JPH05314471A - Substrate for magnetic recording medium and manufacture of the same and magnetic recording medium - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To improve corrosion resistance by providing a specific magnetic electroless plating layer having the particular surface roughness on a substrate. CONSTITUTION:Non-magnetic electroless plating layers (electroless NiP plating layer 2, acidic layer 4 and protection layer 5) are sequentially provided on a glass substrate 1 having the surface roughness where the maximum height (Rmax) is 500Angstrom or less. In order to obtain good magnetic characteristic of the layer 4, a magnetic base layer 3 is provided and a lubricant layer 6 is provided on the upper most surface. The layers 3, 4, 5 are formed by the sputtering method. Thickness of the layer 3 is about 500 to 3000Angstrom . It is preferable that the surface roughness of the substrate 1 is set to 150 to 500Angstrom in the maximum height and desirably to 150 to 400Angstrom , except for the case where the projected and recessed metal layers are formed at the surface. The total thickness of respective layers is preferably set to the thickness where the maximum height of the surface of the magnetic recording medium is maintained within the range of 150 to 400Angstrom . The layer 2 has the thickness of about 1000 to 20000Angstrom , while the layer 3 about 500 to 3000Angstrom , the layer 4 about 300 to 1000Angstrom , the layer 5 about 50 to 500Angstrom and the layer 6 about 5 to 100Angstrom . Thereby, durability and corrosion resistance can be improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体用基板お
よびその製造方法ならびに磁気記録媒体に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium substrate, a method of manufacturing the same, and a magnetic recording medium.

【０００２】[0002]

【従来の技術】薄膜金属型磁気記録媒体は、基板の上に
磁性層、保護層、潤滑層を順次に設けて構成される。そ
して、磁気記録媒体用の基板としては、表面に非磁性無
電解メッキ層（無電解ＮｉＰメッキ層）を設けたアルミ
合金基板が汎用されている。従来より、磁気記録媒体の
高密度化の要求に伴い、記録再生時におけるヘッドの磁
気記録媒体からの浮上高さを低くすることが要求されて
いる。ヘッドの安定浮上高さは、現時点では１０００Å
乃至７５０Åが限界である。そして、一層の高密度記録
化のためには５００Å以下が要求されているが、未だ達
成できていない。2. Description of the Related Art A thin film metal magnetic recording medium is constructed by sequentially providing a magnetic layer, a protective layer and a lubricating layer on a substrate. As a substrate for a magnetic recording medium, an aluminum alloy substrate having a non-magnetic electroless plating layer (electroless NiP plating layer) on its surface is widely used. 2. Description of the Related Art Conventionally, with the demand for higher density of magnetic recording media, it has been required to reduce the flying height of the head from the magnetic recording medium during recording and reproduction. The stable flying height of the head is currently 1000Å
The limit is 750 Å. Further, for further high density recording, 500 Å or less is required, but it has not been achieved yet.

【０００３】ヘッドが低い浮上高さで安定に飛行するた
めには、磁気記録媒体表面にヘッドの浮上高さより大き
な突起があってはならず、そして、ヘッドの低い浮上高
さを確保するため、磁気記録媒体の表面粗さを小さくす
ることが検討されている。しかしながら、現行のウイン
チェスタータイプの磁気記録装置は、停止時にヘッドが
磁気記録媒体と接触する機構であるため、磁気記録媒体
の表面を平滑にし過ぎた場合は、ヘッドと磁気記録媒体
とが吸着現象を起こすと言う問題がある。In order for the head to fly stably at a low flying height, the surface of the magnetic recording medium should not have protrusions larger than the flying height of the head, and in order to ensure a low flying height of the head, Studies have been made to reduce the surface roughness of magnetic recording media. However, the current Winchester type magnetic recording device has a mechanism in which the head comes into contact with the magnetic recording medium at the time of stop. Therefore, if the surface of the magnetic recording medium is excessively smoothed, the head and the magnetic recording medium may be attracted to each other. There is a problem of causing it.

【０００４】そこで、耐久性を確保し且つヘッドと磁気
記録媒体との吸着を防止して両者間の摩擦力を小さくす
るため、テキスチャー加工により、無電解ＮｉＰメッキ
層の表面に機械的な凹凸を設けたテキスチャー加工基板
が提案されている。しかしながら、テキスチャー加工基
板では低下し得るヘッドの浮上高さには限界があり、５
００Å以下の浮上高さは保証できない。何故ならば、テ
キスチャー加工においては、研磨テープや研磨砥粒によ
り、金属である無電解ＮｉＰメッキ層の表面を処理する
ために、バリの発生による異常突起が生じ易いからであ
る。Therefore, in order to secure the durability and prevent the head and the magnetic recording medium from being attracted to each other to reduce the frictional force between them, mechanical unevenness is formed on the surface of the electroless NiP plating layer by the texture processing. The textured substrate provided is proposed. However, there is a limit to the flying height of the head that can be lowered in the textured substrate.
We cannot guarantee a flying height of less than 00Å. This is because in the texturing process, since the surface of the electroless NiP plating layer made of metal is treated with a polishing tape or abrasive grains, abnormal protrusions due to burrs are likely to occur.

【０００５】近時、特開昭６０−１３６０３５号公報、
特開昭６３−２２５９１９号公報等により、化学的にエ
ッチングしたガラス基板が提案され、更に、特開昭６２
−２５６２１４号公報等により、ガラス基板の上に蒸着
やスパッタ法にてアルミニウム等から成る凹凸の金属層
を形成することが提案されている。しかしながら、特開
昭６３−２６９３１号公報等にて指摘されているよう
に、高湿条件下では、ガラス基板の端部などからアルカ
リ成分が溶出して磁性金属薄膜を腐食させると言う問題
がある。Recently, Japanese Patent Laid-Open No. 60-136035,
A chemically etched glass substrate is proposed in JP-A-63-225919 and the like, and further, in JP-A-62-62919.
No. 256256, etc., it is proposed to form an uneven metal layer made of aluminum or the like on a glass substrate by vapor deposition or sputtering. However, as pointed out in Japanese Patent Laid-Open No. 63-26931 and the like, under high humidity conditions, there is a problem that an alkaline component is eluted from the edge of the glass substrate and corrodes the magnetic metal thin film. ..

【０００６】一方、本発明者等は、先に、ガラス基板を
使用して耐蝕性に優れた磁気記録媒体を提供するため、
平滑なガラス基板に無電解ＮｉＰメッキ層を所定厚みで
設けることを提案した（特願平３−５７０３０号）。し
かしながら、現在の技術において、表面が平滑な磁気記
録媒体は、前述したように、ヘッドの吸着あるいは吸着
にまで達しないまでも大きなスティクションを生じるた
め、実用上耐久性に問題がある。On the other hand, the present inventors previously provided a magnetic recording medium excellent in corrosion resistance by using a glass substrate.
It was proposed to provide an electroless NiP plating layer with a predetermined thickness on a smooth glass substrate (Japanese Patent Application No. 3-57030). However, in the present technology, a magnetic recording medium having a smooth surface has a problem in practical use because it causes a large stiction even if the head is attracted or not attracted as described above.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、耐蝕性に優れ、
ヘッドの吸着が防止でき、しかも、ヘッドの５００Å以
下の浮上高さが安定して得られる磁気記録媒体用基板お
よびその製造方法ならびに磁気記録媒体を提供すること
にある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to have excellent corrosion resistance,
It is an object of the present invention to provide a substrate for a magnetic recording medium, which can prevent the head from being attracted and can stably obtain a flying height of the head of 500 Å or less, a manufacturing method thereof, and a magnetic recording medium.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、磁
気記録媒体用基板およびその製造方法ならびに磁気記録
媒体に関し、各発明の要旨は、次の通りである。本発明
の第１の要旨は、最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Å以下
の表面粗さを有するガラス基板の上に最大高さ（Ｒｍａ
ｘ）が５００Å以下の表面粗さの非磁性無電解メッキ層
を設けて成ることを特徴とする磁気記録媒体用基板に存
する。本発明の第２の要旨は、最大高さ（Ｒｍａｘ）が
５００Å以下の表面粗さを有するガラス基板の感受性化
工程、活性化工程および無電解メッキ工程を順序に設
け、そして、各工程間には水洗工程を設けて成る上記の
磁気記録媒体用基板の製造方法において、活性化工程お
よび無電解メッキ工程の間にガラス基板の乾燥工程を設
けたことを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法に
存する。本発明の第３の要旨は、最大高さ（Ｒｍａｘ）
が５００Å以下の表面粗さを有するガラス基板の上に非
磁性無電解メッキ層、磁性層、保護層および潤滑層を順
次に設けて成り、潤滑層の最大高さ（Ｒｍａｘ）が５０
０Å以下であることを特徴とする磁気記録媒体に存す
る。That is, the present invention relates to a substrate for a magnetic recording medium, a method for manufacturing the same, and a magnetic recording medium, and the gist of each invention is as follows. A first gist of the present invention is that the maximum height (Rmax) is 500 Å or less on a glass substrate having a surface roughness of less than the maximum height (Rma).
x) is a magnetic recording medium substrate characterized by comprising a non-magnetic electroless plating layer having a surface roughness of 500 Å or less. A second gist of the present invention is to provide a sensitizing step, an activating step and an electroless plating step of a glass substrate having a maximum height (Rmax) of a surface roughness of 500 Å or less in order, and between each step. In the above method for manufacturing a magnetic recording medium substrate, which comprises a washing step, a glass substrate drying step is provided between the activation step and the electroless plating step. In the way. The third gist of the present invention is the maximum height (Rmax)
Has a surface roughness of 500 Å or less and a non-magnetic electroless plating layer, a magnetic layer, a protective layer and a lubricating layer are sequentially provided on a glass substrate, and the maximum height (Rmax) of the lubricating layer is 50.
The magnetic recording medium is characterized by being 0 or less.

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。先ず、本
発明の磁気記録媒体用基板およびその製造方法について
説明する。本発明の磁気記録媒体用基板は、最大高さ
（Ｒｍａｘ）が５００Å以下の表面粗さを有するガラス
基板の上に最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Å以下の表面
粗さの無電解ＮｉＰメッキ層を設けて成る。そして、上
記の磁気記録媒体用基板は、最大高さが５００Å以下の
表面粗さを有するガラス基板の感受性化工程、活性化工
程および無電解メッキ工程を順序に設け、そして、各工
程間には水洗工程を設けて成る製造方法において、活性
化工程および無電解メッキ工程の間にガラス基板の乾燥
工程を設けることよって製造することが出来る。The present invention will be described in detail below. First, a magnetic recording medium substrate of the present invention and a method for manufacturing the same will be described. The magnetic recording medium substrate of the present invention comprises an electroless NiP plating layer having a maximum height (Rmax) of 500 Å or less on a glass substrate having a maximum height (Rmax) of 500 Å or less. It is provided. The above-mentioned magnetic recording medium substrate is provided with a sensitizing step, an activating step and an electroless plating step of a glass substrate having a maximum height of 500 Å or less in order, and between each step. In a manufacturing method including a water washing step, the glass substrate can be manufactured by providing a glass substrate drying step between the activation step and the electroless plating step.

【００１０】本発明において、ガラス基板は、ヘッドと
磁気記録媒体との摩擦摩耗の耐久性を向上させるため
に、最大高さが５００Å以下の表面粗さを有するガラス
基板が使用される。上記のガラス基板は、鏡面仕上げさ
れたソーダライム基板またはリチウム系の結晶化ガラス
基板（例えば、日本電気硝子製の商品名「ＭＬ−５」）
等を所定の表面粗さに化学エッチングすることにより得
ることが出来る。また、結晶化と研磨により所定の表面
粗さに制御された結晶化ガラス基板（例えば、米国、コ
ーニング社の商品名「カナサイト」）をそのまま使用す
ることも出来る。なお、ガラス基板の材質は、特に制限
されず、無アルカリガラス基板を所定の表面粗さに化学
エッチングして使用することも出来る。In the present invention, a glass substrate having a maximum height of 500 Å or less is used as the glass substrate in order to improve the durability against frictional wear between the head and the magnetic recording medium. The above-mentioned glass substrate is a soda lime substrate or a lithium-based crystallized glass substrate that has been mirror-finished (for example, a product name "ML-5" manufactured by Nippon Electric Glass).
Etc. can be obtained by chemical etching to a predetermined surface roughness. Alternatively, a crystallized glass substrate whose surface roughness is controlled to a predetermined value by crystallization and polishing (for example, "Canasite", a trade name of Corning Incorporated, USA) can be used as it is. The material of the glass substrate is not particularly limited, and a non-alkali glass substrate may be used after being chemically etched to have a predetermined surface roughness.

【００１１】ガラス基板の表面粗さは、最大高さで１５
０Å〜５００Åの範囲がよい。好ましくは１５０Å〜４
００Åの範囲である。最大高さが１５０Å未満の場合
は、磁気記録媒体とした際にヘッドと磁気記録媒体の間
で吸着力が大きくなる。また、最大高さが５００Åを越
える場合は、磁気記録媒体とした際に５００Å以下の浮
上高さではヘッドが磁気記録媒体の突起に衝突する現象
を生じ、安定なヘッド浮上を確保することが出来ない。
しかしながら、前述した特開昭６２−２５６２１４号公
報等にて提案された方法により、ガラス基板の上に蒸着
やスパッタ法にてアルミニウム等から成る凹凸の金属層
を形成する場合は、鏡面仕上げされたガラス基板を使用
することが出来る。The surface roughness of the glass substrate is 15 at the maximum height.
The range of 0Å to 500Å is good. Preferably 150Å-4
It is in the range of 00Å. When the maximum height is less than 150Å, the attraction force between the head and the magnetic recording medium becomes large when the magnetic recording medium is used. Further, when the maximum height exceeds 500Å, when the magnetic recording medium is used, the head collides with the protrusion of the magnetic recording medium at a flying height of 500Å or less, and stable head flying can be secured. Absent.
However, when the uneven metal layer made of aluminum or the like is formed on the glass substrate by the vapor deposition or the sputtering method by the method proposed in the above-mentioned JP-A-62-256214, etc., it is mirror-finished. A glass substrate can be used.

【００１２】本発明の磁気記録媒体用基板は、順次、感
受性化工程、活性化工程および無電解メッキ工程を通し
て製造される。そして、通常は、感受性化工程の前に
は、脱脂工程が設けられる。また、各工程間には水洗工
程が設けられ、洗浄水としては、イオン交換水または超
純水が適宜使用される。The magnetic recording medium substrate of the present invention is sequentially manufactured through a sensitizing step, an activating step and an electroless plating step. A degreasing step is usually provided before the sensitizing step. Further, a water washing step is provided between each step, and ion-exchanged water or ultrapure water is appropriately used as the washing water.

【００１３】脱脂工程は、ガラス基板の表面を洗浄する
工程であり、例えば、成書「ガラス表面設計」（大場洋
一著、近代編集社）の「ガラスの洗浄方法」に従って行
なうことが出来る。具体的には、超純水を使用する方
法、アルカリ洗浄剤を使用する方法、酸洗浄剤を使用す
る方法、界面活性剤（洗剤）を使用する方法などが挙げ
られる。特に、中性洗剤を使用する方法は、ガラス基板
を損傷することなく十分な脱脂を行なうことが出来るの
で好ましい。The degreasing step is a step of cleaning the surface of the glass substrate, and can be carried out, for example, according to the "glass cleaning method" in the book "Glass surface design" (Yoichi Oba, Modern Editing Co.). Specifically, a method using ultrapure water, a method using an alkaline cleaner, a method using an acid cleaner, a method using a surfactant (detergent), and the like can be mentioned. In particular, the method of using a neutral detergent is preferable because sufficient degreasing can be performed without damaging the glass substrate.

【００１４】感受性化工程および活性化工程は、ガラス
基板に無電解メッキを開始させるために必要な触媒活性
を与える工程である。すなわち、ガラス基板の表面は触
媒活性がないために、無電解メッキを開始するために
は、ガラス基板の表面にＡｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ等の貴
金属の触媒核を形成することが必要である。The sensitizing step and the activating step are steps for providing the glass substrate with the catalytic activity necessary for initiating electroless plating. That is, since the surface of the glass substrate has no catalytic activity, it is necessary to form catalytic nuclei of a noble metal such as Au, Pt, Pd, or Ag on the surface of the glass substrate in order to start electroless plating. ..

【００１５】上記の各工程は次のように実施される。先
ず、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｐｂ、Ｈｇ等から成る２価の金属イオ
ンを含む溶液にガラス基板を浸漬して基板表面に２価の
金属イオンを吸着させる（感受性化工程）。次いで、前
記の触媒核となる貴金属を含む活性化処理溶液に上記の
ガラス基板を浸漬し、吸着した２価の金属イオンの還元
作用により、ガラス基板の表面に触媒核を形成させる
（活性化工程）。The above steps are carried out as follows. First, the glass substrate is immersed in a solution containing divalent metal ions such as Sn, Ti, Pb, and Hg to adsorb the divalent metal ions on the substrate surface (sensitization step). Then, the glass substrate is immersed in the activation treatment solution containing the precious metal to be the catalyst nucleus, and the catalyst nucleus is formed on the surface of the glass substrate by the reducing action of the adsorbed divalent metal ion (the activation step. ).

【００１６】本発明の感受性化工程においては、通常、
０．１〜１ｇ／ｌの塩化スズ（ＳｎＣｌ₂ ）水溶液が好
適に使用され、そして、ガラス基板は、常温にて塩化ス
ズ水溶液中に０．５〜５分間浸漬される。また、本発明
の活性化工程においては、通常、０．１〜１ｇ／ｌの塩
化パラジウム（ＰｄＣｌ₂ ）水溶液が好適に使用され、
そして、ガラス基板は、３０〜６０℃にて塩化パラジウ
ム水溶液中に０．５〜５分間浸漬される。In the sensitizing step of the present invention, usually,
A 0.1 to 1 g / l tin chloride (SnCl ₂ ) aqueous solution is preferably used, and the glass substrate is immersed in the tin chloride aqueous solution at room temperature for 0.5 to 5 minutes. In addition, in the activation step of the present invention, usually, a 0.1 to 1 g / l palladium chloride (PdCl ₂ ) aqueous solution is preferably used,
Then, the glass substrate is immersed in a palladium chloride aqueous solution at 30 to 60 ° C. for 0.5 to 5 minutes.

【００１７】感受性化工程と活性化工程とは、一液タイ
プと称せられるＳｎＣｌ₂ とＰｄＣｌ₂ との混合水溶液
を使用することより同一の工程としてもよい。独立工程
とした場合は、感受性化工程の後、ガラス基板の表面を
乾燥させずに次の活性化工程に移行するならば、良好な
無電解メッキ膜が形成され易くて好ましい。The sensitizing step and the activating step may be the same step by using a mixed aqueous solution of SnCl ₂ and PdCl ₂ called a one-pack type. In the case of an independent process, it is preferable that after the sensitization process, if the surface of the glass substrate is not dried and the process proceeds to the next activation process, a good electroless plating film is easily formed.

【００１８】本発明の製造方法の最大の特徴は、活性化
工程および無電解メッキ工程の間にガラス基板の乾燥工
程を設けた点にある。上記の乾燥工程の意義は次の通り
である。すなわち、湿式プロセスである無電解メッキに
おいて、被メッキ物は、その表面の活性度を均一に保持
するために、通常、濡れた状態で各処理工程間を移動さ
せられる。従って、無電解メッキの常識に従うならば、
活性化工程から無電解メッキ工程へ移行するガラス基板
は、活性化工程後の水洗工程から引き上げられてそのま
ま濡れた状態で無電解メッキ工程に移行されることとな
る。The most significant feature of the manufacturing method of the present invention is that a glass substrate drying step is provided between the activation step and the electroless plating step. The significance of the above drying process is as follows. That is, in electroless plating, which is a wet process, the object to be plated is usually moved between the treatment steps in a wet state in order to maintain the activity of the surface of the object to be uniform. Therefore, if you follow the common sense of electroless plating,
The glass substrate that is transferred from the activation process to the electroless plating process is transferred from the water washing process after the activation process to the electroless plating process in a wet state as it is.

【００１９】ところが、本発明者等の知見によれば、意
外にも、上記のような通常の処理では無電解ＮｉＰメッ
キ層に７００Å〜２０００Åのブツを含むメッキ個所が
多発し、鏡面研磨したガラス基板を使用しても最大高さ
が５００Åを越えた表面粗さになり、磁気記録媒体とし
た場合にヘッドの５００Å以下の低浮上が達成されない
という問題がある。斯かる技術的問題が存するが故に、
本発明のような磁気記録媒体用基板の出現が拒まれてい
たものと考えられる。However, according to the findings of the present inventors, surprisingly, in the ordinary treatment as described above, the electroless NiP plating layer frequently has 700 Å to 2000 Å spots containing spots, and the glass is mirror-polished. Even if a substrate is used, the maximum height is such that the surface roughness exceeds 500Å, and there is a problem that when the magnetic recording medium is used, the low flying height of the head of 500Å or less cannot be achieved. Due to such technical problems,
It is considered that the appearance of the magnetic recording medium substrate as in the present invention was rejected.

【００２０】ブツの異常成長個所についてのＥＰＭＡ
（Ｘ線マイクロアナライザー）分析の結果、ブツの発生
していない個所に比べてパラジウム及びスズのスペクト
ル強度が強いことが判明している。このことから、スズ
乃至パラジウムが多く吸着した個所で無電解メッキ反応
が活発に行われてブツが生成したものと推定される。EPMA for abnormally grown spots
As a result of (X-ray microanalyzer) analysis, it has been found that the spectral intensities of palladium and tin are higher than that of a spot where no spots are generated. From this, it is presumed that the electroless plating reaction was actively performed at the place where a large amount of tin or palladium was adsorbed, and the seeds were generated.

【００２１】スズ乃至パラジウムが局所的に多い個所が
生成する理由は、次のように考えられる。すなわち、ガ
ラス基板に無電解メッキ処理を行う一連の工程は、基板
表面が濡れた状態で行われる。ガラス基板表面に吸着し
たスズ層ないしパラジウム層は、吸着膜厚が数十Å以下
と非常に薄く、ガラス基板の面内方向に完全な連続膜で
なく、不連続な点状の吸着状態である。しかも、ガラス
基板の表面が濡れた状態ではガラス基板との吸着力が弱
くて動き易いため、スズ又はパラジウムが局所的に不均
一に凝集し易いものと推定される。実際、パラジウム水
溶液による活性化処理後、ガラス基板表面を乾燥させる
際に未乾燥部を作意的に残して無電解メッキ処理を試み
た結果、未乾燥部にはブツが非常に多く発生する現象が
見られた。The reason for the local formation of a large amount of tin or palladium is considered as follows. That is, a series of steps for performing electroless plating on a glass substrate is performed while the substrate surface is wet. The tin layer or palladium layer adsorbed on the surface of the glass substrate is very thin with an adsorbed film thickness of several tens of liters or less, and is not a continuous film that is completely continuous in the in-plane direction of the glass substrate, but a discontinuous point-like adsorption state. .. In addition, when the surface of the glass substrate is wet, the adsorption force to the glass substrate is weak and the glass substrate is easy to move. Therefore, it is presumed that tin or palladium is likely to locally and nonuniformly aggregate. Actually, after the activation treatment with the palladium aqueous solution, when the glass substrate surface was dried, an attempt was made to leave the undried portion intentionally and the electroless plating treatment was attempted. It was observed.

【００２２】本発明の製造方法における前記の乾燥工程
は、上記の知見に基づいて採用された工程であり、ブツ
の発生を防止する作用を奏し、本発明の磁気記録媒体用
基板を製造において最も重要な工程である。すなわち、
上記の乾燥工程においてガラス基板の表面を均一に乾燥
させることにより、ガラス基板の表面にスズ乃至はパラ
ジウム粒子を密着性良く且つ均一に吸着させることが出
来、その結果、ブツを含むメッキ個所が無い均一な表面
粗さの無電解メッキ膜を形成することが可能となる。そ
して、表面粗さ（Ｒｍａｘ）が５００Å程度のガラス基
板を使用しても、殆ど表面粗さを変えることなく、従っ
て、更に、その上に磁性層、保護層、潤滑層を順次形成
しても、最大高さが５００Å以下の磁気記録媒体が得ら
れ、５００Å以下の低浮上でもヘッドが安定に飛行する
ことが可能となる。The above-mentioned drying step in the manufacturing method of the present invention is a step adopted based on the above-mentioned findings, has an effect of preventing the formation of spots, and is the most effective in manufacturing the magnetic recording medium substrate of the present invention. This is an important step. That is,
By uniformly drying the surface of the glass substrate in the above-mentioned drying step, tin or palladium particles can be adsorbed to the surface of the glass substrate with good adhesion and as a result, there is no plating part including the spots. It becomes possible to form an electroless plating film having a uniform surface roughness. Even if a glass substrate having a surface roughness (Rmax) of about 500 Å is used, the surface roughness is hardly changed. Therefore, even if a magnetic layer, a protective layer and a lubricating layer are sequentially formed thereon. A magnetic recording medium having a maximum height of 500 Å or less can be obtained, and the head can stably fly even at a low flying height of 500 Å or less.

【００２３】上記の乾燥工程における乾燥方法として
は、ガラス基板を水洗後に風乾処理する方法でもよい。
しかしながら、風乾処理の場合は、支持する冶具に接触
している部位の乾燥が他より遅れて未乾燥残部が生じる
ことがある。そして、斯かる状態のまま無電解メッキ処
理を行った場合、未乾燥残部においてブツを含むメッキ
箇所が生成する。これに対し、水洗後、ガラス基板を純
水に浸漬して徐々に引き上げながら乾燥させる方法は、
未乾燥残部を生じることなくガラス基板の均一乾燥を行
なうことが出来るので好ましい。この際、純水槽の上部
にヒーターを設け、乾燥を加速させることも好ましい。The drying method in the above-mentioned drying step may be a method in which the glass substrate is washed with water and then air-dried.
However, in the case of the air-drying treatment, the portion in contact with the supporting jig may be dried later than the others, and an undried residue may occur. When the electroless plating treatment is performed in such a state, plating spots including spots are generated in the undried remaining portion. In contrast, after washing with water, the method of immersing the glass substrate in pure water and gradually pulling it up to dry it is
It is preferable because the glass substrate can be uniformly dried without producing an undried residue. At this time, it is also preferable to provide a heater above the pure water tank to accelerate the drying.

【００２４】更にまた、温度を上げた温純水中からガラ
ス基板を引き上げる方法も乾燥速度を速くすることが出
来て好ましい。ただし、湯洗時の通常の温度である８０
℃よりも高い温度では、乾燥速度は速くなるものの、ブ
ツを含むメッキ箇所が発生し易くなる。その理由は、ガ
ラス基板の表面を濡れた状態で比較的長時間高温に曝し
た結果、吸着したスズ乃至パラジウムがより動き易くな
って凝集するためと推定される。従って、温純水の温度
は、６０℃以下にするのが好ましい。勿論、上記の他、
ヒーターを利用した通常の速い乾燥方法を採用してもよ
い。Furthermore, a method of pulling up the glass substrate from warm pure water whose temperature has been raised is preferable because the drying speed can be increased. However, the normal temperature for washing with water is 80
If the temperature is higher than 0 ° C, the drying rate will be faster, but plating spots including spots will tend to occur. It is presumed that the reason is that when the surface of the glass substrate is exposed to high temperature in a wet state for a relatively long time, the adsorbed tin or palladium is more easily moved and aggregates. Therefore, the temperature of the hot pure water is preferably 60 ° C or lower. Of course, in addition to the above,
A normal fast drying method using a heater may be adopted.

【００２５】乾燥工程で処理されたガラス基板は、次工
程の無電解メッキ工程へ移行される。この場合、無電解
メッキ工程へ移行する前に、ガラス基板を超純水に浸漬
するならば、ムラのない無電解メッキを行なうことが出
来るので好ましい。無電解メッキ工程は、公知の方法に
従って実施することが出来る。通常、市販の無電解Ｎｉ
Ｐメッキ浴（例えば、メルテックス（株）製「エンプレ
ートＮＩ−４８２８」）が使用され、ガラス基板はメッ
キ浴中で所定時間処理される。無電解ＮｉＰメッキ浴
は、通常、ＰＨ３〜６に調製して使用され、浴温は５０
〜８５℃とするのがよい。The glass substrate treated in the drying step is transferred to the next step of electroless plating. In this case, it is preferable to immerse the glass substrate in ultrapure water before proceeding to the electroless plating step, because uniform electroless plating can be performed. The electroless plating step can be performed according to a known method. Usually commercially available electroless Ni
A P plating bath (for example, "Enplate NI-4828" manufactured by Meltex Co., Ltd.) is used, and the glass substrate is treated in the plating bath for a predetermined time. The electroless NiP plating bath is usually adjusted to pH 3 to 6 and used at a bath temperature of 50.
It is better to set the temperature to ~ 85 ° C.

【００２６】無電解ＮｉＰメッキ層の厚さは、任意に選
択し得るが、高温高湿下で良好な耐蝕性を得るために
は、１０００〜２００００Å、好ましくは１５００〜５
０００Åの範囲にするのがよい。また、ガラス基板とメ
ッキ層との密着性を高めるための通常実施されるメッキ
層形成後の熱処理は、ガラス基板の最大高さが１５０Å
〜５００Åの場合は必要に応じて行なえばよいが、メッ
キ層の厚さを大きくした場合は、熱処理を行なう方が好
ましい。The thickness of the electroless NiP plating layer can be arbitrarily selected, but in order to obtain good corrosion resistance under high temperature and high humidity, it is 1000 to 20000Å, preferably 1500 to 5
It is good to set it in the range of 000Å. In addition, the heat treatment after forming the plating layer, which is usually performed to enhance the adhesion between the glass substrate and the plating layer, has a maximum height of the glass substrate of 150Å.
When the thickness is up to 500 Å, it may be performed as needed, but when the thickness of the plating layer is increased, it is preferable to perform heat treatment.

【００２７】次に、本発明の磁気記録媒体について説明
する。図１は、本発明の磁気記録媒体の一例を示す部分
断面説明図である。本発明の磁気記録媒体は、最大高さ
（Ｒｍａｘ）が５００Å以下の表面粗さを有するガラス
基板（１）の上に少なくとも非磁性無電解メッキ層（無
電解ＮｉＰメッキ層）（２）、磁性層（４）及び保護層
（６）を順次に設けて成る磁気記録媒体であって、表面
の最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Å以下であることを特
徴としたものである。図中、（３）は、磁性層（４）の
磁気特性を良好にするため、必要に応じて設けられる非
磁性下地層であり、（６）は、通常設けられる潤滑層で
ある。そして、非磁性下地層（３）、磁性層（４）及び
保護層（５）は、公知のスパッタ法によって形成するこ
とが出来る。Next, the magnetic recording medium of the present invention will be described. FIG. 1 is a partial cross-sectional explanatory view showing an example of the magnetic recording medium of the present invention. The magnetic recording medium of the present invention comprises a glass substrate (1) having a maximum height (Rmax) of 500 Å or less, and at least a non-magnetic electroless plating layer (electroless NiP plating layer) (2), a magnetic layer. A magnetic recording medium comprising a layer (4) and a protective layer (6) sequentially provided, characterized by having a maximum surface height (Rmax) of not more than 500Å. In the figure, (3) is a non-magnetic underlayer which is provided as necessary to improve the magnetic characteristics of the magnetic layer (4), and (6) is a lubricating layer which is usually provided. The nonmagnetic underlayer (3), the magnetic layer (4) and the protective layer (5) can be formed by a known sputtering method.

【００２８】非磁性下地層（３）には、通常Ｃｒ、Ｔｉ
又はＮｉＰ等が使用され、Ｃｒ又はＴｉにはＳｉ、Ｖ、
Ｃｕ等の元素を添加してもよい。非磁性下地層（３）厚
さは、通常５００〜３０００Å程度とされる。The non-magnetic underlayer (3) is usually made of Cr or Ti.
Or NiP or the like is used, and Cr, Ti are Si, V,
You may add elements, such as Cu. The thickness of the non-magnetic underlayer (3) is usually about 500 to 3000Å.

【００２９】磁性層（４）としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ等で表わさ
れるＣｏを主成分とするＣｏ系合金が使用できる。ここ
で、Ｘとしては、Ｌｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｎｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ａｇ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐ
ｔ、Ａｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ及びＥ
ｕよりなる群から選ばれる１種または２種以上の元素が
挙げられる。磁性層（４）の厚さは、通常３００〜１０
００Å程度とされる。As the magnetic layer (4), Co--Cr, Co
Co-based alloys containing Co as a main component, such as —Cr—X, Co—Ni—X, and Co—W—X, can be used. Here, X is Li, Si, B, Ca, Ti, V, C
r, Ni, As, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh,
Ag, Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, P
t, Au, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm and E
Examples include one or more elements selected from the group consisting of u. The thickness of the magnetic layer (4) is usually 300 to 10
It is set to about 00Å.

【００３０】保護層（５）は、スパッタ法による炭素質
膜やジルコニア膜などで構成され、その他、有機シリコ
ンの塗布膜でもよい。潤滑層（６）には、パーフロロポ
リエーテル等の弗素系の液体潤滑剤や脂肪酸などの固体
潤滑剤が使用される。The protective layer (5) is composed of a carbonaceous film, a zirconia film or the like formed by a sputtering method, and may be an organic silicon coating film. For the lubricating layer (6), a fluorine-based liquid lubricant such as perfluoropolyether or a solid lubricant such as fatty acid is used.

【００３１】本発明の磁気記録媒体において、ガラス基
板（１）の表面粗さは、前述した通り、ガラス基板
（１）の上に蒸着やスパッタ法にてアルミニウム等から
成る凹凸の金属層を形成する場合を除き、最大高さで１
５０Å〜５００Å、好ましくは１５０Å〜４００Åの範
囲とするのがよい。そして、前記の各層の合計厚さは、
磁気記録媒体の表面の最大高さ（Ｒｍａｘ）を１５０〜
５００Åの範囲に維持し得る厚さであるのが好ましい。
斯かる態様の磁気記録媒体は、例えば、前述した本発明
の磁気記録媒体用ガラス基板（１）の非磁性無電解メッ
キ層（無電解ＮｉＰメッキ層）（２）の上に非磁性下地
層（３）、磁性層（４）、保護層（５）及び潤滑層
（６）を順次に設け、磁気記録媒体の表面の最大高さ
（Ｒｍａｘ）を１５０〜５００Åの範囲にすることによ
って構成することが出来る。なお、上記の非磁性下地層
（３）と潤滑層（６）は任意の層であり、磁気記録媒体
の表面の最大高さは、無電解ＮｉＰメッキ層（２）の上
に設けられる各層の厚さを制御することによって達成す
ることが出来る。In the magnetic recording medium of the present invention, the surface roughness of the glass substrate (1) is, as described above, the uneven metal layer made of aluminum or the like formed on the glass substrate (1) by vapor deposition or sputtering. 1 at maximum height unless
The range is 50Å to 500Å, preferably 150Å to 400Å. And the total thickness of each of the above layers is
The maximum height (Rmax) of the surface of the magnetic recording medium is 150 to
The thickness is preferably such that it can be maintained in the range of 500Å.
The magnetic recording medium of such an aspect is obtained by, for example, forming a non-magnetic underlayer (on the non-magnetic electroless plating layer (electroless NiP plating layer) (2) of the glass substrate (1) for magnetic recording medium of the present invention described above. 3), the magnetic layer (4), the protective layer (5) and the lubricating layer (6) are sequentially provided, and the maximum height (Rmax) of the surface of the magnetic recording medium is set in the range of 150 to 500Å. Can be done. The non-magnetic underlayer (3) and the lubricating layer (6) are arbitrary layers, and the maximum height of the surface of the magnetic recording medium is the same as that of each layer provided on the electroless NiP plating layer (2). It can be achieved by controlling the thickness.

【００３２】そして、上記の各層の厚さは、通常、次の
ような範囲とされる。すなわち、無電解ＮｉＰメッキ層
（２）の厚さは１０００〜２００００Å、非磁性下地層
（３）厚さは５００〜３０００Å程度、磁性層（４）の
厚さは３００〜１０００Å程度、保護層（５）の厚さ
は、５０〜５００Å程度、潤滑層（６）の厚さは５〜１
００Å程度とされる。The thickness of each layer is usually in the following range. That is, the electroless NiP plated layer (2) has a thickness of 1000 to 20000 Å, the non-magnetic underlayer (3) has a thickness of about 500 to 3000 Å, the magnetic layer (4) has a thickness of about 300 to 1000 Å, and the protective layer ( The thickness of 5) is about 50 to 500Å, and the thickness of the lubricating layer (6) is 5 to 1
It is set to about 00Å.

【００３３】ところで、スパッタ法により、直接ガラス
基板に非磁性下地層や磁性層を形成した場合、ガラス基
板の水分の影響で磁気特性が低下し、保磁力が小さくな
ることが報告されている（「Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．
６７（９）」（Ｖｏｌ．１、１９９０、Ｐ．４７０
１））。しかしながら、本発明の磁気記録媒体用基板に
よれば、無電解ＮｉＰメッキ層の積層により、ガラス基
板の水分の影響を防止でき、保磁力の低下が防止され
る。By the way, it has been reported that when a non-magnetic underlayer or a magnetic layer is directly formed on a glass substrate by a sputtering method, the magnetic characteristics are deteriorated and the coercive force is decreased due to the influence of water content of the glass substrate ( "J. Appl. Phys.
67 (9) "(Vol. 1, 1990, P. 470).
1)). However, according to the magnetic recording medium substrate of the present invention, the lamination of the electroless NiP plated layer can prevent the influence of water on the glass substrate and prevent the coercive force from being lowered.

【００３４】また、ガラス基板に導電性の無電解ＮｉＰ
メッキ層を形成したことにより、従来の無電解ＮｉＰメ
ッキ層を被覆したアルミニウム基板とほぼ同様な電気抵
抗を得ることが出来る。従って、通常のスパッタ条件で
の成膜だけでなく、ガラス基板に負のバイアス電位を印
加する基板バイアス法によるスパッタ成膜が可能とな
り、負のバイアス電位を印加した状態で下引き層および
／または磁性層が成膜でき、高保磁力の磁気記録媒体も
製造することが出来る。In addition, conductive electroless NiP is used on the glass substrate.
By forming the plating layer, it is possible to obtain substantially the same electrical resistance as that of the conventional aluminum substrate coated with the electroless NiP plating layer. Therefore, not only the film formation under normal sputtering conditions, but also the film formation by sputtering by the substrate bias method in which a negative bias potential is applied to the glass substrate becomes possible. A magnetic layer can be formed and a magnetic recording medium with high coercive force can be manufactured.

【００３５】[0035]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例に限定されるものではない。なお、以下の諸例におい
て、表面粗さは、英国ランクテイラーホブソン社の触針
式粗さ計「タリステップ」を使用し、触針寸法０．２×
０．２μｍ、計測速度０．０４ｍｍ／ｓｅｃ、計測倍率
２０万倍、カットオフ周波数０．３３Ｈｚの条件で測定
した。また、ヘッドの浮上保証高さは、グライドテスタ
ー（日立電子エンジニアリング製「ＲＧ５５０」）を使
用して測定した。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded. In the following examples, the surface roughness is measured by using a stylus type roughness meter "Taristep" manufactured by Rank Taylor Hobson Ltd.
The measurement was performed under the conditions of 0.2 μm, measurement speed 0.04 mm / sec, measurement magnification 200,000 times, and cutoff frequency 0.33 Hz. The flying height of the head was measured using a glide tester (“RG550” manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd.).

【００３６】実施例１ 外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０．８８９ｍｍの結
晶化ガラス基板（米国コーニング社、商品名「カナサイ
ト」）を使用した。このガラス基板の表面粗さは、中心
線平均粗さ（Ｒａ）が４３Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が
４２０Åであった。以下の無電解メッキ処理により、上
記のガラス基板の表面にＮｉＰメッキの成膜を行った。Example 1 A crystallized glass substrate (trade name "Kanasite", Corning Inc., USA) having an outer diameter of 65 mm, an inner diameter of 20 mm and a plate thickness of 0.889 mm was used. Regarding the surface roughness of this glass substrate, the center line average roughness (Ra) was 43Å and the maximum height (Rmax) was 420Å. A NiP plating film was formed on the surface of the above glass substrate by the following electroless plating treatment.

【００３７】先ず、上記のガラス基板を中性洗剤で脱脂
処理し、イオン交換水で水洗後（以降の水洗において使
用した水は、特に断わりがない限り、イオン交換水を意
味する）、０．３ｇ／ｌのＳｎＣｌ₂ 水溶液（浴温２５
℃）に１分浸漬して感受性化処理した。次いで、ガラス
基板を水洗後、０．１ｇ／ｌのＰｄＣｌ₂ 水溶液（浴温
５０℃）に１分浸漬して活性化処理し、水洗後、３０℃
の超純水槽に一旦浸漬し、３０ｍｍ／ｍｉｎの引き上げ
速度で超純水槽より引き上げた。そして、ガラス基板の
表面を均一に乾燥させた後イオン交換水槽に浸漬した。First, the above glass substrate was degreased with a neutral detergent and washed with ion-exchanged water (the water used in the subsequent water-washing means ion-exchanged water unless otherwise specified). 3 g / l SnCl ₂ aqueous solution (bath temperature 25
C.) for 1 minute for sensitization treatment. Then, the glass substrate was washed with water, immersed in a 0.1 g / l PdCl ₂ aqueous solution (bath temperature 50 ° C.) for 1 minute for activation treatment, washed with water, and then washed at 30 ° C.
Was once immersed in the ultrapure water tank and then pulled up from the ultrapure water tank at a pulling rate of 30 mm / min. Then, the surface of the glass substrate was uniformly dried and then immersed in an ion exchange water tank.

【００３８】次いで、市販の無電解ＮｉＰメッキ浴（メ
ルテックス（株）製「エンプレートＮＩ−４８２８」）
中にて、ＰＨ４．５、浴温７９℃の条件でガラス基板の
表面に無電解ＮｉＰメッキ膜を１５００Åの厚さで形成
した。水洗後、クリーン乾燥器で１５０℃、１時間熱処
理を実施した。ガラス基板上の無電解ＮｉＰメッキ層の
表面粗さは、中心線粗さ（Ｒａ）が４８Å、最大高さ
（Ｒｍａｘ）が４３０Åであった。Next, a commercially available electroless NiP plating bath ("Emplate NI-4828" manufactured by Meltex Co., Ltd.)
In the inside, an electroless NiP plating film having a thickness of 1500 Å was formed on the surface of the glass substrate under the conditions of pH 4.5 and bath temperature 79 ° C. After washing with water, heat treatment was performed in a clean dryer at 150 ° C. for 1 hour. Regarding the surface roughness of the electroless NiP plated layer on the glass substrate, the center line roughness (Ra) was 48Å and the maximum height (Rmax) was 430Å.

【００３９】上記のガラス基板をＤＣマグネトロンスパ
ッタ装置に装入し、１×１０^-6Ｔｏｒｒまで真空排気し
た後、基板温度を２５０℃まで昇温し、アルゴン分圧５
×１０^-3Ｔｏｒｒの条件下、無電解ＮｉＰメッキ層の上
面に、１０００Åの下引き層（Ｃｒ）、６００Åの磁性
層（ＣｏＣｒ₁₂Ｔａ₂ ａｔ％）、２００Åのカーボン保
護層を順次に連続して成膜して磁気記録媒体を作製し
た。磁気記録媒体の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が４６Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が４２８Åであっ
た。The above glass substrate was loaded into a DC magnetron sputtering apparatus, vacuum exhausted to 1 × 10 ^-6 Torr, the substrate temperature was raised to 250 ° C., and the argon partial pressure was 5
Under the condition of × 10 ^-3 Torr, a 1000 Å undercoat layer (Cr), a 600 Å magnetic layer (CoCr ₁₂ Ta ₂ at%), and a 200 Å carbon protective layer are successively formed on the upper surface of the electroless NiP plating layer. Then, a film was formed to prepare a magnetic recording medium. The surface roughness of the magnetic recording medium is the center line average roughness (R
a) was 46Å, and the maximum height (Rmax) was 428Å.

【００４０】上記の磁気記録媒体のヘッド浮上保証高さ
を測定した結果、４８０Åの測定高さにおいてヘッドと
磁気記録媒体の突起との衝突は認められなかった。ま
た、上記の磁気記録媒体の表面にフッ素系の液体潤滑剤
（モンテフロス社製「ＡＭ２００１」）を塗布して、コ
ンタクト・スタート・ストップテスト（磁気記録装置に
媒体を取り付けての繰り返しの装置起動・停止によるヘ
ッドと磁気記録媒体の耐久性テスト）を行ったが２万回
のテスト後も良好であった。更にまた、上記の磁気記録
媒体をクリーンな高温高湿槽に入れ、８５℃、相対湿度
８０％で５０４時間保持する耐蝕性テストを実施した
が、何等の変化も認められなかった。As a result of measuring the head floating guaranteed height of the above magnetic recording medium, no collision between the head and the projection of the magnetic recording medium was observed at the measured height of 480Å. Further, a fluorine-based liquid lubricant (“AM2001” manufactured by Montefloss Co., Ltd.) is applied to the surface of the above magnetic recording medium, and a contact start / stop test (repeated device activation by attaching the medium to the magnetic recording device) A durability test of the head and the magnetic recording medium by stopping was performed), but it was good even after the test of 20,000 times. Furthermore, the above magnetic recording medium was put in a clean high temperature and high humidity tank, and a corrosion resistance test was carried out at 85 ° C. and a relative humidity of 80% for 504 hours, but no change was observed.

【００４１】比較例１ 実施例１において、一連の無電解メッキ処理工程中の
「ＰｄＣｌ₂ 水溶液浸漬−水洗」の後の乾燥を省略し、
水洗後のガラス基板を濡れたまま無電解メッキ槽に浸漬
し、無電解メッキによるＮｉＰメッキの成膜を行った以
外は、実施例１と同様に操作してガラス基板を得た。得
られたガラス基板上の無電解ＮｉＰメッキ層の表面粗さ
を測定した結果、中心線平均粗さ（Ｒａ）が６３Å、最
大高さ（Ｒｍａｘ）が１７３３Åであった。計測長０．
５ｍｍにおいて最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Åを超え
るピークが２５個あった。上記のガラス基板を使用し、
実施例１と同様のスパッター法にて磁気記録媒体を作成
し、ヘッド浮上保証高さを測定した結果、ヘッドは１８
００Åの浮上高さで突起に衝突した。Comparative Example 1 In Example 1, the drying after the “PdCl ₂ aqueous solution immersion-water washing” in the series of electroless plating treatment steps was omitted,
The glass substrate after washing with water was obtained in the same manner as in Example 1 except that the glass substrate was immersed in an electroless plating bath while being wet, and the NiP plating film was formed by electroless plating. As a result of measuring the surface roughness of the electroless NiP plating layer on the obtained glass substrate, the center line average roughness (Ra) was 63Å and the maximum height (Rmax) was 1733Å. Measurement length 0.
There were 25 peaks having a maximum height (Rmax) of more than 500 Å at 5 mm. Using the above glass substrate,
A magnetic recording medium was prepared by the same sputtering method as in Example 1 and the head flying height guaranteed height was measured.
It collided with a protrusion at a flying height of 00Å.

【００４２】実施例２ 化学強化したソーダーライムガラス基板を中性洗剤で洗
浄し、イオン交換水で水洗後、４Ｎのフッ化カリウムと
０．６Ｎのフッ酸を含む水溶液を用いて化学エッチング
処理し、ガラス基板表面に凹凸を設けた。表面粗さは、
中心線平均粗さ（Ｒａ）が３０Å、最大高さ（Ｒｍａ
ｘ）が３４０Åであった。実施例１と同様の無電解メッ
キ処理により、上記のガラス基板の表面にＮｉＰメッキ
の成膜を行った。Example 2 A chemically strengthened soda lime glass substrate was washed with a neutral detergent, washed with ion-exchanged water, and then chemically etched with an aqueous solution containing 4N potassium fluoride and 0.6N hydrofluoric acid. The glass substrate surface was provided with irregularities. The surface roughness is
Centerline average roughness (Ra) is 30Å, maximum height (Rma)
x) was 340Å. By the same electroless plating treatment as in Example 1, a NiP plating film was formed on the surface of the above glass substrate.

【００４３】得られたガラス基板上の無電解ＮｉＰメッ
キ層の表面粗さを測定した結果、中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が２８Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３４０Åであっ
た。上記のガラス基板を使用して実施例１と同様のスパ
ッター法にて磁気記録媒体を作成した。得られた磁気記
録媒体の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ｒａ）が３０
Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３４０Åであった。また、
ヘッド浮上保証高さを測定した結果、４８０Åの測定高
さにおいてヘッドと磁気記録媒体の突起との衝突は認め
られなかった。As a result of measuring the surface roughness of the electroless NiP plating layer on the obtained glass substrate, the center line average roughness (R
a) was 28Å, and the maximum height (Rmax) was 340Å. A magnetic recording medium was prepared by the same sputtering method as in Example 1 using the above glass substrate. The surface roughness of the obtained magnetic recording medium has a center line average roughness (Ra) of 30.
Å, the maximum height (Rmax) was 340Å. Also,
As a result of measuring the head floating guaranteed height, no collision between the head and the projection of the magnetic recording medium was observed at the measured height of 480 Å.

【００４４】比較例２ 実施例２において、一連の無電解メッキ処理工程中の
「ＰｄＣｌ₂ 水溶液浸漬−水洗」の後の乾燥を省略し、
水洗後のガラス基板を濡れたまま無電解メッキ槽に浸漬
し、無電解メッキによるＮｉＰメッキの成膜を行った以
外は、実施例２と同様に操作してガラス基板を得た。Comparative Example 2 In Example 2, the drying after the "PdCl ₂ aqueous solution immersion-water washing" in the series of electroless plating treatment steps was omitted,
A glass substrate was obtained in the same manner as in Example 2 except that the glass substrate after being washed with water was immersed in an electroless plating bath while being wet, and NiP plating was formed by electroless plating.

【００４５】得られたガラス基板上の無電解ＮｉＰメッ
キ層の表面粗さを測定した結果、中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が５０Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が１０５０Åであ
った。上記のガラス基板を使用し、実施例１と同様のス
パッター法にて磁気記録媒体を作成し、ヘッド浮上保証
高さを測定した結果、ヘッドは１１００Åの浮上高さで
突起に衝突した。The surface roughness of the electroless NiP plating layer on the obtained glass substrate was measured, and as a result, the center line average roughness (R
a) was 50Å, and the maximum height (Rmax) was 1050Å. Using the above glass substrate, a magnetic recording medium was prepared by the same sputtering method as in Example 1, and the head flying height guaranteed height was measured. As a result, the head collided with the protrusion at a flying height of 1100Å.

【００４６】実施例３ 実施例２において、ＰｄＣｌ₂ 水溶液での活性化処理、
イオン交換水での水洗後のガラス基板の乾燥を７００Ｗ
のヒーターを使用して行った以外は、実施例２と同様に
行った。ガラス基板表面に無電解ＮｉＰメッキ層を設け
た状態の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ｒａ）が３２
Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３５２Åであった。なお、
磁気記録媒体作製後の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）が３１Å、最大高さ（Ｒｍａｘ）が３６０Åであっ
た。また、グライドテスターで測定したところ、４８０
Åのヘッド浮上高さでは磁気記録媒体との衝突が認めら
れなかった。Example 3 In Example 2, activation treatment with a PdCl ₂ aqueous solution,
700W for drying the glass substrate after washing with ion-exchanged water
Example 2 was repeated except that the above heater was used. The center line average roughness (Ra) of the surface roughness of the glass substrate provided with the electroless NiP plating layer is 32.
Å, the maximum height (Rmax) was 352Å. In addition,
The surface roughness after the magnetic recording medium is manufactured is the center line average roughness (R
a) was 31Å, and the maximum height (Rmax) was 360Å. Also, when measured with a glide tester, 480
No collision with the magnetic recording medium was observed at the head flying height of Å.

【００４７】[0047]

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、耐久性に
優れ、且つ、無電解メッキ層を設けることにより耐蝕性
に優れ、しかも、記録再生用ヘッドを５００Å以下の低
浮上で安定に浮上させることが出来、従って、著しい高
記録密度を達成可能な磁気記録媒体が得られる。According to the present invention described above, the durability is excellent, the corrosion resistance is excellent by providing the electroless plating layer, and the recording / reproducing head is stably floated at a low flying height of 500 Å or less. Therefore, a magnetic recording medium capable of achieving a significantly high recording density can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の磁気記録媒体の一例を示す部分断面説
明図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional explanatory view showing an example of a magnetic recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１：ガラス基板 ２：無電解ＮｉＰメッキ層 ３：非磁性下地層 ４：磁性層 ５：保護層 ６：潤滑層 1: Glass substrate 2: Electroless NiP plating layer 3: Non-magnetic underlayer 4: Magnetic layer 5: Protective layer 6: Lubricating layer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Å以下の
表面粗さを有するガラス基板の上に最大高さ（Ｒｍａ
ｘ）が５００Å以下の表面粗さの非磁性無電解メッキ層
を設けて成ることを特徴とする磁気記録媒体用基板。1. A maximum height (Rma) is a maximum height (Rma) on a glass substrate having a surface roughness of 500 Å or less.
x) is a magnetic recording medium substrate characterized by comprising a non-magnetic electroless plating layer having a surface roughness of 500 Å or less. 【請求項２】 最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Å以下の
表面粗さを有するガラス基板の感受性化工程、活性化工
程および無電解メッキ工程を順序に設け、そして、各工
程間には水洗工程を設けて成る請求項１記載の磁気記録
媒体用基板の製造方法において、活性化工程および無電
解メッキ工程の間にガラス基板の乾燥工程を設けたこと
を特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。2. A sensitization process, an activation process and an electroless plating process of a glass substrate having a maximum height (Rmax) of less than 500Å are provided in sequence, and a water washing process is performed between the processes. The method for manufacturing a substrate for a magnetic recording medium according to claim 1, further comprising a step of drying the glass substrate between the activation step and the electroless plating step. .. 【請求項３】 最大高さ（Ｒｍａｘ）が５００Å以下の
表面粗さを有するガラス基板の上に少なくとも非磁性無
電解メッキ層、磁性層および保護層を順次に設けて成る
磁気記録媒体であって、表面の最大高さ（Ｒｍａｘ）が
５００Å以下であることを特徴とする磁気記録媒体。3. A magnetic recording medium comprising a glass substrate having a maximum height (Rmax) of 500 Å or less and a surface roughness of at least a non-magnetic electroless plating layer, a magnetic layer and a protective layer, which are sequentially provided. A magnetic recording medium having a maximum surface height (Rmax) of 500 Å or less. 【請求項４】 請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の
非磁性無電解メッキ層の上に少なくとも磁性層および保
護層を順次に設けて成る磁気記録媒体であって、非磁性
無電解メッキ層の上に設けられる各層の合計厚さが磁気
記録媒体の表面の最大高さ（Ｒｍａｘ）を１５０〜５０
０Åの範囲に維持し得る厚さである請求項３に記載の磁
気記録媒体。4. A magnetic recording medium in which at least a magnetic layer and a protective layer are sequentially provided on the non-magnetic electroless plating layer of the magnetic recording medium substrate according to claim 1, wherein the non-magnetic electroless plating is performed. The total thickness of the layers provided on the layers is 150 to 50 in terms of the maximum height (Rmax) of the surface of the magnetic recording medium.
The magnetic recording medium according to claim 3, which has a thickness that can be maintained in the range of 0Å.