JPH05205923A - 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 - Google Patents
耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法Info
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- JPH05205923A JPH05205923A JP4179077A JP17907792A JPH05205923A JP H05205923 A JPH05205923 A JP H05205923A JP 4179077 A JP4179077 A JP 4179077A JP 17907792 A JP17907792 A JP 17907792A JP H05205923 A JPH05205923 A JP H05205923A
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- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 希土類・ボロン・鉄を主成分とする新規な永
久磁石材料の耐食性の改善を目的とし、腐食性薬品等を
使用、残留させることなく、密着性、防食性にすぐれた
耐食性薄膜を、永久磁石材料表面に均一厚みで設けるこ
とができる製造方法の提供。 【構成】 主相が正方晶からなるR−Fe−B系永久磁
石体表面に、イオン蒸着薄膜形成法(IVD)により、
Al,Ni,Cr,Cu,Co等の金属あるいはその合
金、またSiO2,Al2O3,Cr2O3,TiN,Al
N,TiC等の耐食性薄膜層を形成被覆する。 【効果】 耐食性薄膜層は膜厚が所要厚みで格段にすぐ
れた均一度が得られ、永久磁石体の酸化が確実に防止さ
れており、磁気特性の劣化がない。
久磁石材料の耐食性の改善を目的とし、腐食性薬品等を
使用、残留させることなく、密着性、防食性にすぐれた
耐食性薄膜を、永久磁石材料表面に均一厚みで設けるこ
とができる製造方法の提供。 【構成】 主相が正方晶からなるR−Fe−B系永久磁
石体表面に、イオン蒸着薄膜形成法(IVD)により、
Al,Ni,Cr,Cu,Co等の金属あるいはその合
金、またSiO2,Al2O3,Cr2O3,TiN,Al
N,TiC等の耐食性薄膜層を形成被覆する。 【効果】 耐食性薄膜層は膜厚が所要厚みで格段にすぐ
れた均一度が得られ、永久磁石体の酸化が確実に防止さ
れており、磁気特性の劣化がない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、この発明は、R(R
はYを含む希土類元素のうち少なくとも1種)、B、F
eを主成分とする永久磁石の製造方法に係り、イオン蒸
着薄膜形成法(IVD)により耐食性薄膜を形成して永
久磁石の耐食性を改善した希土類・ボロン・鉄系永久磁
石の製造方法に関する。
はYを含む希土類元素のうち少なくとも1種)、B、F
eを主成分とする永久磁石の製造方法に係り、イオン蒸
着薄膜形成法(IVD)により耐食性薄膜を形成して永
久磁石の耐食性を改善した希土類・ボロン・鉄系永久磁
石の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】現在の代表的な永久磁石材料は、アルニ
コ、ハードフェライトおよび希土類コバルト磁石であ
る。近年のコバルトの原料事情の不安定化に伴ない、コ
バルトを20〜30wt%含むアルニコ磁石の需要は減
り、鉄の酸化物を主成分とする安価なハードフェライト
が磁石材料の主流を占めるようになった。
コ、ハードフェライトおよび希土類コバルト磁石であ
る。近年のコバルトの原料事情の不安定化に伴ない、コ
バルトを20〜30wt%含むアルニコ磁石の需要は減
り、鉄の酸化物を主成分とする安価なハードフェライト
が磁石材料の主流を占めるようになった。
【0003】一方、希土類コバルト磁石はコバルトを5
0〜60wt%も含むうえ、希土類鉱石中にあまり含ま
れていないSmを使用するため大変高価であるが、他の
磁石に比べて、磁気特性が格段に高いため、主として小
型で付加価値の高い磁気回路に多用されるようになっ
た。
0〜60wt%も含むうえ、希土類鉱石中にあまり含ま
れていないSmを使用するため大変高価であるが、他の
磁石に比べて、磁気特性が格段に高いため、主として小
型で付加価値の高い磁気回路に多用されるようになっ
た。
【0004】出願人は先に、高価なSmやCoを必ずし
も含有しない新しい高性能永久磁石としてFe−B−R
系(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも1種)永
久磁石を提案した(特願昭57−145072号)。こ
の永久磁石は、RとしてNdやPrを中心とする資源的
に豊富な軽希土類を用い、Feを主成分として25MG
Oe以上の極めて高いエネルギー積を示す、すぐれた永
久磁石である。
も含有しない新しい高性能永久磁石としてFe−B−R
系(RはYを含む希土類元素のうち少なくとも1種)永
久磁石を提案した(特願昭57−145072号)。こ
の永久磁石は、RとしてNdやPrを中心とする資源的
に豊富な軽希土類を用い、Feを主成分として25MG
Oe以上の極めて高いエネルギー積を示す、すぐれた永
久磁石である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記のすぐれた磁気特
性を有するFe−B−R系永久磁石は、主成分として、
空気中で酸化し易い希土類元素及び鉄を含有するため、
磁気回路に組込んだ場合に、磁石表面に生成する酸化物
により、磁気回路の出力低下及び磁気回路のばらつきを
惹起し、また、表面酸化物の脱落による周辺機器への汚
染の問題があった。
性を有するFe−B−R系永久磁石は、主成分として、
空気中で酸化し易い希土類元素及び鉄を含有するため、
磁気回路に組込んだ場合に、磁石表面に生成する酸化物
により、磁気回路の出力低下及び磁気回路のばらつきを
惹起し、また、表面酸化物の脱落による周辺機器への汚
染の問題があった。
【0006】そこで、出願人は先に、上記のFe−B−
R系永久磁石の対象系の改善のため、磁石体表面に無電
解めっき法あるいは電解めっき法により耐食性金属めっ
き層を被覆した永久磁石(特願昭58−162350
号)、及び磁石体表面にスプレー法あるいは浸漬法によ
って、耐食性樹脂層を被覆した永久磁石を提案(特願昭
58−171907号)した。
R系永久磁石の対象系の改善のため、磁石体表面に無電
解めっき法あるいは電解めっき法により耐食性金属めっ
き層を被覆した永久磁石(特願昭58−162350
号)、及び磁石体表面にスプレー法あるいは浸漬法によ
って、耐食性樹脂層を被覆した永久磁石を提案(特願昭
58−171907号)した。
【0007】しかし、前者のめっき法では、永久磁石体
が焼結体の場合、該焼結体は有孔性であるため、この孔
内にめっき前処理での酸性溶液またはアルカリ溶液が残
留し、経年変化とともに腐食する恐れがあり、また磁石
体の耐薬品性が劣るため、めっき時に磁石表面が腐食さ
れて密着性・防食性が劣る問題があった。
が焼結体の場合、該焼結体は有孔性であるため、この孔
内にめっき前処理での酸性溶液またはアルカリ溶液が残
留し、経年変化とともに腐食する恐れがあり、また磁石
体の耐薬品性が劣るため、めっき時に磁石表面が腐食さ
れて密着性・防食性が劣る問題があった。
【0008】また、後者のスプレー法による樹脂の塗装
には方向性があるため、被処理物表面全体に均一な樹脂
被膜を施すのに多大の工程、手間を要し、特に形状が困
難な異形磁石体に均一厚みの被膜を施すことは困難であ
り、また、浸漬法では樹脂被膜厚みが不均一になり、製
品寸法精度が悪い問題があった。
には方向性があるため、被処理物表面全体に均一な樹脂
被膜を施すのに多大の工程、手間を要し、特に形状が困
難な異形磁石体に均一厚みの被膜を施すことは困難であ
り、また、浸漬法では樹脂被膜厚みが不均一になり、製
品寸法精度が悪い問題があった。
【0009】この発明は、希土類・ボロン・鉄を主成分
とする新規な永久磁石材料の耐食性の改善を目的とし、
腐食性薬品等を使用、残留させることなく、密着性、防
食性にすぐれた耐食性薄膜を、永久磁石材料表面に均一
厚みで設けることができる製造方法の提供を目的として
いる。
とする新規な永久磁石材料の耐食性の改善を目的とし、
腐食性薬品等を使用、残留させることなく、密着性、防
食性にすぐれた耐食性薄膜を、永久磁石材料表面に均一
厚みで設けることができる製造方法の提供を目的として
いる。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は、真空容器内
で薄膜用原料の蒸発物を噴射、イオン化して加速電圧で
加速し、R(但しRはYを含む希土類元素のうち少なく
とも1種)8原子%〜30原子%、B2原子%〜28原
子%、Fe42原子%〜90原子%を主成分とし主相が
正方晶からなる永久磁石体表面に付着及びイオン照射し
て、耐食性薄膜を形成被覆することを特徴とする耐食性
のすぐれた永久磁石の製造方法である。
で薄膜用原料の蒸発物を噴射、イオン化して加速電圧で
加速し、R(但しRはYを含む希土類元素のうち少なく
とも1種)8原子%〜30原子%、B2原子%〜28原
子%、Fe42原子%〜90原子%を主成分とし主相が
正方晶からなる永久磁石体表面に付着及びイオン照射し
て、耐食性薄膜を形成被覆することを特徴とする耐食性
のすぐれた永久磁石の製造方法である。
【0011】すなわち、この発明は、R(但しRはYを
含む希土類元素のうち少なくとも1種)8原子%〜30
原子%、B2原子%〜28原子%、Fe42原子%〜9
0原子%を主成分とし主相が正方晶からなる永久磁石体
表面に、イオン蒸着薄膜形成法(IVD:Ion Va
por Deposition)により、Al,Ni,
Cr,Cu,Co等の金属あるいはその合金、またSi
O2,Al2O3,Cr2O3,TiN,AlN,TiC等
の耐食性薄膜層を形成被覆することを特徴とする耐食性
のすぐれた永久磁石の製造方法である。
含む希土類元素のうち少なくとも1種)8原子%〜30
原子%、B2原子%〜28原子%、Fe42原子%〜9
0原子%を主成分とし主相が正方晶からなる永久磁石体
表面に、イオン蒸着薄膜形成法(IVD:Ion Va
por Deposition)により、Al,Ni,
Cr,Cu,Co等の金属あるいはその合金、またSi
O2,Al2O3,Cr2O3,TiN,AlN,TiC等
の耐食性薄膜層を形成被覆することを特徴とする耐食性
のすぐれた永久磁石の製造方法である。
【0012】この発明によるイオン蒸着薄膜形成法(I
VD)は、真空容器内で、所要の金属や合金、セラミッ
クスの薄膜用原料を電子銃やアーク放電等によって蒸発
させた蒸発物を噴射しイオン化し、あるいはさらに他イ
オン源から引出されたイオンとともに高加速電圧で加速
し、加速されないものが永久磁石体表面に付着したり、
イオンビーム照射されたものが衝突付着することによ
り、永久磁石体表面に該耐食性薄膜を形成被覆させるも
のである。例えば、クラスターイオンビーム装置などの
公知の装置を利用できる。この発明において、上述した
イオン蒸着薄膜形成法(IVD)により、永久磁石表面
に形成される耐食性薄膜の厚みは、磁気特性や耐食性な
どを考慮すると30μm以下の厚みが好ましい。
VD)は、真空容器内で、所要の金属や合金、セラミッ
クスの薄膜用原料を電子銃やアーク放電等によって蒸発
させた蒸発物を噴射しイオン化し、あるいはさらに他イ
オン源から引出されたイオンとともに高加速電圧で加速
し、加速されないものが永久磁石体表面に付着したり、
イオンビーム照射されたものが衝突付着することによ
り、永久磁石体表面に該耐食性薄膜を形成被覆させるも
のである。例えば、クラスターイオンビーム装置などの
公知の装置を利用できる。この発明において、上述した
イオン蒸着薄膜形成法(IVD)により、永久磁石表面
に形成される耐食性薄膜の厚みは、磁気特性や耐食性な
どを考慮すると30μm以下の厚みが好ましい。
【0013】また、この発明における永久磁石は、体積
比で1%〜50%の非磁性相(酸化物を除く)を含むこ
とを特徴とし、焼結磁石の場合には、結晶粒径が1〜1
00μmの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合
物を主相とする。
比で1%〜50%の非磁性相(酸化物を除く)を含むこ
とを特徴とし、焼結磁石の場合には、結晶粒径が1〜1
00μmの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合
物を主相とする。
【0014】永久磁石の限定理由この発明において、永
久磁石に用いる希土類元素Rは、8原子%〜30原子%
のNd,Pr,Dy,Ho,Tbのうち少なくとも1
種、あるいはさらに、La,Sm,Ce,Gd,Er,
Eu,Pm,Tm,Yb,Lu,Yのうち少なくとも1
種を含むものが好ましい。また、通例Rのうち1種をも
って足りるが、実用上は2種以上の混合物(ミッシュメ
タル、ジジム等)を入手上の便宜等の理由により用いる
ことができる。なお、このRは純希土類元素でなくても
よく、工業上入手可能な範囲で製造上不可避的な不純物
を含有するものでも差し支えない。R(Yを含む希土類
元素のうち少なくとも1種)は、新規な上記系永久磁石
における必須元素であって、8原子%未満では結晶構造
がα−鉄と同一構造の立方晶組織となるため、高磁気特
性、特に高保磁力が得られず、30原子%を越えるとR
リッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が
低下してすぐれた特性の永久磁石が得られない。よっ
て、Rは8原子%〜30原子%の範囲とする。
久磁石に用いる希土類元素Rは、8原子%〜30原子%
のNd,Pr,Dy,Ho,Tbのうち少なくとも1
種、あるいはさらに、La,Sm,Ce,Gd,Er,
Eu,Pm,Tm,Yb,Lu,Yのうち少なくとも1
種を含むものが好ましい。また、通例Rのうち1種をも
って足りるが、実用上は2種以上の混合物(ミッシュメ
タル、ジジム等)を入手上の便宜等の理由により用いる
ことができる。なお、このRは純希土類元素でなくても
よく、工業上入手可能な範囲で製造上不可避的な不純物
を含有するものでも差し支えない。R(Yを含む希土類
元素のうち少なくとも1種)は、新規な上記系永久磁石
における必須元素であって、8原子%未満では結晶構造
がα−鉄と同一構造の立方晶組織となるため、高磁気特
性、特に高保磁力が得られず、30原子%を越えるとR
リッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が
低下してすぐれた特性の永久磁石が得られない。よっ
て、Rは8原子%〜30原子%の範囲とする。
【0015】Bは、新規な上記系永久磁石における必須
元素であって、2原子%未満では菱面体組織となり、高
い保磁力(iHc)が得られず、28原子%を越えると
Bリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)
が低下するため、すぐれた永久磁石が得られない。よっ
て、Bは2原子%〜28原子%の範囲とする。
元素であって、2原子%未満では菱面体組織となり、高
い保磁力(iHc)が得られず、28原子%を越えると
Bリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)
が低下するため、すぐれた永久磁石が得られない。よっ
て、Bは2原子%〜28原子%の範囲とする。
【0016】Feは、新規な上記系永久磁石において必
須元素であり、42原子%未満では残留磁束密度(B
r)が低下し、90原子%を越えると高い保磁力が得ら
れないので、Feは42原子%〜90原子%の含有とす
る。また、この発明による永久磁石において、Feの一
部をCoで置換することは、得られる磁石の磁気特性を
損なうことなく、温度特性を改善することができるが、
Coの置換量がFeの50%を越えると、逆に磁気特性
が劣化するため、好ましくない。
須元素であり、42原子%未満では残留磁束密度(B
r)が低下し、90原子%を越えると高い保磁力が得ら
れないので、Feは42原子%〜90原子%の含有とす
る。また、この発明による永久磁石において、Feの一
部をCoで置換することは、得られる磁石の磁気特性を
損なうことなく、温度特性を改善することができるが、
Coの置換量がFeの50%を越えると、逆に磁気特性
が劣化するため、好ましくない。
【0017】また、この発明による永久磁石は、R、
B、Feの他、工業的生産上不可避的不純物の存在を許
容できるが、Bの一部を4.0原子%以下のC、3.5
原子%以下のP、2.5原子%以下のS、3.5原子%
以下のCuのうち少なくとも1種、合計量で4.0原子
%以下で置換することにより、永久磁石の製造性の改
善、低価格化が可能である。下記添加元素のうち少なく
とも1種は、R−B−Fe系永久磁石に対してその保磁
力等を改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があ
るため添加する。しかし、保磁力改善のための添加に伴
い残留磁束密度(Br)の低下を招来するので、従来の
ハードフェライト磁石の残留磁束密度と同等以上となる
範囲での添加が望ましい。9.5原子%以下のAl、
4.5原子%以下のTi、9.5原子%以下のV、8.
5原子%以下のCr、8.0原子%以下のMn、5.0
原子%以下のBi、12.5原子%以下のNb、10.
5原子%以下のTa、9.5原子%以下のMo、9.5
原子%以下のW、2.5原子%以下のSb、7.0原子
%以下のGe、3.5原子%以下のSn、5.5原子%
以下のZr、5.5原子%以下のHfのうち少なくとも
1種を添加含有、但し、2種以上含有する場合は、その
最大含有量は当該添加元素のうち最大値を有するものの
原子%以下を含有させることにより、永久磁石の高保磁
力化が可能になる。
B、Feの他、工業的生産上不可避的不純物の存在を許
容できるが、Bの一部を4.0原子%以下のC、3.5
原子%以下のP、2.5原子%以下のS、3.5原子%
以下のCuのうち少なくとも1種、合計量で4.0原子
%以下で置換することにより、永久磁石の製造性の改
善、低価格化が可能である。下記添加元素のうち少なく
とも1種は、R−B−Fe系永久磁石に対してその保磁
力等を改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があ
るため添加する。しかし、保磁力改善のための添加に伴
い残留磁束密度(Br)の低下を招来するので、従来の
ハードフェライト磁石の残留磁束密度と同等以上となる
範囲での添加が望ましい。9.5原子%以下のAl、
4.5原子%以下のTi、9.5原子%以下のV、8.
5原子%以下のCr、8.0原子%以下のMn、5.0
原子%以下のBi、12.5原子%以下のNb、10.
5原子%以下のTa、9.5原子%以下のMo、9.5
原子%以下のW、2.5原子%以下のSb、7.0原子
%以下のGe、3.5原子%以下のSn、5.5原子%
以下のZr、5.5原子%以下のHfのうち少なくとも
1種を添加含有、但し、2種以上含有する場合は、その
最大含有量は当該添加元素のうち最大値を有するものの
原子%以下を含有させることにより、永久磁石の高保磁
力化が可能になる。
【0018】結晶相は主相が正方晶であることが、すぐ
れた磁気特性を有する焼結永久磁石と作製するのに不可
欠である。また、この発明による永久磁石は、磁場中プ
レス成形することにより磁気的異方性磁石が得られ、ま
た、無磁界中でプレス成形することにより、磁気的等方
性磁石を得ることができる。
れた磁気特性を有する焼結永久磁石と作製するのに不可
欠である。また、この発明による永久磁石は、磁場中プ
レス成形することにより磁気的異方性磁石が得られ、ま
た、無磁界中でプレス成形することにより、磁気的等方
性磁石を得ることができる。
【0019】この発明による永久磁石は、保磁力iHc
≧1kOe、残留磁束密度Br>4kGを示し、最大エ
ネルギー積(BH)maxはハードフェライトと同等以
上となり、最も好ましい組成範囲では、(BH)max
≧10MGOeを示し、最大値は25MGOe以上に達
する。また、この発明による永久磁石のRの主成分がそ
の50%以上を軽希土類金属が占める場合で、R12原
子%〜20原子%、B4原子%〜24原子%、Fe65
原子%〜82原子%を主成分とするとき、磁気的異方性
焼結磁石の場合最もすぐれた磁気特性を示し、特に軽希
土類金属がNdの場合には、(BH)maxはその最大
値が35MGOe以上に達する。
≧1kOe、残留磁束密度Br>4kGを示し、最大エ
ネルギー積(BH)maxはハードフェライトと同等以
上となり、最も好ましい組成範囲では、(BH)max
≧10MGOeを示し、最大値は25MGOe以上に達
する。また、この発明による永久磁石のRの主成分がそ
の50%以上を軽希土類金属が占める場合で、R12原
子%〜20原子%、B4原子%〜24原子%、Fe65
原子%〜82原子%を主成分とするとき、磁気的異方性
焼結磁石の場合最もすぐれた磁気特性を示し、特に軽希
土類金属がNdの場合には、(BH)maxはその最大
値が35MGOe以上に達する。
【0020】
【作用】この発明は、本系永久磁石材料表面に生成する
酸化物を抑制するため、該表面に膜厚が均一で、強固か
つ安定な耐食性薄膜層を形成する製造方法であり、この
発明により形成された耐食性薄膜層により、磁石体表面
の酸化が抑制され、磁気特性が劣化することなく、ま
た、腐食性の薬品等を使用、残留させることがないた
め、かつ長期にわたって安定する利点がある。さらに、
この発明における永久磁石は、RとしてNdやPrを中
心とする資源的に豊富な軽希土類を主に用い、Fe、
B、Rを主成分とすることにより、25MGOe以上の
極めて高いエネルギー系並びに、高残留磁束密度、高保
磁力を有し、かつ高い耐食性を有する、すぐれた永久磁
石を安価に得ることができる。
酸化物を抑制するため、該表面に膜厚が均一で、強固か
つ安定な耐食性薄膜層を形成する製造方法であり、この
発明により形成された耐食性薄膜層により、磁石体表面
の酸化が抑制され、磁気特性が劣化することなく、ま
た、腐食性の薬品等を使用、残留させることがないた
め、かつ長期にわたって安定する利点がある。さらに、
この発明における永久磁石は、RとしてNdやPrを中
心とする資源的に豊富な軽希土類を主に用い、Fe、
B、Rを主成分とすることにより、25MGOe以上の
極めて高いエネルギー系並びに、高残留磁束密度、高保
磁力を有し、かつ高い耐食性を有する、すぐれた永久磁
石を安価に得ることができる。
【0021】
実施例 出発原料として、純度99.9%の電解鉄、B19.4
%を含有し残部はFe及びAl,Si,C等の不純物か
らなるフェロボロン合金、純度99.7%以上のNd及
びDy金属を使用し、それらを高周波溶解し、その後水
冷銅鋳型に鋳造し、15Nd1.5Dy8B75.5F
e(原子%)なる組成の鋳塊を得た。
%を含有し残部はFe及びAl,Si,C等の不純物か
らなるフェロボロン合金、純度99.7%以上のNd及
びDy金属を使用し、それらを高周波溶解し、その後水
冷銅鋳型に鋳造し、15Nd1.5Dy8B75.5F
e(原子%)なる組成の鋳塊を得た。
【0022】その後インゴットを、スタンプミルにより
粗粉砕し、次にボールミルにより粉砕し、粒度3μmの
微粉末を得た。この微粉末を金型に挿入し、12kOe
の磁界中で配向し、磁界と直角方向に、1.5t/cm
2の圧力で成形した。得られた成形体を、1100°
C、1時間、Ar中の条件で焼結し、その後放冷し、さ
らにAr中で600°C、2時間の時効処理を施して、
永久磁石を作製した。
粗粉砕し、次にボールミルにより粉砕し、粒度3μmの
微粉末を得た。この微粉末を金型に挿入し、12kOe
の磁界中で配向し、磁界と直角方向に、1.5t/cm
2の圧力で成形した。得られた成形体を、1100°
C、1時間、Ar中の条件で焼結し、その後放冷し、さ
らにAr中で600°C、2時間の時効処理を施して、
永久磁石を作製した。
【0023】得られた永久磁石から外径20mm×内径
10mm×厚み1.5mm寸法に試験片を切り出した。
上記試験片を挿入した真空容器内の真空度1×10-2T
orr以下で、コーティング材のTi薄片をアーク放電
により蒸発させると共に、N2ガスを引出電圧40k
V、イオン化電流100mA、ビームサイズ4×10c
m2でN2ガスイオンとして加速し、Ti蒸発とN2ガス
イオン照射を3時間行ない、試験片表面にTiN薄膜を
形成した。このときのTiN薄膜の厚みは5μmであっ
た。
10mm×厚み1.5mm寸法に試験片を切り出した。
上記試験片を挿入した真空容器内の真空度1×10-2T
orr以下で、コーティング材のTi薄片をアーク放電
により蒸発させると共に、N2ガスを引出電圧40k
V、イオン化電流100mA、ビームサイズ4×10c
m2でN2ガスイオンとして加速し、Ti蒸発とN2ガス
イオン照射を3時間行ない、試験片表面にTiN薄膜を
形成した。このときのTiN薄膜の厚みは5μmであっ
た。
【0024】この試験片に耐食性試験と耐食性試験後の
TiN薄膜の密着強度試験を行なった。また、耐食性試
験前後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果を
表1に示す。
TiN薄膜の密着強度試験を行なった。また、耐食性試
験前後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果を
表1に示す。
【0025】比較例 また、比較例として、上記試験片に、トリクレンにて3
分間溶剤脱脂し、5%、NaOHにて60°C、3分間
のアルカリ脱脂したのち、2%Hclにて室温、10秒
間の酸洗をし、ワット浴にて電流密度4A/dm2、浴
温度60°C、20分間の条件にて電気ニッケルめっき
を行ない、表面に10μm厚みのニッケルめっき層を有
する比較試験片(比較例1)を得た。この比較試験片に
実施例と同一の試験及び測定を行ない、その結果を表1
に示す。
分間溶剤脱脂し、5%、NaOHにて60°C、3分間
のアルカリ脱脂したのち、2%Hclにて室温、10秒
間の酸洗をし、ワット浴にて電流密度4A/dm2、浴
温度60°C、20分間の条件にて電気ニッケルめっき
を行ない、表面に10μm厚みのニッケルめっき層を有
する比較試験片(比較例1)を得た。この比較試験片に
実施例と同一の試験及び測定を行ない、その結果を表1
に示す。
【0026】
【表1】
【0027】
【発明の効果】表1の試験及び測定結果に明らかなよう
に、この発明のイオン蒸着薄膜形成法(IVD)による
耐食性薄膜層は、比較例に対して、膜厚が所要厚みで格
段にすぐれた均一度が得られているため、永久磁石体の
酸化が確実に防止されており、磁気特性の劣化がなく、
比較例に対して磁気特性の向上が著しいことがわかる。
に、この発明のイオン蒸着薄膜形成法(IVD)による
耐食性薄膜層は、比較例に対して、膜厚が所要厚みで格
段にすぐれた均一度が得られているため、永久磁石体の
酸化が確実に防止されており、磁気特性の劣化がなく、
比較例に対して磁気特性の向上が著しいことがわかる。
Claims (1)
- 【請求項1】 真空容器内で薄膜用原料の蒸発物を噴
射、イオン化して加速電圧で加速し、R(但しRはYを
含む希土類元素のうち少なくとも1種)8原子%〜30
原子%、B2原子%〜28原子%、Fe42原子%〜9
0原子%を主成分とし主相が正方晶からなる永久磁石体
表面に付着及びイオン照射して、耐食性薄膜を形成被覆
することを特徴とする耐食性のすぐれた永久磁石の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4179077A JPH0644525B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4179077A JPH0644525B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59278489A Division JPS61150201A (ja) | 1984-12-24 | 1984-12-24 | 耐食性のすぐれた永久磁石 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05205923A true JPH05205923A (ja) | 1993-08-13 |
JPH0644525B2 JPH0644525B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=16059686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4179077A Expired - Lifetime JPH0644525B2 (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0644525B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997023884A1 (fr) * | 1995-12-25 | 1997-07-03 | Sumitomo Special Metals Company Limited | Aimant permanent destine a des applications dans des conditions d'ultravide et procede de fabrication |
EP0923087A1 (en) * | 1996-08-30 | 1999-06-16 | Sumitomo Special Metals Company Limited | Corrosion-resistant permanent magnet and method for manufacturing the same |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP4179077A patent/JPH0644525B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997023884A1 (fr) * | 1995-12-25 | 1997-07-03 | Sumitomo Special Metals Company Limited | Aimant permanent destine a des applications dans des conditions d'ultravide et procede de fabrication |
EP0811994A1 (en) * | 1995-12-25 | 1997-12-10 | Sumitomo Special Metals Company Limited | Permanent magnet for ultrahigh vacuum application and method for manufacturing the same |
EP0811994A4 (en) * | 1995-12-25 | 1999-03-31 | Sumitomo Spec Metals | PERMANENT MAGNET FOR ULTRA-HIGH-VACUUM APPLICATION AND PRODUCTION OF THE SAME |
EP0923087A1 (en) * | 1996-08-30 | 1999-06-16 | Sumitomo Special Metals Company Limited | Corrosion-resistant permanent magnet and method for manufacturing the same |
EP0923087A4 (en) * | 1996-08-30 | 2000-04-26 | Sumitomo Spec Metals | CORROSION-RESISTANT PERMANENT MAGNET AND MANUFACTURING METHOD |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0644525B2 (ja) | 1994-06-08 |
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Legal Events
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