JPH05282708A - 高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク及びそれを用いた複製方法 - Google Patents
高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク及びそれを用いた複製方法Info
- Publication number
- JPH05282708A JPH05282708A JP7708992A JP7708992A JPH05282708A JP H05282708 A JPH05282708 A JP H05282708A JP 7708992 A JP7708992 A JP 7708992A JP 7708992 A JP7708992 A JP 7708992A JP H05282708 A JPH05282708 A JP H05282708A
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- JP
- Japan
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- photomask
- mask
- light
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- disk
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安価に製造でき、劣化が少なく、かつ書き換
え可能な、複製ディスク複製用のフォトマスク及びこれ
を用いた複製方法を提供することを目的とする。 【構成】 基板にフォトクロミック材料を塗布した色素
層に光の照射による光学的濃淡の形で情報が消去可能に
書き込まれてなる高密度情報記録ディスク複製用フォト
マスクであり、またこれを用いて複製用ディスクに情報
を転写する場合に、短波長側の光と長波長側の光とを同
時に前記フォトマスクに照射し、該フォトマスクを通過
した光によって前記複製用ディスクに情報を複製するも
のである。
え可能な、複製ディスク複製用のフォトマスク及びこれ
を用いた複製方法を提供することを目的とする。 【構成】 基板にフォトクロミック材料を塗布した色素
層に光の照射による光学的濃淡の形で情報が消去可能に
書き込まれてなる高密度情報記録ディスク複製用フォト
マスクであり、またこれを用いて複製用ディスクに情報
を転写する場合に、短波長側の光と長波長側の光とを同
時に前記フォトマスクに照射し、該フォトマスクを通過
した光によって前記複製用ディスクに情報を複製するも
のである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高密度でかつ大容量の情
報を持つビデオディスク等を大量に複製する転写用のフ
ォトマスク及びそれを用いた転写方法に関する。
報を持つビデオディスク等を大量に複製する転写用のフ
ォトマスク及びそれを用いた転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばビデオディスクは映像情報を記録
するものであり、該ビデオディスクは映像情報が螺旋状
の溝に配列された大きさのいろいろ異なった個別的な光
学的隙間(Optical Apeture) または切れ目の分布として
記録されている。このような光学的隙間の実質的な寸法
は1μｍ以下である。
するものであり、該ビデオディスクは映像情報が螺旋状
の溝に配列された大きさのいろいろ異なった個別的な光
学的隙間(Optical Apeture) または切れ目の分布として
記録されている。このような光学的隙間の実質的な寸法
は1μｍ以下である。
【０００３】ところでかかるビデオディスクを複製する
経済的な方法としてマスターディスクから写真と同様の
手法でプリントする方法がある。この方法の場合光学的
隙間の最小寸法が1 μｍ以下であるビデオディスクは解
像度の点からうまく複製することが難しく、またこのよ
うな写真的プリントによる複製方法ではジアゾニウム塩
と染料カプラーとからなるジアゾ物質などであるため、
これらの材料は必ずアルカリ性物質に曝すことによる現
像工程が必要となる。
経済的な方法としてマスターディスクから写真と同様の
手法でプリントする方法がある。この方法の場合光学的
隙間の最小寸法が1 μｍ以下であるビデオディスクは解
像度の点からうまく複製することが難しく、またこのよ
うな写真的プリントによる複製方法ではジアゾニウム塩
と染料カプラーとからなるジアゾ物質などであるため、
これらの材料は必ずアルカリ性物質に曝すことによる現
像工程が必要となる。
【０００４】またディスクを複製するもう一つの方法と
してインジェクションあるいはプレスによりディスクを
複製する方法は大型で効果かつ複雑な成形装置を必要と
し、しかも多量のプラスチック材料と成形のためのエネ
ルギーを消費し、また1 枚当り10〜30秒という長い成形
時間を要している。またこの方法で使用されるマスクは
数回の転写によりダメージが生じ多くの回数に亙って複
製を行うのは不可能であった。
してインジェクションあるいはプレスによりディスクを
複製する方法は大型で効果かつ複雑な成形装置を必要と
し、しかも多量のプラスチック材料と成形のためのエネ
ルギーを消費し、また1 枚当り10〜30秒という長い成形
時間を要している。またこの方法で使用されるマスクは
数回の転写によりダメージが生じ多くの回数に亙って複
製を行うのは不可能であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、書き換え可能なフォトマスクを開発するこ
とにより種々の記録情報に対応するマスクの数を減少す
ると共に、安価でかつ耐久性の高いフォトマスクを提供
すると共に、これを用いた効率的なディスクの複製方法
を提供することを目的とする。
する課題は、書き換え可能なフォトマスクを開発するこ
とにより種々の記録情報に対応するマスクの数を減少す
ると共に、安価でかつ耐久性の高いフォトマスクを提供
すると共に、これを用いた効率的なディスクの複製方法
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の第１のものは基
板にフォトクロミック材料を塗布した色素層に光の照射
による光学的濃淡の形で情報が消去可能に書き込まれて
なる高密度情報記録ディスク複製用フォトマスクであ
る。また本発明の第２のものは基板にフォトクロミック
材料を塗布した色素層に光の照射による光学的濃淡の形
で情報が消去可能に書き込まれた高密度情報記録ディス
ク複製用フォトマスクを用いて複製用ディスクに情報を
転写する方法であって、短波長側の光と長波長側の光と
を同時に前記フォトマスクに照射し、該フォトマスクを
通過した光によって前記複製用ディスクに情報を複製す
ることを特徴とする高密度情報記録ディスク複製用フォ
トマスクを用いた複製方法である。
板にフォトクロミック材料を塗布した色素層に光の照射
による光学的濃淡の形で情報が消去可能に書き込まれて
なる高密度情報記録ディスク複製用フォトマスクであ
る。また本発明の第２のものは基板にフォトクロミック
材料を塗布した色素層に光の照射による光学的濃淡の形
で情報が消去可能に書き込まれた高密度情報記録ディス
ク複製用フォトマスクを用いて複製用ディスクに情報を
転写する方法であって、短波長側の光と長波長側の光と
を同時に前記フォトマスクに照射し、該フォトマスクを
通過した光によって前記複製用ディスクに情報を複製す
ることを特徴とする高密度情報記録ディスク複製用フォ
トマスクを用いた複製方法である。
【０００７】
【作用】本発明で用いる記録材料であるフォトクロミッ
ク材料は、記録がフォトンモードで進行するため、光照
射が行われた部分だけ反応し、解像度の点で優れたもの
となる。また露光が完了した時点で記録も完了し、現像
工程のような余分な工程を必要としない特徴が生まれ
る。
ク材料は、記録がフォトンモードで進行するため、光照
射が行われた部分だけ反応し、解像度の点で優れたもの
となる。また露光が完了した時点で記録も完了し、現像
工程のような余分な工程を必要としない特徴が生まれ
る。
【０００８】さらに本発明で用いるフォトクロミック材
料を用いたマスクは光照射により、製造することが可能
で安価に製造でき、しかもプレスなどによる物理的なダ
メージはまったく無く光照射による劣化も100万回まで
保証される。そしてマスク自身は書き換え可能となり、
1 枚のマスクで何度も情報を書き換えて使用することが
可能となる。
料を用いたマスクは光照射により、製造することが可能
で安価に製造でき、しかもプレスなどによる物理的なダ
メージはまったく無く光照射による劣化も100万回まで
保証される。そしてマスク自身は書き換え可能となり、
1 枚のマスクで何度も情報を書き換えて使用することが
可能となる。
【０００９】
【実施例】以下本発明の高密度情報記録ディスク複製用
フォトマスク及びそれを用いた複製方法を一実施例につ
いて図面に基づいて詳細に説明する。図１は本実施例で
用いるフォトマスク及び複製用ディスク、及びこれらを
用いた複製の手法を示す概念図である。同図において、
フォトマスク１としては、フォトマスク用ディスク基板
（図示せず）上にフォトクロミック材料と樹脂とを混合
した状態で塗布して色素層を形成したものを用いた。そ
して前記フォトマスク１の色素上にあらかじめArレーザ
ー光（波長λ1）を走査することによって情報を書き込
んでおく。
フォトマスク及びそれを用いた複製方法を一実施例につ
いて図面に基づいて詳細に説明する。図１は本実施例で
用いるフォトマスク及び複製用ディスク、及びこれらを
用いた複製の手法を示す概念図である。同図において、
フォトマスク１としては、フォトマスク用ディスク基板
（図示せず）上にフォトクロミック材料と樹脂とを混合
した状態で塗布して色素層を形成したものを用いた。そ
して前記フォトマスク１の色素上にあらかじめArレーザ
ー光（波長λ1）を走査することによって情報を書き込
んでおく。
【００１０】次に複製用ディスク２としては前記フォト
マスク１と同様にフォトクロミック材料を含む色素層を
有するものを用い、該フォトマスク１に密着する形で複
製用ディスク２を重ね合わせ、この複製用ディスク２に
対して前記フォトマスクを介して前記Arレーザー光と、
He-Ne レーザー光（波長λ2）とを同一の場所に同一時
間照射する。この時の各レーザー光の強度比ｋ0=He-Ne
レーザー光／Arレーザー光は一定に保持する。
マスク１と同様にフォトクロミック材料を含む色素層を
有するものを用い、該フォトマスク１に密着する形で複
製用ディスク２を重ね合わせ、この複製用ディスク２に
対して前記フォトマスクを介して前記Arレーザー光と、
He-Ne レーザー光（波長λ2）とを同一の場所に同一時
間照射する。この時の各レーザー光の強度比ｋ0=He-Ne
レーザー光／Arレーザー光は一定に保持する。
【００１１】なお、図１中３は前記He-Ne レーザー光及
びArレーザ光を合成するためのダイクロイックミラー、
４はこの合成された光をマスク１面に集光させるための
対物レンズであり、マスク１及びディスク２の黒塗りの
部分５は情報記録部分、白ぬきの部分６は未記録部分、
７は転写用基板である。かかる光学系において、前記合
成光をマスク１面に照射すると、波長の異なるそれぞれ
の光によって記録・消去が同時進行して打ち消し合い、
記録された情報は消去されずそのまま保持された状態と
なるが、マスク１下の複製ディスク２面へ該マスク１を
透過して照射された光は、マスク１に記録された情報通
りに記録され転写が行われる。
びArレーザ光を合成するためのダイクロイックミラー、
４はこの合成された光をマスク１面に集光させるための
対物レンズであり、マスク１及びディスク２の黒塗りの
部分５は情報記録部分、白ぬきの部分６は未記録部分、
７は転写用基板である。かかる光学系において、前記合
成光をマスク１面に照射すると、波長の異なるそれぞれ
の光によって記録・消去が同時進行して打ち消し合い、
記録された情報は消去されずそのまま保持された状態と
なるが、マスク１下の複製ディスク２面へ該マスク１を
透過して照射された光は、マスク１に記録された情報通
りに記録され転写が行われる。
【００１２】この時前記マスク１の色素層において、記
録部分５と未記録部分６とでは吸光度スペクトルにおい
てHe-Ne レーザー光とArレーザ光に対する吸光度が異な
る。図２（ａ）（ｂ）は波長λ1及びλ2に対する吸光度
スペクトルの違いを説明する特性図であり、記録部分５
及び未記録部分６いずれの場合においてもλ2に対する
吸光度が低いことが明らかである。
録部分５と未記録部分６とでは吸光度スペクトルにおい
てHe-Ne レーザー光とArレーザ光に対する吸光度が異な
る。図２（ａ）（ｂ）は波長λ1及びλ2に対する吸光度
スペクトルの違いを説明する特性図であり、記録部分５
及び未記録部分６いずれの場合においてもλ2に対する
吸光度が低いことが明らかである。
【００１３】このため、記録部分５、未記録部分６をそ
れぞれ透過した光はマスク１へ入射した光の強度比ｋ0
とは異なった強度比ｋを有する光となる。例えば前記マ
スク１上の記録部分５では未記録部分６に比べてHe-Ne
レーザー光の吸収が大きく、Arレーザー光の吸収が少な
い。したがってここでの透過光の強度比ｋ1は、入射光
に対して小さくなり、ｋ0＜ｋ0 なる関係を満たす。こ
の結果複製ディスク２面では記録光であるArレーザー光
の強度が相対的に大きくなり、複製ディスク２への記録
が行われる。
れぞれ透過した光はマスク１へ入射した光の強度比ｋ0
とは異なった強度比ｋを有する光となる。例えば前記マ
スク１上の記録部分５では未記録部分６に比べてHe-Ne
レーザー光の吸収が大きく、Arレーザー光の吸収が少な
い。したがってここでの透過光の強度比ｋ1は、入射光
に対して小さくなり、ｋ0＜ｋ0 なる関係を満たす。こ
の結果複製ディスク２面では記録光であるArレーザー光
の強度が相対的に大きくなり、複製ディスク２への記録
が行われる。
【００１４】一方、マスク１の未記録部分６では上記と
は逆の現象が起こっており、透過光の強度比をｋ2とす
るとｋ2＞ｋ0なる関係を満たす。この結果未記録部分６
を透過した光は相対的に消去光であるHe-Ne レーザー光
の強度が大きくなり、複製ディスク２への情報の書き込
みは行われない。図３は上記マスク１及びディスク２に
入射する光の強度比ｋ0，ｋ1，ｋ2の大きさの関係を示
す図であり、（ａ）は記録部分５について（ｂ）は未記
録部分６について示したものである。
は逆の現象が起こっており、透過光の強度比をｋ2とす
るとｋ2＞ｋ0なる関係を満たす。この結果未記録部分６
を透過した光は相対的に消去光であるHe-Ne レーザー光
の強度が大きくなり、複製ディスク２への情報の書き込
みは行われない。図３は上記マスク１及びディスク２に
入射する光の強度比ｋ0，ｋ1，ｋ2の大きさの関係を示
す図であり、（ａ）は記録部分５について（ｂ）は未記
録部分６について示したものである。
【００１５】なお、マスク１自身に記録された情報を転
写時の照射光による影響保護する方法としては本発明の
出願人らが先に提案した特願平2-408212号の明細書に開
示されたように転写時に同時にマスク１の記録部分ある
いは未記録部分を選択的に加熱する方法がある。この方
法を用いることにより、マスク１に記録された情報を消
去することなく複製ディスク２への転写が行えるように
なる。
写時の照射光による影響保護する方法としては本発明の
出願人らが先に提案した特願平2-408212号の明細書に開
示されたように転写時に同時にマスク１の記録部分ある
いは未記録部分を選択的に加熱する方法がある。この方
法を用いることにより、マスク１に記録された情報を消
去することなく複製ディスク２への転写が行えるように
なる。
【００１６】また、マスク１に記録されている現在の情
報が不要になった場合には、前記転写用のArあるいはHe
-NeNレーザー光を単独で用いるか、あるいはそれら合成
光の強度比を調節することにより、不要となった情報の
上から新しい情報を上書きすることが可能である。本実
施例ではまずマスク１面に転写させたい情報を書き込む
際に、直径30ｃｍの光ディスクを1800ｒｐｍで回転させ
ながら直径1 μｍ程度に絞ったArレーザービームにより
情報を記録する。
報が不要になった場合には、前記転写用のArあるいはHe
-NeNレーザー光を単独で用いるか、あるいはそれら合成
光の強度比を調節することにより、不要となった情報の
上から新しい情報を上書きすることが可能である。本実
施例ではまずマスク１面に転写させたい情報を書き込む
際に、直径30ｃｍの光ディスクを1800ｒｐｍで回転させ
ながら直径1 μｍ程度に絞ったArレーザービームにより
情報を記録する。
【００１７】続いてArレーザー、He-Ne レーザーを同一
場所に情報のい録されたマスターを通して直径60μｍに
集光しながら、60ｎｍ／ｓで走査することにより、約50
秒程度で同様の複製ディスク２を得ることができた。こ
の時の種々の条件は以下のとおりであった。 マスク形成条件： Arレーザー（波長458 ｎｍ） 1 〜10ｍ
Ｗ 複製ディスク照射条件： Arレーザー（波長458 ｎｍ） 75ｍＷ He-Ne レーザー（波長633 ｎｍ） 500 ｍＷ マスク媒体構成 ジアリールエテン 1 〜5 （％） ポリメタクリル酸樹脂 99〜95（％） 複製ディスク媒体構成 ジアリールエテン 5 〜10（ｗｔ％） ポリスチレン 95〜90（ｗｔ％） そしてマスク１層の膜厚としては0.1 〜0.7 μｍ、複製
ディスク２の記録層の膜厚としては1 μｍ以下が望まし
い。
場所に情報のい録されたマスターを通して直径60μｍに
集光しながら、60ｎｍ／ｓで走査することにより、約50
秒程度で同様の複製ディスク２を得ることができた。こ
の時の種々の条件は以下のとおりであった。 マスク形成条件： Arレーザー（波長458 ｎｍ） 1 〜10ｍ
Ｗ 複製ディスク照射条件： Arレーザー（波長458 ｎｍ） 75ｍＷ He-Ne レーザー（波長633 ｎｍ） 500 ｍＷ マスク媒体構成 ジアリールエテン 1 〜5 （％） ポリメタクリル酸樹脂 99〜95（％） 複製ディスク媒体構成 ジアリールエテン 5 〜10（ｗｔ％） ポリスチレン 95〜90（ｗｔ％） そしてマスク１層の膜厚としては0.1 〜0.7 μｍ、複製
ディスク２の記録層の膜厚としては1 μｍ以下が望まし
い。
【００１８】
【発明の効果】上述のごとき本発明の複製用フォトマス
ク及びこれを用いた転写方法によれば、複製ディスクを
多品種、大量生産する場合に最適である。すなわち、マ
スク自身は書き換え可能であって、少数のマスクで多品
種の生産を行うことができる。また、マスク及び複製デ
ィスクの製造はフォトクロミック材料の塗布及び情報を
書き込むレーザー光システム、あるいは転写するための
露光システムを用いているため、プレス法等の加圧成形
によりマスクを形成する方法に比べて安価に製造できる
利点がある。
ク及びこれを用いた転写方法によれば、複製ディスクを
多品種、大量生産する場合に最適である。すなわち、マ
スク自身は書き換え可能であって、少数のマスクで多品
種の生産を行うことができる。また、マスク及び複製デ
ィスクの製造はフォトクロミック材料の塗布及び情報を
書き込むレーザー光システム、あるいは転写するための
露光システムを用いているため、プレス法等の加圧成形
によりマスクを形成する方法に比べて安価に製造できる
利点がある。
【００１９】さらにマスク及び複製ディスクに用いられ
たフォトクロミック材料は、フォトンモードの反応を示
すため、解像度の高い複製ディスクを得ることができる
効果が期待できる。
たフォトクロミック材料は、フォトンモードの反応を示
すため、解像度の高い複製ディスクを得ることができる
効果が期待できる。
【図１】本発明の高密度情報記録ディスク複製用フォト
マスク及びそれを用いた複製方法の概念図である。
マスク及びそれを用いた複製方法の概念図である。
【図２】（ａ）（ｂ）はマスクのそれぞれ記録部分ある
いは未記録部分の吸光度スペクトルを表す図である。
いは未記録部分の吸光度スペクトルを表す図である。
【図３】（ａ）（ｂ）はマスク及び複製ディスクのそれ
ぞれ記録部分あるいは未記録部分に入射する光の強度比
の関係を示す概念図である。
ぞれ記録部分あるいは未記録部分に入射する光の強度比
の関係を示す概念図である。
１ フォトマスク ２ 複製用ディスク ３ ダイクロイックミラー ４ 対物レンズ ５ 記録部分 ６ 未記録部分 ７ 基板
Claims (2)
- 【請求項１】 基板にフォトクロミック材料を塗布した
色素層に光の照射による光学的濃淡の形で情報が消去可
能に書き込まれてなる高密度情報記録ディスク複製用フ
ォトマスク。 - 【請求項２】 基板にフォトクロミック材料を塗布した
色素層に光の照射による光学的濃淡の形で情報が消去可
能に書き込まれた高密度情報記録ディスク複製用フォト
マスクを用いて複製用ディスクに情報を転写する方法で
あって、短波長側の光と長波長側の光とを同時に前記フ
ォトマスクに照射し、該フォトマスクを通過した光によ
って前記複製用ディスクに情報を複製することを特徴と
する高密度情報記録ディスク複製用フォトマスクを用い
た複製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7708992A JPH05282708A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク及びそれを用いた複製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7708992A JPH05282708A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク及びそれを用いた複製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282708A true JPH05282708A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13624060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7708992A Pending JPH05282708A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 高密度情報記録ディスク複製用フォトマスク及びそれを用いた複製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282708A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008192281A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | パターン及びその形成方法 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP7708992A patent/JPH05282708A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008192281A (ja) * | 2007-01-12 | 2008-08-21 | Ricoh Co Ltd | パターン及びその形成方法 |
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