JPH05294004A

JPH05294004A - 光書き込み装置

Info

Publication number: JPH05294004A
Application number: JP4125425A
Authority: JP
Inventors: Minoru Koshimizu; 実小清水; Toru Teshigahara; 亨勅使川原; Takeo Kakinuma; 武夫柿沼
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1992-04-20
Filing date: 1992-04-20
Publication date: 1993-11-09

Abstract

(57)【要約】【目的】良好なコントラストを有する潜像を得るため
のエッジがシャープな露光プロファイルを形成すること
ができるとともに、この露光プロファイルのスポット径
を１ピクセルごとに高速に変調して階調の安定性に優れ
た階調画像の光書き込みが可能な光書き込み装置を提供
することを目的とする。【構成】レーザービームの光路中にあって、該レーザ
ービームが通過する空間領域の少なくとも一部に配置さ
れ、レーザービームの光路に沿って配列された複数の電
極を有する電気光学素子と、前記複数の電極に画像情報
の階調信号に応じて選択的に電圧を印加する電圧印加手
段と、前記電気光学素子を通過したレーザービームを、
感光体上に走査露光する走査手段とを備えるように構成
した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、デジタル複写機やプ
リンタ等の画像記録装置に使用され、感光体上に画像情
報に応じて選択的に光を照射し、静電潜像を形成するた
めの光書き込み装置に関し、特に、良好な潜像コントラ
ストを得ることができるとともに階調表現が可能な光書
き込み装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、上記光書き込み装置としては、例
えば、図９に示すようなものがある。この光書き込み装
置は、半導体レーザー１００から出射されたレーザービ
ームを、コリメータレンズ１０１によって平行光に変換
した後、シリンドリカルレンズ１０２によって走査ミラ
ー１０３上に副走査方向に一旦集光する。そして、この
集光されたビームを、走査ミラー１０３によって感光体
ドラム１０４の回転軸方向に沿って走査し、ｆθレンズ
１０５及びシリンドリカルミラー１０６からなるｆθ結
像光学系によって、感光体ドラム１０４上で均一な径の
スポットとして主走査および副走査方向に集光し、感光
体ドラム１０４上に画像の書き込みを行うように構成さ
れている。

【０００３】上記スポットによる感光体ドラム１０４上
の露光プロファイルは、良好な静電潜像のコントラスト
を得るという点からすれば、図１０に示すような矩形状
が望ましく、特開昭６２−２５７２６８号公報に開示さ
れている方法のように、複数の発光部を有する半導体レ
ーザーを用いてこれらを集束面上で合成することにより
これを達成している例もある。しかし、通常の単一レー
ザービームによる露光プロファイルは、図１１に示すよ
うに、ほぼガウス分布で近似できる形となっている。

【０００４】また、このような光書き込み装置を用いた
画像記録装置においては、画像の高画質化を図るために
階調記録が行われる。その方法として代表的なものは、
図１２に示すように、半導体レーザーの点灯時間をパル
ス幅を制御することによって変化させ、レーザービーム
による記録の一画素における露光面積を制御するものが
挙げられる。

【０００５】このような技術としては、例えば、特開昭
６２−３９９７２号公報に開示されているものがある。
この特開昭６２−３９９７２号公報に係る画像処理装置
は、デイジタル入力信号に応答する画像処理装置であっ
て、一連の連続した走査ラインを発生するためのラスタ
走査プリント部と、該装置へのデイジタル入力信号から
パルス幅変調信号を発生するための手段と、該パルス幅
変調信号を該プリント部に供給し、該プリント部からラ
インセグメントの連続として前記各走査ラインを発生せ
しめる手段とを具備し、該ラインセグメントの長さが該
パルス幅変調信号に従って制御されて、該ラインセグメ
ントから、濃度の可変で該ラインセグメント複数個から
なるスクリーンを生じさせるように構成したものであ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来技術
の場合には、次のような問題点を有している。すなわ
ち、上記従来の光書き込み装置は、感光体ドラム１０４
上の集光スポットの露光プロファイルが、図１１に示す
ように、ほぼガウス分布で近似できる形となっているた
め、感光体ドラム１０４上に形成される静電潜像の電位
も、ほぼガウス分布を逆さにした形で近似できる。その
ため、スポット径に近い幅を持つ細線などを書き込む場
合には、潜像のエッジがシャープにならなかったり、現
像レベルの変動によって線幅にむらが生じたりする虞れ
があるという問題点を有するものであった。

【０００７】また、ガウス型プロファイルを持つビーム
を用いた従来の露光時間変調による階調記録方法として
は、上述した特開昭６２−３９９７２号公報において開
示されているように、基準の三角波と画像階調信号を比
較してパルス幅の変調信号を生成するものが知られてい
る。このパルス幅変調されたスポットによる露光は、そ
のスポット径以上の範囲を露光する場合、電子写真プロ
セスに対して安定した２値による面積階調に近い潜像を
形成することができる。ところが、パルス幅がごく短く
なると、光源である半導体レーザの駆動回路の応答特性
や電子写真プロセスにおけるスレッショルド近辺の変動
に対する不安定性を反映して、スポットによる露光は、
面積変調的挙動よりむしろ強度変調的挙動を示すように
なり、階調再現が不安定性を示すようになるという問題
点がある。この電子写真プロセスにおけるアナログ的な
階調再現における不安定性は、露光のスポットサイズを
無限小にすることにより解消することができるが、実際
には光学系の限界があるため、これを無限小にすること
は不可能であるという問題点を有している。

【０００８】上述した潜像のエッジのシャープさや現像
レベルの変動による線幅のむらを防止するためには、前
記したような複数の発光部を有する半導体レーザー光源
を用いてプロファイルを矩形状に合成することが考えら
れる。

【０００９】しかし、この場合には、半導体レーザーに
形成された発光部の位置は一定であるため、一旦、結像
光学系を定めて位置合わせをすると、感光体ドラム上に
おける集光スポットの位置も特定される。そのため、任
意に合成プロファイルの形を変更することができず、合
成プロファイルのスポット幅を調節して階調記録を行う
ことができないという問題点が新たに生じる。

【００１０】また、高画質化や安定性に優れた階調記録
を行うための方法としては、特開昭６０−６８３１７号
公報や特開平１−２６２５１９号公報等に開示されてい
るように、レーザービームのスポット径を変える技術も
いくつか提案されている。

【００１１】特開昭６０−６８３１７号公報に開示され
たレーザービームプリンタの光学走査装置は、映像信号
によって変調された発散レーザビームを発射する光源
と、該光源から発射された該発散レーザビームを平行レ
ーザビームに変換する光束変換手段と、該光束変換手段
からの該レーザビームを偏向する偏向手段と、該偏向手
段からの該レーザビームを結像させるための結像光学系
と、該結像光学系によって該レーザビームが結像する像
担持体とを備えたレーザビームプリンタの光学走査装置
において、該偏向手段に入射される該平行レーザビーム
の径を制御するビーム径制御手段を備えるように構成し
たものである。

【００１２】また、特開平１−２６２５１９号公報に開
示された画像形成装置は、レーザービームの照射により
感光体上に潜像を形成する画像形成装置に於いて、前記
レーザービームの光路中に所定の周期で光路を遮断する
可動スリットを配設するように構成したものである。

【００１３】しかし、これらの提案に係るものは、コリ
メータレンズを移動させたり、光路中に可動スリットを
設けてビーム径を切り替えたりするといったメカニカル
な駆動方法を必要とするため、１ピクセルごとを変調す
る数十ＭＨｚの高速動作には適さないといった問題点を
有している。

【００１４】そこで、この発明は、上記従来技術の問題
点を解決するためになされたもので、その目的とすると
ころは、良好なコントラストを有する潜像を得るための
エッジがシャープな露光プロファイルを形成することが
できるとともに、この露光プロファイルのスポット径を
１ピクセルごとに高速に変調して階調の安定性に優れた
階調画像の光書き込みが可能な光書き込み装置を提供す
ることにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】この発明の上記目的は、
次の構成によって達成される。

【００１６】すなわち、この発明は、画像情報によって
オン／オフ制御されるレーザービームを感光体上に走査
露光し、当該感光体上に画像情報に応じた静電潜像を形
成するための光書き込み装置において、上記レーザービ
ームの光路中にあって、該レーザービームが通過する空
間領域の少なくとも一部に配置され、レーザービームの
光路に沿って配列された複数の電極を有する電気光学素
子と、前記複数の電極に画像情報の階調信号に応じて選
択的に電圧を印加する電圧印加手段と、前記電気光学素
子を通過したレーザービームを、感光体上に走査露光す
る走査手段とを備えるように構成したものである。

【００１７】上記電気光学素子には、その電極に電圧印
加手段によって所定のパターンで電圧を印加することに
より、電気光学素子中に屈折率の周期的変化を利用した
位相格子が形成される。

【００１８】また、前記位相格子として作用する電気光
学素子に入射するビームは、電気光学素子の端部から内
部に入射し、位相格子が形成されている結晶の内面で全
反射し、再び素子外部に出射するようにそのビーム経路
が形成される。

【００１９】さらに、前記位相格子として作用する電気
光学素子に入射するビームは、電気光学素子の基板上に
形成された導波路内に導かれ、導波路上に形成された位
相格子を通過するようにそのビーム経路を構成するよう
にしても良い。

【００２０】

【作用】この発明では、レーザービームの光路中にあっ
て、該レーザービームが通過する空間領域の少なくとも
一部に配置され、レーザービームの光路に沿って配列さ
れた複数の電極を有する電気光学素子と、前記複数の電
極に画像情報の階調信号に応じて選択的に電圧を印加す
る電圧印加手段と、前記電気光学素子を通過したレーザ
ービームを、感光体上に走査露光する走査手段とを備え
るように構成されているので、前記電気光学素子の電極
に電圧印加手段によって所定のパターンで電圧を印加す
ることにより、電気光学素子中に屈折率の周期的変化を
利用した位相格子を形成することができる。そのため、
上記電気光学素子中に入射したレーザービームは、屈折
率が周期的に変化する位相格子によって回折され、電気
光学素子からは、多次の回折光と０次光ビームが出射さ
れる。そして、これらの多次の回折光と０次光ビーム
は、走査手段によって感光体上に走査露光されるため、
感光体上には、所定の角度回折された多次の回折光と０
次光ビームが重ね合わされたレーザービームを照射する
ことができ、ビームの露光プロファイルをエッジがシャ
ープな形状に形成することができる。

【００２１】また、電気光学素子の電極に印加する電圧
のパターンを、画像情報の階調信号に応じて変化させる
ことにより、露光プロファイルのスポット径を１ピクセ
ルごとに高速に変調して階調の安定性に優れた階調画像
の光書き込みを行なうことができる。

【００２２】

【実施例】以下にこの発明を図示の実施例に基づいて説
明する。

【００２３】図１はこの発明に係る光書き込み装置の一
実施例を示すものである。

【００２４】図において、１はレーザー光源としての半
導体レーザーを示すものであり、この半導体レーザー１
としては、例えば、発光波長が７８０ｎｍ程度のものが
用いられる。この半導体レーザー１から出射されたレー
ザービームは、コリメータレンズ２によって平行光に変
換された後、シリンドリカルレンズ３によってビームの
副走査方向に集光される。この集光されたレーザービー
ムは、電気光学素子４の鏡面研磨された側面４ａからあ
る角度を持って入射し、電気光学素子４内部の後述する
位相格子が形成される領域にあたる内面４ｂで最もビー
ム径が絞られ、この内面４ｂで全反射した後、やはり鏡
面研磨された他方の側面４ｃから出射されるようになっ
ている。

【００２５】上記電気光学素子４から出射されたレーザ
ービームは、集光レンズ５によって集光されて走査ミラ
ー６上に照射され、この走査ミラー６によって感光体ド
ラム９の回転軸方向に沿って走査露光される。その際、
レーザービームは、ｆθレンズ７及びシリンドリカルミ
ラー８からなるｆθ結像光学系によって、感光体ドラム
９上で所定形状のスポットとして主走査および副走査方
向に集光され、感光体ドラム９上に走査露光され、感光
体ドラム９上には、画像情報に応じた光書き込みが行わ
れる。

【００２６】ところで、この実施例では、上記レーザー
ビームの光路中にあって、該レーザービームが通過する
空間領域の少なくとも一部に配置され、レーザービーム
の光路に沿って配列された複数の電極を有する電気光学
素子と、前記複数の電極に画像情報の階調信号に応じて
選択的に電圧を印加する電圧印加手段と、前記電気光学
素子を通過したレーザービームを、感光体上に走査露光
する走査手段とを備えるように構成されている。

【００２７】すなわち、上記シリンドリカルレンズ３と
集光レンズ５との間には、レーザービームの光路中にあ
って、レーザービームが通過する空間領域を全て含むよ
うに電気光学素子４が配置されている。この電気光学素
子４の材料としては、例えば、１次の電気光学効果（ポ
ッケルス効果）を有する結晶であるＬｉＮｂＯ₃の結晶
が用いられる。しかし、これ以外にも、電気光学素子４
の材料としては、１次の電気光学効果（ポッケルス効
果）を有するＬｉＴａＯ₃、ＢａＴｉＯ₃、ＫＨ₂ＰＯ
₄（ＫＨＰ）、ＫＤ₂ＰＯ₄（ＫＤＰ）、ＺｎＯ等の結
晶が用いられる。

【００２８】上記電気光学素子４を形成する結晶は、図
２に示すように、比較的薄い直方体状に形成されてい
る。そして、この電気光学素子４は、その長手方向がレ
ーザービームの光路と直交するように配置されている。
上記電気光学素子４には、上述したように、シリンドリ
カルレンズ５によって集光されたレーザービームが、鏡
面研磨された側面４ａからある角度を持って入射され、
電気光学素子４内部の後述する位相格子が形成される領
域にあたる内面４ｂで最もビーム径が絞られ、この内面
ｂで全反射した後、やはり鏡面研磨された他方の側面ｃ
から出射されるようになっている。

【００２９】上記電気光学素子４を形成する結晶の主面
方位は、図３に示すように、Ｙ面であり、電気光学素子
４のＹ面に相当する下側の外面４ｂ’上には、Ｚ軸方向
に沿って電界を形成するための櫛形のアルミニウム電極
１０、１０…が複数形成されている。これらのアルミニ
ウム電極１０、１０…は、レーザービームの光路方向に
沿って形成されており、互いに所定の間隔をおいて平行
に配列されている。上記アルミニウム電極１０、１０…
は、例えば、幅が１０μｍで２０μｍのピッチで配列さ
れる。いま、入射するレーザービームの直径を約２．５
ｍｍとすると、位相格子を形成する領域の幅をこれに合
わせるため、電極１０、１０…の総数は、１２８本に設
定される。

【００３０】上記アルミニウム電極１０、１０…は、電
気光学素子４を形成するＬｉＮｂＯ₃基板上にアルミニ
ウム薄膜を一様な厚さに着膜した後、この着膜したアル
ミニウム薄膜をフォトリソグラフィ技術によりパターニ
ングし、エッチングすることによって作製される。この
作製されたアルミニウム電極１０、１０…は、個別に電
圧が印加できるように、図３に示すように、引き出し線
１１、１１…を介してそれぞれ独立に引き出されてい
る。これらの引き出し線１１、１１…は、熱圧着等の手
段によって図示しないＦＰＣ（ＦｌｅｘｉｂｌｅＰｒ
ｉｎｔｅｄＣｉｒｃｕｉｔ）と接続されており、図示
しないＦＰＣを介して電圧印加手段１２に接続されてい
る。そして、上記各アルミニウム電極１０、１０…に
は、電圧印加手段１２によって画像情報の階調信号に従
ったパターンの電圧が選択的に印加されるようになって
いる。

【００３１】以上の構成において、この実施例に係る光
書き込み装置では、次のようにして感光体ドラムへの光
書き込みが行われる。すなわち、半導体レーザー１から
出射されたレーザービームは、図１に示すように、コリ
メータレンズ２によって平行光に変換された後、シリン
ドリカルレンズ３によってビーム副走査方向に集光され
る。この集光されたビームは、電気光学素子４中を通過
した後、集光レンズ５によって集光されて走査ミラー６
上に照射され、走査ミラー６によって感光体ドラム９の
回転軸方向に沿ってｆθレンズ７及びシリンドリカルミ
ラー８からなるｆθ結像光学系を介して走査露光され、
感光体ドラム９上には、画像情報に応じた光書き込みが
行われる。

【００３２】その際、上記電気光学素子４には、図２に
示すように、結晶のＸ軸方向に沿ってレーザービームが
入射した後、このレーザービームは、アルミニウム電極
１０、１０…が形成されている結晶のＸ−Ｚ軸平面と平
行な一方の表面の丁度内側の面４ｂで全反射する。この
電気光学素子４を形成する結晶に入射するビームの偏光
方向は、Ｚ軸方向に平行になっている。

【００３３】以下に、電気光学素子４中におけるレーザ
ービームの挙動について述べる。電気光学素子４に入射
したレーザービームがその内面４ｂで全反射するための
角度条件は、ＬｉＮｂＯ₃の屈折率（ｎ＝２．２）から
決められる。この場合、電気光学素子４の内部反射面４
ｂへの入射角θが、θ＝ｓｉｎ^-1（１／２．２）＝２７
ｄｅｇ以上であれば、光損失がなく全反射することにな
る。従って、電気光学素子４の内部反射面４ｂへの入射
角θは、２７ｄｅｇ以上に設定される。

【００３４】上記電気光学素子４の下側外面４ｂ’上に
形成されたアルミニウム電極１０、１０…には、電圧印
加手段１２によってそれぞれに現在光書き込みを行って
いるピクセルの階調信号に対応したパターンの電圧が選
択的に印加される。

【００３５】いま、上記アルミニウム電極１０、１０…
に、図４に示すように、交互にプラス（＋）、マイナス
（−）の電圧を印加すると、電気光学素子４には、アル
ミニウム電極１０、１０…の配列ピッチＰと等しい間隔
で、Ｚ方向に向かって電界Ｅが形成される。この電気光
学素子４の電界Ｅが形成された部分は、１次の電気光学
効果によってＺ方向に沿って屈折率の変化を生じる。こ
の屈折率の変化は、電界のかからない電極面上には起こ
らず、電極間のみで起こるため、電界の形成された格子
のピッチに応じた周期で電界による屈折率変化の格子が
形成され、ここを通過するレーザービームにこの周期を
持った位相の変化を生じさせる。即ち、上記電気光学素
子４は、位相格子として作用する。

【００３６】そのため、この電気光学素子４を通過した
レーザービームには、回折が生じる。レーザービームが
電極１０、１０…に沿って平行に入射した場合は、ラマ
ン・ナス回折が生じ、レーザービームは、直進する０次
光の両側に、１次光、２次光、…ｍ次光の回折光が発生
する。その際、光源として半導体レーザ１を用いた場合
には、多次光の殆どは１次光成分である。これらのｍ次
回折光の回折角θは、位相格子のピッチΛとの間に次の
ような関係がある。ｓｉｎθ＝ｍλ／Λ（ｍは光の次数）（１）

【００３７】ここで、λはレーザー光の波長である。
今、電極１０、１０…に印加する電圧パターンを図４の
ように＋の電圧と０Ｖを交互に印加するように設定した
とすると、形成された位相格子のピッチΛは、電極１
０、１０…のピッチ２０μｍと等しくなる。このときの
１次光の回折角θを求めてみると、 θ＝ｓｉｎ^-1（０．７８／２０）が得られる。さらに、電圧パターンを図５に示すように
隣接する２本の電極ずつ交互に＋の電圧と０Ｖを加えた
場合、形成される位相格子のピッチΛは、電極ピッチの
２倍の４０μｍになる。このときの１次光の回折角θを
（１）式から同様に求めると、１．１２ｄｅｇになる。
同じようにして、電極に印加する電圧パターンを制御
し、形成する位相格子のピッチを可変することができ
る。

【００３８】レーザービームが通過する領域全てに於い
て等しいピッチの位相格子を形成する場合、具体的に
は、電極ピッチ２０μｍを基本としてその整数倍のピッ
チを有する位相格子が作成可能であり、最大、電極総数
１２８本を３つの領域に分割してそれぞれの領域に＋の
電圧と０Ｖを交互に割りつけた場合、ピッチ８５０μｍ
程度までの位相格子を得ることができる。

【００３９】この場合の１次光の回折角は、（１）式か
ら約０．０５２６ｄｅｇと求まる。本実施例において形
成可能な位相格子のピッチとそれによって得られる１次
光の回折角の関係を図６に示す。位相格子のピッチが８
５０μｍ近辺で２０μｍ程度変化した場合の回折角の変
化は、非常に微妙であり、例えば、ピッチ８４０μｍで
回折角は０．０５３２ｄｅｇ、ピッチ８６０μｍで回折
角は、０．０５２０ｄｅｇとなる。この回折角の違い
は、例えば、感光体ドラム９上に集光された０次光と１
次光のスポット位置の差としては、集光系の焦点距離に
よって異なるがだいたい数μｍ程度のオーダーとなる。
良好なコントラストを得るための矩形に近い露光プロフ
ァイルは、０次光と１次光の重なり方を同様に微妙に変
化させることによって得ることができる。

【００４０】以上のような方法で、１次光の回折角を電
極への入力電圧パターン、つまり位相格子のピッチを制
御することで、デジタル的に微妙に変化できることが明
らかである。

【００４１】その結果、感光体ドラム９上において、０
次光と１次光の集光される位置は、図７（ａ）に模式的
に表したように、回折光の回折角θと集光光学系の焦点
距離によって決まる。このとき、回折角θが大きい程、
感光体ドラム９上では０次光と１次光のプロファイルが
離れた合成プロファイルが、矩形に近い形になるように
回折の度合いと回折角を調節する。また、階調信号に従
って図７（ｂ）〜（ｅ）に示すように０次光と１次光の
重なり方を制御し、合成された露光プロファイルのスポ
ット径を変えることができる。このとき、電子写真プロ
セスに対して安定した面積階調的な階調表現を得ること
ができる。

【００４２】なお、前記実施例の電気光学素子４におい
ては、その外側面４ｂ’上に電極１０、１０…を形成
し、位相格子として機能する領域の幅を、レーザビーム
径に合わせて２．５μｍ程度に定めている。従って、得
ることのできる格子ピッチの最大値は、全ての電極１
０、１０…を３つの領域に分割した場合であって、全幅
のの１／３である８５０μｍ程度に制限されているが、
入射するビームをビームエクスパンダーなどで拡大して
使用する場合、それに合わせて電極の形成する領域の幅
を広げたデバイスを作成し、より大きなピッチの位相格
子を形成することもできる。こうした場合には、電気光
学素子４によるレーザービームの１次光の回折角を大幅
に小さくできる。

【００４３】また、前記実施例では、電極１０、１０…
のピッチを２０μｍとしたが、これをさらに小さくする
ことにより、ピッチの制御に関する分解能を高め、回折
角のより微妙な制御を可能にすることもできる。

【００４４】第二実施例図８はこの発明の第二実施例を示すものであり、前記実
施例と同一の部分には同一の符号を付して説明すると、
前記第一の実施例で説明した位相格子となる電気光学素
子４は、バルク状態のＬｉＮｂＯ₃単結晶中にビームを
入射し、電極面近傍における位相格子が形成されている
領域での全反射を利用して回折を起こさせるものがある
が、基本的に格子のピッチが可変できる位相格子によっ
て回折を起こすことが可能な電気光学素子の素材と構造
であればこれに限定されるものではない。

【００４５】例えば、図８に示すように、ＬｉＴａＯ₃
基板の上にＬｉＴａＯ₃にＮｂを拡散して作った光導波
路２０にビームを導き、光導波路上にフォトリソグラフ
ィ技術によってアルミニウム薄膜をパターニングして作
製した交差指電極１０、１０…に階調信号に従った電極
パターンで電圧を印加することにより、位相格子のピッ
チを制御し、所望の回折角を得て、０次光と１次光の合
成プロファイルのビーム径を変化させるように構成して
も良い。

【００４６】その他の構成及び作用は前記第一の実施例
と同様であるので、その説明を省略する。

【００４７】

【発明の効果】この発明は、以上の構成及び作用よりな
るもので、良好なコントラストを有する潜像を得るため
のエッジがシャープな露光プロファイルを形成すること
ができるとともに、この露光プロファイルのスポット径
を１ピクセルごとに高速に変調して階調の安定性に優れ
た階調画像の光書き込みが可能な光書き込み装置を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１はこの発明に係る光書き込み装置の一実
施例を示す構成図である。

【図２】図２は電気光学素子を示す斜視図である。

【図３】図３は電気光学素子を示す裏面図である。

【図４】図４は電気光学素子の作用を示す説明図であ
る。

【図５】図５は電気光学素子の作用を示す説明図であ
る。

【図６】図６は電気光学素子に形成される位相格子の
ピッチと１次光の回折角との関係を示すグラフである。

【図７】図７（ａ）〜（ｅ）は電気光学素子によって
回折されたレーザービームの照射状態をそれぞれ示す光
路説明図及び合成プロファイルの説明図である。

【図８】図８はこの発明に係る光書き込み装置の他の
実施例を示す電気光学素子の構成図である。

【図９】図９は従来の光書き込み装置を示す構成図で
ある。

【図１０】図１０は露光プロファイルを示す説明図で
ある。

【図１１】図１１は露光プロファイルを示す説明図で
ある。

【図１２】図１２は従来の階調表現方法を示す説明図
である。

【符号の説明】

１半導体レーザー、２コリメータレンズ、３シリ
ンドリカルレンズ、４電気光学素子、５集光レンズ、
６走査ミラー、７ｆθレンズ、８シリンドリカル
ミラー、９感光体ドラム、１０電極、１２電圧印
加手段。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ０２Ｆ 1/03 ５０３Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ 7251−5Ｃ 1/23 １０３Ｂ 9186−5Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】画像情報によってオン／オフ制御される
レーザービームを感光体上に走査露光し、当該感光体上
に画像情報に応じた静電潜像を形成するための光書き込
み装置において、上記レーザービームの光路中にあっ
て、該レーザービームが通過する空間領域の少なくとも
一部に配置され、レーザービームの光路に沿って配列さ
れた複数の電極を有する電気光学素子と、前記複数の電
極に画像情報の階調信号に応じて選択的に電圧を印加す
る電圧印加手段と、前記電気光学素子を通過したレーザ
ービームを、感光体上に走査露光する走査手段とを備え
たことを特徴とする光書き込み装置。