JPH0682574B2 - 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 - Google Patents
耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法Info
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- JPH0682574B2 JPH0682574B2 JP60007950A JP795085A JPH0682574B2 JP H0682574 B2 JPH0682574 B2 JP H0682574B2 JP 60007950 A JP60007950 A JP 60007950A JP 795085 A JP795085 A JP 795085A JP H0682574 B2 JPH0682574 B2 JP H0682574B2
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Description
【発明の詳細な説明】 利用産業分野 この発明は、Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素のうち少なく
とも１種）,B,Feを主成分とする永久磁石の耐食性を改
善した希土類・ボロン・鉄系永久磁石の製造方法に関す
る。
とも１種）,B,Feを主成分とする永久磁石の耐食性を改
善した希土類・ボロン・鉄系永久磁石の製造方法に関す
る。
背景技術 現在の代表的な永久磁石材料は、アルニコ，ハードフェ
ライトおよび希土類コバルト磁石である。近年のコバル
トの原料事情の不安定化に伴ない、コバルトを20〜30wt
％含むアルニコ磁石の需要は減り、鉄の酸化物を主成分
とする安価なハードフェライトが磁石材料の主流を占め
るようになった。一方、希土類コバルト磁石はコバルト
を50〜60wt％も含むうえ、希土類鉱石中にあまり含まれ
ていないSmを使用するため大変高価であるが、他の磁石
に比べて、磁気特性が格段に高いため、主として小型で
付加価値の高い磁気回路に多用されるようになった。
ライトおよび希土類コバルト磁石である。近年のコバル
トの原料事情の不安定化に伴ない、コバルトを20〜30wt
％含むアルニコ磁石の需要は減り、鉄の酸化物を主成分
とする安価なハードフェライトが磁石材料の主流を占め
るようになった。一方、希土類コバルト磁石はコバルト
を50〜60wt％も含むうえ、希土類鉱石中にあまり含まれ
ていないSmを使用するため大変高価であるが、他の磁石
に比べて、磁気特性が格段に高いため、主として小型で
付加価値の高い磁気回路に多用されるようになった。
本出願人は先に、高価なSmやCoを含有しない新しい高性
能永久磁石としてFe−Ｂ−Ｒ系（ＲはＹを含む希土類元
素のうち少なくとも１種）永久磁石を提案した（特願昭
57-145072号（特開昭59-46008号））。この永久磁石
は、ＲとしてNdやPrを中心とする資源的に豊富な軽希土
類を用い、Feを主成分として25MGOe以上の極めて高いエ
ネルギー積を示すすぐれた永久磁石である。
能永久磁石としてFe−Ｂ−Ｒ系（ＲはＹを含む希土類元
素のうち少なくとも１種）永久磁石を提案した（特願昭
57-145072号（特開昭59-46008号））。この永久磁石
は、ＲとしてNdやPrを中心とする資源的に豊富な軽希土
類を用い、Feを主成分として25MGOe以上の極めて高いエ
ネルギー積を示すすぐれた永久磁石である。
しかしながら、上記のすぐれた磁気特性を有するFe−Ｂ
−Ｒ系永久磁石は主成分として、空気中で酸化し易い希
土類元素及び鉄を含有するため、磁気回路に組込んだ場
合に、磁石表面に生成する酸化物により、磁気回路の出
力低下及び磁気回路間のばらつきを惹起し、また、表面
酸化物の脱落による周辺機器への汚染の問題があった。
−Ｒ系永久磁石は主成分として、空気中で酸化し易い希
土類元素及び鉄を含有するため、磁気回路に組込んだ場
合に、磁石表面に生成する酸化物により、磁気回路の出
力低下及び磁気回路間のばらつきを惹起し、また、表面
酸化物の脱落による周辺機器への汚染の問題があった。
そこで、出願人は先に、上記のFe−Ｂ−Ｒ系永久磁石の
耐食性の改善のため、磁石体表面に無電解めっき法ある
いは電解めっき法により耐食性金属めっき層を被覆した
永久磁石（特願昭58-162350号（特開昭60-54406号））
及び磁石体表面にスプレー法あるいは浸漬法によって耐
食性樹脂層を被覆した永久磁石を提案した（特願昭58-1
71907号（特開昭60-63901号））した。
耐食性の改善のため、磁石体表面に無電解めっき法ある
いは電解めっき法により耐食性金属めっき層を被覆した
永久磁石（特願昭58-162350号（特開昭60-54406号））
及び磁石体表面にスプレー法あるいは浸漬法によって耐
食性樹脂層を被覆した永久磁石を提案した（特願昭58-1
71907号（特開昭60-63901号））した。
しかし、前者のめっき法では永久磁石体が焼結体の場
合、該焼結体は有孔性であるため、この孔内にめっき前
処理で酸性溶液またはアルカリ性溶液が残留し、経年変
化とともに発錆する恐れがあり、また磁石体の耐薬品性
が劣るため、めっき時に磁石表面が腐食されて密着性・
防食性が劣る問題があった。
合、該焼結体は有孔性であるため、この孔内にめっき前
処理で酸性溶液またはアルカリ性溶液が残留し、経年変
化とともに発錆する恐れがあり、また磁石体の耐薬品性
が劣るため、めっき時に磁石表面が腐食されて密着性・
防食性が劣る問題があった。
また後者のスプレー法による樹脂の塗装には方向性があ
るため、被処理物表面全体に均一な樹脂被膜を施すのに
多大の工程，手間を要し、特に形状が複雑な異形磁石体
に均一厚みの被膜を施すことは困難であり、また浸漬法
では樹脂被膜厚みが不均一になり、製品寸法精度が悪い
問題があった。
るため、被処理物表面全体に均一な樹脂被膜を施すのに
多大の工程，手間を要し、特に形状が複雑な異形磁石体
に均一厚みの被膜を施すことは困難であり、また浸漬法
では樹脂被膜厚みが不均一になり、製品寸法精度が悪い
問題があった。
発明の目的 この発明は、希土類・ボロン・鉄を主成分とする新規な
永久磁石の耐食性の改善を目的とし、腐食性薬品等を使
用，残留させることなく、密着性，防食性にすぐれた耐
食性薄膜を磁石体表面に均一厚みで設けることができる
永久磁石の製造方法を目的としている。
永久磁石の耐食性の改善を目的とし、腐食性薬品等を使
用，残留させることなく、密着性，防食性にすぐれた耐
食性薄膜を磁石体表面に均一厚みで設けることができる
永久磁石の製造方法を目的としている。
発明の構成と効果 この発明は、陰極を構成するＲ（ＲはＹを含む希土類元
素のうち少なくとも１種）８原子％〜30原子％、B2原子
％〜28原子％、Fe42原子％〜90原子％を主成分とし、主
相が正方晶相からなる永久磁石体と、陽極を構成するコ
ーティング材とを減圧容器内に収容し、反応性ガスの存
在下または不存在下において、逆スパッタを行なったの
ち、陽極を構成するコーティング材を加熱して原子状、
分子状あるいは微粒子状となし、これに熱電子を衝突さ
せてイオン化し、電界分布により走行するコーティング
材のイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突して増大した該
イオン化粒子を、陰極を構成する該永久磁石体表面に付
着させ、コーティング物質による耐食性薄膜を形成被覆
することを特徴とする耐食性のすぐれた永久磁石の製造
方法である。
素のうち少なくとも１種）８原子％〜30原子％、B2原子
％〜28原子％、Fe42原子％〜90原子％を主成分とし、主
相が正方晶相からなる永久磁石体と、陽極を構成するコ
ーティング材とを減圧容器内に収容し、反応性ガスの存
在下または不存在下において、逆スパッタを行なったの
ち、陽極を構成するコーティング材を加熱して原子状、
分子状あるいは微粒子状となし、これに熱電子を衝突さ
せてイオン化し、電界分布により走行するコーティング
材のイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突して増大した該
イオン化粒子を、陰極を構成する該永久磁石体表面に付
着させ、コーティング物質による耐食性薄膜を形成被覆
することを特徴とする耐食性のすぐれた永久磁石の製造
方法である。
すなわち、この発明は、Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素の
うち少なくとも１種）８原子％〜30原子％、B2原子％〜
28原子％、Fe42原子％〜90原子％を主成分とし主相が正
方晶相からなる永久磁石体表面に、イオン・プレーティ
ング法により、Al,Ni,Cr,Cu,Co等の金属またはその合金
あるいはSiO2，Al2O3，Cr2O3,TiN,AlN,TiC等の耐食性薄
膜層を延設被覆してなることを特徴とする耐食性のすぐ
れた永久磁石の製造方法である。
うち少なくとも１種）８原子％〜30原子％、B2原子％〜
28原子％、Fe42原子％〜90原子％を主成分とし主相が正
方晶相からなる永久磁石体表面に、イオン・プレーティ
ング法により、Al,Ni,Cr,Cu,Co等の金属またはその合金
あるいはSiO2，Al2O3，Cr2O3,TiN,AlN,TiC等の耐食性薄
膜層を延設被覆してなることを特徴とする耐食性のすぐ
れた永久磁石の製造方法である。
この発明は、本系永久磁石表面に生成する酸化物を抑制
するため、該表面に均一で、強固かつ安定な耐食性薄膜
層を形成する製造方法であり、本発明により形成された
耐食性薄膜により、磁石体表面の酸化が抑制され、又、
腐食性の薬品等を使用，残留させることがないため、磁
気特性が劣化することなく、かつ長期にわたって安定す
る利点がある。
するため、該表面に均一で、強固かつ安定な耐食性薄膜
層を形成する製造方法であり、本発明により形成された
耐食性薄膜により、磁石体表面の酸化が抑制され、又、
腐食性の薬品等を使用，残留させることがないため、磁
気特性が劣化することなく、かつ長期にわたって安定す
る利点がある。
この発明におけるイオン・プレーティング法は、例えば
真空度10-4〜10-7Torr程度の減圧容器内に、陰極を構成
する永久磁石体と共に薄膜を形成すべく所要コーティン
グ物質を収容し、逆スパッタを行なったのち、加熱して
該物質を原子状，分子状，微粒子状となし、これに、熱
電子を衝突させてイオン化し、電界分布により走行する
コーティング材のイオン化粒子が他蒸発粒子と衝突して
増大した該イオン化粒子を、陰極を構成する磁石体表面
に凝縮して薄膜を形成被覆させるものである。
真空度10-4〜10-7Torr程度の減圧容器内に、陰極を構成
する永久磁石体と共に薄膜を形成すべく所要コーティン
グ物質を収容し、逆スパッタを行なったのち、加熱して
該物質を原子状，分子状，微粒子状となし、これに、熱
電子を衝突させてイオン化し、電界分布により走行する
コーティング材のイオン化粒子が他蒸発粒子と衝突して
増大した該イオン化粒子を、陰極を構成する磁石体表面
に凝縮して薄膜を形成被覆させるものである。
イオン化する物質の加熱方法には、るつぼ方式や直接抵
抗加熱方式の抵抗加熱法、高周波誘導加熱法、電子線加
熱法などがあり、これらいずれの方法も形成被着するコ
ーティング物質の組成や厚み、被着側永久磁石体形状や
作業性などに応じて適宜選定適用することができる。
抗加熱方式の抵抗加熱法、高周波誘導加熱法、電子線加
熱法などがあり、これらいずれの方法も形成被着するコ
ーティング物質の組成や厚み、被着側永久磁石体形状や
作業性などに応じて適宜選定適用することができる。
被蒸発物質たるコーティング物質は、Al,Ni,Cr,Cu、Co
等の金属またはその合金あるいはSiO2，Al2O3，Cr2O3,T
iN,AlN,TiC等、本系永久磁石の耐食性を向上させること
ができる金属や合金，セラミックス，金属等の窒化物，
酸化物，あるいは炭化物の化合物が好ましい。
等の金属またはその合金あるいはSiO2，Al2O3，Cr2O3,T
iN,AlN,TiC等、本系永久磁石の耐食性を向上させること
ができる金属や合金，セラミックス，金属等の窒化物，
酸化物，あるいは炭化物の化合物が好ましい。
この発明において、永久磁石体表面に、窒化膜，酸化
膜，あるいは炭化膜を形成する場合には、真空容器内
に、O2，N2，CO2アセチレンなどの反応性ガスを導入す
ることが好ましく、また、合金被膜を形成する場合は、
各々の合金成分ごとに蒸発源を複数設け、蒸発時に一定
の比率をもたせることにより、一定の組成の合金被膜を
形成させることができる。
膜，あるいは炭化膜を形成する場合には、真空容器内
に、O2，N2，CO2アセチレンなどの反応性ガスを導入す
ることが好ましく、また、合金被膜を形成する場合は、
各々の合金成分ごとに蒸発源を複数設け、蒸発時に一定
の比率をもたせることにより、一定の組成の合金被膜を
形成させることができる。
この発明において、上述したイオン・プレーティング手
段にて成膜されたFe−Ｂ−Ｒ系永久磁石表面の耐食性薄
膜の厚みは、磁気特性や耐食性等を考慮すると30μｍ以
下の厚みが好ましい。
段にて成膜されたFe−Ｂ−Ｒ系永久磁石表面の耐食性薄
膜の厚みは、磁気特性や耐食性等を考慮すると30μｍ以
下の厚みが好ましい。
永久磁石の限定理由 この発明の永久磁石に用いる希土類元素Ｒは、８原子％
〜30原子％のNd,Pr,Ho,Tbのうち少なくとも１種、ある
いはさらに、La,Sm,Ce,Er,Eu,Pm,Tm,Yb,Lu,Yのうち少な
くとも１種を含むものが好ましい。
〜30原子％のNd,Pr,Ho,Tbのうち少なくとも１種、ある
いはさらに、La,Sm,Ce,Er,Eu,Pm,Tm,Yb,Lu,Yのうち少な
くとも１種を含むものが好ましい。
又、通例Ｒのうち１種をもって足りるが、実用上は２種
以上の混合物（ミッシュメタル，ジジム等）を入手上の
便宜等の理由により用いることができ、Sm,Y,La,Ce,Ge
等は他のＲ、特にNd,Pr等との混合物として用いること
ができる。
以上の混合物（ミッシュメタル，ジジム等）を入手上の
便宜等の理由により用いることができ、Sm,Y,La,Ce,Ge
等は他のＲ、特にNd,Pr等との混合物として用いること
ができる。
なお、このＲは純希土類元素でなくてもよく、工業上入
手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含有するもので
も差支えない。
手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含有するもので
も差支えない。
Ｒ（Ｙを含む希土類元素のうち少なくとも１種）は、新
規な上記系永久磁石における、必須元素であって、８原
子％未満では、結晶構造がα−鉄と同一構造の立方晶組
織となるため、高磁気特性、特に高保磁力が得られず、
30原子％を越えると、Ｒリッチな非磁性相が多くなり、
残留磁束密度（Br）が低下して、すぐれた特性の永久磁
石が得られない。よって、希土類元素は、８原子％〜30
原子％の範囲とする。
規な上記系永久磁石における、必須元素であって、８原
子％未満では、結晶構造がα−鉄と同一構造の立方晶組
織となるため、高磁気特性、特に高保磁力が得られず、
30原子％を越えると、Ｒリッチな非磁性相が多くなり、
残留磁束密度（Br）が低下して、すぐれた特性の永久磁
石が得られない。よって、希土類元素は、８原子％〜30
原子％の範囲とする。
Ｂは、新規な上記系永久磁石における、必須元素であっ
て、２原子％未満では、菱面体組織となり、高い保磁力
（iHc）は得られず、28原子％を越えると、Ｂリッチな
非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Br）が低下するた
め、すぐれた永久磁石が得られない。よって、Ｂは、２
原子％〜28原子％の範囲とする。
て、２原子％未満では、菱面体組織となり、高い保磁力
（iHc）は得られず、28原子％を越えると、Ｂリッチな
非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Br）が低下するた
め、すぐれた永久磁石が得られない。よって、Ｂは、２
原子％〜28原子％の範囲とする。
Feは、新規な上記系永久磁石において、必須元素であ
り、42原子％未満では残留磁束密度（Br）が低下し、90
原子％を越えると、高い保磁力が得られないので、Feは
42原子％〜90原子％の含有とする。
り、42原子％未満では残留磁束密度（Br）が低下し、90
原子％を越えると、高い保磁力が得られないので、Feは
42原子％〜90原子％の含有とする。
また、この発明のよる永久磁石用合金において、Feの一
部をCoで置換することは、得られる磁石の磁気特性を損
うことなく、温度特性を改善することができるが、Co置
換量がFeの50％を越えると、逆に磁気特性が劣化するた
め、好ましくない。
部をCoで置換することは、得られる磁石の磁気特性を損
うことなく、温度特性を改善することができるが、Co置
換量がFeの50％を越えると、逆に磁気特性が劣化するた
め、好ましくない。
また、この発明による永久磁石は、R,B,Feの他、工業的
生産上不可避的不純物の存在を許容できるが、Ｂの一部
を4.0原子％以下のＣ、3.5原子％以下のＰ、2.5原子％
以下のＳ、3.5％以下のCuのうち少なくとも１種、合計
量で4.0原子％以下で置換することにより、永久磁石の
製造性改善、低価格化が可能である。
生産上不可避的不純物の存在を許容できるが、Ｂの一部
を4.0原子％以下のＣ、3.5原子％以下のＰ、2.5原子％
以下のＳ、3.5％以下のCuのうち少なくとも１種、合計
量で4.0原子％以下で置換することにより、永久磁石の
製造性改善、低価格化が可能である。
また、下記添加元素のうち少なくとも１種は、Ｒ−Ｂ−
Fe系永久磁石に対してその保磁力等を改善あるいは製造
性の改善、低価格化に効果があるため添加する。しか
し、保磁力改善のための添加に伴ない残留磁束密度（B
r）の低下を招来するので、従来のハードフェライト磁
石の残留磁束密度と同等以上となる範囲での添加が望ま
しい。
Fe系永久磁石に対してその保磁力等を改善あるいは製造
性の改善、低価格化に効果があるため添加する。しか
し、保磁力改善のための添加に伴ない残留磁束密度（B
r）の低下を招来するので、従来のハードフェライト磁
石の残留磁束密度と同等以上となる範囲での添加が望ま
しい。
9.5原子％以下のAl、4.5原子％以下のTi、 9.5原子％以下のＶ、8.5原子％以下のCr、 8.0原子％以下のMn、５原子％以下のBi、 12.5原子％以下のNb、10.5原子％以下のTa、 9.5原子％以下のMo、9.5原子％以下のＷ、 2.5原子％以下のSb、７原子％以下のGe、 3.5原子％以下のSn、5.5原子％以下のZr、 6.0原子％以下のNi、5.0原子％以下のSi、 5.5原子％以下のHfのうち少なくとも１種を添加含有
し、但し、２種以上含有する場合は、その最大含有量は
当該添加元素のうち最大値を有するものの原子％以下の
含有させることにより、永久磁石の高保磁力化が可能に
なる。
し、但し、２種以上含有する場合は、その最大含有量は
当該添加元素のうち最大値を有するものの原子％以下の
含有させることにより、永久磁石の高保磁力化が可能に
なる。
このFe−Ｂ−Ｒ系永久磁石の結晶相は、主相が正方晶で
あることが不可欠であり、また微細で均一な合金粉末よ
りすぐれた磁気特性を有する焼結永久磁石が得られる。
あることが不可欠であり、また微細で均一な合金粉末よ
りすぐれた磁気特性を有する焼結永久磁石が得られる。
したがって、この発明の永久磁石は、ＲとしてNdやPrを
中心とする資源的に豊富な軽希土類を主に用い、Fe,B,
R,を主成分とすることにより、25MGOe以上の極めて高い
エネルギー積並びに、高残留磁束密度、高保磁力を有
し、かつ高い耐食性を有する、すぐれた永久磁石を安価
に得ることができる。
中心とする資源的に豊富な軽希土類を主に用い、Fe,B,
R,を主成分とすることにより、25MGOe以上の極めて高い
エネルギー積並びに、高残留磁束密度、高保磁力を有
し、かつ高い耐食性を有する、すぐれた永久磁石を安価
に得ることができる。
また、この発明の永久磁石は、体積比で１％〜50％の非
磁性相（酸化物相を除く）を含むことを特徴とし、焼結
磁石の場合には結晶粒径が１〜100μｍの範囲にある正
方晶系の結晶構造を有する化合物を主相とする。
磁性相（酸化物相を除く）を含むことを特徴とし、焼結
磁石の場合には結晶粒径が１〜100μｍの範囲にある正
方晶系の結晶構造を有する化合物を主相とする。
また、この発明の永久磁石は、磁場中プレス成型するこ
とにより磁気的異方性磁石が得られ、また、無磁界中で
プレス成型することにより、磁気的等方性磁石を得るこ
とができる。
とにより磁気的異方性磁石が得られ、また、無磁界中で
プレス成型することにより、磁気的等方性磁石を得るこ
とができる。
この発明による永久磁石は、保磁力iHc≧1kOe、残留磁
束密度Br＞4kG、を示し、最大エネルギー積（BH）maxは
ハードフェライトと同等以上となり、最も好ましい組成
範囲では、（BH）max≧10MGOeを示し、最大値は25MGOe
以上に達する。
束密度Br＞4kG、を示し、最大エネルギー積（BH）maxは
ハードフェライトと同等以上となり、最も好ましい組成
範囲では、（BH）max≧10MGOeを示し、最大値は25MGOe
以上に達する。
また、この発明永久磁石用合金粉末のＲの主成分がその
50％以上を軽希土類金属が占める場合で、R12原子％〜2
0原子％、B4原子％〜24原子％、Fe65原子％〜82原子
％、を主成分とするとき、磁気的異方性焼結磁石の場合
最もすぐれた磁気特性を示し、特に軽希土類金属がNdの
場合には、（BH）maxはその最大値が35MGOe以上に達す
る。
50％以上を軽希土類金属が占める場合で、R12原子％〜2
0原子％、B4原子％〜24原子％、Fe65原子％〜82原子
％、を主成分とするとき、磁気的異方性焼結磁石の場合
最もすぐれた磁気特性を示し、特に軽希土類金属がNdの
場合には、（BH）maxはその最大値が35MGOe以上に達す
る。
実施例 実施例１ 出発原料として、純度99.9％の電解鉄、B19.4％を含有
し残部はFe及びAl,Si,C等の不純物からなるフェロボロ
ン合金、純度99.7％以上のNdを使用し、これらを高周波
溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳造し、15Nd−8B−77Feな
る組成の鋳塊を得た。
し残部はFe及びAl,Si,C等の不純物からなるフェロボロ
ン合金、純度99.7％以上のNdを使用し、これらを高周波
溶解し、その後水冷銅鋳型に鋳造し、15Nd−8B−77Feな
る組成の鋳塊を得た。
その後インゴットを、スタンプミルにより粗粉砕し、次
にボールミルにより微粉砕し、粒度３μｍの微粉末を得
た。
にボールミルにより微粉砕し、粒度３μｍの微粉末を得
た。
この微粉末を金型に挿入し、12kOeの磁界中で配向し、
磁界と平行方向に、1.5t/cm2の圧力で成形した。
磁界と平行方向に、1.5t/cm2の圧力で成形した。
得られた成形体を、1100℃、１時間,Ar中、の条件で焼
結し、その後放冷し、さらにAr中ので600℃,2時間の時
効処理を施して、永久磁石を作製した。
結し、その後放冷し、さらにAr中ので600℃,2時間の時
効処理を施して、永久磁石を作製した。
得られた永久磁石から外径20mm×内径10mm×厚み1.5mm
寸法に試験片を切り出した。
寸法に試験片を切り出した。
次に、真空度５×10-5Torrの真空容器内に、上記試験片
を入れ、0.8TorrのArガス中,400Vの電圧で１分間の逆ス
パッタを行なった後、前処理として、350℃に30分間加
熱後、300℃に降温し、コーティング材料として、３〜5
mmφ粒状の溶融石英を用い、これを加熱し、分子状とな
った溶融石英に熱電子を衝突させてイオン化し、電界分
布により走行するSiO2イオン化粒子が他の蒸発粒子と衝
突して、さらにSiO2イオン化粒子を増加させ、これらイ
オン化粒子が電界に引かれて、陰極を構成する前記試験
片を付着し、SiO2薄膜を形成した。試験片表面に形成し
た薄膜厚みは５μｍであった。
を入れ、0.8TorrのArガス中,400Vの電圧で１分間の逆ス
パッタを行なった後、前処理として、350℃に30分間加
熱後、300℃に降温し、コーティング材料として、３〜5
mmφ粒状の溶融石英を用い、これを加熱し、分子状とな
った溶融石英に熱電子を衝突させてイオン化し、電界分
布により走行するSiO2イオン化粒子が他の蒸発粒子と衝
突して、さらにSiO2イオン化粒子を増加させ、これらイ
オン化粒子が電界に引かれて、陰極を構成する前記試験
片を付着し、SiO2薄膜を形成した。試験片表面に形成し
た薄膜厚みは５μｍであった。
上記イオン・プレーティング条件は、試験片を電圧1kV,
イオン化電圧100V,80〜90mA,40分間処理であった。
イオン化電圧100V,80〜90mA,40分間処理であった。
この試験片に耐食性試験と耐食性試験後の薄膜の密度強
度試験を行なった。また、耐食性試験前後の磁気特性を
測定した。試験結果及び測定結果は第１表に示す。
度試験を行なった。また、耐食性試験前後の磁気特性を
測定した。試験結果及び測定結果は第１表に示す。
また、比較のため、上記試験片に、トリクレンにて３分
間溶剤脱脂し、５％NaOHにて60℃,3分間のアルカリ脱脂
した後、２％HClにて室温、10秒間の酸洗しワット浴に
て、電流密度4A/dm2，浴温度60℃,20分間の条件にて、
電気ニッケルめっきを行ない表面に10μｍ厚みのニッケ
ルめっき層を有する比較試験片（比較例）を得た。この
試験片に上記の実施例１と同一の試験及び測定を行な
い、その結果を同様に第１表に示す。
間溶剤脱脂し、５％NaOHにて60℃,3分間のアルカリ脱脂
した後、２％HClにて室温、10秒間の酸洗しワット浴に
て、電流密度4A/dm2，浴温度60℃,20分間の条件にて、
電気ニッケルめっきを行ない表面に10μｍ厚みのニッケ
ルめっき層を有する比較試験片（比較例）を得た。この
試験片に上記の実施例１と同一の試験及び測定を行な
い、その結果を同様に第１表に示す。
耐食性試験は、上記試験片を60℃の温度90％の湿度の雰
囲気に、500時間放置した場合の試験片外観状況でもっ
て評価した。
囲気に、500時間放置した場合の試験片外観状況でもっ
て評価した。
また、密着強度試験は、耐食性試験後の上記試験片を、
粘着テープで1mm間隔の枡目部分を引張り、薄膜層が剥
離するか否か（無剥離枡目数／前枡目数）で評価した。
粘着テープで1mm間隔の枡目部分を引張り、薄膜層が剥
離するか否か（無剥離枡目数／前枡目数）で評価した。
実施例２ 真空度１×10-5Torrの真空容器内に、上記試験片を入
れ、10-2TorrのN2ガス中,400Vの電圧で１分間の逆スパ
ッタを行なった後、前処理として、350℃に30分間加熱
後、300℃に降温し、コーティング材料として、5mmφ×
3mmの純度99.99％のTi片を用い、これを加熱し、原子状
となったTiに熱電子を衝突させてイオン化し、電界分布
により走行するTiNイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突
して、さらにTiNイオン化粒子を増加させ、これらイオ
ン化粒子が電界に引かれて、陰極を構成する前記試験片
に付着し、TiN薄膜を形成した。試験片表面に形成した
薄膜厚みは５μｍであった。
れ、10-2TorrのN2ガス中,400Vの電圧で１分間の逆スパ
ッタを行なった後、前処理として、350℃に30分間加熱
後、300℃に降温し、コーティング材料として、5mmφ×
3mmの純度99.99％のTi片を用い、これを加熱し、原子状
となったTiに熱電子を衝突させてイオン化し、電界分布
により走行するTiNイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突
して、さらにTiNイオン化粒子を増加させ、これらイオ
ン化粒子が電界に引かれて、陰極を構成する前記試験片
に付着し、TiN薄膜を形成した。試験片表面に形成した
薄膜厚みは５μｍであった。
上記イオン・プレーティング条件は、試験片を電圧1kV,
イオン化電圧100V,40〜60mA,20分間処理であった。
イオン化電圧100V,40〜60mA,20分間処理であった。
この試験片に実施例１と同様の耐食性試験と耐食性試験
後の薄膜の密着強度試験を行ない、また、耐食性試験前
後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果は第１
表に示す。
後の薄膜の密着強度試験を行ない、また、耐食性試験前
後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果は第１
表に示す。
実施例３ 真空度１×10-5Torrの真空容器内に、上記試験片を入
れ、10-2TorrのCO2ガス中,400Vの電圧で１分間の逆スパ
ッタを行なった後、前処理として、350℃に30分間加熱
後、300℃に降温し、コーティング材料として、5mmφ×
3mmの純度99.99％のTi片を用い、これを加熱し、原子状
となったTiに熱電子を衝突させてイオン化し、電界分布
により走行するTiCイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突
して、さらにTiCイオン化粒子を増加させ、これらイオ
ン化粒子が電界に引かれて、陰極を構成する前記試験片
に付着し、TiC薄膜を形成した。試験片表面に形成した
薄膜厚みは５μｍであった。
れ、10-2TorrのCO2ガス中,400Vの電圧で１分間の逆スパ
ッタを行なった後、前処理として、350℃に30分間加熱
後、300℃に降温し、コーティング材料として、5mmφ×
3mmの純度99.99％のTi片を用い、これを加熱し、原子状
となったTiに熱電子を衝突させてイオン化し、電界分布
により走行するTiCイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突
して、さらにTiCイオン化粒子を増加させ、これらイオ
ン化粒子が電界に引かれて、陰極を構成する前記試験片
に付着し、TiC薄膜を形成した。試験片表面に形成した
薄膜厚みは５μｍであった。
上記イオン・プレーティング条件は、試験片を電圧1kV,
イオン化電圧100V,40〜60mA,20分間処理であった。
イオン化電圧100V,40〜60mA,20分間処理であった。
この試験片に実施例１と同様の耐食性試験と耐食性試験
後の薄膜の密度強度試験を行ない、また、耐食性試験前
後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果は第１
表に示す。
後の薄膜の密度強度試験を行ない、また、耐食性試験前
後の磁気特性を測定した。試験結果及び測定結果は第１
表に示す。
第１表の試験及び測定結果に明らかなように、この発明
による耐食性薄膜は、比較例に対して、膜厚が所要厚み
でかつ格段にすぐれた均一度が得られているため、永久
磁石体の酸化が確実に防止されており、磁気特性の劣化
がなく、比較例に対して磁気特性の向上が著しいことが
分る。
による耐食性薄膜は、比較例に対して、膜厚が所要厚み
でかつ格段にすぐれた均一度が得られているため、永久
磁石体の酸化が確実に防止されており、磁気特性の劣化
がなく、比較例に対して磁気特性の向上が著しいことが
分る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｆ 41/02 Ｇ 8019−5Ｅ (56)参考文献 特開 昭49−86896（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−94705（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−138311（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−18364（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−46008（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−163266（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−115368（ＪＰ，Ａ) 「薄膜ハンドブック」昭和58年12月10 日、オーム社発行Ｐ．121
Claims (1)
- 【請求項１】陰極を構成するＲ（ＲはＹを含む希土類元
素のうち少なくとも１種）８原子％〜30原子％、B2原子
％〜28原子％、Fe42原子％〜90原子％を主成分とし、主
相が正方晶相からなる永久磁石体と、陽極を構成するコ
ーティング材とを減圧容器内に収容し、反応性ガスの存
在下または不存在下において、逆スパッタを行なったの
ち、陽極を構成するコーティング材を加熱して原子状、
分子状あるいは微粒子状となし、これに熱電子を衝突さ
せてイオン化し、電界分布により走行するコーティング
材のイオン化粒子が他の蒸発粒子と衝突して増大した該
イオン化粒子を、陰極を構成する該永久磁石体表面に付
着させ、コーティング物質による耐食性薄膜を形成被覆
することを特徴とする耐食性のすぐれた永久磁石の製造
方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60007950A JPH0682574B2 (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 |
| CN85109695A CN1007847B (zh) | 1984-12-24 | 1985-12-24 | 制造具有改进耐蚀性磁铁的方法 |
| EP85116598A EP0190461B1 (en) | 1984-12-24 | 1985-12-27 | Process for producing permanent magnets and permanent magnet |
| DE8585116598T DE3584243D1 (de) | 1984-12-24 | 1985-12-27 | Verfahren zur herstellung von dauermagneten und dauermagnet. |
| US06/818,238 US4837114A (en) | 1984-12-24 | 1986-01-13 | Process for producing magnets having improved corrosion resistance |
| US07/360,101 US5089066A (en) | 1984-12-24 | 1989-06-01 | Magnets having improved corrosion resistance |
| US07/740,442 US5316595A (en) | 1984-12-24 | 1991-08-05 | Process for producing magnets having improved corrosion resistance |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60007950A JPH0682574B2 (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61166116A JPS61166116A (ja) | 1986-07-26 |
| JPH0682574B2 true JPH0682574B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=11679770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60007950A Expired - Lifetime JPH0682574B2 (ja) | 1984-12-24 | 1985-01-18 | 耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0682574B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0283905A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-26 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 耐食性永久磁石およびその製造方法 |
| JP3278647B2 (ja) | 1999-01-27 | 2002-04-30 | 住友特殊金属株式会社 | 希土類系ボンド磁石 |
| US9005780B2 (en) | 2004-03-26 | 2015-04-14 | Tdk Corporation | Rare earth magnet, method for producing same and method for producing multilayer body |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5721842B2 (ja) * | 1972-12-26 | 1982-05-10 | ||
| JPS52107599A (en) * | 1976-03-08 | 1977-09-09 | Mitsubishi Electric Corp | Installation device for ferrite magnet |
| JPS5482098U (ja) * | 1977-11-22 | 1979-06-11 | ||
| JPS5694705A (en) * | 1979-12-28 | 1981-07-31 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Surface treatment method of rare earth cobalt magnet |
| JPS5946008A (ja) * | 1982-08-21 | 1984-03-15 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 永久磁石 |
| JPS59138311A (ja) * | 1983-01-28 | 1984-08-08 | Fujitsu Ltd | 永久磁石の表面処理方法 |
| JPS61163266A (ja) * | 1985-01-12 | 1986-07-23 | Namiki Precision Jewel Co Ltd | 希土類鉄系永久磁石の防錆方法 |
-
1985
- 1985-01-18 JP JP60007950A patent/JPH0682574B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 「薄膜ハンドブック」昭和５８年１２月１０日、オーム社発行Ｐ．１２１ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61166116A (ja) | 1986-07-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |