JPH05226810A - プリント基板のエッチング装置 - Google Patents

プリント基板のエッチング装置

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JPH05226810A
JPH05226810A JP5938092A JP5938092A JPH05226810A JP H05226810 A JPH05226810 A JP H05226810A JP 5938092 A JP5938092 A JP 5938092A JP 5938092 A JP5938092 A JP 5938092A JP H05226810 A JPH05226810 A JP H05226810A
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JP
Japan
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etching
header
sprayed
etchant
circuit board
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Application number
JP5938092A
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English (en)
Inventor
Masuo Iida
益男 飯田
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NIPPON TEC KK
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NIPPON TEC KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はプリント基板のエッチング装置に関
し、特にプリンド基板表面に不均一に滞留するエッチン
グ液がそのプリント板表面から円滑に移動され、基板各
部におけるエッチング量を均一に維持する装置を提供す
ること。 【構成】 プリント基板の搬送装置の上方に複数のヘッ
ダーパイプが配置され、夫々のヘッダーパイプに多数の
エッチング液スプレー用のノズルが設けられる。そし
て、各ヘッダーパイプ毎にエッチング液の噴射時期を順
次周期的に変化させたもの。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプリント基板のエッチン
グ装置に関し、特にプリンド基板表面に不均一に滞留す
るエッチング液をそのプリント板表面から円滑に移動し
て排除できる装置に関する。
【0002】
【従来技術】絶縁基板に銅箔を積層したプリント基板
に、回路パターンを形成する際、不要部分の銅箔が通常
エッチングにより取り除かれる。従来のエッチング方法
はエッチング装置本体内を通過する搬送装置にプリント
基板を載置し、搬送されるプリント基板の表面にエッチ
ング液を空気中でスプレーするのが一般的である。図12
はそのエッチング装置の平面図であり、ヘッダ26に多数
の分岐ヘッダ27が互いに平行に且つプリント基板の搬送
方向にほぼ沿って配置されており、各分岐ヘッダ27に多
数のエッチングノズル3が設けられている。この分岐ヘ
ッダ27は一般に同図では図示しないオシレーション装置
により軸の周りに揺動するように構成さている。即ち、
図13に示す如く分岐ヘッダ27の下面に突設された多数の
エッチングノズル3の向きが時間の経過と共に、周期的
に変化するように構成し、プリント基板2表面の各部に
おけるスプレー条件を可能な限り均一に維持するもので
ある。
【0003】
【解決しようとする課題】しかしながら、このようなエ
ッチング装置において、夫々の分岐ヘッダ27のエッチン
グノズル3からスプレーされるエッチング液は、隣合う
分岐ヘッダ27の中間部において最も多く集まる。そし
て、エッチングノズル3が揺動するのに伴って、そのエ
ッチング液28の盛り上がり部が移動する。このときプリ
ント基板2の幅方向縁部のエッチング液28は比較的円滑
に排除され易いが、幅方向中央部のエッチング液28は全
体として滞留しがちである。すると、プリント基板2の
各部において、不均一なエッチングが生ずることにな
る。なお、図13において、プリント基板2は紙面に直交
する方向に搬送されている。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明はプリン
ト基板各部において均一なエッチングが得られるエッチ
ング装置を提供することを目的とし、その目的達成のた
めに次の構成をとる。本発明のエッチング装置は、複数
のヘッダーパイプ1a〜1fがプリント基板2の搬送方
向に沿って互いに平行に且つ、基板搬送レベルの上方に
配置され、夫々のヘッダパイプ1に多数のエッチング液
スプレー用のエッチングノズル3が一定間隔で設けられ
たエッチング装置において、夫々のヘッダーパイプ1a
〜1f毎にエッチング液の噴射時期を順次周期的に変化
させたことを特徴とする。
【0005】本発明の装置はプリント基板の上面のみを
エッチングする場合及び、上下両面を同時にエッチング
する場合のいずれにも適用できる。片面のみにエッチン
グする場合は、搬送装置によって搬送されるプリント板
のエッチング面に合わせて搬送装置の上面からエッチン
グ液をスプレーする。又、両面に同時にエッチングする
場合は搬送装置の上方及び下方から同時にエッチング液
をスプレーすればよい。又、本エッチング装置は空気中
において、エッチング液をスプレーする場合のみならず
エッチング液中にプリント基板を搬送しつつ、さらに液
をノズルから噴射する場合にも適用される。この場合に
はプリント基板表面のエッチング液の流れを均一にし、
基板表面の各部におけるエッチング量が均一になる。
【0006】
【作用】本エッチング装置によれば、夫々のヘッダーパ
イプ1a〜1f毎にエッチング液の噴射時期を順次周期
的に変化させたため、実質的にエッチング液が噴射され
ないヘッダーパイプが順次生じる。それにより、プリン
ト基板上のエッチング液は噴射されないヘッダー側に円
滑に移動し、基板各部におけるエッチング条件を均一に
し、均一にエッチングされたプリント基板を得ることが
できるか。
【0007】
【実施例】次に、図面に基づいて本発明の実施例につき
説明する。図1は本装置の説明図であり、図2は同装置
に用いられるロータリバルブ4の側面図である。又、図
3は同ロータリバルブ4の軸横断面図である。そして、
図4は本装置の平面図、図5は同正面図である。本装置
は図5に示す如くコンベアライン19上に多数のカップリ
ングロール7が並列され、上流側にエッチング装置本体
5が設けられ、下流側に洗浄機本体6が設けられてい
る。エッチング装置本体5はその下部にエッチング液タ
ンク16が設けられ、コンベアライン19を挟んで上下に夫
々ヘッダーパイプ1a〜1fが配置されている。これら
のヘッダーパイプは互いに平行で且つ搬送面に平行であ
ると共に、搬送方向に対してはわずかに傾斜している。
各ヘッターパイプには多数のエッチングノズル3が等間
隔に配置されている。又、上下の各ヘッダーパイプはそ
の軸線の周りに僅かに揺動するいわゆるオシレーション
が行われるている。
【0008】図7はそのオシレーション装置の一例を示
す側面図であり、揺動レバー25がオシレーションモータ
の駆動により軸の周りに矢印の如く揺動する。それに伴
ってオシレーションアーム24が左右方向に移動する。す
ると、このオシレーションアーム24に枢着されたリンク
31がヘッダーパイプ1a〜1fの軸線の周りに左右に揺
動する。このリンク31とヘッダーパイプとは固定されて
いるため、各ヘッダーパイプはリンク31の揺動に伴って
首ふり動作を行う。そして、エッチングノズル3から噴
射されるエッチング液のスプレー範囲を図6の如く時間
的に変化させるものである。同図はプリント基板2の上
側に配置されたヘッダーパイプ1a〜1fのみを示し、
上段から下段に夫々時間の経過と共に、各ヘッダーのエ
ッチングノズル3の向き及びスプレーの向きを表示した
ものである。即ち、図6の最上段は最初の瞬間を示し、
ヘッダーパイプ1b〜1fの夫々のエッチングノズル3
からエッチング液がプリント基板2にスプレーされてい
るが、そのエッチングノズル3の中心線は最も左寄りに
位置する。
【0009】次に、第二段目の図は最初の瞬間から僅か
に時間を経た状態を示し、エッチングノズル3からスプ
レーされるエッチング液の中心が第一段目に比べて僅か
に右寄りに位置されている。同様に第三段目、第四段目
と時間の経過に従ってエッチングノズル3から噴射され
るエッチング液のスプレーの中心がより右へ移動し、最
下段において最も右よりへスプレー範囲が移動する。次
いでスプレー範囲は徐々に左寄りに移動し、最上段の位
置に戻る。そして、このような動作を周期的に繰り返す
のである。ここで、図6において各時間においてスプレ
ー29の存在しないヘッダーパイプがーある。即ち、最上
段においてはヘッダーパイプ1a、第二段においてはヘ
ッダーパイプ1b、第三段はヘッダーパイプ1c、最終
段ではヘッダーパイプ1fと順次エッチングの噴射しな
いヘッダーパイプがオシレーションに同期して移動す
る。この動作はプリント基板2上のエッチング液を円滑
に排除するためである。即ち、プリント基板2上には各
ヘッダーからスプレーされたエッチング液が不均一に溜
る。各ヘッダーのスプレーの重複する部分等にはエッチ
ング液の盛り上がる部分が形成される。そして、各ヘッ
ダーの首ふり動作(オシュレーション)に伴って、左右
にその盛り上がり部分が移動することになる。
【0010】このとき、スプレー液はプリント基板2の
幅方向周縁部よりも中心部に集まり勝ちであり、それに
伴ってエッチングに不均一さが生じる。そこで、エッチ
ング液を噴射しないヘッダーパイプが順次変化すること
により、そこにエッチング液を順次円滑に移動させ、結
果としてプリント基板2の中心部のエッチング液を円滑
に排除するものである。そのために、本発明では一つの
実施例として、図1〜図3に示すロータリバルブ4が配
置さている。即ち、図3に示す如くロータリバルブ4内
には回転軸20に固定された弁21が設けられ、それがロー
タリバルブ本体の内面に摺接して回転する。その回転に
伴ってこの実施例では6つの吐出孔23が順次閉塞される
ものである。ロータリバルブ本体の中心には図1及び図
2に示す如く、ボンプを介しエッチング液タンク16に連
通する戻り管30が接続されると共に、本体の外周に放射
状のヘッダ連結管22が設けられ、その先端がヘッダーパ
イプ1a〜1fに接続されている。ロータリバルブ本体
の内部は図3の如く両端閉塞の筒状に形成され、戻り管
から流入したエッチング液がその中心部に穿設された複
数の入口孔35よりロータリバルブ本体の内部に流入す
る。そして、弁21に閉塞された吐出孔23を除き、他の吐
出孔23から夫々ヘッダーパイプにエッチング液を供給す
る。すると、弁21の回転に伴って閉塞されるヘッダーパ
イプが順次変化する。
【0011】次に、プリント基板は図5のコンベアライ
ン19上を装置の最左端から供給される。このコンベアは
図7の上部位置に配置された多数のカップリングロール
7により構成される。図7は上下互いに平行に配置され
た軸に、一定間隔で幅の狭いゴムローラが固定され前記
のカップリングロールを形成する。各ゴムローラは、そ
の側面にエッチング液流通用の多数の孔が穿設されてい
る。一対のカップリングロール7は互いに同期するよう
に、一対の平行軸が一組の歯車34により連結されてい
る。又、一方の軸はベベルギア33を介してコンベア駆動
軸32に連結されている。このコンベア駆動軸32は装置の
長手方向に配置され、適宜間隔でベベルギア33が設けら
れ、各カップリングロール7を駆動するものである。こ
のようなコンベアライン19上をプリント基板2が図1の
左から右に移動する。そして、エッチング液はエッチン
グ液タンク16からポンプ及びロータリバルブ4を介し各
ヘッダーパイプ1a〜1fに供給され、プリント基板2
にスプレーされる。スプレーされたエッチング液はエッ
チング液タンクに流入し、再びスプレーされる。
【0012】このエッチング液はヒータの加熱装置や冷
却装置によって所定温度に維持される。それと共に、新
しいエッチング液である過酸化水素等が供給され、所定
の濃度に維持される。プリント基板は、本装置を通過す
ると酸洗浄ノズル17、水洗浄ノズル18により洗浄され
る。そして、液切りロール9及び絞りロール14を経て外
部に取り出される。これらの制御は図5における制御盤
8を介して行われ、エッチング作業にはコンベアモータ
13、水洗ポンプ12、オシレーションモータ10及びロータ
リバルブ4の駆動モータその他が駆動される。次に、図
8〜図11は夫々本発明の他の実施例を示し、本装置の制
御盤を介して選択される一つのものである。図8は各ヘ
ッダーのオシレーション即ち、首振り動作を行わない場
合を示し、スプレーしないヘッダーパイプが並列順序に
従って順次変化するものである。この図8の例では最上
段から最下段に向かう時間の変化と共に、スプレー29の
存在しないヘッダーパイプは1f〜1aに順次移動す
る。次いで、ヘッダーパイプ1a 〜1fの順に移動
し、それらが繰り返される。
【0013】次に、図9の実施例は各ヘッダーパイプを
オシレーションすると共に、スプレーするヘッダーパイ
プを常に一つのみとし、それをオシレーションに同期し
て各ヘッダーパイプの並列順序に沿って移動するもので
ある。即ち、最上段のヘッダーパイプ1aから、時間の
経過と共に最下段のヘッダーパイプ1fまで順次スプレ
ー29の存在するヘッダーを変化したものである。このよ
うにするには図3におけるロータリバルブ4の弁21を大
きくし、一つのみの吐出孔23が開口するように変更すれ
ばよい。或いは、ロータリバルブ4を用いず、適宜な電
磁弁を用いて各ヘッダーの噴射時期を制御してもよい。
さらにはモータバルブを用いることもできる。次に、図
10はオシレーションによるエッチングノズル3の向く方
向とエッチング液が吐出するヘッダーパイプの移動方向
とが、図9の場合と逆のものを示したものである。即
ち、時間の経過と共に、エッチングノズル3と向きは上
段から下段に、左向きから右向きに変化するのに伴って
エッチング液が吐出するヘッダーは右から左に変化する
ものである。
【0014】次に、図11はオシーションによるエッチン
グノズル3の向きが前記図10の実施例と同様に左向きか
ら右向きに移動するが、一つのみのスプレーしないヘッ
ダーパイプが右から左側に移動する例である。即ち、各
ヘッダーパイプのエッチングノズル3は左から右へ時間
の経過と共に移動するのに対し、スプレーしない一つの
みのヘッダーパイプは右から左に順次変化するものであ
る。これらの各実施例はプリント基板の大きさその他に
応じて適宜なものが選択される。
【0015】
【発明の効果】本発明のエッチング装置は、夫々のヘッ
ダーパイプ1a〜1fのスプレーされるエッチング液の
噴射時期を順次周期的に変化させるように構成したか
ら、プリント基板2表面上に不均一に滞留するエッチン
グ液をそのプリント基板2上から円滑に排除することが
できる。即ち、実質的にエッチング液が噴射しない位置
のプリント基板2表面部分にエッチング液を順次移動さ
せることにより、基板表面からエッチング液を確実に移
動することができる。それにより、基板表面の各部で不
均一にエッチングされることを防止し、信頼性の高いエ
ッチング装置を得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本装置の説明図。
【図2】同装置に用いられるロータリバルブ4の側面
図。
【図3】同ロータリバルブ4の軸断面図。
【図4】本装置の平面図。
【図5】同正面図。
【図6】本装置によるスプレーの状態を上段から下段に
時間の経過と共に示したもの。
【図7】本装置に用いられるオシレーション装置の原理
図。
【図8】時間の経過と共に、プリント基板2にスプレー
されるエッチング液の状態を示す他の実施例。
【図9】時間の経過と共に、プリント基板2にスプレー
される他の実施例。
【図10】時間の経過と共に、プリント基板2にスプレー
される他の実施例。
【図11】時間の経過と共に、プリント基板2にスプレー
される他の実施例。
【図12】従来のエッチング装置の平面図。
【図13】従来のエッチング装置における時間の経過と共
に、プリント基板2にスプレーされる状態を示す説明
図。
【符号の説明】
1a〜1f ヘッダーパイプ 2 プリント基板 3 エッチングノズル 4 ロータリーバルブ 5 エッチング装置本体 6 洗浄機本体 7 カップリングロール 8 制御盤 9 液切りロール 10 オシレーションモータ 11 ダクト 12 水洗ポンプ 13 コンベアモータ 14 絞りロール 15 エッチングポンプ 16 エッチング液タンク 17 酸洗浄ノズル 18 水洗浄ノズル 19 コンベアライン 20 回転軸 21 弁 22 ヘッダ連結管 23 吐出口 24 オシレーションアーム 25 揺動レバー 26 ヘッダ 27 分岐ヘッダ 28 エッチング液 29 スプレー 30 戻り管 31 リンク 32 コンベア駆動軸 33 ベベルギア 34 歯車 35 入口孔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のヘッダパイプ(1a)〜(1f)
    がプント基板(2)の搬送方向に沿って互いに平行に且
    つ、前記基板の搬送レベルの上方に配置され、夫々の前
    記ヘッダパイプ(1)に多数のエッチング液スプレイ用
    のエッチングノズル(3)が一定間隔で設けられたプリ
    ント基板のエッチング装置において、各ヘッダパイプ
    (1a)〜(1f)毎に前記エッチング液の噴射時期を
    順次周期的に変化させたことを特徴とするプリント基板
    のエッチング装置。
JP5938092A 1992-02-12 1992-02-12 プリント基板のエッチング装置 Pending JPH05226810A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5938092A JPH05226810A (ja) 1992-02-12 1992-02-12 プリント基板のエッチング装置

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JP5938092A JPH05226810A (ja) 1992-02-12 1992-02-12 プリント基板のエッチング装置

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JPH05226810A true JPH05226810A (ja) 1993-09-03

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JP5938092A Pending JPH05226810A (ja) 1992-02-12 1992-02-12 プリント基板のエッチング装置

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JP (1) JPH05226810A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009544845A (ja) * 2006-07-25 2009-12-17 エルピー バーマークタングス ゲーエムベーハー アンド シーオー.ケージー 表面の湿式化学処理を増進させる方法および装置
KR100943681B1 (ko) * 2001-11-05 2010-02-22 게부르. 쉬미트 게엠베하 운트 코. 액체를 사용하여 물체를 처리하는 방법 및 장치
JP2011009247A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Sharp Corp 太陽電池の製造方法及び湿式エッチング装置

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