JPH05313634A - アウトラインフォント展開装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】アウトラインフォント展開装置において、サイ
ズの大きい文字に対する品質を保ち、かつ、サイズの小
さい文字については高速処理を可能とする。 【構成】制御部１２の指示によりフォントメモリ部１１
から直線アウトラインフォントデータが読出されると、
スケール処理部１３によって指定の文字サイズに座標変
換される。ここで、文字サイズが所定のサイズよりも大
きい場合には、ロジック切替部１４により特徴点抽出部
１５が選択され、直線アウトラインフォントデータを構
成する各点の特徴が抽出され、その結果に基づいて曲線
描画部１６により曲線描画処理が行われる。一方、文字
サイズが所定のサイズよりも小さい場合には、ロジック
切替部１４により直線描画部１７が選択され、直線描画
処理が行われる。曲線描画処理または直線描画処理によ
って得られるドットパターンはビットマップメモリ部１
８に展開される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば文書作成装置に
使用されるアウトラインフォント展開装置に係り、特に
直線アウトラインフォントを展開し、ドットパターンを
得るアウトラインフォント展開装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、文書作成装置またはパーソナルコ
ンピュータ等において、文字を印刷または表示する場合
に、文字データをベクトルデータとして保持するアウト
ラインフォント方式が使用されている。この方式は、拡
大、縮小、回転等の変形処理が容易であり、しかも印字
品質が低下しない利点がある。さらに、解像度が高くて
も、文字のデータ量は一定である。

【０００３】この方式では、アウトラインフォントとし
て格納されている文字毎のベクトルデータ（座標）が読
出されて、生成対象の文字のサイズ、方向、位置に応じ
た座標変換処理が実行される。この変換後の座標から文
字の輪郭に応じたアウトラインデータが生成されて、こ
のアウトラインに対する塗りつぶし処理により、ドット
パターンがビットマップメモリに展開されることにな
る。

【０００４】ところで、アウトラインフォント方式で
は、文字の外枠はセグメントと呼ばれる多数の部分直
線、曲線から構成される。直線だけで構成されたアウト
ラインフォントの場合（直線アウトラインフォント）、
拡大したときに直線のつなぎ目が目立つのに対し、曲線
を用いたアウトラインフォント（曲線アウトラインフォ
ント）では、どのように拡大しても美しい形を保つ。た
だし、曲線アウトラインフォントでは、直線アウトライ
ンフォントに比べて、処理に時間がかかる欠点がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、従
来、直線アウトラインフォントでは、サイズの大きい文
字の場合に、直線のつなぎ目が目立ち、美しい文字を得
ることができない問題があった。また、曲線アウトライ
ンフォントでは、高速に処理できない問題があった。

【０００６】本発明は上記のような点に鑑みなされたも
ので、サイズの大きい文字に対する品質を保ち、かつ、
サイズの小さい文字については高速に処理可能なアウト
ラインフォント展開装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、直線アウトラ
インフォントデータを格納したフォントメモリ手段と、
このフォントメモリ手段から読出された上記直線アウト
ラインフォントデータを指示された文字サイズに応じて
座標変換するスケール処理手段と、上記文字サイズが所
定のサイズより大きい場合に、上記スケール処理手段に
よって座標変換された上記直線アウトラインフォントデ
ータを構成する各点の特徴を抽出する特徴点抽出手段
と、この特徴点抽出手段の結果に基づいて、上記直線ア
ウトラインフォントデータを曲線描画処理してドットパ
ターンを生成する曲線描画手段と、上記文字サイズが上
記所定のサイズより小さい場合に、上記直線アウトライ
ンフォントデータを直線描画処理してドットパターンを
生成する直線描画手段と、上記曲線描画手段または上記
直線描画手段によって生成された上記ドットパターンを
格納するビットマップメモリ手段とを具備したことを特
徴とするアウトラインフォント展開装置である。

【０００８】

【作用】上記の構成によれば、直線アウトラインフォン
トの展開に際し、文字サイズに応じて直線描画処理と曲
線描画処理が切替えられる。すなわち、所定サイズより
も小さい文字を展開する場合には直線描画処理によりド
ットパターンが生成され、所定サイズよりも大きい文字
を展開する場合には曲線描画処理によりドットパターン
が生成される。これにより、サイズの大きい文字に対す
る品質を保つことができ、また、サイズの小さい文字に
ついては高速に処理することができる。

【０００９】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。

【００１０】図１は本発明の一実施例に係るアウトライ
ンフォント展開装置の構成を示すブロック図である。図
１において、フォントメモリ部１１には、直線アウトラ
インフォントデータが格納されている。この直線アウト
ラインフォントデータは、各文字に対応するベクトルデ
ータ（座標データ）からなる。制御部１２は、本装置全
体の制御を行うものであり、フォントメモリ部１１に対
して必要な文字の読出し指示や、スケール処理部１３お
よびロジック切替部１４に対して文字サイズの指示等を
行う。スケール処理部１３は、直線アウトラインフォン
トデータの座標系から制御部１２によって指示された文
字サイズの座標系へ座標データをマッピングする。

【００１１】ロジック切替部１４は、制御部１２によっ
て指示された文字サイズに基づいて、直線アウトライン
フォントデータを直線または曲線で描画するかを切替え
る。特徴点抽出部１５は、直線アウトラインフォントデ
ータの各点の前後関係からその点の特徴を抽出する。曲
線描画部１６は、連続した点を与えたとき、それらの点
を曲線で滑らかに描画（曲線描画処理）することによ
り、ドットパターンを生成する。直線描画部１７は、連
続した点を与えたとき、それらの点を直線で描画（直線
描画処理）することにより、ドットパターンを生成す
る。ビットマップメモリ部１８は、直線描画部１６また
は曲線描画部１７によって生成されたドットパターンを
格納する。次に、同実施例の動作を説明する。

【００１２】図２のフローチャートに示すように、制御
部１２は、展開すべき文字に応じた直線アウトラインフ
ォントデータ（ベクトルデータ）をフォントメモリ部１
１から読出し、これをスケール処理部１３に与える（ス
テップＳ１）。スケール処理部１３は、フォントメモリ
部１１から読出された直線アウトラインフォントデータ
を制御部１２によって指示された文字サイズに応じて座
標変換する（ステップＳ２）。

【００１３】ここで、ロジック切替部１４は、制御部１
２から指示された文字サイズが予め設定された所定のサ
イズより大きいか否か判断し（ステップＳ３）、その結
果、当該文字サイズが所定のサイズより大きい場合に
は、スケール処理部１３によって処理された直線アウト
ラインフォントデータを特徴点抽出部１５に与える。こ
れにより、特徴点抽出部１５は直線アウトラインフォン
トデータを構成する各点の特徴を以下のようにして抽出
する。

【００１４】すなわち、特徴点抽出部１５は、特徴点と
して、例えば「角」，「直線→曲線」，「曲線→直
線」，「曲線」の４種類を定めておき、図３（ａ）に示
すように、２つの線分“Ｐ0 Ｐ1 ”（ベクトル）と“Ｐ
1 Ｐ2 ”のなす角θが予め決められた角度φより小さい
場合には、点Ｐ1 を「角」とする。また、図３（ｂ）に
示すように、２つの線分“Ｐ0 Ｐ1 ”と“Ｐ1 Ｐ2 ”の
長さの比“｜Ｐ0 Ｐ1 ｜”：“｜Ｐ1 Ｐ2 ｜”が予め決
められた値より大きい場合には、「直線→曲線」とす
る。逆に、図３（ｃ）に示すように、２つの線分の比
“｜Ｐ0 Ｐ1 ｜”：“｜Ｐ1 Ｐ2 ｜”が予め決められた
値より小さい場合には、「曲線→直線」とする。また、
これら以外のものは、「曲線」とする。

【００１５】このようにして直線アウトラインフォント
データを構成する各点の特徴が抽出されると、特徴点抽
出部１５はその結果に基づいて各点を曲線または直線で
結ぶかを判断し、曲線であれば処理を曲線描画部１６に
委ね、直線であれば処理を直線描画部１７に委ねる（ス
テップＳ５）。

【００１６】この場合、各点を曲線または直線で結ぶか
は、図４に示すようなルールによって判断される。すな
わち、例えば前後の点が「角」であった場合には直線、
前の点が「角」、後の点が「曲線」であった場合には曲
線、前の点が「角」、後の点が「直線→曲線」であった
場合には直線、前の点が「角」、後の点が「曲線→直
線」であった場合には曲線というように、前後の点の特
徴から各点を曲線または直線で結ぶことが決定される。
図５に具体例を示す。この例では、点Ｐ0 の特徴が
「角」、点Ｐ1 の特徴が「直線→曲線」であるため、両
者は直線で結ばれる。同様にして、各点はその点の特徴
から直線または曲線で結ばれる。

【００１７】曲線の場合、曲線描画部１６を通じて曲線
描画処理が行われる。曲線描画部１６は、例えばスプラ
イン曲線法等により直線アウトラインフォントデータの
各点を曲線補間してドットパターンを生成し、これをビ
ットマップメモリ部１８に展開する（ステップＳ６）。
また、直線の場合、直線描画部１６を通じて直線描画処
理が行われる。直線描画部１７は、直線アウトラインフ
ォントデータの各点を直線で描画してドットパターンを
生成し、これをビットマップメモリ部１８に展開する
（ステップＳ７）。

【００１８】一方、上記ステップＳ３において、所定の
サイズよりも小さい場合には、上述したような特徴点に
関係なく、直線描画部１６を通じて直線描画処理が行わ
れ、その結果のドットパターンがビットマップメモリ部
１８に展開される（ステップＳ７）。

【００１９】このように、所定サイズよりも小さい文字
を展開する場合には、従来通り直線で描画することによ
り、高速に展開することができる。また、所定サイズよ
りも大きい文字を展開する場合には、曲線で補間しなが
ら描画することにより、単純に直線で描画した文字より
も美しい文字を得ることができる。

【００２０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、直線アウ
トラインフォントの展開に際し、文字サイズに応じて直
線描画処理と曲線描画処理を切替えるようにしたため、
サイズの大きい文字に対する品質を保つことができ、か
つ、サイズの小さい文字については高速に処理すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る構成を示すブロック
図。

【図２】同実施例の動作を説明するためのフローチャー
ト。

【図３】同実施例における特徴点抽出方法を説明するた
めの図。

【図４】同実施例における特徴点と直線／曲線との関係
を示す図。

【図５】上記特徴点と直線／曲線との関係を具体的に示
す図。

【符号の説明】 １１…フォントメモリ部、１２…制御部、１３…スケー
ル処理部、１４…ロジック切替部、１５…特徴点抽出
部、１６…曲線描画部、１７…直線描画部、１８…ビッ
トマップメモリ部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 直線アウトラインフォントデータを格納
   したフォントメモリ手段と、 このフォントメモリ手段から読出された上記直線アウト
   ラインフォントデータを指示された文字サイズに応じて
   座標変換するスケール処理手段と、 上記文字サイズが所定のサイズより大きい場合に、上記
   スケール処理手段によって座標変換された上記直線アウ
   トラインフォントデータを構成する各点の特徴を抽出す
   る特徴点抽出手段と、 この特徴点抽出手段の結果に基づいて、上記直線アウト
   ラインフォントデータを曲線描画処理してドットパター
   ンを生成する曲線描画手段と、 上記文字サイズが上記所定のサイズより小さい場合に、
   上記直線アウトラインフォントデータを直線描画処理し
   てドットパターンを生成する直線描画手段と、 上記曲線描画手段または上記直線描画手段によって生成
   された上記ドットパターンを格納するビットマップメモ
   リ手段とを具備したことを特徴とするアウトラインフォ
   ント展開装置。