JPH08264310A - 希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法 - Google Patents
希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法Info
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- JPH08264310A JPH08264310A JP7065517A JP6551795A JPH08264310A JP H08264310 A JPH08264310 A JP H08264310A JP 7065517 A JP7065517 A JP 7065517A JP 6551795 A JP6551795 A JP 6551795A JP H08264310 A JPH08264310 A JP H08264310A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、焼結磁石体表面への耐食性皮膜形
成による磁気特性の低下を防止し、耐食性皮膜と焼結磁
石体との密着性を向上できる希土類−鉄−ボロン系永久
磁石の製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 本発明希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造
方法は、Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素のうち１種または
２種以上）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０〜８０ｗ
ｔ．％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが０．５〜６
ｗｔ．％からなる焼結磁石体表面に、耐食性皮膜を形成
した後、不活性ガス雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真
空中、５００〜６００℃の温度で熱処理することを特徴
とする。
成による磁気特性の低下を防止し、耐食性皮膜と焼結磁
石体との密着性を向上できる希土類−鉄−ボロン系永久
磁石の製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 本発明希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造
方法は、Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素のうち１種または
２種以上）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０〜８０ｗ
ｔ．％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが０．５〜６
ｗｔ．％からなる焼結磁石体表面に、耐食性皮膜を形成
した後、不活性ガス雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真
空中、５００〜６００℃の温度で熱処理することを特徴
とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、残留磁束密度の温度係
数および耐食性の改善を行った希土類−鉄−ボロン系永
久磁石に耐食性皮膜を形成した後熱処理を行うことによ
り、切削加工あるいは電解めっき等による磁気特性の劣
化を改善し、皮膜と磁石体との密着性をも向上させた希
土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法に関するもので
ある。
数および耐食性の改善を行った希土類−鉄−ボロン系永
久磁石に耐食性皮膜を形成した後熱処理を行うことによ
り、切削加工あるいは電解めっき等による磁気特性の劣
化を改善し、皮膜と磁石体との密着性をも向上させた希
土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子機器や精密機器の小型、軽量
化の市場傾向に伴い、永久磁石においては従来のアルニ
コやフェライト磁石に代わり希土類磁石が多くの分野で
利用されるようになってきた。希土類永久磁石の中で
も、特に、高いエネルギー積が得られる希土類−鉄−ボ
ロン系永久磁石の需要が増加しており、従来以上に高エ
ネルギー積でかつ高保磁力が要求される傾向にある。し
かしながら、この希土類−鉄−ボロン系永久磁石はキュ
リー温度が低いために残留磁束密度の温度係数が大きく
高温減磁する欠点を有している。また、酸化しやすい希
土類元素および鉄を主成分としているために錆びやすい
という欠点も有している。これらの低キュリー温度、低
耐食性を克服するために、Ｃｏ、Ｇａ、Ｎｉ、Ｓｎ等の
元素を添加する方法が種々提案されており、従来よりも
キュリー温度および耐食性の向上がはかられている。
化の市場傾向に伴い、永久磁石においては従来のアルニ
コやフェライト磁石に代わり希土類磁石が多くの分野で
利用されるようになってきた。希土類永久磁石の中で
も、特に、高いエネルギー積が得られる希土類−鉄−ボ
ロン系永久磁石の需要が増加しており、従来以上に高エ
ネルギー積でかつ高保磁力が要求される傾向にある。し
かしながら、この希土類−鉄−ボロン系永久磁石はキュ
リー温度が低いために残留磁束密度の温度係数が大きく
高温減磁する欠点を有している。また、酸化しやすい希
土類元素および鉄を主成分としているために錆びやすい
という欠点も有している。これらの低キュリー温度、低
耐食性を克服するために、Ｃｏ、Ｇａ、Ｎｉ、Ｓｎ等の
元素を添加する方法が種々提案されており、従来よりも
キュリー温度および耐食性の向上がはかられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の元素を添加した希土類−鉄−ボロン系永久磁石であっ
ても、完全な耐食性を付与することはできない。従っ
て、耐食性皮膜を有しない希土類−鉄−ボロン系永久磁
石を電子機器等の磁気回路に組み込むと、酸化が磁石体
表面から発生し磁石体内部に進行する。その結果、磁気
特性が劣化し電子機器等の性能を低下させたり、磁石体
表面の酸化物の脱落により周辺機器への磁性体による汚
染が発生する。このような理由で、希土類−鉄−ボロン
系永久磁石体表面の酸化を防止するために、各種の表面
処理方法が提案されている。例えば、スプレーまたは電
着塗装による樹脂塗装、真空蒸着、イオンスパッタリン
グ、イオンプレーティングによる気相めっき法、Ｃｒ、
Ｎｉ等の金属あるいは合金をめっきをする電解めっき法
あるいは無電解めっき法がある。これらのうち、電解め
っき法あるいは無電解めっき法では、めっきの前処理と
してアルカリ、酸による脱脂あるいは活性化処理等を行
うために、前処理時に磁石体表面部分から保磁力を担う
粒界相が溶出し、その結果、磁石体表面部で磁気特性の
劣化した層が生成し磁石体の磁気特性が低下する。特
に、薄型の磁石では磁気特性における劣化の割合が大き
くなるという問題点がある。
の元素を添加した希土類−鉄−ボロン系永久磁石であっ
ても、完全な耐食性を付与することはできない。従っ
て、耐食性皮膜を有しない希土類−鉄−ボロン系永久磁
石を電子機器等の磁気回路に組み込むと、酸化が磁石体
表面から発生し磁石体内部に進行する。その結果、磁気
特性が劣化し電子機器等の性能を低下させたり、磁石体
表面の酸化物の脱落により周辺機器への磁性体による汚
染が発生する。このような理由で、希土類−鉄−ボロン
系永久磁石体表面の酸化を防止するために、各種の表面
処理方法が提案されている。例えば、スプレーまたは電
着塗装による樹脂塗装、真空蒸着、イオンスパッタリン
グ、イオンプレーティングによる気相めっき法、Ｃｒ、
Ｎｉ等の金属あるいは合金をめっきをする電解めっき法
あるいは無電解めっき法がある。これらのうち、電解め
っき法あるいは無電解めっき法では、めっきの前処理と
してアルカリ、酸による脱脂あるいは活性化処理等を行
うために、前処理時に磁石体表面部分から保磁力を担う
粒界相が溶出し、その結果、磁石体表面部で磁気特性の
劣化した層が生成し磁石体の磁気特性が低下する。特
に、薄型の磁石では磁気特性における劣化の割合が大き
くなるという問題点がある。
【０００４】また、希土類−鉄−ボロン系永久磁石体を
電子機器に組み込むためには、コーティング前に磁石体
の全面あるいは所要表面を切削加工する必要があるが、
この時にも、磁石体表面が荒らされて加工劣化層が生成
し磁気特性が低下する。そして、この加工劣化層の上に
コーティングを施すと、この加工劣化層部分でコーティ
ング剥離が発生しやすくなりコーティングの密着性も悪
くなるという問題点がある。このような切削加工等に伴
う磁気特性の劣化を改善するために、Ｔｉ、Ｗ等の金属
元素とＣｅ、Ｌａ、Ｎｄ等の希土類元素との合金薄膜層
を真空蒸着、イオンスパッタリング等の気相めっき法で
形成した後、真空あるいは不活性雰囲気中で４００〜９
００℃、１分〜３時間の熱処理をすることが提案されて
いる（特開昭６２−１９２５６６号）。しかしながら、
活性な希土類元素を５０ａｔ．％以上含むために耐食性
が悪いと同時に、コスト的にも高くなる。また、内穴、
溝部へのコーティングができないという問題点もある。
また、特開昭６３−２１１７０３号では、耐食性、密着
力、耐磨耗性を向上させるために、電気めっき法あるい
は無電解めっき法でＮｉ−Ｐの合金層を形成した後１０
０〜５００℃の温度、１０分〜数時間の熱処理をする方
法が提案されており、実施例でもＮｉ−Ｐめっき層を形
成した後１５０、１８０℃の温度で熱処理する方法が示
されている。しかしながら、この実施例に示される温度
での熱処理は、一般的に知られているようなめっきで吸
蔵された水素を除くための熱処理である。また、５００
℃よりも低い温度であるために、希土類−鉄−ボロン系
永久磁石内に液相が十分に生成せず、切削加工等による
磁気特性の劣化を回復させたり、磁石体とめっき層との
密着性を向上させたりすることができないという問題点
がある。特開平１−１３９７０５号では、耐酸化性皮膜
と磁石体との密着性向上を目的として、磁石体表面にＰ
ｄ、Ｐｔ等の貴金属層と、Ｎｉ等の卑金属層とを積層
し、４００〜７００℃で拡散熱処理することが提案され
ている。しかしながら、Ｐｄ、Ｐｔ等の貴金属を１０〜
１００オングストロームの膜厚で磁石体表面に形成する
気相めっき法あるいは貴金属コロイドを吸着させる方法
では、貴金属層が薄く多孔性になりやすく、これが原因
でその上に付ける卑金属層にピンホールが発生しやすく
なり耐食性が低下する。また、貴金属はコスト的にも高
くなるという問題点がある。したがって、本発明は、焼
結磁石体表面への耐食性皮膜形成による磁気特性の低下
を防止し、耐食性皮膜と焼結磁石体との密着性を向上で
きる希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法を提供す
ることを目的とする。
電子機器に組み込むためには、コーティング前に磁石体
の全面あるいは所要表面を切削加工する必要があるが、
この時にも、磁石体表面が荒らされて加工劣化層が生成
し磁気特性が低下する。そして、この加工劣化層の上に
コーティングを施すと、この加工劣化層部分でコーティ
ング剥離が発生しやすくなりコーティングの密着性も悪
くなるという問題点がある。このような切削加工等に伴
う磁気特性の劣化を改善するために、Ｔｉ、Ｗ等の金属
元素とＣｅ、Ｌａ、Ｎｄ等の希土類元素との合金薄膜層
を真空蒸着、イオンスパッタリング等の気相めっき法で
形成した後、真空あるいは不活性雰囲気中で４００〜９
００℃、１分〜３時間の熱処理をすることが提案されて
いる（特開昭６２−１９２５６６号）。しかしながら、
活性な希土類元素を５０ａｔ．％以上含むために耐食性
が悪いと同時に、コスト的にも高くなる。また、内穴、
溝部へのコーティングができないという問題点もある。
また、特開昭６３−２１１７０３号では、耐食性、密着
力、耐磨耗性を向上させるために、電気めっき法あるい
は無電解めっき法でＮｉ−Ｐの合金層を形成した後１０
０〜５００℃の温度、１０分〜数時間の熱処理をする方
法が提案されており、実施例でもＮｉ−Ｐめっき層を形
成した後１５０、１８０℃の温度で熱処理する方法が示
されている。しかしながら、この実施例に示される温度
での熱処理は、一般的に知られているようなめっきで吸
蔵された水素を除くための熱処理である。また、５００
℃よりも低い温度であるために、希土類−鉄−ボロン系
永久磁石内に液相が十分に生成せず、切削加工等による
磁気特性の劣化を回復させたり、磁石体とめっき層との
密着性を向上させたりすることができないという問題点
がある。特開平１−１３９７０５号では、耐酸化性皮膜
と磁石体との密着性向上を目的として、磁石体表面にＰ
ｄ、Ｐｔ等の貴金属層と、Ｎｉ等の卑金属層とを積層
し、４００〜７００℃で拡散熱処理することが提案され
ている。しかしながら、Ｐｄ、Ｐｔ等の貴金属を１０〜
１００オングストロームの膜厚で磁石体表面に形成する
気相めっき法あるいは貴金属コロイドを吸着させる方法
では、貴金属層が薄く多孔性になりやすく、これが原因
でその上に付ける卑金属層にピンホールが発生しやすく
なり耐食性が低下する。また、貴金属はコスト的にも高
くなるという問題点がある。したがって、本発明は、焼
結磁石体表面への耐食性皮膜形成による磁気特性の低下
を防止し、耐食性皮膜と焼結磁石体との密着性を向上で
きる希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本永久磁石の製造方法は、希土類元素Ｒ（ＲはＹを含
む希土類元素のうち少なくとも１種または２種以上の組
合せ）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０〜８０ｗｔ．
％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが０．５〜６ｗ
ｔ．％からなる焼結磁石体表面に、耐食性皮膜を形成し
た後、不活性ガス雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空
中、５００〜６００℃の温度で熱処理する希土類−鉄−
ボロン系永久磁石の製造方法、あるいは希土類元素Ｒ
（ＲはＹを含む希土類元素のうち少なくとも１種または
２種以上の組合せ）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０
〜８０ｗｔ．％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが
０．５〜６ｗｔ．％およびＭ（ＭはＡｌ、Ｓｉ、Ｎｂ、
Ｍｏ、Ｖ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種
あるいは２種以上の組合せ）が１０ｗｔ．％以下からな
る焼結磁石体表面に耐食性皮膜を形成した後、不活性ガ
ス雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空中、５００〜６
００℃の温度で熱処理する希土類−鉄−ボロン系永久磁
石の製造方法であり、前記耐食性皮膜はＺｎ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｗ、Ｃｏ、Ａｌ、
Ｔａのうち少なくとも１種または２種以上の元素からな
る単層膜または多層膜、あるいは該耐食性皮膜がＣ、
Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｂ、Ｈの少なくとも１種または２種以上の
元素とＺｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｔ
ｉ、Ｗ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｔａのうち少なくとも１種または
２種以上の元素からなる単層膜または多層膜とするのが
好ましい。本発明において、耐食性皮膜は単層膜または
多層膜いづれでもよい。単層膜とする場合、皮膜の厚さ
は１０μｍ以上とする。また、多層膜とする場合、磁石
体と接する皮膜の膜厚を０．１μｍ以上とし、耐食性皮
膜全体の厚さを１０μｍ以上とするのが好ましい。ま
た、本発明においては、磁石体と耐食性皮膜との密着性
を向上させるために耐食性皮膜形成前に磁石体表面の脱
脂、活性化処理等の前処理を行うことが好ましい。
の本永久磁石の製造方法は、希土類元素Ｒ（ＲはＹを含
む希土類元素のうち少なくとも１種または２種以上の組
合せ）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０〜８０ｗｔ．
％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが０．５〜６ｗ
ｔ．％からなる焼結磁石体表面に、耐食性皮膜を形成し
た後、不活性ガス雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空
中、５００〜６００℃の温度で熱処理する希土類−鉄−
ボロン系永久磁石の製造方法、あるいは希土類元素Ｒ
（ＲはＹを含む希土類元素のうち少なくとも１種または
２種以上の組合せ）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０
〜８０ｗｔ．％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが
０．５〜６ｗｔ．％およびＭ（ＭはＡｌ、Ｓｉ、Ｎｂ、
Ｍｏ、Ｖ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種
あるいは２種以上の組合せ）が１０ｗｔ．％以下からな
る焼結磁石体表面に耐食性皮膜を形成した後、不活性ガ
ス雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空中、５００〜６
００℃の温度で熱処理する希土類−鉄−ボロン系永久磁
石の製造方法であり、前記耐食性皮膜はＺｎ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｗ、Ｃｏ、Ａｌ、
Ｔａのうち少なくとも１種または２種以上の元素からな
る単層膜または多層膜、あるいは該耐食性皮膜がＣ、
Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｂ、Ｈの少なくとも１種または２種以上の
元素とＺｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｔ
ｉ、Ｗ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｔａのうち少なくとも１種または
２種以上の元素からなる単層膜または多層膜とするのが
好ましい。本発明において、耐食性皮膜は単層膜または
多層膜いづれでもよい。単層膜とする場合、皮膜の厚さ
は１０μｍ以上とする。また、多層膜とする場合、磁石
体と接する皮膜の膜厚を０．１μｍ以上とし、耐食性皮
膜全体の厚さを１０μｍ以上とするのが好ましい。ま
た、本発明においては、磁石体と耐食性皮膜との密着性
を向上させるために耐食性皮膜形成前に磁石体表面の脱
脂、活性化処理等の前処理を行うことが好ましい。
【０００６】
【作用】本発明は、残留磁束密度の温度係数および耐食
性の改善を行った希土類−鉄−ボロン系永久磁石に耐食
性皮膜を形成した後熱処理を行うことにより、切削加工
あるいは電解めっき等による磁気特性の劣化を改善し、
コーティング膜と磁石体との密着性をも向上させた希土
類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法に関するものであ
る。すなわち、希土類−鉄−ボロン系永久磁石の保磁力
機構はニュークリエーションタイプに属しているため
に、保磁力の大きさは逆磁区の芽となる主相Ｒ2Ｆ14Ｂ
内にある格子欠陥や転位の数あるいは逆磁区の芽をピン
止めしていると考えられる主相Ｒ2Ｆ14Ｂを囲む粒界相
の結晶組織や量等により決定される。それゆえ、切削加
工により主相内にクラックや歪みが生成したり、粒界相
を持たない主相が露出すると、逆磁区の芽が発生しやす
くなったり、磁壁が動きやすくなり保磁力が低下する。
また、耐食性皮膜コーティング時に行う酸あるいはアル
カリを用いた前処理では、磁石体表面部分の粒界相が溶
出するために、磁石体表面部分の保磁力は低下し、その
結果、磁石体全体での磁気特性も低下する。特に、薄物
の磁石体ではこれら切削加工あるいはめっきの前処理に
よる磁気特性の劣化は大きくなる。
性の改善を行った希土類−鉄−ボロン系永久磁石に耐食
性皮膜を形成した後熱処理を行うことにより、切削加工
あるいは電解めっき等による磁気特性の劣化を改善し、
コーティング膜と磁石体との密着性をも向上させた希土
類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法に関するものであ
る。すなわち、希土類−鉄−ボロン系永久磁石の保磁力
機構はニュークリエーションタイプに属しているため
に、保磁力の大きさは逆磁区の芽となる主相Ｒ2Ｆ14Ｂ
内にある格子欠陥や転位の数あるいは逆磁区の芽をピン
止めしていると考えられる主相Ｒ2Ｆ14Ｂを囲む粒界相
の結晶組織や量等により決定される。それゆえ、切削加
工により主相内にクラックや歪みが生成したり、粒界相
を持たない主相が露出すると、逆磁区の芽が発生しやす
くなったり、磁壁が動きやすくなり保磁力が低下する。
また、耐食性皮膜コーティング時に行う酸あるいはアル
カリを用いた前処理では、磁石体表面部分の粒界相が溶
出するために、磁石体表面部分の保磁力は低下し、その
結果、磁石体全体での磁気特性も低下する。特に、薄物
の磁石体ではこれら切削加工あるいはめっきの前処理に
よる磁気特性の劣化は大きくなる。
【０００７】そこで、本発明は、粒界相に余剰に存在す
る希土類リッチ相、Ｂリッチ相等を活用したもので、耐
食性皮膜を形成した後不活性雰囲気、非酸化性雰囲気あ
るいは真空中、５００〜６００℃で熱処理することを特
徴とする。熱処理温度は５００〜５５０℃とするのが特
に好ましい。本発明は、Ｃｏを含有させることにより焼
結磁石体の温度特性および耐食性を向上させるととも
に、耐酸化性あるいは耐食性皮膜を形成した後液相が出
現ししかも保磁力が向上する温度５００〜６００℃で熱
処理することにより、粒界に存在する希土類リッチ相を
磁石体表面部分と耐食性皮膜との界面に一部吐き出さ
せ、切削加工により生成した加工劣化層部分あるいは
酸、アルカリの前処理で溶出した粒界相部分を修復し磁
気特性を回復させる永久磁石の製造方法である。本発明
において、耐食性皮膜の厚さを１０μｍ以上としたの
は、耐食性皮膜の厚さが１０μｍ未満であるとピンホー
ルが形成しやすく、熱処理によりピンホールから希土類
リッチ相がしみ出し、充分な耐食性が得られないからで
ある。また、厚さが５０μｍを越えると耐食性皮膜の平
滑性が低下するので、耐食性皮膜の厚さは５０μｍ以下
とするのが好ましい。耐食性皮膜は単層膜でもよいが、
多層膜とし、磁石体と接する皮膜の厚さを０．１μｍ以
上とするのが好ましい。多層膜とすることにより、耐食
性皮膜表面から磁石体表面に貫通するピンホールが減少
し、ピンホールからの腐食を防止することができる。ま
た、磁石体と接する皮膜の厚さが０．１μｍ未満である
と皮膜が薄く多孔性となりやすく、それが原因でその上
に付ける皮膜にピンホールが生成しやすくなるので、磁
石体に接する皮膜の厚さは０．１μｍ以上とするのが好
ましい。
る希土類リッチ相、Ｂリッチ相等を活用したもので、耐
食性皮膜を形成した後不活性雰囲気、非酸化性雰囲気あ
るいは真空中、５００〜６００℃で熱処理することを特
徴とする。熱処理温度は５００〜５５０℃とするのが特
に好ましい。本発明は、Ｃｏを含有させることにより焼
結磁石体の温度特性および耐食性を向上させるととも
に、耐酸化性あるいは耐食性皮膜を形成した後液相が出
現ししかも保磁力が向上する温度５００〜６００℃で熱
処理することにより、粒界に存在する希土類リッチ相を
磁石体表面部分と耐食性皮膜との界面に一部吐き出さ
せ、切削加工により生成した加工劣化層部分あるいは
酸、アルカリの前処理で溶出した粒界相部分を修復し磁
気特性を回復させる永久磁石の製造方法である。本発明
において、耐食性皮膜の厚さを１０μｍ以上としたの
は、耐食性皮膜の厚さが１０μｍ未満であるとピンホー
ルが形成しやすく、熱処理によりピンホールから希土類
リッチ相がしみ出し、充分な耐食性が得られないからで
ある。また、厚さが５０μｍを越えると耐食性皮膜の平
滑性が低下するので、耐食性皮膜の厚さは５０μｍ以下
とするのが好ましい。耐食性皮膜は単層膜でもよいが、
多層膜とし、磁石体と接する皮膜の厚さを０．１μｍ以
上とするのが好ましい。多層膜とすることにより、耐食
性皮膜表面から磁石体表面に貫通するピンホールが減少
し、ピンホールからの腐食を防止することができる。ま
た、磁石体と接する皮膜の厚さが０．１μｍ未満である
と皮膜が薄く多孔性となりやすく、それが原因でその上
に付ける皮膜にピンホールが生成しやすくなるので、磁
石体に接する皮膜の厚さは０．１μｍ以上とするのが好
ましい。
【０００８】以下、本発明の限定理由について示す。本
発明の永久磁石に用いる希土類元素Ｒは、２０〜４５ｗ
ｔ．％を占めるが、Ｙを含む希土類元素の１種または２
種以上の組合せであって、２０ｗｔ．％未満ではα−Ｆ
ｅが生成し高保磁力が得られず、４５ｗｔ．％を超える
と非磁性相である希土類リッチ相が多くなり、残留磁束
密度が低下して優れた特性の永久磁石が得られない。よ
って、Ｒは２０〜４５ｗｔ．％の範囲が好ましい。Ｂ
は、上記永久磁石における必須元素であって、０．５ｗ
ｔ．％未満では菱面体構造が主相となり高保磁力が得ら
れず、６ｗｔ．％を超えるとＢリッチな非磁性相が多く
なり、残留磁束密度が低下するため、優れた永久磁石が
得られない。よって、Ｂは０．５〜６ｗｔ．％の範囲が
好ましい。Ｆｅも、上記永久磁石において必須元素であ
り、５０ｗｔ．％未満では残留磁束密度が低下し、８０
ｗｔ．％を超えると高保磁力が得られないので、Ｆｅは
５０〜８０ｗｔ．％の範囲が好ましい。Ｃｏは温度特性
および耐食性を向上させるために必要であり、Ｃｏの添
加量が０．１ｗｔ．％以下では十分な効果が得られず、
１５ｗｔ．％を超えると保磁力が低下する。よって、Ｃ
ｏの添加量は０．１〜１５ｗｔ．％の範囲が好ましい。
また、永久磁石体の磁気特性あるいは物理特性等を向上
させるために、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｓｉ、Ｇａ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｇｅ、Ｈｆの１種または２種以上の元素を１０ｗｔ．％
以下の範囲で添加しても良く、本発明の永久磁石は、結
晶質の合金粉末を磁場中成形で異方性化した後焼結して
得られる焼結異方性永久磁石で、平均結晶粒径が１〜５
０μｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物
を主相とし、最大エネルギー積が２０ＭＧＯｅ以上に達
する。かくして得られた希土類−鉄−ボロン系永久磁石
体をリン酸、水酸化ナトリウム等の酸あるいはアルカリ
溶液で前処理を行った後、耐食性皮膜を電解めっき、無
電解めっき、気相めっき法などの一般的に知られている
方法で作製する。その後、不活性雰囲気、非酸化性雰囲
気あるいは真空中、５００〜６００℃で熱処理をする。
耐食性皮膜の形成方法としては、コスト面および皮膜厚
さの均一性から電解めっき、無電解めっきが望ましい。
また、耐食性皮膜を形成後熱処理し、さらに耐食性皮膜
を形成することができる。耐食性皮膜は熱処理により結
晶化し脆くなるので、熱処理後さらに耐食性皮膜を形成
することにより強度を補うことができる。熱処理後に耐
食性皮膜を形成する場合、リン酸、水酸化ナトリウム等
の酸あるいはアルカリ溶液で前処理を行った後、耐食性
皮膜を電解めっき、無電解めっき、気相めっき法などの
一般的に知られている方法で作製することができる。ま
た、樹脂コート等の皮膜を形成しても良い。
発明の永久磁石に用いる希土類元素Ｒは、２０〜４５ｗ
ｔ．％を占めるが、Ｙを含む希土類元素の１種または２
種以上の組合せであって、２０ｗｔ．％未満ではα−Ｆ
ｅが生成し高保磁力が得られず、４５ｗｔ．％を超える
と非磁性相である希土類リッチ相が多くなり、残留磁束
密度が低下して優れた特性の永久磁石が得られない。よ
って、Ｒは２０〜４５ｗｔ．％の範囲が好ましい。Ｂ
は、上記永久磁石における必須元素であって、０．５ｗ
ｔ．％未満では菱面体構造が主相となり高保磁力が得ら
れず、６ｗｔ．％を超えるとＢリッチな非磁性相が多く
なり、残留磁束密度が低下するため、優れた永久磁石が
得られない。よって、Ｂは０．５〜６ｗｔ．％の範囲が
好ましい。Ｆｅも、上記永久磁石において必須元素であ
り、５０ｗｔ．％未満では残留磁束密度が低下し、８０
ｗｔ．％を超えると高保磁力が得られないので、Ｆｅは
５０〜８０ｗｔ．％の範囲が好ましい。Ｃｏは温度特性
および耐食性を向上させるために必要であり、Ｃｏの添
加量が０．１ｗｔ．％以下では十分な効果が得られず、
１５ｗｔ．％を超えると保磁力が低下する。よって、Ｃ
ｏの添加量は０．１〜１５ｗｔ．％の範囲が好ましい。
また、永久磁石体の磁気特性あるいは物理特性等を向上
させるために、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｓｉ、Ｇａ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｇｅ、Ｈｆの１種または２種以上の元素を１０ｗｔ．％
以下の範囲で添加しても良く、本発明の永久磁石は、結
晶質の合金粉末を磁場中成形で異方性化した後焼結して
得られる焼結異方性永久磁石で、平均結晶粒径が１〜５
０μｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物
を主相とし、最大エネルギー積が２０ＭＧＯｅ以上に達
する。かくして得られた希土類−鉄−ボロン系永久磁石
体をリン酸、水酸化ナトリウム等の酸あるいはアルカリ
溶液で前処理を行った後、耐食性皮膜を電解めっき、無
電解めっき、気相めっき法などの一般的に知られている
方法で作製する。その後、不活性雰囲気、非酸化性雰囲
気あるいは真空中、５００〜６００℃で熱処理をする。
耐食性皮膜の形成方法としては、コスト面および皮膜厚
さの均一性から電解めっき、無電解めっきが望ましい。
また、耐食性皮膜を形成後熱処理し、さらに耐食性皮膜
を形成することができる。耐食性皮膜は熱処理により結
晶化し脆くなるので、熱処理後さらに耐食性皮膜を形成
することにより強度を補うことができる。熱処理後に耐
食性皮膜を形成する場合、リン酸、水酸化ナトリウム等
の酸あるいはアルカリ溶液で前処理を行った後、耐食性
皮膜を電解めっき、無電解めっき、気相めっき法などの
一般的に知られている方法で作製することができる。ま
た、樹脂コート等の皮膜を形成しても良い。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。
【００１０】（実施例１）Ｎｄ１８．１ｗｔ．％、Ｐｒ
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる磁石合金を不活性雰囲気中で高周波溶解し鋳造イ
ンゴットを得た。このインゴットを５０ｍｍ角以下に破
断した後、破断塊を密閉容器内に挿入しＡｒガスを２０
分間流入させて空気と置換し、１ｋｇｆ／ｃｍ2の水素
ガスで２時間処理後機械的に粉砕し平均粒子径が５００
μｍの粉末にした。この粗粉をジェットミルを用いて平
均粒子径が５．０μｍの粉末に微粉砕した。この微粉を
ダイス、下パンチで形成される成形空間に充填し、約１
０ｋＯｅの磁場中で配向させながら、２ｔｏｎ／ｃｍ2
にて加圧成形し成形体を得た。この成形体を１０８０
℃、２時間の条件で焼結し、５３０℃、１時間の熱処理
を施し永久磁石を作製した。この磁石体から１０ｘ１１
ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍｍ）の試料を切り出し表面研
磨後、リン酸により前処理を行いワット浴を用いて、平
均厚み２０μｍの電解Ｎｉめっきを行った。このＮｉめ
っき膜を施した試料をＡｒガス雰囲気中で、５３０℃、
１時間の熱処理を行った後、磁気特性、加熱温度に対す
る不可逆減磁率の変化およびコーティング膜の密着強度
（ＱＵＡＤ ＧＲＯＵＰ社製ＳＥＶＡＳＴＩＡＮ ５）
を測定した。不可逆減磁率は下記に示す方法で行った。
まず、着磁後の試料の磁束φ0を室温で測定し、次に、
１００〜２６０℃の各温度で１時間加熱保持した後、室
温に戻し１時間以上放置後磁束φを測定して下記の定義
式により算出した。 不可逆減磁率＝｛（φ−φ0）／φ0｝ｘ１００ ％ なお、加熱は１００℃で測定後、１２０℃に加熱という
ように累積加熱した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−
Ｈカーブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化、表２に密着強度を示す。
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる磁石合金を不活性雰囲気中で高周波溶解し鋳造イ
ンゴットを得た。このインゴットを５０ｍｍ角以下に破
断した後、破断塊を密閉容器内に挿入しＡｒガスを２０
分間流入させて空気と置換し、１ｋｇｆ／ｃｍ2の水素
ガスで２時間処理後機械的に粉砕し平均粒子径が５００
μｍの粉末にした。この粗粉をジェットミルを用いて平
均粒子径が５．０μｍの粉末に微粉砕した。この微粉を
ダイス、下パンチで形成される成形空間に充填し、約１
０ｋＯｅの磁場中で配向させながら、２ｔｏｎ／ｃｍ2
にて加圧成形し成形体を得た。この成形体を１０８０
℃、２時間の条件で焼結し、５３０℃、１時間の熱処理
を施し永久磁石を作製した。この磁石体から１０ｘ１１
ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍｍ）の試料を切り出し表面研
磨後、リン酸により前処理を行いワット浴を用いて、平
均厚み２０μｍの電解Ｎｉめっきを行った。このＮｉめ
っき膜を施した試料をＡｒガス雰囲気中で、５３０℃、
１時間の熱処理を行った後、磁気特性、加熱温度に対す
る不可逆減磁率の変化およびコーティング膜の密着強度
（ＱＵＡＤ ＧＲＯＵＰ社製ＳＥＶＡＳＴＩＡＮ ５）
を測定した。不可逆減磁率は下記に示す方法で行った。
まず、着磁後の試料の磁束φ0を室温で測定し、次に、
１００〜２６０℃の各温度で１時間加熱保持した後、室
温に戻し１時間以上放置後磁束φを測定して下記の定義
式により算出した。 不可逆減磁率＝｛（φ−φ0）／φ0｝ｘ１００ ％ なお、加熱は１００℃で測定後、１２０℃に加熱という
ように累積加熱した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−
Ｈカーブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化、表２に密着強度を示す。
【００１１】（実施例２）Ｎｄ１８．１ｗｔ．％、Ｐｒ
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、５１０℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカー
ブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、５１０℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカー
ブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。
【００１２】（実施例３）Ｎｄ１８．１ｗｔ．％、Ｐｒ
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、硝酸、過酸化水素
水、酢酸でめっきの前処理を行った。次に、ワット浴を
用いて下地層として２μｍの電解Ｎｉめっき層、ピロリ
ン酸Ｃｕ浴により１４μｍの電解Ｃｕめっき層、ワット
浴による４μｍの電解Ｎｉめっき層を施し総膜厚２０μ
ｍのＮｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき膜を作製した。この試料を
Ａｒガス雰囲気中で、５３０℃、１時間の熱処理を行っ
た後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の
変化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカ
ーブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、硝酸、過酸化水素
水、酢酸でめっきの前処理を行った。次に、ワット浴を
用いて下地層として２μｍの電解Ｎｉめっき層、ピロリ
ン酸Ｃｕ浴により１４μｍの電解Ｃｕめっき層、ワット
浴による４μｍの電解Ｎｉめっき層を施し総膜厚２０μ
ｍのＮｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき膜を作製した。この試料を
Ａｒガス雰囲気中で、５３０℃、１時間の熱処理を行っ
た後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の
変化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカ
ーブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。
【００１３】（比較例１）Ｎｄ１８．１ｗｔ．％、Ｐｒ
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、２００℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性、加熱温度に対する不可逆減磁率の変化お
よびコーティング膜の密着強度（ＱＵＡＤ ＧＲＯＵＰ
社製ＳＥＶＡＳＴＩＡＮ ５）を測定した。表１に磁気
特性、図１に４πＩ−Ｈカーブ、図２に加熱温度に対す
る不可逆減磁率の変化、表２に密着強度を示す。実施例
１、２よりも減磁曲線の角形性が悪く、密着性も低くな
っている。
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、２００℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性、加熱温度に対する不可逆減磁率の変化お
よびコーティング膜の密着強度（ＱＵＡＤ ＧＲＯＵＰ
社製ＳＥＶＡＳＴＩＡＮ ５）を測定した。表１に磁気
特性、図１に４πＩ−Ｈカーブ、図２に加熱温度に対す
る不可逆減磁率の変化、表２に密着強度を示す。実施例
１、２よりも減磁曲線の角形性が悪く、密着性も低くな
っている。
【００１４】（比較例２）Ｎｄ１８．１ｗｔ．％、Ｐｒ
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、４００℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカー
ブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。実施例１、２よりも減磁曲線の角形性が低下してい
る。
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、４００℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカー
ブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。実施例１、２よりも減磁曲線の角形性が低下してい
る。
【００１５】（比較例３）Ｎｄ１８．１ｗｔ．％、Ｐｒ
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、６５０℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカー
ブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。実施例１、２よりも減磁曲線の角形性および保磁力
が低下している。
５．２ｗｔ．％、Ｄｙ９．０ｗｔ．％、Ａｌ０．３ｗ
ｔ．％、Ｎｂ１．０ｗｔ．％、Ｂ１．０３ｗｔ．％、Ｃ
ｏ４．０ｗｔ．％、Ｇａ０．１５ｗｔ．％、残部Ｆｅよ
りなる焼結体に、５３０℃、１時間の熱処理を施した。
この磁石体から１０ｘ１１ｘ８ｍｍ（磁化方向：８ｍ
ｍ）の試料を切り出し表面研磨後、リン酸により前処理
を行いワット浴を用いて、平均厚み２０μｍの電解Ｎｉ
めっきを行った。このＮｉめっき膜を施した試料をＡｒ
ガス雰囲気中で、６５０℃、１時間の熱処理を行った
後、磁気特性および加熱温度に対する不可逆減磁率の変
化を測定した。表１に磁気特性、図１に４πＩ−Ｈカー
ブ、図２に加熱温度に対する不可逆減磁率の変化を示
す。実施例１、２よりも減磁曲線の角形性および保磁力
が低下している。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、温度特性および耐食性
を向上させたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に耐食性皮膜を形
成し、不活性雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空中、
５００〜６００℃で熱処理することにより、切削加工あ
るいは電解めっき等で劣化した結晶組織部を修復させ、
磁気特性の劣化および磁気特性の経年変化を改善すると
共に、コーティング膜と磁石体との密着性をも向上させ
ることができ、工業上その利用価値は極めて高いもので
ある。
を向上させたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に耐食性皮膜を形
成し、不活性雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空中、
５００〜６００℃で熱処理することにより、切削加工あ
るいは電解めっき等で劣化した結晶組織部を修復させ、
磁気特性の劣化および磁気特性の経年変化を改善すると
共に、コーティング膜と磁石体との密着性をも向上させ
ることができ、工業上その利用価値は極めて高いもので
ある。
【図１】実施例１〜３および比較例１〜３の４πＩ−Ｈ
カーブを示す図である。
カーブを示す図である。
【図２】実施例１〜３および比較例１〜３の加熱温度に
対する不可逆減磁率の変化を比較す図である。
対する不可逆減磁率の変化を比較す図である。
Claims (7)
- 【請求項１】 Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素のうち１種
または２種以上）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０〜
８０ｗｔ．％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが０．
５〜６ｗｔ．％からなる焼結磁石体表面に、耐食性皮膜
を形成した後、不活性ガス雰囲気、非酸化性雰囲気ある
いは真空中、５００〜６００℃の温度で熱処理すること
を特徴とする希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方
法。 - 【請求項２】 Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素のうち１種
または２種以上）が２０〜４５ｗｔ．％、Ｆｅが５０〜
８０ｗｔ．％、Ｃｏが０．１〜１５ｗｔ．％、Ｂが０．
５〜６ｗｔ．％およびＭ（ＭはＡｌ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｍ
ｏ、Ｖ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、
Ｗ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｇａのうち１種または２種以
上）が１０ｗｔ．％以下からなる焼結磁石体表面に、厚
さ１０μｍ以上の耐食性皮膜を形成した後、不活性ガス
雰囲気、非酸化性雰囲気あるいは真空中、５００〜６０
０℃の温度で熱処理することを特徴とする希土類−鉄−
ボロン系永久磁石の製造方法。 - 【請求項３】 耐食性皮膜がＺｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、
Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｗ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｔａのうち
１種または２種以上の元素からなる請求項１または２に
記載の希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法。 - 【請求項４】 耐食性皮膜がＣ、Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｂ、Ｈの
少なくとも１種または２種以上の元素と、Ｚｎ、Ｃｒ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｔｉ、Ｗ、Ｃｏ、Ａ
ｌ、Ｔａのうち少なくとも１種または２種以上の元素か
らなる請求項１または２に記載の希土類−鉄−ボロン系
永久磁石の製造方法。 - 【請求項５】 耐食性皮膜が厚さ１０μｍ以上の単層膜
である請求項１ないし４のいづれかに記載の希土類−鉄
−ボロン系永久磁石の製造方法。 - 【請求項６】 耐食性皮膜が多層膜であって、磁石体と
接する皮膜の膜厚が０．１μｍ以上であることを特徴と
する請求項１ないし４のいずれかに記載の希土類−鉄−
ボロン系永久磁石の製造方法。 - 【請求項７】 熱処理後、さらに耐食性皮膜を形成する
請求項１または２に記載の希土類−鉄−ボロン系永久磁
石の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7065517A JPH08264310A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法 |
| US08/604,927 US5876518A (en) | 1995-02-23 | 1996-02-22 | R-T-B-based, permanent magnet, method for producing same, and permanent magnet-type motor and actuator comprising same |
| US09/176,724 US6254694B1 (en) | 1995-02-23 | 1998-10-21 | R-T-B-based, permanent magnet, method for producing same, and permanent magnet-type motor and actuator comprising same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7065517A JPH08264310A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08264310A true JPH08264310A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=13289310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7065517A Pending JPH08264310A (ja) | 1995-02-23 | 1995-03-24 | 希土類−鉄−ボロン系永久磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08264310A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
| JP2007311117A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
| EP1968080A1 (en) * | 2005-12-28 | 2008-09-10 | Hitachi Metals, Ltd. | Rare earth magnet and method for producing same |
-
1995
- 1995-03-24 JP JP7065517A patent/JPH08264310A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
| EP1968080A1 (en) * | 2005-12-28 | 2008-09-10 | Hitachi Metals, Ltd. | Rare earth magnet and method for producing same |
| EP1968080A4 (en) * | 2005-12-28 | 2009-11-25 | Hitachi Metals Ltd | RARE EARTH MAGNET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME |
| US7655325B2 (en) | 2005-12-28 | 2010-02-02 | Hitachi Metals, Ltd. | Rare earth magnet and method for producing same |
| JP4915349B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-04-11 | 日立金属株式会社 | 希土類磁石およびその製造方法 |
| JP2007311117A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子レンズ及びそれを用いた荷電粒子線装置 |
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