JP2629170B2 - レーザプリンタ - Google Patents

レーザプリンタ

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JP2629170B2
JP2629170B2 JP60124440A JP12444085A JP2629170B2 JP 2629170 B2 JP2629170 B2 JP 2629170B2 JP 60124440 A JP60124440 A JP 60124440A JP 12444085 A JP12444085 A JP 12444085A JP 2629170 B2 JP2629170 B2 JP 2629170B2
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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はレーザプリンタに関し、特に、機械的可動部
分を除去して耐久性を向上させたレーザプリンタに関す
る。
従来技術 レーザ光源と該レーザ光源から発射されるレーザビー
ムの方向を所望の角度へ偏向させる光偏向装置とを備
え、該光偏向装置を用いてレーザビームを感光ドラム上
に走査することにより所望の静電パターンを該感光ドラ
ム上に形成する形式のレーザプリンタが知られている。
例えば、特開昭51−8949号公報に記載されたものがそれ
である。斯るレーザプリンタの偏向装置は、例えば第18
図および第19図に示すようにポリゴンミラー、ホログラ
ムスキャナ等が用いられるのが一般的である。
すなわち、第18図はポリゴンミラーを用いた偏向装置
の構成例を示す斜視図であって、レーザ光源110から発
射されたレーザビームはコリメータレンズ112を通し
て、外周面に複数の鏡面を面するポリゴンミラー114に
入射させられる。ポリゴンミラー114がモータ116によっ
て回転駆動されると、ポリゴンミラー114によって反射
されるレーザビームは直線状に掃引されつつトロイダル
レンズ118およびｆθレンズ120を経て感光ドラム122上
に到達するようになっている。また、第19図はホログラ
ムスキャナを用いた偏向装置の構成例を示す斜視図であ
って、レーザ光源124から発射されたレーザビームはシ
リンドリカルレンズ126および位置固定のミラー128を経
てホログラムディスク130に設けられた回折格子132に入
射させられる。ホログラムディスク130がモータ134によ
って回転駆動されると、回折格子132を通過したレーザ
ビームは回折角の変化に従って掃引されつつミラー13
6、球面レンズ138、シリンドリカルレンズ140を経て感
光ドラム142上に到達するようになっている。
しかしながら、かかる従来のレーザプリンタにおいて
は、偏向装置がポリゴンミラー、ホログラムスキャナな
どの回転機材およびその駆動装置等の機械的可動部分や
光学レンズ系を備えたものであるため、装置の騒音が大
きく、しかも、必ずしも充分な信頼性および耐久性が得
られる訳ではなかった。
発明が解決すべき問題点 そこで、音響光学効果や電気光学効果を利用してレー
ザビームを偏向させる偏向装置が提案されている。例え
ば、特開昭60−86528号公報、特開昭56−111837号公
報、特開昭59−107431号公報等に記載されている光偏向
器等がそれである。これらの光偏向器は、例えば、電気
光学効果を有するLiNbO3結晶等から成る基板の一面に他
の部分よりも屈折率が大きい層を形成することにより光
導波路を設けると共に、例えばその基板の表面に、レー
ザビームの入射方向と平行に形成された一対の電極と、
その一対の電極間において入射方向と所定の角度を成す
ように形成された電極とを設けたものであり、入射した
レーザビームが上記光導波路を通過するとき、電極によ
り生じた電界と電気光学効果とにより偏向させられる。
このため、従来のような回転機材およびその駆動装置等
の機械的可動部分が不要となり、装置が小型となって信
頼性および耐久性が向上すると共に騒音が解消される。
また、例えば、上記の特開昭56−111837号公報や特開
昭59−107431号公報等には、光偏向器が設けられている
基板上のレーザビームの射出側端部に屈折率の異なる領
域をレンズ状に形成することによりフィールドフラット
型薄膜レンズや導波路形レンズ等を設けて、偏向角度に
応じてレーザビームの収束位置を補正するこ光束補正部
が記載されている。この技術によれば、光偏向器を通過
して偏向させられることにより、上記光偏向器に入射さ
せられたときの光軸方向の焦点位置が偏向角度に応じて
異なるものとなったレーザビームが、ｆθレンズを別途
設けることなく、感光ドラム上の全ての位置においても
最も収束させられる。したがって、ｆθレンズの高い形
状精度が得られないことに起因する印字精度の低下や、
そのｆθレンズを備えるための空間を必要とすることに
起因するレーザプリンタの大型化が抑制される。
ところで、レーザプリンタにおいては、感光ドラムの
略全長に亘る比較的広い範囲でレーザビームが走査され
る必要があることから、レーザビームの収束位置を一直
線上すなわち感光ドラム上に維持しつつ、光偏向装置の
偏向角度範囲が可及的に広くされることが望まれる。し
かしながら、上記の各公報に記載されているような電界
と電気光学効果とによって光を光偏向器では、光の偏向
角度が比較的小さい範囲に留められるため、これらによ
り偏向させられたレーザビームをそのまま集光させる場
合には、レーザビームの偏向角度が比較的小さいという
問題があった。
問題点を解決するための手段 本発明は以上の事情を背景として為されたものであ
り、その要旨とするところは、レーザ光源とそのレーザ
光源から発射されるレーザビームの方向を偏向させる光
偏向装置とを備え、その光偏向装置を用いてレーザビー
ムを感光ドラム上に走査させることにより所望の静電パ
ターンをその感光ドラム上に形成する形式のレーザプリ
ンタにおいて、前記光偏向装置が、前記レーザビームを
導く光導波路が一面に形成された基板から成る光偏向素
子を含み、その光導波路内を通過する光を収束させる光
収束部と、その光導波路内を通過する光の方向を偏向さ
せる光偏向部と、その光偏向部において偏向されてその
光導波路を通過する光の収束位置を偏向角度に関連して
補正する光束補正部とが、上記光導波路に順次備えられ
ているレーザプリンタであって、前記光束補正部が、前
記光偏向部から離隔するに従って放射状に広がるように
設けられた複数の三次元光導波路と、それら複数の三次
元光導波路内を通過する光の収束位置を偏向角度に関連
して補正するためにそれら複数の三次元光導波路にそれ
ぞれ備えられた収束位置補正装置とを含むことにある。
作用および発明の効果 このようにすれば、光偏向部から離隔するに従って放
射状に広がるように設けられた複数の三次元光導波路
と、それら複数の三次元光導波路内を通過する光の収束
位置を偏向角度に関連して補正するためにそれら複数の
三次元光導波路にそれぞれ備えられた収束位置補正装置
とを含んで光束補正部が構成される。そのため、光偏向
部によって所望の角度に偏向させられたレーザビーム
は、放射状に広がる複数の三次元光導波路によって更に
大きく偏向させられる。この場合において、複数の三次
元光導波路にはそれぞれ収束位置補正装置が備えられて
いるため、個々の三次元光導波路の偏向角度に応じて光
の収束位置が補正され、感光ドラム上の広い範囲にレー
ザビームが集光させられる。したがって、レーザビーム
の収束位置を一直線上すなわち感光ドラム上に維持しつ
つ偏向角度範囲が可及的に広い光偏向装置を備えたレー
ザプリンタが得られるのである。
なお、「三次元光導波路」とは、光偏向素子を構成す
る基板の一面に形成された光導波路が平面内、すなわち
二次元で座標を表示させる範囲にレーザビームを閉じ込
めるものであるのに対し、放射状に設けられた光導波路
がその平面内のレーザビームの進行方向に垂直な面方向
の位置を含めた三次元で座標を表示される範囲にレーザ
ビームを閉じ込めるものであることを意味するものであ
る。
実施例 以下、本発明の一実施例を示す図面に基づいて詳細に
説明する。
第２図はレーザプリンタの要部を示す概略図であっ
て、一方向に回転駆動される感光ドラム10の周囲には光
偏向装置12、現像器14、転写器16、クリーナ18、コロナ
帯電器20が順次配設されている。印刷紙22は案内ローラ
24に案内されることにより感光ドラム10に接しつつそれ
と転写器16との間を通過させられた後、定着器26へ送ら
れるように構成されている。感光ドラム10は導電性支持
体、光導電層、および絶縁層から基本的に構成されてお
り、その回転に伴って外周の感光面に残存しているトナ
ーが前記クリーナ18により清掃されたのち前記コロナ帯
電器20により一様に＋または−に帯電させられる。そし
て、前記光偏向装置12によりレーザビームが帯電させら
れたか感光面上の所望の範囲に走査させられると、レー
ザビームが照射された場所と照射されない場所との間の
電位差によって感光面上に所望の形状の静電パターンが
形成される。このように形成された静電パターンには前
記現像器14からトナーが付着させられ、そのトナーのパ
ターンは前記転写器16において印刷紙22上へ転写され
る。印刷紙22上へ転写されたトナーのパターンは前記定
着器26において定着されることにより、印刷紙22上には
レーザビームにより感光ドラム10上に描かれたパターン
が印刷される。
前記光偏向装置12は、第１図に示すように構成され、
透光性を有する単一の基板から成る光偏向素子28とそれ
に一体的に設けられた半導体レーザ素子30とを備えてい
る。上記光偏向素子28は、第３図に示すように、音響光
学効果や電気光学効果などによって光導波路中を伝播す
るレーザビームを偏向させる光偏向部34と出射するレー
ザビームの焦点を調節する光束補正部36とを備えてお
り、その光偏向部34側に前記半導体レーザ素子30が一体
的に取り付けられている。上記音響光学効果は弾性波の
伝播による物質の粗密に対応して現れる周期的な屈折率
の高低によって回折される現象である。また、電気光学
効果は電界に応じて結晶内に屈折率の局所的変化が生じ
る、この屈折率の変化に従って光が屈折を受ける現象で
ある。
光偏向素子28によるレーザビームの偏向周期および半
導体レーザ素子30からのレーザビームの発射（ON−OF
F）は、通常コンピュータによって構成される印字制御
回路32によって制御されるようになっており、これによ
り、図示しないメインコンピュータから供給される画像
信号に従ってレーザビームのスイッチングおよび濃度制
御が行われて、その画像信号が表す所望の文字、記号、
画像などが印刷紙22上に印刷されるのである。
前記印字制御回路32は例えば第４図に示すように構成
される。すなわち、インターフェース38を介して伝送さ
れた印字信号をフレームバッファ40にて貯えられ、レー
ザスイッチング回路42は発振器44からの信号に同期しか
つ印字信号が表す文字などを感光ドラム10上に描くよう
に半導体レーザ素子30をON−OFF駆動する。偏向制御回
路46は光偏向部34に供給する電圧の周波数または電圧値
を発振器44からの信号に同期して調節することによりレ
ーザビームを感光ドラム10上に走査させる。光束補正制
御回路48は光束補正部36に供給する電圧を発振器44から
の信号に同期して調節することによりレーザビームの焦
点を感光ドラム10上に結ばせる。
以下、前記光偏向装置12の構成例をさらに詳しく説明
する。
第５図および第６図において、光偏向素子28の基板は
電気光学材料、例えばLiNbO3結晶からなる0.5mm程度の
厚さのチップから成り、その一面には光導波路52が設け
られている。この光導波路52は、基板の他の部分よりも
屈折率が大きくされて光が平面的に閉じ込められるよう
にすることにより好適に導かれるようになっており、例
えば基板の表面からTi（チタン）を拡散させることによ
り数μｍ程度の比較的薄い層状に形成されている。な
お、基板と光導波路52とは屈折率が異なるのみでありし
かもその屈折率は連続的に変化するため、それらの境界
は破線にて示されている。
上記基板の光導波路52が設けられている一面側には、
光収束部56、前記光偏向部34および光束補正部36が順次
設けられており、前記半導体レーザ30は、光導波路52の
上記光収束部56側の一端部に接して固設されている。そ
して、その半導体レーザ素子30の端面から出たレーザビ
ームは光導波路52内を導かれる過程で、光収束部56にお
いて平行光に収束させられかつ光偏向部34において偏向
させられるとともに、光束補正部36において焦点補正さ
れるようになっている。
すなわち、光収束部56は、基板の面方向かつ前記レー
ザビームの光軸L0に直角な方向においてその光軸L0に近
づく程拡散濃度が高くなるようにTiのような拡散材料が
拡散させられることにより、光導波路52において光軸L0
に近づく程屈折率が高くされて凸レンズ機能が設けられ
たものである。第５図の光収束部56内に示す直線群は屈
折率分布を表わすためのものであってその線密度が屈折
率の高さを示している。なお、この光収束部56は光導波
路の表面の凹陥部を設けて成るジオデシックレンズ等に
て構成されても良い。
前記光偏向部34および光束補正部36は、前記光導波路
上に多数の電極が緩衝層62を介して配設されることによ
ってそれぞれ構成されている。緩衝層62は、光導波路52
よりも屈折率の小さい透明物質例えばSiO2にて数μｍ程
度の厚みに構成されたものであり、後述の電極による光
の吸収を防止するためのものであるが、必ずしも設けら
れなくても良い。
光偏向部34は前記光軸L0を挟んで位置する一対の電極
64、66とそれら電極64、66間において光軸L0と斜光する
電極68とから構成されている。
一般に、電気光学材料には電界の強さに応じて屈折率
を変化させる性質（電気光学効果）があり、例えば、基
板がLiNbO3（Ｙ−カット結晶）の場合は、電極64,66間
に位置する部分の屈折率の変化Δｎは次式（１）の如く
なるから、 Δｎ＝（1/2）ne 3r33・Ｅ ……（１） 但し、neは基板の異常光に対する屈折率、r33は基板
の面方向における電気光学定数である。
光軸L0に直角な方向における屈折率の大きさの分布、
すなわち屈折率変化Δｎの分布も電界Ｅの分布に対応し
て変化し、例えば、電極68に正電圧、電極64および66に
接地電圧を印加すると、光偏向部34のＡ−Ａ、Ｂ−Ｂ、
Ｃ−Ｃ線上における電界Ｅおよび屈折率変化Δｎの分布
はそれぞれ第７図、第８図、第９図に示す如くとなる。
このため、光軸L0と平行に進行するレーザビームは光束
の各部で経験する屈折率が異なることにより、屈折率の
高い方へ曲げられる。
したがって、偏向制御回路46から電極68と電極64およ
び66との間にそれぞれ印加される電圧が例えば正弦波状
に時間的に変化させられると、それに同期してレーザビ
ーム70の偏向角θが正弦波状に同期的に変化させられ
る。なお、第７図乃至第９図の電界Ｅは第５図の下方向
を正としたものである。
次に、前記光束補正部36は、光偏向部34を通過するこ
とにより偏向させられたレーザビーム70を、偏向角度を
拡大しつつ感光ドラム10上の一点に収束させるためのも
のであり、第５図に示すように、多数の三次元光導波路
72に放射状に有するとともに、一連の補正用電極74を有
している。なお、理解を容易にするために図において７
本の三次元光導波路72が画かれているが、実際にはきわ
めて多数の三次元光導波路72が設けられている。
光導波路72はTi等の拡散によって中央部程屈折率が高
くなるように構成されており、光導波路72中を伝播する
レーザビーム70は第10図に示すように周期的に収束させ
られる。したがって、光導波路72の長さｌを選択するこ
とにより焦点が感光ドラム10上に形成されるようになっ
ている。前記補正用電極74は第11図に示すように光導波
路72上に配設されており、レーザビーム70が伝播してい
る光導波路72bのとなりの光導波路72a、72c上の補正用
電極74aと74c間に補正電圧が印加されることにより、光
導波路72bの電極74aと74cとの間に位置する部分の屈折
率が変化させられる。このため、例えば第12図の（ａ）
に示す状態から（ｂ）に示す状態に変化させられて焦点
補正が行われるのである。このような焦点補正のための
信号が光束補正制御回路48から偏向角度に関連して供給
される。したがって、本実施例においては、上記補正用
電極74が収束位置補正装置に対応する。なお、第13図に
示すように、光偏向素子28から出力されるレーザビーム
70の垂直方向の焦点を補正するために、トロイダルレン
ズ76が必要に応じて設けられる。
このように、本実施例においては、光偏向素子28に入
射させられたレーザビーム70は、光収束部56によって平
行光に収束させられ、光偏向部34の光偏向作用によって
所望の角度に偏向させられた後、同様に上記光偏向素子
28に備えられている光束補正部36によってその収束位置
が補正される。そのため、光偏向装置12が通過した後に
ｆθレンズ等によって収束位置を補正する必要がなくな
る。したがって、高い加工精度を得ることが困難である
と共に装置の小型化を妨げるｆθレンズが不要となり、
レーザプリンタの印字精度の向上および小型化が可能と
なる。
この場合において、光束補正部36は、光偏向部34から
離隔するに従って放射状に広がるように設けられた複数
の三次元光導波路72と、それら複数の三次元光導波路72
内を通過する光の収束位置を偏向角度に関連して補正す
るためにそれら複数の三次元光導波路72にそれぞれ備え
られた補正用電極74とから構成される。そのため、光偏
向部34によって所望の角度に偏向させられたレーザビー
ム70は、放射状に広がる複数の三次元光導波路72によっ
て更に大きく偏向させられるが、複数の三次元光導波路
72にはそれぞれ補正用電極74が備えられているため、個
々の三次元光導波路72の偏向角度に応じてレーザビーム
70の収束位置が補正され、感光ドラム10上の広い範囲に
レーザビーム70が集光させられる。したがって、レーザ
ビーム70の収束位置を感光ドラム10上に維持しつつその
偏向角度範囲が可及的に広い光偏向装置12を備えたレー
ザプリンタが得られるのである。
次に、光偏向装置12の他の構成例を説明する。
第14図および第15図において、光偏向素子80の基板は
LiNbO3結晶などの電気光学材料からなる0.5mm程度のも
のであり、その基板の一面には、Ti（チタン）などを拡
散させることにより数μｍ程度の比較的薄い層状に形成
された光導波路82が設けられている。なお、上記基板
は、例えば電気光学効果のきわめて少ないLiTaO3や電気
光学効果のないSiO2などの基板上にLiNbO3などの電気光
学材料製薄膜を形成したものや、他の種類の電気光学材
料からなる基板でもよく、また、拡散させる金属材料は
電気光学材料の屈折率を拡散により変化させる物質、例
えばＶ（バナジウム）、Nb（ニオブ）、Cu（銅）等であ
っても良い。
上記光導波路82の一端部には図示しないレーザ光源に
接続された光ファイバ（光学繊維）84の一端が連結され
ており、その光ファイバ84の端面から出たレーザビーム
は光導波路82内を導かれる過程で、光収束部86において
平行光に収束させられかつ光偏向部88において偏向させ
られるとともに、偏向角度増幅部90において偏向角が増
幅され、次いで前述と同様の多数の三次元光導波路104
から成る光束補正部92において焦点補正されるようにな
っている。
すなわち、光収束部86は、基板の面方向かつ前記レー
ザビームの光軸L0に直角な方向においてその光軸L0に近
づく程拡散濃度が高くなるようにTiのような拡散材料が
拡散させられることにより、第16図に示すように、光導
波路82において光軸L0に近づくと程屈折率が高くされて
凸レンズ機能が設けられたものである。第14図および第
16図の光収束部86に示す直線群は屈折率分布を表わすた
めのものであってその線密度が屈折率の高さを示してい
る。
光偏向部88は、基板上の一端部に設けられた一対の櫛
型電極94,96によって励振された弾性表面波（超音波）9
8により、光導波路82内において前記レーザビームの光
軸L0に交差する方向に周期的な屈折率変化が形成され、
ここを通過するレーザビームがブラッグ回折により回折
されるようになっている。すなわち、光の波長をλ、光
導波路82の屈折率をｎ、弾性表面波98の波長をΛとする
と、ブラッグ回折による回折角２θＢは次式（２）に従
って得られる。そして、前記偏向制御装置46から櫛型電
極94,96に供給される電圧の周波数が変更操作されるに
伴って弾性表面波98の周波数がΔｆだけ変化させられる
と次式（３）にしたがって偏向角度がΔθＢだけ変化さ
せられるのである。
２θＢ＝λ/nΛ ……（２） ΔθＢ≒λ・Δf/v ……（３） 但し、ｖは弾性表面波の伝播速度である。
なお、弾性表面波98は実際には目視出来ないが理解を
容易とするために図示されている。また、本実施例では
基板が電歪素子としての機能を有するLiNbO3であるた
め、櫛型電極94,96間への電圧印加により弾性表面波98
が発生させられるが、PZTやZnO等の超音波トランジュー
サ等が基板の端面に取り付けられても良い。さらに、上
記ブラッグ回折による傾向に替えて、ラン・ナス回折に
よる回折光のうち目的とする次数以外の光を吸収し目的
とする角度の光を通過させるように構成されてもよい。
前記偏向角度増幅部90は、光偏向部88における振り幅
の中心に位置するレーザビームの光軸L1に直角な方向に
おいてその光軸L1から離隔する程拡散濃度が高くなるよ
うにTiのような拡散材料が拡散させられることにより、
第17図に示すように、光導波路82において光軸L1から離
れる程屈折率が高くされて凹レンズ機能が設けられたも
のである。したがって、偏向角度増幅部90を通過させる
ことによって、光偏向部88における偏向角がΔθＢから
ΔθＢ′に増幅される。第17図の偏向角度増幅部90に示
す直線も屈折率の分布を表わすためのものであり、実際
には目視できないものである。
前記光束補正部92は、前記光導波路82上に緩衝層100
を介して配設された多数の補正用電極102によって三次
元光導波路104内を伝播するレーザビームの焦点が前述
の実施例と同様に補正されるように構成されている。
したがって、以上のように構成された光偏向素子80を
備えた光偏向装置12においては、光ファイバ84から光導
波路82内へ入射されたレーザビームは、光収束部86によ
って平行光とされた後、光偏向部88および偏向角度増幅
部90によって所望の角度ΔθＢ′に偏向される。そし
て、このように偏向されたレーザビームは光束補正部92
によって偏向角に拘わらず感光ドラム10上の一点に収束
させられ、それが走査させられるのである。
このように、本実施例においても、光偏向部88および
偏向角度増幅部90によって所望の角度に偏向させられた
レーザビームは、光収束部86、光偏向部88、および偏向
角度増幅部90と同様に光偏向素子80に備えられている光
束補正部92によって、その収束位置が補正される。した
がって、ｆθレンズが同様に不要となり、レーザプリン
タの印字精度の向上および小型化が可能となる。
また、本実施例においても、光束補正部92は、光偏向
部88から離隔するに従って放射状に広がるように設けら
れた複数の三次元光導波路104と、それら複数の三次元
光導波路104内を通過する光の収束位置を偏向角度に関
連して補正するためにそれら複数の三次元光導波路104
にそれぞれ備えられた補正用電極102とから構成され
る。そのため、光偏向部88によって所望の角度に偏向さ
せられたレーザビームは、放射状に広がる複数の三次元
光導波路104によって更に大きく偏向させられるが、複
数の三次元光導波路104にはそれぞれ補正用電極102が備
えられているため、個々の三次元光導波路104の偏向角
度に応じてレーザビームの収束位置が補正され、感光ド
ラム10上の広い範囲にレーザビームが集光させられる。
したがって、レーザビームの収束位置を感光ドラム10上
に維持しつつその偏向角度範囲が可及的に広い光偏向装
置12を備えたレーザプリンタが得られるのである。
なお、上述したのはあくまでも本発明の一実施例であ
り、本発明はその精神を逸脱しない範囲において種々偏
向が加えられ得るものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は第２図の光偏向装置を簡単に示す要部斜視図で
ある。第２図は本発明の一実施例の構成を示す概略図で
ある。第３図は第１図の光偏向素子を示す斜視図であ
る。第４図は第２図の装置に備えられた印字制御回路を
示すブロック線図である。第５図および第６図は第３図
の光偏向素子を詳細に示す平面図および側面図である。
第７図、８図、および第９図は第５図のＡ−Ａ線、Ｂ−
Ｂ線、およびＣ−Ｃ線上の電界分布および屈折率変化量
の分布をそれぞれ示す図である。第10図は第５図の光束
補正部のレーザビーム伝播状態を示す図である。第11図
は光束補正の際の電極の選択方式を説明する図である。
第12図は光束補正部の補正作用を説明する図であって、
（ａ）は電圧無印加状態を示しており、（ｂ）は電圧印
加状態を示している。第13図は第５図の光偏向素子の出
力側に設けられる補正用レンズの例を示す図である。第
14図および第15図は光偏向素子の他の例を示す第５図お
よび第６図に相当する図である。第16図および第17図は
第14図および第15図に示す光偏向素子の光収束部および
偏向角度増幅部の屈折率分布をそれぞれ示す断面図であ
る。第18図および第19図は従来の光偏向装置を示す図で
ある。 10:感光ドラム 12:光偏向装置 28,80:光偏向素子 30:半導体レーザ素子（レーザ光源） 52,82:光導波路 56,86:光収束部 34,88:光偏向部 36,92:光束補正部 70:レーザビーム 72,104:三次元光導波路 74,102:補正用電極（収束位置補正装置）

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】レーザ光源と該レーザ光源から発射される
    レーザビームの方向を偏向させる光偏向装置とを備え、
    該光偏向装置を用いてレーザビームを感光ドラム上に走
    査させることにより所望の静電パターンを該感光ドラム
    上に形成する形式のレーザプリンタにおいて、前記光偏
    向装置が、前記レーザビームを導く光導波路が一面に形
    成された基板から成る光偏向素子を含み、該光導波路内
    を通過する光を収束させる光収束部と、該光導波路内を
    通過する光の方向を偏向させる光偏向部と、該光偏向部
    において偏向されて該光導波路内を通過する光の収束位
    置を偏向角度に関連して補正する光束補正部とが、上記
    光導波路に順次備えられているレーザプリンタであっ
    て、 前記光束補正部が、前記光偏向部から離隔するに従って
    放射状に広がるように設けられた複数の三次元光導波路
    と、該複数の三次元光導波路内を通過する光の収束位置
    を偏向角度に関連して補正するために該複数の三次元光
    導波路にそれぞれ備えられた収束位置補正装置とを含む
    ことを特徴とするレーザプリンタ。
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