JPH05222503A - 移動する製品に行われる冶金学的処理のための調整方法及びそれを実施するための装置 - Google Patents

移動する製品に行われる冶金学的処理のための調整方法及びそれを実施するための装置

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JPH05222503A
JPH05222503A JP4174484A JP17448492A JPH05222503A JP H05222503 A JPH05222503 A JP H05222503A JP 4174484 A JP4174484 A JP 4174484A JP 17448492 A JP17448492 A JP 17448492A JP H05222503 A JPH05222503 A JP H05222503A
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JP
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regulator
adjustment
product
predictor
sampling
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JP4174484A
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Guy Vigneron
ギュイ・ヴィニェロン
Claude Fenot
クロード・フェノ
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Sollac SA
Original Assignee
Sollac SA
Lorraine de Laminage Continu SA SOLLAC
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Publication date
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    • G05DSYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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    • G05D5/03Control of dimensions of material of thickness, e.g. of rolled material characterised by the use of electric means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • C23C2/16Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
    • C23C2/18Removing excess of molten coatings from elongated material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/50Controlling or regulating the coating processes
    • C23C2/51Computer-controlled implementation
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 移動する製品に行われる冶金学的処理のため
の閉ループ調整方法及び装置を提供する。 【構成】 移動する製品1に行われる冶金学的処理のた
めの閉ループ調整方法であり、該処理においてチェック
測定は、調整された処理に関連して著しい及び可変の遅
延をもって得られる。該調整方法において、動的調節
(RSTサンプルされた伝達関数)を有するデジタルレ
ギュレータ14が用いられ、そのサンプリング速度は、
前記の遅延が所定の整数のサンプリング期間と等しいま
までいるように、連続的に変化する。該方法を実施する
装置は、デジタルレギュレータ14、速度センサ18、
ストリップ位置センサ23、修正機21、24、加算
器、クロック19、レギュレータ16、エアジェット組
立体11、プレディクタ26、測定ユニット12、二位
置スイッチ27を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ストリップやワイヤの
ような、移動する製品に行われる冶金学的処理に関連す
る。
【0002】
【従来の技術】現在、処理プロセスの物理的又は数学的
モデルが実験室で決定され、そして所望の結果を得るよ
うに処理(treatment)を調整するための指針(precep
t)が定めれれている。従って、これは真の閉ループ調
整(regulation)を内包していない。
【0003】冶金学的プロセスは複雑なので、前記で述
べたモデルの決定は数年の研究を必要とすることもあ
る。
【0004】調整指針は処理のパラメータのうちの1つ
が変化すると毎回再計算されなければならず、調整オペ
レーションを異なる機械で実行することが所望されると
きは、それは各回に長い研究を必要とする。
【0005】材料、及びスクラップ量に関して製造コス
トを減らすために行われるプロセスの正確な制御を得る
ことは、例えば溶融した亜鉛の浴槽内を移動する金属ス
トリップを亜鉛コーティングするための処理の場合のよ
うな、いくつかの場合には特に有益である。特に、電流
をかける亜鉛コーティング処理の場合には、使用される
亜鉛の量を減らすために、正確な調整が得られることが
重要である。
【0006】更に、調整を行うことが所望されるとき
に、検査(チェック)測定は実行される処理に関連する
著しい(significant)そして可変の遅延の後にのみな
され、状態をサポートしていないセンサが処理の領域に
おいて支配する、ということが冶金学的処理においてし
ばしば起こる。これは正確な調整を行うことを困難に
し、そして、例えば亜鉛メッキ処理における亜鉛など
の、材料の消費を多くする結果となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、測定の瞬間
と処理の瞬間との間の著しい遅延を考慮しながら行われ
る正確な調整を可能にする、そのような冶金学的処理の
ための調整方法を供給するために提供される。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は移動する
製品に行われる冶金学的処理のための閉ループ調整方法
であり、その処理ではチェック測定は調整された処理に
関係する著しいそして可変の遅延をもって得られ、その
方法では動的調節(RSTサンプルされた伝達関数)を
有するデジタルレギュレータが用いられ、前記の遅延が
サンプリング期間(period)の所定の整数と常に等しい
ままでいるようにサンプリング速度が連続して変化する
ことを特徴とする。
【0009】このアレンジメントの長所によって、チェ
ック測定が行われる瞬間と処理が行われる瞬間との間の
遅延の変化を克服することが可能である。
【0010】都合よく、レギュレータの伝達関数は、前
記の遅延に対応するサンプリング期間の数より大きい又
は等しい幾つかのサンプリングオペレーション(ホリゾ
ン)に対して決定される。
【0011】この配列の長所によって、チェック測定の
遅延は完全に考慮される。
【0012】本発明の他の特徴に従うと、チェック測定
は調整パラメータの値からプレディクタ(predictor)
によって供給される結果予測によって置換され得る。
【0013】これは、著しい遅延によって測定値を得る
ことができないときに、処理の始動の間に閉ループ調整
が得られることを可能にする。設定点の変更があり、以
前の処理の設定点と異なる設定点をもつ新しい処理が始
動するときに、これは特に重要である。
【0014】都合よく、プレディクタは動的調節(dyna
mic adjustment)モードで動作し、その出力信号はチェ
ック測定信号と比較される。
【0015】これはプレディクタのアルゴリズムが最適
化されることを可能にする。
【0016】本発明の更なる特徴に従うと、レギュレー
タは、製品のライン速度を考慮した修正をもたらす少な
くとも1つのコレクタ(修正機、corrector)を用いる
ことによって、独立の目的物を用いる調整を行う。
【0017】これは、製品が取り扱われるライン速度の
ような、外部の現象を追跡(トラッキング)しそして調
整することに関して動作が得られることを可能にする。
【0018】処理される製品の経路に置かれた固定のア
クチュエータによって処理が行われる場合には、修正機
が用いられ、それは前記アクチュエータと関連して製品
の位置を考慮した修正をもたらす。
【0019】アクチュエータと関連した製品のストリッ
プの位置の関数としてトラッキングの手順を行うこと
は、より正確な調整が得られることを可能にし、そして
その結果として、例えば亜鉛コーティング処理の場合に
は、用いられる亜鉛の著しい節約を可能にする。
【0020】冶金学的処理がストリップの2つの面に行
われるならば、レギュレータは2つの面の各々の処理に
対して提供される。
【0021】本発明の更なる特徴に従うと、レギュレー
タは独立の目的物を用いる調整を行い、それはコーティ
ング設定点の変化(トラッキング)、及び一定のコーテ
ィング設定点に対するコーティングの摂動の拒絶(調
整)、に対する振幅及び速度に関して異なる修正を可能
にする。
【0022】本発明の目的は、また、前記で定義した方
法を実施するための装置であり、マイクロコンピュータ
によってデジタル計算機が構成されることを特徴とす
る。都合よく、標準タイプのパーソナルコンピュータを
使用することができる。
【0023】本発明の他の特徴及び利点は本発明の一実
施例の説明と添付の図面から明らかになるであろう。
【0024】
【実施例】図1は、連続的に移動するスティール(鋼)
ストリップの2つの面に亜鉛の層を堆積することを意図
する亜鉛メッキ設備を図式で示す。ストリップ1は最初
にオーブン2を通ってすべてプレスされ、そこで、特
に、アニーリングオペレーションが行われ、次に溶融亜
鉛3の浴槽に入れられ、そこでストリップ1の2つの面
は溶融亜鉛の層で覆われる。
【0025】ストリップは次にシートメタルストリップ
を”乾燥”する2つのエアジェット4及び5の前を通過
する。換言すると、ストリップ1に乗っている余分の亜
鉛6を取り除く。
【0026】約100メートル程移動した後、その移動
の間にシートメタルストリップとそれに堆積された亜鉛
とは冷却され、ストリップ1は測定ゲージ7及び8の前
に到着する。該ゲージはストリップ1の経路の何れかの
側の幅をスキャンするように置かれており、各々は堆積
された亜鉛の厚さを測定する。
【0027】図2は、エアジェット4及び5によって構
成されるアクチュエータの働きのモードを詳細に示す。
空気の流れがシートメタルストリップ1に着いた亜鉛6
の一部分を浴槽3の方に押し戻す。シートメタルストリ
ップ1に堆積した亜鉛6の厚さの調整は、従って、ジェ
ット4及び5によって行われる。ジェットの空気の圧力
及び出口の流速は、ジェットの前を通過した後に残って
いる亜鉛層を、多く又は少なく削減するために変化す
る。
【0028】亜鉛の堆積された厚さをチェックするため
の測定は、センサ7及び8によって行われる。該センサ
は温度に敏感なのでストリップ1が十分に冷却されてい
る位置に置かれ、従って約100メートルの経路長があ
り、該センサはジェット4及び5によって構成されるア
クチュエータから遠い。シートメタルストリップ1のラ
イン速度を考慮すると、ストリップ1のある位置がエア
ジェット4及び5で処理される瞬間と、その位置がゲー
ジ7及び8の前を通過する瞬間との間の遅延は約2分で
ある。
【0029】図3は、ジェット4及び5の出口の空気の
圧力に働きかけることによって、亜鉛メッキオペレーシ
ョンで堆積された亜鉛の厚さを調整するための装置の概
略図である。参照11はアクチュエータと可変圧力の圧
縮空気を加えるためのシステムとで構成されるエアジェ
ット組立体を指す。このユニットは、シートメタルスト
リップがジェットの前を通過した後該ストリップに残っ
ている亜鉛の厚さに作用する圧力コマンドを、その入力
端で受信する。ゲージ7及び8を備える測定ユニット1
2は、ストリップの面のうちの1つに堆積された亜鉛の
厚さの実際の値を、その出力端で供給する。
【0030】測定ユニット12は、例えば単位表面範囲
あたりに堆積された亜鉛の質量で表される測定mを、加
算器13に供給する。加算器13は更に設定点値m*を
受信する。設定点値は、亜鉛メッキメタルシートに対し
て所望される質にいての関数として変化し得る。加算器
13の出力は、動的調節モードで動作するデジタルレギ
ュレータ14に送られる。言い換えると、デジタルレギ
ュレータにおいて伝達関数がサンプリングの瞬間毎に再
計算される。このデジタルレギュレータ14は圧力ΔP
を表すエラー信号を出力として供給する。該信号は加算
器15に送られる。該加算器は更に圧力設定点値Pを受
信する。結果的信号は、例えば比例及び積分(PI)形
式の、レギュレータ16に送られ、それはその出力信号
を入力加算器回路15に伝送するフィードバック回路1
7を備えている。
【0031】圧力レギュレータ15から17によって供
給される圧力制御信号は、前記に説明されたアクチュエ
ータ11の入力に送られる。
【0032】前記で示されたように、制御測定装置12
によって供給された測定mは、アクチュエータ11によ
って実行される働きに関係する著しいそして可変の遅延
を有する。
【0033】活動的回路11から16の組立体は、動的
調節手順を行うためにクロック装置によって制御され
る。言い換えると、中央クロック装置によって決定され
る各サンプリング期間に対して、前記のオペレータの各
々が動作させられ、そして各サンプリング期間の間活動
は維持される。
【0034】本発明に従うと、製品のライン速度の変化
を考慮するためにサンプリング速度は連続して変化す
る。ライン速度は、例えばシートメタルストリップ1を
乗せるローラの上に配置された、速度センサ18によっ
て測定される。サンプリング速度のこの変化は、アクチ
ュエータ11によって実行される動きと制御装置12に
よって行われる測定との間の時間遅延がサンプリング期
間の所定の整数と一定的に等しいままでいるように、制
御される。
【0035】これは図3に示されており、サンプリング
動作を制御するためのクロック19は、その入力で速度
センサ18の出力信号を受信し、そして多種の論理的オ
ペレーションを制御する。
【0036】デジタルレギュレータ14は、動的調節に
よって各サンプリング期間に対して再定義される係数
r、s、及びtによって重み付けられた和である圧力修
正ファクタを、各サンプリング期間に対して計算する。
この重み付けられた和は、ある数の、以前のサンプリン
グ期間を考慮して計算される。ホリゾン(horizon)、
言い換えると、考慮される以前のサンプリング期間の
数、は処理に関係する制御測定の遅延に対応するサンプ
リング期間の数に少なくとも等しい。瞬間tでのサンプ
リング期間に対する圧力修正ΔP(t)は以下の式で与
えられる。
【0037】 この中で、ri、si、及びtiは、計算がその間に行わ
れるサンプリング期間に先行する第iサンプリング期間
に対するレギュレータのパラメータの値である。Tnは
制御ホリゾンであり、m(t−i)は測定されたコーテ
ィングの質量であり、m*(t−i)はこの先行する第
iサンプリング期間に対するコーティングの設定点値で
ある。
【0038】本発明に従うと、独立の目的物を用いるト
ラッキング及び調整の方法が行われ、そして修正用ファ
クタが、シートメタルストリップの速度及びエアジェッ
トによって構成されるアクチュエータに関連したそのシ
ートメタルストリップの位置のような、外部の事象を考
慮する圧力修正の決定に導入される。
【0039】この目的のために、センサ18によって供
給される速度測定信号は、修正機21に送られる。それ
はクロック19によって供給されるクロック信号によっ
て制御され、そしてそれは加算器22に送られる速度修
正信号を作る。該加算器は更にレギュレータ14によっ
て供給される圧力修正信号を受信する。
【0040】同様に、ストリップ位置センサ23、例え
ば容量性タイプ、は修正機24に送られる信号を供給す
る。それはまたクロック19からクロック信号を受信
し、そしてそれはレギュレータ14の出力に接続された
他の加算器回路25に送られる位置修正信号を供給す
る。
【0041】修正機21及び24のパラメータは、対応
するパラメータのみ、即ちストリップの速度又は位置、
が変化させられるところの、テストする間のインストレ
ーションによって供給されるデータを基にした回帰的識
別(recursive identification)によって決定される。
これらのパラメータは調整手順の間は一定のままでい
る。
【0042】これらの修正機は、”正方向送り(feed-f
orward)”形式の動作を行うことによってコーティング
を測定するためにゲージ12によって検出される前に、
ジェット間のストリップの位置及び速度の摂動に対して
補償する。
【0043】本発明の他の特徴に従うと、制御−測定装
置12によって供給される信号mは、調整手順の間に、
プレディクタ26によって供給される信号m’に置換さ
れ得る。
【0044】 該プレディクタはアクチュエータ11に供給される制御
信号を受信し、そして堆積された質量の予測を生成す
る。このプレディクタ26はデジタル形式のものであ
り、そしてまた動的調節デバイスを備える。言い換える
と、予測アルゴリズムを定めるそのパラメータは各サン
プリング期間に対して定められる。プレディクタ26は
またクロック19から生じるクロックパルスを受信す
る。プレディクタ26のパラメータは、対応するパラメ
ータのみ、即ち圧力、が変化させられるところの、イン
ストレーションによって供給されるデータを基にした回
帰的識別によって決定される。
【0045】二位置スイッチ27は測定信号m又は予測
信号m’の何れかが加算器回路13に送られるようにす
る。
【0046】調整回路はまた加算器回路22の出力と加
算器回路15の入力との間に配置されたスイッチング装
置28を備える。言い換えると回路の入力は圧力の設定
点を調整する。このスイッチング装置は、コーティング
の調整”有り又は無し”のオペレーションを与える。
【0047】調整無しで作動する間は、スイッチング装
置28は開いており、そしてオペレータは、加算器15
に入力する圧力設定点に働きかけることによってそのコ
ーティング重量を手動的に変更する。
【0048】スイッチング装置28が閉じられていると
き、調整は、オペレータによって表示される圧力を自動
的に修正することによって、コーティング重量を一定に
維持する。
【0049】図4はレギュレータ14の詳細を示す概要
図である。
【0050】この図中では、動的調節を有するデジタル
レギュレータ14を構成する多種のオペレータが示され
ている。これらのオペレータの各々は、伝達関数のパラ
メータR、S、T、Bm、及びAmを用いて計算を行
う。これらは各サンプリング期間に対して再定義され
る。示されたオペレータの組はレギュレータの伝達関数
を実行する。
【0051】第1のオペレータ31は設定点値m*を受
信し、この設定点の速度及び振幅の変化を指図する。出
力信号は第2のオペレータ32に送られる。該オペレー
タは測定mの遅延に対しての補償をする。該オペレータ
の出力信号は加算器13に送られる。オペレータ31及
び32はレギュレータのトラッキング特性を固定する。
【0052】制御システム12によって供給される質量
測定信号mは、オペレータ33の入力に送られる。該オ
ペレータは圧力修正の速度及び振幅を指図する。該オペ
レータの出力はまた加算器13の入力に送られる。その
出力は第4のオペレータ34に送られる。該オペレータ
34は設定点m*と測定mとの間の誤差を相殺し、そし
て出力として圧力修正信号ΔPを供給する。
【0053】オペレータ33及び34はコーティングレ
ギュレータの調整特性を固定する。
【0054】図5は本発明の一実施例を示す。これは標
準タイプ及び動的処理モデルの識別のためのパッケージ
のマイクロコンピュータの使用を基にしている。
【0055】この図ではディスプレイスクリーン及びキ
ーボードを備えるコンソール41が示され、略図化され
た処理設備42と略図化されたマイクロコンピュータ4
3とに接続されている。処理設備42はセンサから発す
る情報、即ち、速度情報の項目(線44)、メタルシー
トの位置に関する情報(線45)、及びチェック測定に
関する情報の項目(線46)、をコンソール41に供給
する。
【0056】コンピュータシステムは、メタルシートの
位置及びプロフィール(線47)そしてチェック測定
(線48)に関する情報をコンソール41から受信し、
そして設定点値、コーティング質量のm*(線49)及
びジェットの位置に関する情報の項目(線51)をコン
ソールに送り返す。各サンプリング期間で計算された圧
力差設定点信号は圧力調整装置52に送られ、そこで
は、図3を参照して説明されたエレメント15乃至17
に再び遭遇する。参照番号53はコンプレッサを指す。
該コンプレッサは出力として設備42にジェットのうち
の1つに対する圧力を供給する。
【0057】説明された例では、メタルシートの2つの
面に処理が行われるので、従って、第2の面に対して第
2の調整装置が与えられる。この第2の装置は概略的に
54で示される。
【0058】この調整装置は亜鉛メッキラインに設置さ
れ、このラインではシートメタルストリップは広く変化
することができる速度、即ち30乃至180メートル毎
秒、で移動する。ホリゾンは8サンプリング期間に固定
され、遅延は7サンプリング期間で維持される。サンプ
リング期間は35.5乃至6.76秒に変化する。
【0059】今説明された装置のオペレーションは以下
の通りである。設備を始動するとき、図2で説明された
すべてのエレメントのパラメータは、動的プロセスモデ
ルの識別のためのパッケージの制御のもとに回帰的識別
方法によって決定される。アルゴリズムは、それら自身
他のパッケージによって決定される。2つの修正機21
及び24のパラメータは、これを最後に、決定される。
【0060】処理設備が始動されると、プレディクタ2
6によって供給されるデータを用いて調整が行われ、そ
して、従って、スイッチ27は下の位置である。測定装
置12が測定を供給することが出来るようになるとすぐ
に、スイッチ27は図3に示す位置に揺り動かされ得
る。またプレディクタ26を使用することによって、測
定装置12の考えられる故障が緩和され、その調整は予
測値m’を用いることによって続けられる。
【0061】図6は、調整無しで一方の面で得られた結
果(破線)及び本発明に従った方法が実施された他方の
面で得られた結果(実線)を示す比較図である。標準偏
差において25%の向上が観察され、そして平均コーテ
ィング重量は設定点(100%)で中心になった。
【0062】
【発明の効果】本発明は行われる熱処理の正確な調整を
可能にし、そこでは、チェック測定は、亜鉛メッキのよ
うな、著しい遅延の後に行われ、それは特に使用される
材料、この場合亜鉛、の著しい節約が成されることを可
能にする。
【0063】デジタルレギュレータ14によって行われ
る個々の目的物を用いる調整の利点によると、トラッキ
ング及び調整は、コーティング質量における設定点の変
化に対して定められ、そして測定センサの返報は測定m
における遅延を考慮する。修正機21及び24は、信号
ΔPの即時の修正を加えることにより、調整の全体的性
能が向上されるようにする。これはライン速度における
大変大きい変化に対して得られる。これは前記で示され
たように、1乃至6のレシオにわたって変化し得る。
【0064】更に、たとえチェック測定信号がないとき
にも、プレディクタによって正確な調整が得られるの
で、亜鉛メッキ設備の効率が更に向上される。最後に、
物理的又は数学的モデルを決定するための従来の方法に
よって、調整システムを完全にするために数年を必要と
するのに対して、特別化したハードウエア及びソフトウ
エアを使用すると、数週間のオーダーで、調整設備が大
変迅速に定められることができる。
【0065】本発明の他の利点は、プレディクタの長所
によって、設備のパラメータ、特に設定点値、が変化し
たとき、修正調整はプレディクタが始動するとすぐに得
られ、それは亜鉛の損失を減少させる、ということであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】電流をかける亜鉛コーティングプロセスを図式
で示す。
【図2】アクチュエータを構成するエアジェットを示す
詳細な図である。
【図3】調整装置の概略図である。
【図4】図3のレギュレータの詳細な図である。
【図5】本発明の一実施例を示す。
【図6】比較図である。
【符号の説明】
1 シートメタルストリップ: 2 オーブン: 3
溶融亜鉛: 4、5エアジェット: 6 亜鉛: 7、
8 測定ゲージ: 11 エアジェット組立体: 12
測定ユニット: 13、15、22、25 加算器回
路: 14デジタルレギュレータ: 16 レギュレー
タ: 17 フィードバック回路:18 速度センサ:
19 クロック: 21、24 修正機: 23 ス
トリップ位置センサ: 26 プレディクタ: 27、
28 スイッチ装置: 31、32、33、34 オペ
レータ: 41 コンソール: 42 処理設備:43
マイクロコンピュータ: 44、45、46、47、
48、49、51線: 52 圧力調整装置: 53
コンプレッサ: 54 第2の調整装置

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 移動する製品に行われる冶金学的処理の
    ための閉ループ調整方法であって、前記処理においてチ
    ェック測定は調整された処理に関連する著しい及び可変
    の遅延をもって得られ、前記方法において動的調節(R
    STサンプルされた伝達関数)を有するデジタルレギュ
    レータが用いられ、サンプリング速度は、前記の遅延が
    所定の整数のサンプリング期間と等しいままでいるよう
    に、連続的に変化することを特徴とする、方法。
  2. 【請求項2】 前記レギュレータの伝達関数は、前記遅
    延に対応するサンプリング期間の数より大きい又は等し
    いサンプリングオペレーション(ホリゾン)の数(T
    n)に対して決定されることを特徴とする、請求項1に
    記載の調整方法。
  3. 【請求項3】 前記チェック測定は、調整パラメータの
    値(P)からプレディクタによって供給される結果予測
    によって置換され得ることを特徴とする、請求項1又は
    2に記載の調整方法。
  4. 【請求項4】 前記プレディクタは動的調節モードで動
    作し、その出力信号はチェック測定信号と比較されるこ
    とを特徴とする、請求項3に記載の調整方法。
  5. 【請求項5】 前記プレディクタのアルゴリズムは回帰
    的識別によって得られることを特徴とする、請求項3に
    記載の調整方法。
  6. 【請求項6】 前記レギュレータは独立の目的物を用い
    る調整を行い、そして製品のライン速度を考慮した修正
    をもたらす少なくとも1つの修正機を用いることを特徴
    とする、請求項1、2、3、4、又は5に記載の調整方
    法。
  7. 【請求項7】 サンプリング速度は、処理される製品の
    ライン速度の関数として変化することを特徴とする、請
    求項6に記載の調整方法。
  8. 【請求項8】 処理される製品の経路に配置された固定
    のアクチュエータによって処理が行われ、前記アクチュ
    エータと関連した製品の位置を考慮した修正をもたらす
    修正機が用いられることを特徴とする、請求項6に記載
    の調整方法。
  9. 【請求項9】 修正機の各々のアルゴリズムは回帰的識
    別方法によって決定されることを特徴とする、請求項6
    又は8に記載の調整方法。
  10. 【請求項10】 ストリップの形の製品の2つの面の処
    理の調整が適用されると、2つの面の各々の処理に対し
    てレギュレータが提供されることを特徴とする、請求項
    7に記載の調整方法。
  11. 【請求項11】 マイクロコンピュータによってデジタ
    ル計算機が構成されることを特徴とする、請求項1乃至
    10の何れかのものに従った方法を実施するための装
    置。
  12. 【請求項12】 処理される製品を乗せるためのローラ
    に配置された速度センサを備えることを特徴とする、請
    求項11に記載の装置。
  13. 【請求項13】 前記アクチュエータに関連して処理さ
    れる製品の位置のための容量性タイプのセンサを備える
    ことを特徴とする、請求項11に記載の装置。
  14. 【請求項14】 デジタルレギュレータの1つの入力
    を、プレディクタの出力又はチェック測定を行う装置の
    出力の何れかに接続する二位置スイッチを備えることを
    特徴とする、請求項11に記載の装置。
JP4174484A 1991-07-01 1992-07-01 移動する製品に行われる冶金学的処理のための調整方法及びそれを実施するための装置 Pending JPH05222503A (ja)

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DE (1) DE69204582T2 (ja)
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FR2678645A1 (fr) 1993-01-08
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DE69204582D1 (de) 1995-10-12
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DE69204582T2 (de) 1996-04-18
AU1821892A (en) 1993-01-07
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