそのマスク
を取出しに行く際マスクを把持することができず、さら
には、カセット本体をマスクカセットエレベータによっ
て下降させてカセットカバーに戻す際にマスクとカセッ
トカバーが干渉してぶつかり、マスクの落下、破損に至
ることも考えられる。
述のようなマスクカセットからマスクハンドによりマス
クを取出す場合、マスクがマスクステージ上の所定の位
置に保持されていないと、マスクハンドによるマスクの
把持が不可能となるという問題点がある。すなわち、マ
スクステージがマスクを縦置に保持するため、その垂直
保持面内でマスクがずれた場合である。マスクがずれる
原因としては、マスクを保持したマスクカセットの運搬
時の衝撃、マスクカセットをカセット台に設置する際の
衝撃、等が考えられる。また、メインチャンバ側からマ
スクハンドによりマスクを搬送してマスクカセット内に
装着する際、マスクステージ上でマスクが位置ずれして
チャッキングされると、再びマスクハンドでそのマスク
を取出しに行く際マスクを把持することができず、さら
には、カセット本体をマスクカセットエレベータによっ
て下降させてカセットカバーに戻す際にマスクとカセッ
トカバーが干渉してぶつかり、マスクの落下、破損に至
ることも考えられる。
【0015】本発明は、上記従来の技術が有する問題点
に鑑みてなされたもので、基板搬送装置との基板の受渡
し動作の安全性を確保するとともに前記基板を正確に保
持する基板収納装置を提供することを目的としている。
に鑑みてなされたもので、基板搬送装置との基板の受渡
し動作の安全性を確保するとともに前記基板を正確に保
持する基板収納装置を提供することを目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板を吸着す
るためのチャックと前記基板の位置決めのための位置決
め手段とが設けられて前記基板を縦置に吸着保持する複
数の保持ステージを備えた基板カセットが収納され、該
基板カセットの、所望の基板を吸着保持している保持ス
テージを選択して該保持ステージを所定の選択位置へ移
動させる基板選択手段を有する基板収納装置において、
前記保持ステージが吸着保持している基板の外縁位置を
検知する基板位置検知センサを有するものである。
るためのチャックと前記基板の位置決めのための位置決
め手段とが設けられて前記基板を縦置に吸着保持する複
数の保持ステージを備えた基板カセットが収納され、該
基板カセットの、所望の基板を吸着保持している保持ス
テージを選択して該保持ステージを所定の選択位置へ移
動させる基板選択手段を有する基板収納装置において、
前記保持ステージが吸着保持している基板の外縁位置を
検知する基板位置検知センサを有するものである。
【0017】前記基板カセットが複数の保持ステージを
備えており、該基板カセットの、所望の基板を吸着保持
している保持ステージを選択して該保持ステージを所定
の選択位置へ移動させる基板選択手段を有し、前記基板
位置検知センサは前記選択位置に移動された保持ステー
ジが吸着保持している基板の外縁位置を検知する場合
と、前記基板位置検知センサが検知した前記基板の外縁
位置から、該基板が前記保持ステージの所定の位置に吸
着保持されているか否かの保持状態を検出する基板保持
状態検出手段を有する場合と、前記基板位置検知センサ
が、投光部と、該投光部に対する受光部との透過型セン
サで構成され、基板保持状態検出手段は前記受光部の受
光量に応じた出力信号に基づいて保持状態を検出する場
合と、透過型センサの受光部がラインセンサである場合
と、前記基板位置検知センサが複数の透過型センサから
成る場合と、さらに、複数の透過型センサのうち近接す
る透過型センサは、それらの投光ビームが互いに反対方
向に発射されるように投光部が配置されている場合があ
る。
備えており、該基板カセットの、所望の基板を吸着保持
している保持ステージを選択して該保持ステージを所定
の選択位置へ移動させる基板選択手段を有し、前記基板
位置検知センサは前記選択位置に移動された保持ステー
ジが吸着保持している基板の外縁位置を検知する場合
と、前記基板位置検知センサが検知した前記基板の外縁
位置から、該基板が前記保持ステージの所定の位置に吸
着保持されているか否かの保持状態を検出する基板保持
状態検出手段を有する場合と、前記基板位置検知センサ
が、投光部と、該投光部に対する受光部との透過型セン
サで構成され、基板保持状態検出手段は前記受光部の受
光量に応じた出力信号に基づいて保持状態を検出する場
合と、透過型センサの受光部がラインセンサである場合
と、前記基板位置検知センサが複数の透過型センサから
成る場合と、さらに、複数の透過型センサのうち近接す
る透過型センサは、それらの投光ビームが互いに反対方
向に発射されるように投光部が配置されている場合があ
る。
【作用】本発明は、保持ステージで吸着保持している基
板の外縁位置を検出し、検出した基板の外縁位置から該
基板が前記保持ステージにて所定の位置に保持されてい
るか否かを判断する。
板の外縁位置を検出し、検出した基板の外縁位置から該
基板が前記保持ステージにて所定の位置に保持されてい
るか否かを判断する。
【0018】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0019】図1は本発明の基板収納装置の一実施例の
一部を破断した斜視図である。
一部を破断した斜視図である。
【0020】本実施例の基板収納装置は、半導体露光用
の基板であるマスクを収納するマスク収納装置であり、
このマスク収納装置は、複数のマスク200を保持した
カセット本体201とカセットカバー206とからなる
マスクカセット(図2参照)が収納される、従来と同様
な密閉されたマスクチャンバ100であり、その外部下
方には、マスクチャンバ100内で前記カセット本体2
01を上下方向(Y方向)へ移動させるためのマスクカ
セットエレベータ103が設置され、外部上方には、マ
スクチャンバ100内で前記カセット本体201を回転
させるためのインデクサ105が取付けられている。
の基板であるマスクを収納するマスク収納装置であり、
このマスク収納装置は、複数のマスク200を保持した
カセット本体201とカセットカバー206とからなる
マスクカセット(図2参照)が収納される、従来と同様
な密閉されたマスクチャンバ100であり、その外部下
方には、マスクチャンバ100内で前記カセット本体2
01を上下方向(Y方向)へ移動させるためのマスクカ
セットエレベータ103が設置され、外部上方には、マ
スクチャンバ100内で前記カセット本体201を回転
させるためのインデクサ105が取付けられている。
【0021】図2および図3は、マスクチャンバ100
内のカセット台102上に載置したマスクカセットのカ
セット本体201を、前記マスクカセットエレベータ1
03によって、前記インデクサ105のインデクサ出力
軸113に連結されているインデクサ突当て部117に
押付けた状態を示す斜視図および断面図である。
内のカセット台102上に載置したマスクカセットのカ
セット本体201を、前記マスクカセットエレベータ1
03によって、前記インデクサ105のインデクサ出力
軸113に連結されているインデクサ突当て部117に
押付けた状態を示す斜視図および断面図である。
【0022】前記カセット本体201は、円筒体204
の図示上下端にそれぞれ設けられた上フランジ202と
下フランジ203とを有し、これら上フランジ202と
下フランジ203間には、複数のマスクステージ205
が円筒体204を中心にして放射状に配設されたもので
ある。各マスクステージ205は、磁気吸着方式による
マスクチャック(不図示)と、マスクステージ205の
マスク吸着面内での位置決めのための一対のVブロック
207とを備えており、マスク200を、前記Vブロッ
ク207によって位置決めした状態で、マスクチャック
によって吸着保持する。前記一対のVブロック207
は、それぞれ、マスク吸着面の反マスクハンド側の上、
下部に、X方向に対して45°の角度で固定されてい
る。また、前記マスクステージ205にて吸着保持した
マスク200を離脱する場合は、前記マスクチャックの
磁力を相殺する方向に磁界を発生させることにより行な
う。
の図示上下端にそれぞれ設けられた上フランジ202と
下フランジ203とを有し、これら上フランジ202と
下フランジ203間には、複数のマスクステージ205
が円筒体204を中心にして放射状に配設されたもので
ある。各マスクステージ205は、磁気吸着方式による
マスクチャック(不図示)と、マスクステージ205の
マスク吸着面内での位置決めのための一対のVブロック
207とを備えており、マスク200を、前記Vブロッ
ク207によって位置決めした状態で、マスクチャック
によって吸着保持する。前記一対のVブロック207
は、それぞれ、マスク吸着面の反マスクハンド側の上、
下部に、X方向に対して45°の角度で固定されてい
る。また、前記マスクステージ205にて吸着保持した
マスク200を離脱する場合は、前記マスクチャックの
磁力を相殺する方向に磁界を発生させることにより行な
う。
【0023】このカセット本体201は、カセットカバ
ー206で覆われて密閉されたロック状態で前記マスク
チャンバ100内のカセット台102上に載置され、該
カセット台102に設けられている2つのカバーロック
ユニット106,112とカセットロックユニット10
7とで、前記カセットカバー206をカセット台102
に固定するとともに、前記カセット本体201とカセッ
トカバー206とのロック状態を解除してカセット本体
201をエレベータロッド111の先端に回動自在に取
付けられている回転テーブル104に固定する。この状
態で、マスクカセットエレベータ103の動力によっ
て、図2および図3に示すように、前記カセット本体2
01のみをインデクサ突当て部117に押当てることが
可能となっている。該インデクサ突当て部117には、
前記カセット本体201の、前記インデクサ出力軸11
3方向(Y軸方向)の位置決めのためのボス119と回
転方向の位置決めのための位置決めピン118とが形成
されており、それらによって、カセット本体201が位
置決めされるとともに、前記インデクサ105による、
マスク200の選択のためのカセット本体201の回転
が行なわれる。
ー206で覆われて密閉されたロック状態で前記マスク
チャンバ100内のカセット台102上に載置され、該
カセット台102に設けられている2つのカバーロック
ユニット106,112とカセットロックユニット10
7とで、前記カセットカバー206をカセット台102
に固定するとともに、前記カセット本体201とカセッ
トカバー206とのロック状態を解除してカセット本体
201をエレベータロッド111の先端に回動自在に取
付けられている回転テーブル104に固定する。この状
態で、マスクカセットエレベータ103の動力によっ
て、図2および図3に示すように、前記カセット本体2
01のみをインデクサ突当て部117に押当てることが
可能となっている。該インデクサ突当て部117には、
前記カセット本体201の、前記インデクサ出力軸11
3方向(Y軸方向)の位置決めのためのボス119と回
転方向の位置決めのための位置決めピン118とが形成
されており、それらによって、カセット本体201が位
置決めされるとともに、前記インデクサ105による、
マスク200の選択のためのカセット本体201の回転
が行なわれる。
【0024】この状態で、カセット本体201を回転さ
せて所望のマスク200を所定の位置(以下、「選択位
置」という。)に移動させることで、後述するマスクハ
ンド116によって前記マスク200を取出すことが可
能となる。
せて所望のマスク200を所定の位置(以下、「選択位
置」という。)に移動させることで、後述するマスクハ
ンド116によって前記マスク200を取出すことが可
能となる。
【0025】また、前記インデクサ出力軸113をマス
クチャンバ100内で支持するインデクサベース101
には、カセット本体201において前記選択位置に移動
されたマスク200の保持状態を検知するための、後述
する基板位置検知センサが取付けられた第1、第2の2
つの支持台121,122が下方向に固設されている。
本実施例では、インデクサベース101は四角形平面を
しており、前記第1、第2支持台121,122はそれ
ぞれマスクハンド116側の両角部に固設されている。
クチャンバ100内で支持するインデクサベース101
には、カセット本体201において前記選択位置に移動
されたマスク200の保持状態を検知するための、後述
する基板位置検知センサが取付けられた第1、第2の2
つの支持台121,122が下方向に固設されている。
本実施例では、インデクサベース101は四角形平面を
しており、前記第1、第2支持台121,122はそれ
ぞれマスクハンド116側の両角部に固設されている。
【0026】前記基板位置検知センサは、図4に示すよ
うに、第1投光部123aおよび該第1投光部123a
に対する第1受光部123bと、第2投光部124aお
よび該第2投光部124aに対する第2受光部124b
との2組の透過型センサで構成されている。前記第1支
持台121には、第1受光部123bと第2投光部12
4aとが間隔を設けて取付けられており、前記第2支持
台122には、前記第1支持台121に取付けられた第
1受光部123bと第2投光部124aに、それぞれ対
向するように第1投光部123aと第2受光部124b
が取付けられている。したがって、各投光部123a,
124aがそれぞれ発する各投光ビームPA ,PB は、
間隔をおいて互いに逆方向となり、これによって各投光
ビームP A ,PB 相互の干渉を防止している。
うに、第1投光部123aおよび該第1投光部123a
に対する第1受光部123bと、第2投光部124aお
よび該第2投光部124aに対する第2受光部124b
との2組の透過型センサで構成されている。前記第1支
持台121には、第1受光部123bと第2投光部12
4aとが間隔を設けて取付けられており、前記第2支持
台122には、前記第1支持台121に取付けられた第
1受光部123bと第2投光部124aに、それぞれ対
向するように第1投光部123aと第2受光部124b
が取付けられている。したがって、各投光部123a,
124aがそれぞれ発する各投光ビームPA ,PB は、
間隔をおいて互いに逆方向となり、これによって各投光
ビームP A ,PB 相互の干渉を防止している。
【0027】ここで、第1投光部123aが発する投光
ビームPA と第2投光部124aが発する投光ビームP
B について考えると、カセット本体201の選択位置に
あるマスク200がマスクステージ205にて正規の位
置に保持されていれば、図4に示すように、投光ビーム
PB は前記マスク200の、X方向の直径を示す直線上
に位置する外縁の一部位を照射するように発射され、投
光ビームPA は、前記マスク200に対して前記投光ビ
ームPB より外側で該マスク200を照射しないように
該投光ビームPB と平行に発射されて第1受光部123
bに達するものとなる。各投光部123a,124aと
各受光部123b,124bの、各支持台121,12
2上での取付け位置は、図3に示すように、第2投光部
124aと第2受光部124bが、それぞれ、前記マス
ク200の、X方向の直径を示す直線上の外縁の一部位
に相当する位置に取付けられており、第1受光部123
bと第1投光部123aが、それぞれ、各支持台12
1,122上で第2投光部124aと第2受光部124
bに対して45°下方に取付けられている。この第2投
光部124aおよび第2受光部124bに対する第1投
光部123aおよび第1受光部123bの取付位置は、
マスクステージ205上のVブロック207が、前述し
たように、マスク吸着面上にX方向に対して45°の角
度で固定されているので、マスクステージ205の吸着
面内でマスク200が位置ずれする場合、該マスク20
0は下側のVブロック207に沿って45°下方に位置
ずれすることが考えられることから45°下方としてい
る。また、そのように基板位置検知センサを配置するこ
とにより、投光ビームPA ,PB 相互の干渉を防ぐた
め、それらの間隔をより広げることができる。
ビームPA と第2投光部124aが発する投光ビームP
B について考えると、カセット本体201の選択位置に
あるマスク200がマスクステージ205にて正規の位
置に保持されていれば、図4に示すように、投光ビーム
PB は前記マスク200の、X方向の直径を示す直線上
に位置する外縁の一部位を照射するように発射され、投
光ビームPA は、前記マスク200に対して前記投光ビ
ームPB より外側で該マスク200を照射しないように
該投光ビームPB と平行に発射されて第1受光部123
bに達するものとなる。各投光部123a,124aと
各受光部123b,124bの、各支持台121,12
2上での取付け位置は、図3に示すように、第2投光部
124aと第2受光部124bが、それぞれ、前記マス
ク200の、X方向の直径を示す直線上の外縁の一部位
に相当する位置に取付けられており、第1受光部123
bと第1投光部123aが、それぞれ、各支持台12
1,122上で第2投光部124aと第2受光部124
bに対して45°下方に取付けられている。この第2投
光部124aおよび第2受光部124bに対する第1投
光部123aおよび第1受光部123bの取付位置は、
マスクステージ205上のVブロック207が、前述し
たように、マスク吸着面上にX方向に対して45°の角
度で固定されているので、マスクステージ205の吸着
面内でマスク200が位置ずれする場合、該マスク20
0は下側のVブロック207に沿って45°下方に位置
ずれすることが考えられることから45°下方としてい
る。また、そのように基板位置検知センサを配置するこ
とにより、投光ビームPA ,PB 相互の干渉を防ぐた
め、それらの間隔をより広げることができる。
【0028】前述した、カセット本体201からマスク
200を取出すためのマスクハンド116は、アーム部
116eを介して搬送装置(不図示)に連結されてお
り、ゲート弁115を開き、搬送制御部(不図示)のコ
ントロールによって前記搬送装置を駆動することでメイ
ンチャンバ114とマスクチャンバ100との間(X方
向)を移動される。また、マスクハンド116は、アー
ム部116eに取付けられた基部116cの上、下両側
にマスク200を把持するための一対のフィンガー部1
16a,116bが回動自在に軸支されており、前記搬
送制御部のコントロールによって前記フィンガー部11
6a,116bを開閉させることで前記カセット本体2
01に対するマスク200の受渡しあるいは受取りを行
なう。さらに、マスクハンド116の基部116cに
は、該マスクハンド116がカセット本体201に接近
した際、前記投光ビームPA ,PB を遮ぎることのない
ように、該投光ビームPA ,PB の経路となるビーム穴
116dが形成されている。
200を取出すためのマスクハンド116は、アーム部
116eを介して搬送装置(不図示)に連結されてお
り、ゲート弁115を開き、搬送制御部(不図示)のコ
ントロールによって前記搬送装置を駆動することでメイ
ンチャンバ114とマスクチャンバ100との間(X方
向)を移動される。また、マスクハンド116は、アー
ム部116eに取付けられた基部116cの上、下両側
にマスク200を把持するための一対のフィンガー部1
16a,116bが回動自在に軸支されており、前記搬
送制御部のコントロールによって前記フィンガー部11
6a,116bを開閉させることで前記カセット本体2
01に対するマスク200の受渡しあるいは受取りを行
なう。さらに、マスクハンド116の基部116cに
は、該マスクハンド116がカセット本体201に接近
した際、前記投光ビームPA ,PB を遮ぎることのない
ように、該投光ビームPA ,PB の経路となるビーム穴
116dが形成されている。
【0029】前記基板位置検知センサの各受光部123
b,124bの受光量に応じた出力信号は前記搬送制御
部に送出されており、該搬送制御部に設けられた基板保
持状態検出手段によって、前記出力信号に基づいて、選
択位置にあるマスクステージ205によるマスク200
の保持状態の正常性を判断する。
b,124bの受光量に応じた出力信号は前記搬送制御
部に送出されており、該搬送制御部に設けられた基板保
持状態検出手段によって、前記出力信号に基づいて、選
択位置にあるマスクステージ205によるマスク200
の保持状態の正常性を判断する。
【0030】この基板保持状態検出手段における、マス
ク200の保持状態の正常性の判断としては、次の3通
りの場合がある。 (1) 第1受光部123b:受光状態、第2受光部124
b:遮光状態のとき(第1の状態)、マスク200はマ
スクステージ205にて正規の位置に保持されている状
態を示す。 (2) 第1受光部123b:遮光状態、第2受光部124
b:遮光状態のとき(第2の状態)、マスク200はマ
スクステージ205上で位置ずれしている状態を示す。 (3) 第1受光部123b:受光状態、第2受光部124
b:受光状態のとき(第3の状態)、マスクステージ2
05にてマスク200が保持されていない状態を示す。
ク200の保持状態の正常性の判断としては、次の3通
りの場合がある。 (1) 第1受光部123b:受光状態、第2受光部124
b:遮光状態のとき(第1の状態)、マスク200はマ
スクステージ205にて正規の位置に保持されている状
態を示す。 (2) 第1受光部123b:遮光状態、第2受光部124
b:遮光状態のとき(第2の状態)、マスク200はマ
スクステージ205上で位置ずれしている状態を示す。 (3) 第1受光部123b:受光状態、第2受光部124
b:受光状態のとき(第3の状態)、マスクステージ2
05にてマスク200が保持されていない状態を示す。
【0031】ただし、前記各受光部123b,124b
についての、受光状態か遮光状態かの判断は、前記搬送
制御部の基板保持状態検出手段において、各受光部12
3b,124bの受光量に応じた出力信号と所定の受光
量に相当する基準値とを比較することによって行なう。
についての、受光状態か遮光状態かの判断は、前記搬送
制御部の基板保持状態検出手段において、各受光部12
3b,124bの受光量に応じた出力信号と所定の受光
量に相当する基準値とを比較することによって行なう。
【0032】次に、本実施例の動作について図5ないし
図7に示すフローチャートに沿って説明する。
図7に示すフローチャートに沿って説明する。
【0033】図5はカセット本体201がマスクチャン
バ100内にセットされた際に行なう全マスクステージ
205についてのマスク200の有無のチェック動作を
示すフローチャート、図6は露光工程の際のマスク20
0の選択動作を示すフローチャート、図7はマスク20
0のカセット本体201への収納動作を示すフローチャ
ートである。
バ100内にセットされた際に行なう全マスクステージ
205についてのマスク200の有無のチェック動作を
示すフローチャート、図6は露光工程の際のマスク20
0の選択動作を示すフローチャート、図7はマスク20
0のカセット本体201への収納動作を示すフローチャ
ートである。
【0034】まず、所定のマスク200を収納したカセ
ット本体201を、カセットカバー206で覆って密閉
した状態でマスクチャンバ100内のカセット台102
上に載置する。この状態で、カセット本体201の各マ
スクステージ205には所定のマスク200がセットさ
れていなければならず、また、全マスクステージ205
に対して常にマスク200がセットされるとは限らない
ため、前記各マスクステージ205に対するマスク20
0の正常なセット状態を示すマスクカセットデータが搬
送制御部のデータ記憶部に予め格納されている。
ット本体201を、カセットカバー206で覆って密閉
した状態でマスクチャンバ100内のカセット台102
上に載置する。この状態で、カセット本体201の各マ
スクステージ205には所定のマスク200がセットさ
れていなければならず、また、全マスクステージ205
に対して常にマスク200がセットされるとは限らない
ため、前記各マスクステージ205に対するマスク20
0の正常なセット状態を示すマスクカセットデータが搬
送制御部のデータ記憶部に予め格納されている。
【0035】前記カセット本体201をカセット台10
2上に載置すると、該カセット台102上に設けられて
いるカバーロックユニット106,112によってカセ
ットカバー206を前記カセット台102に固定する。
さらに、前記カセット台102はカセットロックユニッ
ト107によって、カセット本体201とカセットカバ
ー206とのロック状態を解除するとともに、カセット
本体201を回転テーブル104に固定する。
2上に載置すると、該カセット台102上に設けられて
いるカバーロックユニット106,112によってカセ
ットカバー206を前記カセット台102に固定する。
さらに、前記カセット台102はカセットロックユニッ
ト107によって、カセット本体201とカセットカバ
ー206とのロック状態を解除するとともに、カセット
本体201を回転テーブル104に固定する。
【0036】つづいて、マスクカセットエレベータ10
3を動作させ、回転テーブル104とともに前記カセッ
ト本体201を押上げて該カセット本体201をインデ
クサ突当て部117に押当てる。
3を動作させ、回転テーブル104とともに前記カセッ
ト本体201を押上げて該カセット本体201をインデ
クサ突当て部117に押当てる。
【0037】この状態で、前記カセット本体201はイ
ンデクサ突当て部117に押当てられた際、該インデク
サ突当て部117に形成されているボス119と位置決
めピン118とによって、Y軸方向と該Y軸を軸とする
回転方向とについて位置決めされたこととなり、各マス
クステージ205についてのマスク200の有無のチェ
ックを開始する(S401)。
ンデクサ突当て部117に押当てられた際、該インデク
サ突当て部117に形成されているボス119と位置決
めピン118とによって、Y軸方向と該Y軸を軸とする
回転方向とについて位置決めされたこととなり、各マス
クステージ205についてのマスク200の有無のチェ
ックを開始する(S401)。
【0038】最初に、インデクサ105を動作させてカ
セット本体201を回転させ、各マスクステージ205
を順に選択位置へ移動させる(S402)。そして、選
択位置にあるマスク200についての、マスク位置検出
センサの出力、すなわち受光部123b、124bの出
力信号に基づいて(S403)、マスクステージ205
におけるマスク200の有無をチェックする(S40
4、S405)。
セット本体201を回転させ、各マスクステージ205
を順に選択位置へ移動させる(S402)。そして、選
択位置にあるマスク200についての、マスク位置検出
センサの出力、すなわち受光部123b、124bの出
力信号に基づいて(S403)、マスクステージ205
におけるマスク200の有無をチェックする(S40
4、S405)。
【0039】このマスク200の有無のチェックについ
ては、まず、ステップS404において、第1受光部1
23bが受光状態で、かつ第2受光部124bが遮光状
態(第1の状態)であるか否かをそれぞれの出力信号か
ら調べ、第1の状態となっていれば、選択位置にあるマ
スクステージ205はマスク200を保持しており、か
つ、該マスク200はマスクステージ205上にて正規
の位置に保持されているものと判断する。一方、各受光
部123b,124bの出力信号が前記第1の状態を示
していなければ、つづいて、ステップS405におい
て、第1受光部123bが受光状態で、かつ第2受光部
124bが受光状態(第3の状態)であるか否かを、同
様にして調べる。その結果、各受光部123b,124
bの出力信号が前記第3の状態を示していれば、選択位
置にあるマスクステージ205はマスク200を保持し
ていないと判断する。
ては、まず、ステップS404において、第1受光部1
23bが受光状態で、かつ第2受光部124bが遮光状
態(第1の状態)であるか否かをそれぞれの出力信号か
ら調べ、第1の状態となっていれば、選択位置にあるマ
スクステージ205はマスク200を保持しており、か
つ、該マスク200はマスクステージ205上にて正規
の位置に保持されているものと判断する。一方、各受光
部123b,124bの出力信号が前記第1の状態を示
していなければ、つづいて、ステップS405におい
て、第1受光部123bが受光状態で、かつ第2受光部
124bが受光状態(第3の状態)であるか否かを、同
様にして調べる。その結果、各受光部123b,124
bの出力信号が前記第3の状態を示していれば、選択位
置にあるマスクステージ205はマスク200を保持し
ていないと判断する。
【0040】一方、各受光部123b,124bの出力
信号が前記第3の状態を示していなければ、選択位置に
あるマスクステージ205はマスク200を保持してい
るが、該マスク200が正規の位置に保持されていない
として、マスク取付不良と判断する(S408)。この
場合、後工程の、マスクハンド116によるマスク20
0の搬送時に、該マスク200を把持できない可能性が
あるので、マスク取付不良の通知等のエラー処理を行な
う(S410)。
信号が前記第3の状態を示していなければ、選択位置に
あるマスクステージ205はマスク200を保持してい
るが、該マスク200が正規の位置に保持されていない
として、マスク取付不良と判断する(S408)。この
場合、後工程の、マスクハンド116によるマスク20
0の搬送時に、該マスク200を把持できない可能性が
あるので、マスク取付不良の通知等のエラー処理を行な
う(S410)。
【0041】前記ステップS404あるいはステップS
405において、選択位置のマスクステージ205に
て、マスク200を正規の位置に保持しているか、ある
いはマスク200を保持していないと判断した場合、そ
の結果と、前記選択位置のマスクステージ205に関る
マスクカセットデータとを比較して一致するか否か調べ
る(S406)。ここでは、マスクカセットデータが、
マスク200を保持しているべき状態を示しているにも
かかわらず、選択位置のマスクステージ205が実際に
はマスク200を保持していない場合、あるいは、マス
クカセットデータが、マスク200を保持しない状態を
示しているにもかかわらず、選択位置のマスクステージ
205が実際にはマスク200を保持している場合、前
記ステップS404あるいはステップS405の結果と
マスクカセットデータの内容とが不一致となっているた
め、マスク200のカセット本体201へのセットの際
のミスやカセット本体201の搬送中のマスク200の
脱落等が生じたものとしてマスクセット不良と判断し
(S409)、マスクセット不良の通知等のエラー処理
を行なう(S410)。このときのエラー処理では、マ
スクチャンバ100内でのマスク200の脱落の可能性
があるので、前記マスクチャンバ100の点検窓(不図
示)を開けて、内部の状態を確認し、必要に応じて脱落
マスクの撤去作業を行なう。その後、マスクカセットエ
レベータ103を動作させてカセット本体201を下降
し、該カセット本体201の取出しシーケンスを行な
う。
405において、選択位置のマスクステージ205に
て、マスク200を正規の位置に保持しているか、ある
いはマスク200を保持していないと判断した場合、そ
の結果と、前記選択位置のマスクステージ205に関る
マスクカセットデータとを比較して一致するか否か調べ
る(S406)。ここでは、マスクカセットデータが、
マスク200を保持しているべき状態を示しているにも
かかわらず、選択位置のマスクステージ205が実際に
はマスク200を保持していない場合、あるいは、マス
クカセットデータが、マスク200を保持しない状態を
示しているにもかかわらず、選択位置のマスクステージ
205が実際にはマスク200を保持している場合、前
記ステップS404あるいはステップS405の結果と
マスクカセットデータの内容とが不一致となっているた
め、マスク200のカセット本体201へのセットの際
のミスやカセット本体201の搬送中のマスク200の
脱落等が生じたものとしてマスクセット不良と判断し
(S409)、マスクセット不良の通知等のエラー処理
を行なう(S410)。このときのエラー処理では、マ
スクチャンバ100内でのマスク200の脱落の可能性
があるので、前記マスクチャンバ100の点検窓(不図
示)を開けて、内部の状態を確認し、必要に応じて脱落
マスクの撤去作業を行なう。その後、マスクカセットエ
レベータ103を動作させてカセット本体201を下降
し、該カセット本体201の取出しシーケンスを行な
う。
【0042】一方、前記ステップS406において、ス
テップS404あるいはステップS405の結果とマス
クカセットデータの内容とが一致した場合、現在選択位
置にあるマスクステージ205についてのチェックを終
了し、次のマスクステージ205のチェックを行なうた
め、前記ステップS402以降を繰返し、これを全ての
マスクステージ205について行なう(S407)。
テップS404あるいはステップS405の結果とマス
クカセットデータの内容とが一致した場合、現在選択位
置にあるマスクステージ205についてのチェックを終
了し、次のマスクステージ205のチェックを行なうた
め、前記ステップS402以降を繰返し、これを全ての
マスクステージ205について行なう(S407)。
【0043】以上で、各マスクステージ205について
のマスク200の有無のチェックを終了し、つづいて露
光のためのマスク200の選択動作を行なう。
のマスク200の有無のチェックを終了し、つづいて露
光のためのマスク200の選択動作を行なう。
【0044】まず、インデクサ105を動作させて、所
望のマスク200が保持されているマスクステージ20
5を選択位置に移動させる(S501)。
望のマスク200が保持されているマスクステージ20
5を選択位置に移動させる(S501)。
【0045】その後、各受光部123b,124bの出
力信号を取込んで(S502)、つづくステップS50
3〜S505において、選択位置にあるマスクステージ
205でのマスク200の保持状態をチェックする。
力信号を取込んで(S502)、つづくステップS50
3〜S505において、選択位置にあるマスクステージ
205でのマスク200の保持状態をチェックする。
【0046】この保持状態のチェックにおいては、最初
に、ステップS503で、第1受光部123b、第2受
光部124b共に受光状態(第3の状態)か否か調べ
る。その結果、第1受光部123b、第2受光部124
bの出力信号が前記第3の状態を示していれば、マスク
ステージ205上にマスク200が保持されておらず、
マスク200が落下したものと判断して、マスク落下の
通知等のマスク落下エラー処理(S507)を行なう。
に、ステップS503で、第1受光部123b、第2受
光部124b共に受光状態(第3の状態)か否か調べ
る。その結果、第1受光部123b、第2受光部124
bの出力信号が前記第3の状態を示していれば、マスク
ステージ205上にマスク200が保持されておらず、
マスク200が落下したものと判断して、マスク落下の
通知等のマスク落下エラー処理(S507)を行なう。
【0047】一方、各受光部123b,124bの出力
信号が前記第3の状態を示していなければ、つづくステ
ップS504において、各受光部123b,124b共
に遮光状態(第2の状態)か否かを調べる。その結果、
各受光部123b,124bの出力信号が前記第2の状
態を示していれば、マスクステージ205上でマスク2
00が位置ずれしていると判断し、マスクハンド116
による取出しの際、マスク200を把持できない可能性
があるので、マスク位置ずれの通知等のマスク位置ずれ
エラー処理(S508)を行なう。
信号が前記第3の状態を示していなければ、つづくステ
ップS504において、各受光部123b,124b共
に遮光状態(第2の状態)か否かを調べる。その結果、
各受光部123b,124bの出力信号が前記第2の状
態を示していれば、マスクステージ205上でマスク2
00が位置ずれしていると判断し、マスクハンド116
による取出しの際、マスク200を把持できない可能性
があるので、マスク位置ずれの通知等のマスク位置ずれ
エラー処理(S508)を行なう。
【0048】また、各受光部123b,124bの出力
信号が前記第2の状態を示していなければ、つづくステ
ップS505にて、第1受光部123bが受光状態で、
かつ第2受光部124bが遮光状態(第1の状態)か否
か調べる。その結果、各受光部123b,124bの出
力信号が第1の状態を示すものでなければ、第1受光部
123bが遮光状態で、かつ第2受光部124bが受光
状態か否か調べるが(S509)、本実施例の構成にお
いて、基板位置検知センサがそのような状態となること
は考えられないので、仮りに第1受光部123bが遮光
状態で第2受光部124bが受光状態であった場合は、
基板位置検知センサの異常と判断して、装置を停止して
装置点検等の基板位置検知センサエラー処理(S51
0)を行なう。
信号が前記第2の状態を示していなければ、つづくステ
ップS505にて、第1受光部123bが受光状態で、
かつ第2受光部124bが遮光状態(第1の状態)か否
か調べる。その結果、各受光部123b,124bの出
力信号が第1の状態を示すものでなければ、第1受光部
123bが遮光状態で、かつ第2受光部124bが受光
状態か否か調べるが(S509)、本実施例の構成にお
いて、基板位置検知センサがそのような状態となること
は考えられないので、仮りに第1受光部123bが遮光
状態で第2受光部124bが受光状態であった場合は、
基板位置検知センサの異常と判断して、装置を停止して
装置点検等の基板位置検知センサエラー処理(S51
0)を行なう。
【0049】一方、上記ステップS509において、第
1受光部123bが遮光状態で、かつ第2受光部124
bが受光状態でなければ、再度、各受光部123b,1
24bの出力信号を取込んで前記ステップS502以降
を繰返す。
1受光部123bが遮光状態で、かつ第2受光部124
bが受光状態でなければ、再度、各受光部123b,1
24bの出力信号を取込んで前記ステップS502以降
を繰返す。
【0050】また、前記ステップS505において、第
1受光部123bが受光状態で、第2受光部124bが
遮光状態であれば、選択位置にあるマスク200はマス
クステージ205にて正規の位置に保持されているもの
と判断する。
1受光部123bが受光状態で、第2受光部124bが
遮光状態であれば、選択位置にあるマスク200はマス
クステージ205にて正規の位置に保持されているもの
と判断する。
【0051】上述のようにしてマスク200が正規の位
置に保持されていると判断されると、マスクハンド11
6を動作させ、前記選択位置にあるマスク200を、把
持して露光用マスクステージ(不図示)へ搬送する(S
506)。
置に保持されていると判断されると、マスクハンド11
6を動作させ、前記選択位置にあるマスク200を、把
持して露光用マスクステージ(不図示)へ搬送する(S
506)。
【0052】そして、前記マスク200についての露光
が終了すると、マスク200を、再びマスクハンド11
6によって前記露光用マスクステージからカセット本体
201へ収納する。
が終了すると、マスク200を、再びマスクハンド11
6によって前記露光用マスクステージからカセット本体
201へ収納する。
【0053】このマスク200を収納する際は、まず、
インデクサ105を動作させ、マスクカセットデータに
基づいて前記カセット本体201を回転させてマスク2
00を保持していない空き状態のマスクステージ205
を選択位置へ移動させる(S601)。マスク200を
保持していないマスクステージ205を選択位置へ移動
させた後、各受光部123b,124bの出力信号を取
込んで(S601)、選択位置にあるマスクステージ2
05が空き状態か否かの確認を行なう(S602)。こ
の確認においては、前記各受光部123b,124bが
共に受光状態(第3の状態)であるか否かを調べること
によって行ない、前記各受光部123b,124bの出
力信号が前記第3の状態を示していなければ、選択位置
にあるマスクステージ205はマスク200を保持して
いると考えられ、前記マスクカセットデータが誤ってい
るものと判断して、再度、マスクカセットデータをチェ
ックするなどのエラー処理を行なう(S608)。
インデクサ105を動作させ、マスクカセットデータに
基づいて前記カセット本体201を回転させてマスク2
00を保持していない空き状態のマスクステージ205
を選択位置へ移動させる(S601)。マスク200を
保持していないマスクステージ205を選択位置へ移動
させた後、各受光部123b,124bの出力信号を取
込んで(S601)、選択位置にあるマスクステージ2
05が空き状態か否かの確認を行なう(S602)。こ
の確認においては、前記各受光部123b,124bが
共に受光状態(第3の状態)であるか否かを調べること
によって行ない、前記各受光部123b,124bの出
力信号が前記第3の状態を示していなければ、選択位置
にあるマスクステージ205はマスク200を保持して
いると考えられ、前記マスクカセットデータが誤ってい
るものと判断して、再度、マスクカセットデータをチェ
ックするなどのエラー処理を行なう(S608)。
【0054】一方、前記ステップS603の確認におい
て、各受光部123b,124bの出力信号が前記第3
の状態を示していれば、選択位置にあるマスクステージ
205はマスク200を保持していないものと判断し
て、該マスクステージ205へのマスク200の受渡し
を始める。
て、各受光部123b,124bの出力信号が前記第3
の状態を示していれば、選択位置にあるマスクステージ
205はマスク200を保持していないものと判断し
て、該マスクステージ205へのマスク200の受渡し
を始める。
【0055】この場合、まず、マスク200を把持した
マスクハンド116を移動させて、前記マスク200
を、選択位置にあるマスクステージ205上のVブロッ
ク207に押しつける(S604)。これによって前記
マスク200はマスクステージ205上で位置決めさ
れ、この状態でマスクステージ205のマスクチャック
を吸着状態にすることで、前記マスク200はマスクス
テージ205上において正規の位置に吸着保持される
(S605)。マスクステージ205によってマスク2
00を吸着保持すると、マスクハンド116によるマス
ク200の把持状態を解除し、該マスクハンド116
を、マスク200から遠ざかる方向へ移動させて、所定
の、マスク保持状態確認位置へ停止させる。このとき、
各投光部123a,124aが発する投光ビームPA ,
PB は、前記マスクハンド116のビーム穴116dを
通過することになり、該マスクハンド116によって、
前記投光ビームPA ,PB が遮られることはない。
マスクハンド116を移動させて、前記マスク200
を、選択位置にあるマスクステージ205上のVブロッ
ク207に押しつける(S604)。これによって前記
マスク200はマスクステージ205上で位置決めさ
れ、この状態でマスクステージ205のマスクチャック
を吸着状態にすることで、前記マスク200はマスクス
テージ205上において正規の位置に吸着保持される
(S605)。マスクステージ205によってマスク2
00を吸着保持すると、マスクハンド116によるマス
ク200の把持状態を解除し、該マスクハンド116
を、マスク200から遠ざかる方向へ移動させて、所定
の、マスク保持状態確認位置へ停止させる。このとき、
各投光部123a,124aが発する投光ビームPA ,
PB は、前記マスクハンド116のビーム穴116dを
通過することになり、該マスクハンド116によって、
前記投光ビームPA ,PB が遮られることはない。
【0056】この状態で選択位置にあるマスクステージ
205によるマスク200の保持状態の確認を行なう
(S606)。
205によるマスク200の保持状態の確認を行なう
(S606)。
【0057】この保持状態の確認は、前述したマスク2
00の選択動作の際の保持状態のチェックと同様に行な
うもので、図5に示したフローチャートにおいて、ステ
ップS502からステップS505にてマスク200が
正規の位置に確認されるまでを実行する。これによっ
て、前記選択位置にあるマスク200がマスクステージ
205において正規の位置に保持されているものと確認
されると、マスク200のカセット本体201への受渡
しが完了したものとして、前記マスクハンド116を所
定の待機位置へ移動させる(S607)。
00の選択動作の際の保持状態のチェックと同様に行な
うもので、図5に示したフローチャートにおいて、ステ
ップS502からステップS505にてマスク200が
正規の位置に確認されるまでを実行する。これによっ
て、前記選択位置にあるマスク200がマスクステージ
205において正規の位置に保持されているものと確認
されると、マスク200のカセット本体201への受渡
しが完了したものとして、前記マスクハンド116を所
定の待機位置へ移動させる(S607)。
【0058】次に、本発明の他の実施例について図8な
いし図10を参照して説明する。
いし図10を参照して説明する。
【0059】図8は本実施例のマスク収納装置の一部を
破断した斜視図、図9は本実施例の基板位置検知センサ
を示す平面図、図10は基板位置検知センサの受光状態
とマスク保持状態との関係を示す図である。
破断した斜視図、図9は本実施例の基板位置検知センサ
を示す平面図、図10は基板位置検知センサの受光状態
とマスク保持状態との関係を示す図である。
【0060】本実施例のマスク収納装置では、基板位置
検知センサとして、図9に示すように、光源703およ
びコリメータレンズ704から成る投光部701と一次
元ラインセンサから成る受光部702とを用い、それぞ
れ、図8に示すように、マスクチャンバ内のインデクサ
ベース101に固定した2つの支持台121a,122
aに、互いに対向するように取付けられている。なお、
図8および図9において前述した実施例と同じ構成につ
いては同一符号を付している。
検知センサとして、図9に示すように、光源703およ
びコリメータレンズ704から成る投光部701と一次
元ラインセンサから成る受光部702とを用い、それぞ
れ、図8に示すように、マスクチャンバ内のインデクサ
ベース101に固定した2つの支持台121a,122
aに、互いに対向するように取付けられている。なお、
図8および図9において前述した実施例と同じ構成につ
いては同一符号を付している。
【0061】投光部701は、光源703が発する光を
コリメータレンズ704によって平行光の投光ビームP
C として出射し、該投光ビームPC は、カセット本体2
01の選択位置にあるマスク200の外縁に照射され
る。本実施例では、投光ビームPC は、前記マスク20
0のX方向の直径上にある外縁が前記投光ビームPC の
略中央に位置するように前記マスク200に照射され
る。また、前記受光部702は、前記投光部701に対
向してX方向と平行に取付けられており、前記カセット
本体201の選択位置にあるマスクステージ205にマ
スク200が保持されていない場合、前記投光ビームP
C が全ての画素に照射される。
コリメータレンズ704によって平行光の投光ビームP
C として出射し、該投光ビームPC は、カセット本体2
01の選択位置にあるマスク200の外縁に照射され
る。本実施例では、投光ビームPC は、前記マスク20
0のX方向の直径上にある外縁が前記投光ビームPC の
略中央に位置するように前記マスク200に照射され
る。また、前記受光部702は、前記投光部701に対
向してX方向と平行に取付けられており、前記カセット
本体201の選択位置にあるマスクステージ205にマ
スク200が保持されていない場合、前記投光ビームP
C が全ての画素に照射される。
【0062】ここで、前記基板位置検知センサによるマ
スク200の保持状態の確認について説明する。
スク200の保持状態の確認について説明する。
【0063】前記基板位置検知センサの受光部702で
は、選択位置のマスクステージ205にマスク200が
保持されていると、受光状態の明部と遮光状態の暗部と
を出力信号から検出することができ、その明暗の変化部
分が前記マスク200の外縁位置となる。本実施例では
前記外縁位置のX座標を求めることによって、前記マス
クステージ205におけるマスク200の保持状態を確
認する。
は、選択位置のマスクステージ205にマスク200が
保持されていると、受光状態の明部と遮光状態の暗部と
を出力信号から検出することができ、その明暗の変化部
分が前記マスク200の外縁位置となる。本実施例では
前記外縁位置のX座標を求めることによって、前記マス
クステージ205におけるマスク200の保持状態を確
認する。
【0064】例えば、図10に示すように、前記受光部
702の中央部の、X方向の取付座標位置をX1 とし、
両端をそれぞれX0 、X2 (X0 <X2 )とすると、選
択位置にあるマスク200がマスクステージ205にて
正規の位置に保持されていれば、前記受光部702の明
暗の変化部分は略X1 の近傍に検出される。また、前記
マスクステージ205にマスク200が保持されていな
ければ、前記受光部702は全域受光状態となり、図1
0の非保持状態に示すように明部のみとなってマスク2
00の外縁位置は検出されない。さらに、前記マスクス
テージ205にてマスク200が位置ずれして保持され
ている場合は、明暗の変化部分が位置ずれの度合いに応
じて、X座標X1 とX2 の間に移動して検出される。前
記マスクステージ205においてマスク200を保持し
た状態での最大位置ずれの場合、前記受光部702の受
光量に相当する出力は最小となる。
702の中央部の、X方向の取付座標位置をX1 とし、
両端をそれぞれX0 、X2 (X0 <X2 )とすると、選
択位置にあるマスク200がマスクステージ205にて
正規の位置に保持されていれば、前記受光部702の明
暗の変化部分は略X1 の近傍に検出される。また、前記
マスクステージ205にマスク200が保持されていな
ければ、前記受光部702は全域受光状態となり、図1
0の非保持状態に示すように明部のみとなってマスク2
00の外縁位置は検出されない。さらに、前記マスクス
テージ205にてマスク200が位置ずれして保持され
ている場合は、明暗の変化部分が位置ずれの度合いに応
じて、X座標X1 とX2 の間に移動して検出される。前
記マスクステージ205においてマスク200を保持し
た状態での最大位置ずれの場合、前記受光部702の受
光量に相当する出力は最小となる。
【0065】上述のように、受光部702であるライン
センサの出力信号を検出することにより、前述の実施例
と同様に、マスク200の有無のチェック、マスク20
0の選択動作時の保持状態のチェックおよびマスク20
0の収納動作時の保持状態のチェックを行なうことがで
きる。
センサの出力信号を検出することにより、前述の実施例
と同様に、マスク200の有無のチェック、マスク20
0の選択動作時の保持状態のチェックおよびマスク20
0の収納動作時の保持状態のチェックを行なうことがで
きる。
【0066】上述のように、受光部としてラインセンサ
を用いてマスクの外縁を検出した場合、マスクの位置ず
れ量も検出することが可能となり、該位置ずれ量に応じ
てマスクハンドへの受渡しが可能か否かを判断すること
もできる。
を用いてマスクの外縁を検出した場合、マスクの位置ず
れ量も検出することが可能となり、該位置ずれ量に応じ
てマスクハンドへの受渡しが可能か否かを判断すること
もできる。
【0067】本実施例において、前記投光ビームPC の
断面は円形あるいは矩形の何れでもよい。また、基板位
置検知センサの受光部としては、ラインセンサの他に、
所望の長さの受光エリアを有するPSD(Photo Sensit
ive Detect)センサでも同様な効果を得ることができ
る。
断面は円形あるいは矩形の何れでもよい。また、基板位
置検知センサの受光部としては、ラインセンサの他に、
所望の長さの受光エリアを有するPSD(Photo Sensit
ive Detect)センサでも同様な効果を得ることができ
る。
【0068】前述した各実施例では基板として半導体露
光用のマスクを複数枚収納可能な基板収納装置について
説明したが、本発明はそれに限定されるものでなく、基
板を一枚のみ収納するもの、あるいは、複数枚収納可能
であって同一形状の複数の基板を同じ形態で収納するも
のであれば同様な効果を得ることができる。
光用のマスクを複数枚収納可能な基板収納装置について
説明したが、本発明はそれに限定されるものでなく、基
板を一枚のみ収納するもの、あるいは、複数枚収納可能
であって同一形状の複数の基板を同じ形態で収納するも
のであれば同様な効果を得ることができる。
【0069】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので下記のような効果を奏する。 (1) 保持ステージにおいて基板が所定の位置に保持され
ているか否かを判断することができるので、基板搬送装
置への基板の受渡しミスあるいは基板搬送装置による基
板の保持ステージへの受渡しミスを未然に防ぐことが可
能で、受渡し動作時の基板落下による基板あるいは装置
の破損を防止することができ、安全性が向上する。 (2) 保持ステージについて基板の有無も検知することが
可能であるので、カセット運搬時等の衝撃による基板の
落下に対して迅速に対処でき、装置の被害を最小に抑え
ることができる。 (3) 請求項5に記載のもののように、透過型センサの受
光部にラインセンサを用いた場合、保持ステージの保持
状態のみならず基板の位置ずれ量を検出することができ
るため、基板搬送装置への基板受渡し時のより細かい制
御が簡単な構成で可能となる。 (4) 請求項7に記載したもののように、近接する透過型
センサの投光ビームが互いに反対方向に発射されるよう
に投光部を配置した場合、一方の透過型センサの受光部
に対する、他方の透過型センサの投光ビームの悪影響が
防止されるので、正確な外縁位置を検知することが可能
となる。
ているので下記のような効果を奏する。 (1) 保持ステージにおいて基板が所定の位置に保持され
ているか否かを判断することができるので、基板搬送装
置への基板の受渡しミスあるいは基板搬送装置による基
板の保持ステージへの受渡しミスを未然に防ぐことが可
能で、受渡し動作時の基板落下による基板あるいは装置
の破損を防止することができ、安全性が向上する。 (2) 保持ステージについて基板の有無も検知することが
可能であるので、カセット運搬時等の衝撃による基板の
落下に対して迅速に対処でき、装置の被害を最小に抑え
ることができる。 (3) 請求項5に記載のもののように、透過型センサの受
光部にラインセンサを用いた場合、保持ステージの保持
状態のみならず基板の位置ずれ量を検出することができ
るため、基板搬送装置への基板受渡し時のより細かい制
御が簡単な構成で可能となる。 (4) 請求項7に記載したもののように、近接する透過型
センサの投光ビームが互いに反対方向に発射されるよう
に投光部を配置した場合、一方の透過型センサの受光部
に対する、他方の透過型センサの投光ビームの悪影響が
防止されるので、正確な外縁位置を検知することが可能
となる。
【図1】本発明の基板収納装置の一実施例の一部を破断
した斜視図である。
した斜視図である。
【図2】本発明の基板収納装置に収納されたマスクカセ
ットの一例を示す斜視図である。
ットの一例を示す斜視図である。
【図3】図2に示すマスクカセットの断面図である。
【図4】基板位置検知センサの一例を示す模式平面図で
ある。
ある。
【図5】マスクカセットの各マスクステージについての
マスクの有無のチェック動作を示すフローチャートであ
る。
マスクの有無のチェック動作を示すフローチャートであ
る。
【図6】露光工程の際のマスクの選択動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図7】マスクカセットへのマスクの収納動作を示すフ
ローチャートである。
ローチャートである。
【図8】本発明の基板収納装置の他の実施例を示す斜視
図である。
図である。
【図9】基板位置検知センサの他の例を示す模式平面図
である。
である。
【図10】基板位置検知センサの受光部の受光量とマス
クの保持状態との関係を示す図である。
クの保持状態との関係を示す図である。
【図11】従来の基板収納装置の一例を示す斜視図であ
る。
る。
【図12】従来の基板収納装置に収納したマスクカセッ
トを示す断面図である。
トを示す断面図である。
【符号の説明】 100 マスクチャンバ 101 インデクサベース 102 カセット台 103 マスクカセットエレベータ 104 回転テーブル 105 インデクサ 106,112 カバーロックユニット 107 カセットロックユニット 108 エレベータ通路 109 送りねじ 110 エレベータモータ 111 エレベータロッド 113 インデクサ出力軸 114 メインチャンバ 115 ゲート弁 116 マスクハンド 116a,116b フィンガー部 116c 基部 116d ビーム穴 116e アーム部 117 インデクサ突当て部 118 位置決めピン 119 ボス 120 コネクティングユニット 121,122,121a,122a 支持台 123a,124a,701 投光部 123b,124b,702 受光部 200 マスク 201 カセット本体 202 上フランジ 203 下フランジ 204 円筒体 205 マスクステージ 206 カセットカバー 207 Vブロック 703 光源 704 コリメータレンズ
Claims (7)
- 【請求項1】 基板を吸着するためのチャックと前記基
板の位置決めのための位置決め手段とが設けられて前記
基板を縦置に吸着保持する保持ステージを備えた基板カ
セットが収納された基板収納装置において、 前記保持ステージが吸着保持している基板の外縁位置を
検知する基板位置検知センサを有することを特徴とする
基板収納装置。 - 【請求項2】 基板カセットが複数の保持ステージを備
えており、 該基板カセットの、所望の基板を吸着保持している保持
ステージを選択して該保持ステージを所定の選択位置へ
移動させる基板選択手段を有し、 基板位置検知センサは前記選択位置に移動された保持ス
テージが吸着保持している基板の外縁位置を検知するこ
とを特徴とする請求項1記載の基板収納装置。 - 【請求項3】 基板位置検知センサが検知した前記基板
の外縁位置から、該基板が保持ステージの所定の位置に
吸着保持されているか否かの保持状態を検出する基板保
持状態検出手段を有することを特徴とする請求項1また
は2記載の基板収納装置。 - 【請求項4】 基板位置検知センサが、投光部と、該投
光部に対する受光部との透過型センサで構成され、 基板保持状態検出手段は前記受光部の受光量に応じた出
力信号に基づいて保持状態を検出することを特徴とする
請求項3記載の基板収納装置。 - 【請求項5】 透過型センサの受光部がラインセンサで
あることを特徴とする請求項4記載の基板収納装置。 - 【請求項6】 基板位置検知手段が複数の透過型センサ
から成ることを特徴とする請求項4記載の基板収納装
置。 - 【請求項7】 複数の透過型センサのうち近接する透過
型センサは、それらの投光ビームが互いに反対方向に発
射されるように投光部が配置されていることを特徴とす
る請求項6記載の基板収納装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4136513A JPH05335400A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 基板収納装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4136513A JPH05335400A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 基板収納装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05335400A true JPH05335400A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15176932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4136513A Pending JPH05335400A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 基板収納装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05335400A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003077981A (ja) * | 2002-05-30 | 2003-03-14 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
JP2010045071A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-25 | Nikon Corp | 検知装置、基板保持部材、搬送装置および接合装置 |
JP2018029210A (ja) * | 2017-11-21 | 2018-02-22 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ロードポート及びウエハマッピング装置 |
CN112162461A (zh) * | 2015-01-26 | 2021-01-01 | 株式会社尼康 | 光罩箱、保管装置及方法、搬送装置及方法、及曝光装置 |
-
1992
- 1992-05-28 JP JP4136513A patent/JPH05335400A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003077981A (ja) * | 2002-05-30 | 2003-03-14 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及び処理方法 |
JP2010045071A (ja) * | 2008-08-08 | 2010-02-25 | Nikon Corp | 検知装置、基板保持部材、搬送装置および接合装置 |
CN112162461A (zh) * | 2015-01-26 | 2021-01-01 | 株式会社尼康 | 光罩箱、保管装置及方法、搬送装置及方法、及曝光装置 |
JP2018029210A (ja) * | 2017-11-21 | 2018-02-22 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | ロードポート及びウエハマッピング装置 |
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