JPH0526930A - 電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム - Google Patents

電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム

Info

Publication number
JPH0526930A
JPH0526930A JP20656391A JP20656391A JPH0526930A JP H0526930 A JPH0526930 A JP H0526930A JP 20656391 A JP20656391 A JP 20656391A JP 20656391 A JP20656391 A JP 20656391A JP H0526930 A JPH0526930 A JP H0526930A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnetic field
electromagnetic
main body
measuring
field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20656391A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2956718B2 (ja
Inventor
Takashi Harada
高志 原田
Masayo Hayashi
昌世 林
Kenichi Hatakeyama
賢一 畠山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP3206563A priority Critical patent/JP2956718B2/ja
Publication of JPH0526930A publication Critical patent/JPH0526930A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2956718B2 publication Critical patent/JP2956718B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Magnetic Variables (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 不要電磁波放射抑制対策に寄与する波源分布
を求める電磁波源解析システム、及び周囲の電磁環境に
影響されることなく放射電磁界を求めるための電磁界解
析システム、及び前記二つのシステムの構成上不可欠で
ある電磁界分布を測定する測定装置を提供する。 【構成】 電磁界分布測定装置1は、互いに180°向
き合わせて配置され、二つの校正された電磁界測定プロ
ーブ3,3と、電磁界測定プローブ3を支持する電磁界
プローブ支持部4と、電磁界測定プローブ3を上下する
ためのガイドとなるポール5と、電磁界測定プローブ3
を電子機器本体を中心として180°回転させる回転テ
ーブル6と、電子機器本体を載せる被測定物固定用テー
ブル7と、基底部8とで構成される。回転テーブル6は
回転するが、被測定物固定用テーブル7は、高さの調整
のみが可能であり、回転しない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電磁波源本体から放射さ
れる電磁波の電磁界分布測定装置、及び電磁波源解析シ
ステム、及び電磁界分析解析システムに関する。
【0002】
【従来の技術】コンピュータ,電子医療機器などの電子
機器は、その動作時に不要な電磁波を放射し、しばしば
無線通信などへ電磁干渉を引き起こす。これに対し、多
くの国では電子機器から放射する不要電磁波に規制を設
け、上記の電磁干渉の低減を図っている。
【0003】我が国でも情報処理装置等電波障害自主規
制協議会(VCCI)により不要電磁波の放射レベルに
規制値が設けられており、本規制を満足しない電子機器
は、実質的に国内で販売できない(例えば前記協議会発
行VCCIだより、No1参照)。不要電磁波放射を抑
制するためには、電子機器本体における放射源を特定
し、電波吸収材や電磁遮へい体などを用いて放射抑制対
策が施される。
【0004】従来、本体上の電磁波放射源の特定には、
図7のブロック図に示すような電磁波源に直接隣接して
電磁放射監視プローブを平面上に配列した装置31によ
り本体の電磁波源の強度を直接測定する方法(特願昭6
2−237363号参照)、図8に示すような本体近傍
の2次元平面上で電界もしくは磁界プローブを走査する
2次元電磁界プローブ走査装置32にて、平面上の電磁
界分布を測定し、電磁界強度マップを作製して本体表面
上の電磁波源を特定する方法(例えば、“19形ラック
のシールド対策”、電子情報通信学会,電子機器のEM
Cとその対策ワークショップ(第2会資料),P61)
などが用いられてきた。
【0005】また、不要電磁波の測定方法に関しては約
50〜500m2の導体面上で放射源本体から3mまた
は10m離れた点における電界強度を測定する方法が規
定されている(例えば前記VCCIだより、No1参
照)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の電磁
波源の測定法によるときには、被測定対象が平面に限ら
れること、近傍界測定であるため、電磁界強度の強く測
定された部分が必ずしも放射源とは結びつかず、不要電
磁波放射抑制対策の観点からは十分でないことなどの欠
点があった。
【0007】また、前記不要電磁波測定法は、測定場所
として面積の広い敷地を必要とすること、本体以外から
の電磁波の影響を最小限にするため放送波や他の電磁雑
音が少ない地域、もしくは電波暗室内で行わなければな
らず、測定コストが極めて高くなり、放射抑制対策効果
の実験的評価としてふさわしくない。
【0008】本発明の目的は、こうした従来技術の問題
点を解決し、不要電磁波放射抑制対策に寄与する波源分
布を求めるための電磁波源解析システム、及び周囲の電
磁環境に影響されることなく放射電磁界を求めるための
電磁界解析システム、さらに前記二つのシステムの構成
上不可欠である電磁界分布を測定するための測定装置を
提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による電磁界分布測定装置においては、電磁
波源本体からの電磁放射に対し、電界及び磁界を測定す
る電磁界測定プローブと、前記本体を固定する機構と、
前記プローブを前記本体周囲の空間において走査する機
構とを有するものである。
【0010】また、前記電磁界測定プローブは、測定点
において、該電磁界測定プローブの電磁界を感受する部
分を中心として本体に対する向きを可変とする機能を有
するものである。
【0011】また、電磁界測定プローブは、その移動及
び向きの転換を装置外部に設けられた制御機器から発す
る命令信号により行うものである。
【0012】本発明の電磁波源解析システムにおいて
は、本体からの電磁放射に対し、該本体の放射電磁界の
影響が及ぶ領域に仮定した曲面もしくは平面上の電磁界
を測定し、電界と磁界の強度信号と位相信号を出力する
測定手段と、前記電界と磁界の強度信号と位相信号をデ
ジタル変換して数値データを出力するデジタル変換手段
と、前記数値データから前記本体表面及び内部の波源分
布を求めるための逆問題解析機能を有するコンピュータ
とで構成されるものである。
【0013】また、本発明の電磁界解析システムにおい
ては、本体からの電磁放射に対し、該本体を取り囲む閉
曲面上のすべての電磁界を測定し、電界と磁界の強度信
号と位相信号を出力する測定手段と、前記電界と磁界の
強度信号と位相信号をデジタル変換して数値データを出
力するデジタル変換手段と、前記数値データから前記本
体の放射する電磁波の任意の点における電磁界を求める
面積積分機能を有するコンピュータとで構成されるもの
である。
【0014】
【作用】電磁波源本体を取り囲む曲面上の電磁界を測定
し、得られた電磁界分布を解析して不要電波放射抑制に
影響を与える波源分布を求める。また、電磁波源本体を
含む閉曲面上の電磁界分布を測定し、この電磁界分布か
ら任意の点における電磁界を求める。
【0015】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照しながら
具体的に説明する。
【0016】図1は、本発明の第1の実施例による電磁
界分布測定装置1と、電磁波放射源本体2の斜視図であ
る。電磁界分布測定装置1は、互いに180°向き合わ
せて配置された二つの校正された電磁界測定プローブ3
と、電磁界測定プローブ3を支持する電磁界プローブ支
持部4、電磁界測定プローブ3を上下するためのガイド
となるポール5、電磁界測定プローブ3を電磁波放射源
本体2を通る軸を中心として180°回転させるための
回転テーブル6、電磁波放射源本体2を載せるための被
測定物固定用テーブル7、及び基底部8で構成される。
回転テーブル6は回転するが、被測定物固定用テーブル
7は高さの調整のみが可能であり回転しない。本装置1
を構成する部品,材料は、電磁界分布を乱すことがない
ようできるだけプラスチック,木などの非金属とする。
【0017】電磁界測定プローブ3は、電界測定時には
電界プローブ、磁界測定時には磁界ループを用いる。電
磁界プローブ支持部4は、ポール5に垂直に、かつ回転
の中心方向にスライドするため、電磁界測定プローブ3
の回転半径は可変である。
【0018】電磁界測定プローブ3として一方向のみの
電界成分もしくは磁界成分を測定するプローブを使用
し、かつ直交する3方向の電界成分または磁界成分を測
定する必要がある場合を考慮して、電磁界プローブ支持
部4には、電磁界測定プローブ3の電磁界感受部を中心
として電磁界測定プローブの向きを直交する3方向で変
えられる機構を設けた。
【0019】本測定装置1は、電磁界測定プローブ3を
一定の半径で回転,上下,半径の方向に独立に移動でき
るため、電磁波放射源本体2を取り囲む円筒型閉曲面上
の電磁界分布を測定することができる。電磁界測定プロ
ーブ3は、校正されているため、プローブ位置における
電界、もしくは磁界の絶対値が測定できる。位相の測定
に対しては、電子機器本体の近傍に固定した別の電磁界
プローブ9を設けてこれを位相基準とする。電磁界測定
プローブ3と、測定された電磁界の信号を受信する受信
機(図示略)とは高周波ケーブル10を通して接続され
る。受信機にはネットワークアナライザ,ベクトルアナ
ライザなどの振幅と位相の測定が可能な装置を用いる。
【0020】本実施例では測定の効率化のため可動する
電磁界測定プローブ3は二つとしたが、一つの電磁界測
定プローブ3を360°回転させるようにしてもよく、
また3つ以上を用いてもよい。電磁界測定プローブ3に
電気−光変換機能を内蔵し、高周波ケーブル10に代え
て光ケーブルを使用すれば、電磁界の乱れを防ぐことが
できる。
【0021】電磁波放射源本体2の固定方法は、テーブ
ル7の代わりに被測定放射源を釣り下げるような構造と
してもよい。電磁界測定プローブ3を走査する面すなわ
ち測定面は、円筒面に限らず球や楕円球など他の曲面
や、平面を組み合わせたものとしてもよい。
【0022】図2は、本発明の電磁波源解析システム1
1を示すブロック図である。本システム11は、電磁波
源本体12の放射電磁界の影響が及ぶ領域に仮定した曲
面もしくは平面上の電界と磁界それぞれの強度と位相の
分布とを測定する電磁界分布測定装置13と、測定され
た電界と磁界それぞれの強度と位相とのデータをデジタ
ル数値データに変換するデジタル変換器14と、変換さ
れた電界と磁界の強度と位相とのデジタル数値データか
ら放射源の内部と表面との電流分布もしくは電荷分布を
求める逆問題計算機能を有するコンピュータ15と、求
められた波源分布を視覚的に表示する表示装置16によ
り構成される。
【0023】例えば、図3に示すような、空間中に置か
れた電磁放射源17による任意の点Pにおける電磁界
は、Maxwell方程式の積分形を用いて、
【0024】
【式1】
【0025】J,ρは、それぞれ波源本体31における
電流密度と電荷密度,ωは角周波数,μは透磁率,εは
誘電率,j=√(−1),∇はベクトル演算子,φは、
グリーン関数(φ=exp(−jω/c)/r:rは波
源と点Pとの距離,cは光速)である(例えばSTRA
TTON著,“Electro−Magnetic T
heory”,McCGRAW−HILL BOOK
刊,p466参照)。
【0026】したがって、測定によりE(p),H
(p)を把握すれば、逆問題解析手法により波源である
本体31上の電流密度分布,電荷密度分布を求めること
ができる。E(p),H(p)の測定範囲は、本体17
からの放射電磁波エネルギーの大部分を網羅するような
領域に設定する。
【0027】電磁波放射源を取り囲む閉曲面で電磁界分
布を測定すれば、波源17の放射するすべての電磁エネ
ルギーを捕捉できるため、信頼性の高い電磁波源分布を
求めることができる。
【0028】電磁界分布測定装置13には、第1の実施
例で示した電磁界分布測定装置1や他の曲面または平面
上の電磁界分布を測定できる装置を用いる。コンピュー
タ15には、電磁界分布測定装置13の制御とデジタル
変換器14の機能を含めることにより本システム全自動
化が可能である。
【0029】図4は、本発明による電磁波源解析システ
ムにより求められた箱型の金属製電磁放射源本体18の
電流密度19の解析結果である。放射源表面の電荷は等
価的に電流密度に置換えて示した。この電流密度19の
分布は、放射電磁界の測定結果より求められたものであ
るため放射に寄与する成分のみが示されている。電波吸
収材,電磁遮へい体などを使用して電流密度19を抑制
することで不要電磁波抑制対策が効率的に行える。
【0030】図5は、本発明の電磁界解析システム21
を示すブロック図である。本システム21は、電磁波源
本体22を囲む閉曲面上すべての電界と磁界の強度と位
相との分布を測定する電磁界分布測定装置23と、測定
された電界と磁界それぞれの強度と位相とのデータをデ
ジタル数値データに変換するデジタル変換器24と、変
換された電界と磁界の強度と位相とのデジタル数値デー
タから閉曲面の外部の任意の点における電磁界を計算す
る面積積分機能を有するコンピュータ25と、求められ
た波源分布を視覚的に表示する表示装置26により構成
される。
【0031】図6に示すように、空間上に二つの波源2
7,28があり、波源27を取り囲むように閉曲面29
を仮定すると、閉曲面29の外側の任意の点Pにおける
電界E(p)及び磁界H(p)はMaxwell方程式
の積分形の変形により閉曲面29上の電界Es,Hsを
用いて、
【0032】
【式2】
【0033】閉曲面29上の面積積分,ωは角周波数,
μは透磁率,εは誘電率,j=√(−1),∇はベクト
ル演算子,nは閉曲面29の内向きにとった単位法線ベ
クトル,φはグリーン関数(φ=exp(−jω/c)
/r:rは閉曲面29上の任意点と点Pとの距離,cは
光速)である。
【0034】波源27,28と閉曲面29との位置関係
が図6に示したような場合には、(3)式,(4)式に
おいて、閉曲面29上の面積積分を実行する際に閉曲面
29の外部にある波源28からの放射電磁界の影響が取
り除かれ、P点における電界E(p),磁界H(p)は
波源27からの放射によるものだけとなる。
【0035】したがって、波源27を囲む閉曲面29上
の電磁界の分布を測定することにより(3)式,(4)
式の計算を実行してP点における電界E(p),磁界H
(p)を求めることができる。閉曲面29上に外部波源
28からの放射電磁界の影響が著しく小さい部分が存在
する場合には、この部分の電磁界測定を行わなくても、
すなわち完全な閉曲面で電磁界を測定しなくても信頼性
の高い放射電磁界が求められる。
【0036】電磁界分布測定装置23には、第1の実施
例で示した電磁界分布測定装置1や他の閉曲面上の電磁
界分布を測定できる装置を用いる。コンピュータ25に
は、電磁界分布測定装置23の制御とデジタル変換器2
4の機能をもたせることにより本システム全自動化が可
能である。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように本発明の電磁波源解
析システムによれば、不要電磁波放射抑制に影響を与え
る波源分布を求めることができるため、効率的に不要電
磁波抑制対策を行える効果を有する。
【0038】また本発明の電磁界解析システムによれ
ば、放射源を囲む閉曲面の電磁界分布の測定により閉曲
面外部の波源の影響を除去できるため、周囲の電磁環境
に影響されず必要とする電磁波放射源からの電磁界を把
握できる効果を有する。
【0039】また、本発明の電磁界分布測定装置は上記
の二つのシステムを構成する電磁界分布測定装置手段に
共通して適用できる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による電磁界分布測定装置の実施例を示
す斜視図である。
【図2】本発明による電磁波源解析システムの構成を示
すブロック図である。
【図3】本発明の電磁波源解析システムの解析原理を示
す図である。
【図4】本発明の電磁波源解析システムによって得られ
た波源上の電流分布を示す図である。
【図5】本発明による電磁界解析システムの構成を示す
ブロック図である。
【図6】本発明による電磁界解析システムの解析原理を
示す図である。
【図7】従来技術による電磁界分布測定装置のブロック
図である。
【図8】従来技術による2次元電磁界分布測定装置の斜
視図である。
【符号の説明】
1 電磁界分布測定装置 2 電磁波放射源本体 3 電磁界測定プローブ 4 電磁界プローブ支持部 5 ポール 6 回転テーブル 7 被測定物固定用テーブル 8 基底部 9 位相基準測定用固定電磁界プローブ 10 高周波ケーブル 11 電磁波源解析システム 12 電磁波源本体 13 電磁界分布測定装置 14 アナログ−デジタル変換器 15 逆問題計算機能を有するコンピュータ 16 視覚化表示装置 17 波源 18 金属製の箱型電磁放射源 19 電流密度 21 電磁界解析システム 22 電磁波源本体 23 閉曲面上電磁界分布測定装置 24 アナログ−デジタル変換器 25 面積積分計算機能を有するコンピュータ 26 視覚化表示装置 27 閉曲面内部の波源 28 閉曲面外部の波源 29 閉曲面

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電磁波源本体からの電磁放射に対し、電
    界及び磁界を測定する電磁界測定プローブと、前記本体
    を固定する機構と、前記プローブを前記本体周囲の空間
    において走査する機構とを有する電磁界分布測定装置。
  2. 【請求項2】 前記電磁界測定プローブは、測定点にお
    いて、該電磁界測定プローブの電磁界を感受する部分を
    中心として本体に対する向きを可変とする機能を有する
    請求項1に記載の電磁界分布測定装置。
  3. 【請求項3】 電磁界測定プローブは、その移動及び向
    きの転換を装置外部に設けられた制御機器から発する命
    令信号により行うものである請求項1または請求項2に
    記載の電磁界分布測定装置。
  4. 【請求項4】 本体からの電磁放射に対し、該本体の放
    射電磁界の影響が及ぶ領域に仮定した曲面もしくは平面
    上の電磁界を測定し、電界と磁界の強度信号と位相信号
    を出力する測定手段と、前記電界と磁界の強度信号と位
    相信号をデジタル変換して数値データを出力するデジタ
    ル変換手段と、前記数値データから前記本体表面及び内
    部の波源分布を求めるための逆問題解析機能を有するコ
    ンピュータとで構成されることを特徴とする電磁波源解
    析システム。
  5. 【請求項5】 本体からの電磁放射に対し、該本体を取
    り囲む閉曲面上のすべての電磁界を測定し、電界と磁界
    の強度信号と位相信号を出力する測定手段と、前記電界
    と磁界の強度信号と位相信号をデジタル変換して数値デ
    ータを出力するデジタル変換手段と、前記数値データか
    ら前記本体の放射する電磁波の任意の点における電磁界
    を求める面積積分機能を有するコンピュータとで構成さ
    れることを特徴とする電磁界解析システム。
JP3206563A 1991-07-23 1991-07-23 電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム Expired - Fee Related JP2956718B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3206563A JP2956718B2 (ja) 1991-07-23 1991-07-23 電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3206563A JP2956718B2 (ja) 1991-07-23 1991-07-23 電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0526930A true JPH0526930A (ja) 1993-02-05
JP2956718B2 JP2956718B2 (ja) 1999-10-04

Family

ID=16525468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3206563A Expired - Fee Related JP2956718B2 (ja) 1991-07-23 1991-07-23 電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2956718B2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6326783B1 (en) 1998-03-31 2001-12-04 Advantest Corporation Method of measuring axially symmetric electromagnetic fields
JP2006047297A (ja) * 2004-07-05 2006-02-16 Ntt Docomo Inc 比吸収率測定装置
DE19917661B4 (de) * 1998-04-17 2007-02-15 Advantest Corp. Verfahren und Vorrichtung zur Messung elektromagnetischer Wellen
JP2008134218A (ja) * 2006-10-23 2008-06-12 Ntt Docomo Inc 比吸収率を測定するためのシステム及び方法
JP2008185575A (ja) * 2007-01-26 2008-08-14 Gcomm Corp 三次元電磁界測定装置
FR2932894A1 (fr) * 2008-06-23 2009-12-25 Satimo Sa Perfectionnements a la determination d'au moins une grandeur associee au rayonnement electromagnetique d'un objet sous test.
US20110102276A1 (en) * 2009-11-05 2011-05-05 Atc Logistics & Electronics, Inc. Multidimensional rf test fixture and method for securing a wireless device for rf testing
CN104655941A (zh) * 2015-03-24 2015-05-27 联想(北京)有限公司 电磁辐射检测方法、装置及电子设备
CN106053965A (zh) * 2016-07-08 2016-10-26 北京航空航天大学 一种通过改变辐射源类型研究电磁场探头微扰动性的方法
CN108761221A (zh) * 2018-08-02 2018-11-06 长虹美菱股份有限公司 一种用于测量空间电场强度的测试***及方法
CN113009242A (zh) * 2021-02-25 2021-06-22 西安理工大学 一种阵列式磁通门表面电势分布及衰减的测量装置及方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2965931B1 (fr) * 2010-10-08 2013-05-03 Satimo Ind Procede et dispositif de test electronique d'un objet

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01312472A (ja) * 1988-06-10 1989-12-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電磁界強度推定方法及び電磁界強度推定システム
JPH0281479U (ja) * 1988-12-12 1990-06-22

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01312472A (ja) * 1988-06-10 1989-12-18 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 電磁界強度推定方法及び電磁界強度推定システム
JPH0281479U (ja) * 1988-12-12 1990-06-22

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6326783B1 (en) 1998-03-31 2001-12-04 Advantest Corporation Method of measuring axially symmetric electromagnetic fields
DE19917661B4 (de) * 1998-04-17 2007-02-15 Advantest Corp. Verfahren und Vorrichtung zur Messung elektromagnetischer Wellen
JP2006047297A (ja) * 2004-07-05 2006-02-16 Ntt Docomo Inc 比吸収率測定装置
JP2008134218A (ja) * 2006-10-23 2008-06-12 Ntt Docomo Inc 比吸収率を測定するためのシステム及び方法
JP4683342B2 (ja) * 2007-01-26 2011-05-18 ジーコム株式会社 三次元電磁界測定装置
JP2008185575A (ja) * 2007-01-26 2008-08-14 Gcomm Corp 三次元電磁界測定装置
RU2510512C2 (ru) * 2008-06-23 2014-03-27 Майкроуэйв Вижн Устройство для определения, по меньшей мере, одной величины, связанной с электромагнитным излучением тестируемого объекта
FR2932894A1 (fr) * 2008-06-23 2009-12-25 Satimo Sa Perfectionnements a la determination d'au moins une grandeur associee au rayonnement electromagnetique d'un objet sous test.
WO2010006891A1 (fr) * 2008-06-23 2010-01-21 Ste D'applications Technologiques De L'imagerie Micro-Onde Perfectionnements à la détermination d'au moins une grandeur associée au rayonnement électromagnétique d'un objet sous test
US8482294B2 (en) 2008-06-23 2013-07-09 Microwave Vision Determination of at least one value associated with the electromagnetic radiation of an object under test
US9453865B2 (en) 2009-11-05 2016-09-27 Atc Logistics & Electronics, Inc. Method for securing a wireless device for RF testing
US8810460B2 (en) * 2009-11-05 2014-08-19 Atc Logistics & Electronics, Inc. Multidimensional RF test fixture and method for securing a wireless device for RF testing
US20110102276A1 (en) * 2009-11-05 2011-05-05 Atc Logistics & Electronics, Inc. Multidimensional rf test fixture and method for securing a wireless device for rf testing
US10234494B2 (en) 2009-11-05 2019-03-19 Fedex Supply Chain Logistics & Electronics, Inc System and method for RF testing
CN104655941A (zh) * 2015-03-24 2015-05-27 联想(北京)有限公司 电磁辐射检测方法、装置及电子设备
CN104655941B (zh) * 2015-03-24 2018-08-10 联想(北京)有限公司 电磁辐射检测方法、装置及电子设备
CN106053965A (zh) * 2016-07-08 2016-10-26 北京航空航天大学 一种通过改变辐射源类型研究电磁场探头微扰动性的方法
CN106053965B (zh) * 2016-07-08 2018-12-04 北京航空航天大学 一种通过改变辐射源类型研究电磁场探头微扰动性的方法
CN108761221A (zh) * 2018-08-02 2018-11-06 长虹美菱股份有限公司 一种用于测量空间电场强度的测试***及方法
CN113009242A (zh) * 2021-02-25 2021-06-22 西安理工大学 一种阵列式磁通门表面电势分布及衰减的测量装置及方法
CN113009242B (zh) * 2021-02-25 2022-10-04 西安理工大学 一种阵列式磁通门表面电势分布及衰减的测量装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2956718B2 (ja) 1999-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7167133B2 (en) Electromagnetic wave measuring apparatus
Bucci et al. Advanced field interpolation from plane-polar samples: experimental verification
JP3394202B2 (ja) 電磁界強度の測定方法及び装置並びに電流電圧分布の測定方法及び装置
JP5249294B2 (ja) 電磁界分布測定装置並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP4130365B2 (ja) 電磁界強度の測定方法及びその装置、電磁界強度分布の測定方法及びその装置電流電圧分布の測定方法及びその装置
JP2956718B2 (ja) 電磁界分布測定装置及び電磁波源解析システム及び電磁界解析システム
O’Donoghue et al. Catheter position tracking system using planar magnetics and closed loop current control
JPH0560815A (ja) 場の強さの測定装置
JP2007271317A (ja) Emi測定装置及びemi測定方法
JPH09166554A (ja) 比吸収率測定装置及び比吸収率測定方法
JPH1062467A (ja) 不要電磁波測定システム
JP2003279611A (ja) 電磁波発生源探査装置
JP3709708B2 (ja) 電磁波発生源探査装置およびその探査方法
JP3760908B2 (ja) 狭指向性電磁界アンテナプローブおよびこれを用いた電磁界測定装置、電流分布探査装置または電気的配線診断装置
Spang et al. Application of probes with multiple outputs on probe-compensated EMC near-field measurements
JP2008082945A (ja) 近傍電磁界分布測定装置
JP2004069372A (ja) 遠方電磁界強度の算出方法及び装置、遠方電磁界強度の算出プログラム、及び、そのプログラムを記録した記録媒体
JPH08112266A (ja) Mri装置のスキャンルームのシミュレータ装置
KR20060119661A (ko) 태그와 리더 사이의 인식거리 측정장치
JPH10185973A (ja) 回路基板の電磁障害測定方法および測定装置
Loh et al. A method to minimize emission measurement uncertainty of electrically large EUTs in GTEM cells and FARs above 1 GHz
JP3606718B2 (ja) 電磁妨害波測定装置
EP3527997A1 (en) Electromagnetic field measurement arrangement and measurement method
JPH06249899A (ja) 電磁界分布推定方式
JP2003028905A (ja) アンテナ励振係数解析装置

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19981222

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990629

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees