JP4354978B2 - めっき付着量制御装置および制御方法 - Google Patents
めっき付着量制御装置および制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4354978B2 JP4354978B2 JP2006231006A JP2006231006A JP4354978B2 JP 4354978 B2 JP4354978 B2 JP 4354978B2 JP 2006231006 A JP2006231006 A JP 2006231006A JP 2006231006 A JP2006231006 A JP 2006231006A JP 4354978 B2 JP4354978 B2 JP 4354978B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- amount
- plating adhesion
- adhesion amount
- prediction model
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 242
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 36
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 39
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 claims description 31
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 claims description 17
- 230000006399 behavior Effects 0.000 claims description 13
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 5
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 5
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 2
- 238000013517 stratification Methods 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 11
- 238000004260 weight control Methods 0.000 claims 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 2
- 230000004044 response Effects 0.000 claims 1
- 108091093126 WHP Posttrascriptional Response Element Proteins 0.000 description 11
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 10
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 5
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
- C23C2/16—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
- C23C2/18—Removing excess of molten coatings from elongated material
- C23C2/20—Strips; Plates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/30—Fluxes or coverings on molten baths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/34—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the shape of the material to be treated
- C23C2/36—Elongated material
- C23C2/40—Plates; Strips
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
- C23C2/50—Controlling or regulating the coating processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Description
ln(W)=a0+a1・ln(P)+a2・ln(V)+a3・ln(D) (1)
ここで、W:めっき付着量,P:ノズルのガス圧,V:板速,D:ノズルギャップ,a0〜a3:定数である。
ΔW←(1−α)・ΔW+α・(W−W~) (2)
ただし、α:適応ゲインである。すなわちΔWに対して、当該のめっき操業で生じためっき付着量予測モデルの出力値W~と実際に計測されためっき付着量Wの乖離の影響を、一定割合で加算することで、ΔWを更新する。適応ゲインαは調整パラメータであるが、相対的に大きくすることで、ΔWはより直近の操業に重きをおいた適応量となる。S4−3で適応結果記憶手段107のΔWを、(数2)で求めた新たな適応量に更新する。適応量算出方法として、(数2)は代表的な式であるが、この他にも考えられる。
δWij=(ΣWd)/n (3)
ただし,n:モデル誤差蓄積手段110から抽出した当該層別のWdの個数である。δWijとして、データが蓄積されている期間の類似の層別におけるめっき付着量予測モデルと実際のめっきプラントにおけるめっき付着挙動との乖離が算出できる。S6-3で、学習結果記憶手段109のδWijを、(数3)で求めた新たな学習量に更新する。S6−4で付着量Wと板速Vのすべての層別について学習量の更新が終わったことを確認し、終わってない場合はS6−1〜S6−3を繰り返す。
ln(P)={ln(W*−ΔW)−(a0+a2・ln(V)+a3・ln(D))/a1 (4)
ここで、W*:次のストリップのめっき付着量目標値,ΔW:適応量,V:ライン速度,D:ノズルギャップ,P:ノズルのガス圧,a0〜a3:定数である。右辺に値を代入し、ln(P)を求めた後、ノズル圧力Pに変換する。
ln(P)={ln(W*−δWij)−(a0+a2・ln(V)+a3・ln(D))/a1 (5)
ここで、W*:次のストリップのめっき付着量目標値,δWij:学習量,V:ライン速度,D:ノズルギャップ,P:ノズルのガス圧,a0〜a3:定数である。右辺に値を代入し、ln(P)を求めた後、ノズル圧力Pに変換する。S9−6で算出したPを、めっきプラント150に出力する。
δWij←{η・δWij+β・(W−W~)}/(η+β) (6)
ただし、β:学習ゲイン,η:忘却係数である。学習ゲインβは、(数2)のαに比べ小さな値である。このようにして直近のWdの影響を小さくすることで、同一の層別で生じためっき付着量予測モデルの出力値と実際に計測されためっき付着量の乖離を、長期にわたって学習により獲得できる。この結果、めっき付着量予測モデルの出力値と実際に計測されためっき付着量の普遍的な乖離が抽出できる。またηは忘却係数であり、現在の学習量の情報をどの程度の時定数で喪失するかを調整する。学習速度はβとηの相対関係で決定される。S11−3で、学習結果記憶手段109のδWijを、(数6)で求めた新たな学習量に更新する。学習量の計算式として(数6)は一例であり、この他にも種々考えられる。
P=Pcur+f-1(W*−ΔW,V,D)−f-1(Wpre*−ΔW,V,D) (7)
ここで、ln{f-1(W,V,D)}={ln(W)−(a0+a2・ln(V)+a3・ln(D))/a1,W*:次のストリップのめっき付着量目標値,Wpre*:現在のストリップのめっき付着量目標値,ΔW:適応量,V:ライン速度,D:ノズルギャップ,P:ノズルのガス圧,a0〜a3:定数である。
P=f-1(W*−δWij,V,D) (8)
ここで、ln{f-1(W,V,D)}={ln(W)−(a0+a2・ln(V)+a3・ln(D))/a1,W*:次のストリップのめっき付着量目標値,δWij:学習量,V:ライン速度,D:ノズルギャップ,P:ノズルのガス圧,a0〜a3:定数である。最終的に計算されたガス圧の制御指令値は、S13−7で制御対象150に出力される。
P=f-1(W*−δWij,V,D)+f-1(W*−ΔW,V,D)−f-1(Wpre*−ΔW,V,D) (9)
ここで、ln{f-1(W,V,D)}={ln(W)−(a0+a2・ln(V)+a3・ln(D))/a1,W*:次のストリップのめっき付着量目標値,Wpre*:現在のストリップのめっき付着量目標値,ΔW:適応量,δWij:学習量,V:ライン速度,D:ノズルギャップ,P:ノズルのガス圧,a0〜a3:定数である。最終的に計算されたガス圧の制御指令値は、S14−7で制御対象150に出力される。
ln(P)={ln(W*)−(a0+a2・ln(V)+a3・ln(D))/a1 (10)
逐次最小二乗法については多くの文献で参照できるが、例えば、『最小二乗法の理論と応用(田島稔、小牧数雄、東洋書店(1986))』で詳しく述べられている。
Claims (9)
- 連続的に送られてくるストリップを溶融めっきの浴槽に浸し、引き上げざまにノズルから高圧のガスを吹き付け、不要なめっきを落とすことでストリップに所望の厚みのめっきを付着させるめっきプラントから実績信号を受信し、めっき付着量を制御するための制御信号をめっきプラントに送信するめっき付着量制御装置において、
ストリップ速度、ガスの圧力、ノズル吹き付け位置(ノズル位置)におけるノズルとストリップの距離(ノズルギャップ)等とこの結果付着するめっき付着量の関係を記述しためっき付着量予測モデルと、
ストリップ速度、ガスの圧力、ノズルギャップ等の実績を取り込み、前記めっき付着量予測モデルを用いてめっき付着量を推定する付着量推定手段と、
前記付着量推定手段の出力と直近の操業で実際に付着しているめっき付着量とから、めっき付着量予測モデルと実際のめっき付着挙動との乖離の度合いを求め、該乖離の度合いを用いてめっき付着量予測モデルを直近のめっきプラントの状態に近づけるための適応量を算出する適応手段と、算出した適応量を記憶する適応結果記憶手段と、
前記付着量推定手段の出力と実際に付着しためっき付着量の実績値の偏差を蓄積するモデル誤差蓄積手段と、
該モデル誤差蓄積手段に蓄積された偏差をめっきプラントの操業状態の類似性に着目した層別毎に学習する学習手段と、学習結果である学習量を記憶する学習結果記憶手段と、
めっき付着量の目標値が変更になったとき、前記適応結果記憶手段と前記学習結果記憶手段の少なくとも一方の内容を用いて前記めっき付着量予測モデルを補正し、補正しためっき付着量予測モデルを用いて所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出するプリセット手段を備えることを特徴とするめっき付着量制御装置。 - 前記制御指令値は、ガスの圧力の指令値またはノズル位置の指令値の少なくとも一方であり、前記プラントの操業状態の類似性とは、めっき付着量、ストリップ速度、ガスの圧力、ノズル位置またはノズルギャップの少なくとも一つが類似であることを特徴とする請求項1記載のめっき付着量制御装置。
- 前記プリセット手段は、現在のストリップのめっき付着量目標値と次のストリップのめっき付着量目標値との差分を計算し、該差分とあらかじめ定められた所定値との大小関係により、前記適応結果記憶手段の適応量と前記学習結果記憶手段の学習量のいずれを用いて前記めっき付着量予測モデルを補正するかを決定することを特徴とする請求項1または2記載のめっき付着量制御装置。
- 前記プリセット手段は、現在のストリップのめっき付着量目標値と次のストリップのめっき付着量目標値との差分を計算し、該差分が小さいときには、前記適応結果記憶手段の適応量を用いて前記めっき付着量予測モデルを補正し、補正しためっき付着量予測モデルを用いて所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出し、差分が大きいときには、前記学習結果記憶手段の学習量を用いて前記めっき付着量予測モデルを補正し、補正しためっき付着量予測モデルを用いて所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のめっき付着量制御装置。
- 前記プリセット手段は、現在の制御指令値に次のストリップのめっき付着量目標値を用いて算出した制御指令値を加算し、さらに現在のストリップのめっき付着量目標値を用いて算出した制御指令値を減じて最終的な制御指令値を算出する第1のプリセット手段と、次のストリップのめっき付着量目標値から前記めっき付着量予測モデルを用いて制御指令値を算出する第2のプリセット手段を有し、
変更前のめっき付着量目標値と変更後のめっき付着量目標値の差分が小さいときには、前記適応結果記憶手段の適応量を用いて前記めっき付着量予測モデルを補正し、補正しためっき付着量予測モデルを用いて前記第1のプリセット手段で所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出し、前記差分が大きいときには、前記学習結果記憶手段の学習量を用いて前記めっき付着量予測モデルを補正し、補正しためっき付着量予測モデルを用いて第2のプリセット手段により所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のめっき付着量制御装置。 - 前記プリセット手段は、現在の制御指令値に次のストリップのめっき付着量目標値を用いて算出した制御指令値を加算し、さらに現在のストリップのめっき付着量目標値を用いて算出した制御指令値を減じて最終的な制御指令値を算出する第1のプリセット手段と、次のストリップのめっき付着量目標値に前記学習結果記憶手段の学習量で補正しためっき付着量予測モデルを用いて算出した制御指令値、次のストリップのめっき付着量目標値に前記適応結果記憶手段の適応量で補正しためっき付着量予測モデルを用いて算出した制御指令値、現在のストリップのめっき付着量目標値に前記適応結果記憶手段の適応量で補正しためっき付着量予測モデルを用いて算出した制御指令値の3つの値から最終的な制御指令値を算出する第2のプリセット手段を有し、
変更前のめっき付着量目標値と変更後のめっき付着量目標値の差分が小さいときには、前記第1のプリセット手段により所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出し、前記差分が大きいときには、前記第2のプリセット手段で所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のめっき付着量制御装置。 - 前記プリセット手段は、現在のストリップのめっき付着量目標値と次のストリップのめっき付着量目標値との差分、次のストリップのめっき付着量目標値、ストリップ速度またはノズル位置の少なくとも一つに着目して、前記適応結果記憶手段の適応量と前記学習結果記憶手段の学習量のいずれを用いて前記めっき付着量予測モデルを補正するかを決定することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のめっき付着量制御装置。
- 前記プリセット手段は、現在のストリップのめっき付着量目標値と次のストリップのめっき付着量目標値との差分、次のストリップのめっき付着量目標値、ストリップ速度またはノズル位置の少なくとも一つに着目して、前記適応結果記憶手段の適応量と前記学習結果記憶手段の学習量のいずれを用いて前記めっき付着量予測モデルを補正するかを決定するとともに、前記第1のプリセット手段と第2のプリセット手段のどちらを選択するか決定することを特徴とする請求項7記載のめっき付着量制御装置。
- 連続的に送られてくるストリップを溶融めっきの浴槽に浸し、引き上げざまにノズルから高圧のガスを吹き付け、不要なめっきを落とすことでストリップに所望の厚みのめっきを付着させるめっきプラントにおいて、
ストリップ速度、ガスの圧力、ノズル位置におけるノズルとストリップの距離(ノズルギャップ)等とめっき付着量の関係を記述しためっき付着量予測モデルを用いて、ストリップ速度、ガスの圧力、ノズルギャップ等の実績からめっき付着量を推定し、この推定結果と直近の操業で実際に付着しているめっき付着量とから、めっき付着量予測モデルと実際のめっき付着挙動との乖離の度合いを求め、該乖離の度合いを用いてめっき付着量予測モデルを直近のめっきプラント状態に近づけるための適応量を算出して記憶し、並行して前記推定結果と実際に付着しためっき付着量の実績値との長期間に渡る平均的な偏差をめっきプラントの操業状態の類似性に着目した層別毎に学習量として記憶し、めっき付着量の目標値が変更になったとき、適応量と学習量の少なくとも一方の内容を用いて該めっき付着量予測モデルを補正し、補正した制御モデルを用いて所望のめっき付着量を得るための制御指令値を算出することを特徴とするめっき付着量制御方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006231006A JP4354978B2 (ja) | 2006-08-28 | 2006-08-28 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
KR1020070079847A KR101017830B1 (ko) | 2006-08-28 | 2007-08-09 | 도금 부착량 제어 장치 및 제어 방법 |
CN200710140765A CN100591795C (zh) | 2006-08-28 | 2007-08-09 | 镀液附着量控制装置及控制方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006231006A JP4354978B2 (ja) | 2006-08-28 | 2006-08-28 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008050680A JP2008050680A (ja) | 2008-03-06 |
JP4354978B2 true JP4354978B2 (ja) | 2009-10-28 |
Family
ID=39206875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006231006A Expired - Fee Related JP4354978B2 (ja) | 2006-08-28 | 2006-08-28 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4354978B2 (ja) |
KR (1) | KR101017830B1 (ja) |
CN (1) | CN100591795C (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5250823B2 (ja) * | 2008-05-15 | 2013-07-31 | 株式会社日立製作所 | めっき付着量制御装置およびめっき付着量制御方法 |
JP5965576B2 (ja) * | 2010-03-11 | 2016-08-10 | 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 | 溶融金属めっき鋼板の製造装置 |
CN104615155A (zh) * | 2015-02-13 | 2015-05-13 | 北京京诚之星科技开发有限公司 | 粉末涂层厚度自动控制*** |
KR101688384B1 (ko) | 2015-07-08 | 2016-12-21 | 주식회사 성화이앤씨 | 연속 용융도금 설비의 도금두께 제어 시스템 및 방법 |
JP6471081B2 (ja) * | 2015-11-10 | 2019-02-13 | 株式会社日立製作所 | めっき付着量制御装置及びめっき付着量制御方法 |
JP6668133B2 (ja) * | 2016-03-24 | 2020-03-18 | 株式会社日立製作所 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
CN105886990A (zh) * | 2016-04-18 | 2016-08-24 | 法尔胜泓昇集团有限公司 | 一种钢丝镀锌厚度的控制方法及装置 |
CN107321572B (zh) * | 2017-08-01 | 2019-06-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 框胶涂布控制方法及控制*** |
KR102180827B1 (ko) * | 2018-09-21 | 2020-11-19 | 주식회사 포스코 | 도금량 제어 장치 및 도금량 제어 방법 |
KR102180828B1 (ko) * | 2018-09-21 | 2020-11-19 | 주식회사 포스코 | 도금량 제어 장치 및 도금량 제어 방법 |
JP7145754B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-10-03 | 株式会社日立製作所 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
JP7145755B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-10-03 | 株式会社日立製作所 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
JP7168444B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2022-11-09 | 株式会社日立製作所 | めっき付着量制御装置および制御方法 |
KR102213960B1 (ko) * | 2019-06-20 | 2021-02-09 | 현대제철 주식회사 | 강판 도금공정의 도금량 제어방법 |
KR20220163733A (ko) | 2021-06-03 | 2022-12-12 | 주식회사 성화이앤씨 | 연속 용융금속 설비의 도금량 제어방법 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3868249B2 (ja) | 2001-07-30 | 2007-01-17 | 三菱重工業株式会社 | 鋼板形状矯正装置 |
JP2003216204A (ja) | 2002-01-21 | 2003-07-31 | Nippon Steel Corp | プロセス制御装置、プロセス制御方法、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及びコンピュータプログラム |
-
2006
- 2006-08-28 JP JP2006231006A patent/JP4354978B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-08-09 CN CN200710140765A patent/CN100591795C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-09 KR KR1020070079847A patent/KR101017830B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100591795C (zh) | 2010-02-24 |
KR20080019543A (ko) | 2008-03-04 |
CN101144144A (zh) | 2008-03-19 |
JP2008050680A (ja) | 2008-03-06 |
KR101017830B1 (ko) | 2011-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4354978B2 (ja) | めっき付着量制御装置および制御方法 | |
JP7269330B2 (ja) | メッキ量制御装置およびメッキ量制御方法 | |
JP4966826B2 (ja) | 巻取温度制御装置および制御方法 | |
JP2008031509A (ja) | めっき付着量制御システムおよびめっき付着量制御方法 | |
JP3291201B2 (ja) | メッキ付着量の制御装置および制御方法 | |
KR100643373B1 (ko) | 열간압연 후물재 길이방향 온도 제어방법 | |
JP5250823B2 (ja) | めっき付着量制御装置およびめっき付着量制御方法 | |
JPH04367901A (ja) | プロセスラインにおける学習制御方法 | |
JP6668133B2 (ja) | めっき付着量制御装置および制御方法 | |
CN113316747B (zh) | 控制方法和电子设备、计算机可读介质、制造方法和装置 | |
KR102045652B1 (ko) | 인공지능 기반 열연 런아웃 테이블 열유속계수 결정 장치 | |
CN114488778B (zh) | 一种连续热镀锌机组气刀参数自动控制方法 | |
JP2022000535A (ja) | 付着量予測モデルの生成方法、めっき付着量の予測方法、めっき付着量制御方法、溶融めっき鋼板の製造方法、及びそれらを実行する装置、並びに品質予測モデルの生成方法 | |
KR102178674B1 (ko) | 용융 도금 공정에서의 도금량 제어 시스템 | |
JP2804320B2 (ja) | めっき付着量制御方法 | |
US5370902A (en) | Regulating method for a metallurgical treatment carried out on a moving product and device for its implementation | |
JPH0970607A (ja) | プロセスラインにおける学習制御方法 | |
JP7145755B2 (ja) | めっき付着量制御装置および制御方法 | |
JP4037569B2 (ja) | 溶融めっき金属帯のめっき付着量制御方法 | |
JP7168444B2 (ja) | めっき付着量制御装置および制御方法 | |
CN117019882B (zh) | 考虑热轧来料信息的带钢冷连轧自动厚度前馈控制方法 | |
KR20000075792A (ko) | 금속 스트립의 코팅 방법 및 장치 | |
KR19980052531A (ko) | 도금량 프로파일을 이용한 도금부착량 제어장치 및 그 제어방법 | |
JP5266610B2 (ja) | 塗装膜厚制御方法及びそのシステム | |
Bertin et al. | Computer control of coating weight on galvanizing and tinning lines |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080514 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081014 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090728 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4354978 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120807 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130807 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |