JPH05160013A - 高さ測定装置の光軸調整方法 - Google Patents
高さ測定装置の光軸調整方法Info
- Publication number
- JPH05160013A JPH05160013A JP32025191A JP32025191A JPH05160013A JP H05160013 A JPH05160013 A JP H05160013A JP 32025191 A JP32025191 A JP 32025191A JP 32025191 A JP32025191 A JP 32025191A JP H05160013 A JPH05160013 A JP H05160013A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical axis
- laser
- centering jig
- height
- height measuring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】高さセンサ１０の電子線通過孔１９に、高さ計
測用レーザ光の試料面における照射位置が、電子線の到
達位置と合致できるようなセンタリング治具２２を設
け、これを用いて高さセンサ１０の光軸を調整する。 【効果】高さセンサにおけるレーザ光の照射位置の調整
が、再現性良く行なえる。また、その光軸調整には熟練
性が不要となり、短時間に処理できるようになった。
測用レーザ光の試料面における照射位置が、電子線の到
達位置と合致できるようなセンタリング治具２２を設
け、これを用いて高さセンサ１０の光軸を調整する。 【効果】高さセンサにおけるレーザ光の照射位置の調整
が、再現性良く行なえる。また、その光軸調整には熟練
性が不要となり、短時間に処理できるようになった。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、荷電粒子線装置におけ
る、試料面の高さを測定する高さ測定装置の光軸調整方
法に関する。
る、試料面の高さを測定する高さ測定装置の光軸調整方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術を、図３を用いて以下に説明す
る。図３は、荷電粒子線装置の代表例である、電子線描
画装置の概略図を表わしたものである。真空に保持され
た電子光学鏡筒（以後、コラムと略記する）１内には、
電子銃２から電子線３が放出される。電子線３は、制御
計算機４からの描画データに基づき偏向制御回路５を介
して、偏向器６により偏向制御される。この様に制御さ
れた電子線３は、試料室１４内で、Ｘ，Ｙ方向に移動可
能なステージ７上に固定されたＳｉウェハ等の試料８に
ＬＳＩパターンを形成するように描画される。ここで、
高さ測定装置、いわゆる、高さセンサ１０は、電子線３
が試料８の表面に到達する位置での高さを測定するもの
である。即ち、センサ１０は、図示のように試料８の表
面に対して斜め方向からレーザ光１１（ここでは、可視
光を想定）を照射し、その反射光を位置検出部１２で検
出して、信号処理回路１３で実際の高さをミクロン単位
で算出する。
る。図３は、荷電粒子線装置の代表例である、電子線描
画装置の概略図を表わしたものである。真空に保持され
た電子光学鏡筒（以後、コラムと略記する）１内には、
電子銃２から電子線３が放出される。電子線３は、制御
計算機４からの描画データに基づき偏向制御回路５を介
して、偏向器６により偏向制御される。この様に制御さ
れた電子線３は、試料室１４内で、Ｘ，Ｙ方向に移動可
能なステージ７上に固定されたＳｉウェハ等の試料８に
ＬＳＩパターンを形成するように描画される。ここで、
高さ測定装置、いわゆる、高さセンサ１０は、電子線３
が試料８の表面に到達する位置での高さを測定するもの
である。即ち、センサ１０は、図示のように試料８の表
面に対して斜め方向からレーザ光１１（ここでは、可視
光を想定）を照射し、その反射光を位置検出部１２で検
出して、信号処理回路１３で実際の高さをミクロン単位
で算出する。
【０００３】電子線３の照射位置における高さ情報が必
要な理由は、試料８が熱処理等の製造プロセスを経た時
に生じる、その表面の高さ変動を事前に検出し電子線３
の焦点補正を行なって、ＬＳＩパターンの描画精度を良
好に維持することである。この場合の高さの基準とは、
ステージ７上に前もって固定されている、基準マーク９
に基づくものである。即ち、この基準マーク９は、高さ
の絶対基準として、この例では０μｍと＋２００μｍの
二種類の段差面を持っている。試料８の表面は、必ず、
この二種類の段差間に来るように調整されている。従っ
て、試料８における電子線３の焦点状態は、高さセンサ
１０による高さ情報を基に、計算機４を介して常に最適
に自動調整される。
要な理由は、試料８が熱処理等の製造プロセスを経た時
に生じる、その表面の高さ変動を事前に検出し電子線３
の焦点補正を行なって、ＬＳＩパターンの描画精度を良
好に維持することである。この場合の高さの基準とは、
ステージ７上に前もって固定されている、基準マーク９
に基づくものである。即ち、この基準マーク９は、高さ
の絶対基準として、この例では０μｍと＋２００μｍの
二種類の段差面を持っている。試料８の表面は、必ず、
この二種類の段差間に来るように調整されている。従っ
て、試料８における電子線３の焦点状態は、高さセンサ
１０による高さ情報を基に、計算機４を介して常に最適
に自動調整される。
【０００４】図４は、その高さセンサ１０における、レ
ーザ光１１の光軸調整治具を示す。高さセンサ１０は、
数本の支持棒２０で支えられ、全体をベース２１に固定
している。センサ内部には、主として、レーザ照射部１
８、２つのミラーＭ１，Ｍ２、及び、試料面の上下変動
に伴う反射光の位置変化を検出するＰＳＤ（位置検出
器）１５等が内蔵されている。また、電子線通過孔１９
も設けられている。標準試料１６の高さは、ＸＹＺテー
ブル１７によって、実際の試料８と同じになるように微
調整することが可能である。この調整治具の機能は、予
め、実際の試料面に相当する高さｈにある標準試料１６
の表面にレーザ光１１を照射し、その反射光が位置検出
部１２にあるＰＳＤ１５の所定位置に届くようにするこ
とである。この所定位置とは、ＰＳＤ１５におけるゼロ
の差信号は、基準マーク９の０μｍの高さに相当するこ
とを意味する。
ーザ光１１の光軸調整治具を示す。高さセンサ１０は、
数本の支持棒２０で支えられ、全体をベース２１に固定
している。センサ内部には、主として、レーザ照射部１
８、２つのミラーＭ１，Ｍ２、及び、試料面の上下変動
に伴う反射光の位置変化を検出するＰＳＤ（位置検出
器）１５等が内蔵されている。また、電子線通過孔１９
も設けられている。標準試料１６の高さは、ＸＹＺテー
ブル１７によって、実際の試料８と同じになるように微
調整することが可能である。この調整治具の機能は、予
め、実際の試料面に相当する高さｈにある標準試料１６
の表面にレーザ光１１を照射し、その反射光が位置検出
部１２にあるＰＳＤ１５の所定位置に届くようにするこ
とである。この所定位置とは、ＰＳＤ１５におけるゼロ
の差信号は、基準マーク９の０μｍの高さに相当するこ
とを意味する。
【０００５】従って、その調整には、レーザ照射部１８
や二つのミラーＭ１，Ｍ２、及びＰＳＤ１５の各々の傾
きや、二次元的位置を微妙に調整する必要がある。これ
は、非常に時間のかかる、熟練の必要な作業である。こ
の様な装置の公知例としては、たとえば、特開昭56−51
826 号公報に記載されている電子線描画装置の高さセン
サが挙げられる。
や二つのミラーＭ１，Ｍ２、及びＰＳＤ１５の各々の傾
きや、二次元的位置を微妙に調整する必要がある。これ
は、非常に時間のかかる、熟練の必要な作業である。こ
の様な装置の公知例としては、たとえば、特開昭56−51
826 号公報に記載されている電子線描画装置の高さセン
サが挙げられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記高さセンサでは、
従来、レーザの光軸調整方法に於いて、次のような問題
点があった。図４における高さセンサ１０の電子線通過
孔１９の中心軸Ｌ0 は、図３中の電子線３の軸に対応し
ている。特に、ＬＳＩパターンのフィールド接続等の描
画精度を向上するには、この仮想の中心軸Ｌ0 に対し、
図示した標準試料１６上のレーザ光１１の照射位置Ｐ
を、再現性良く一致させる必要がある。しかし、図４の
ような調整方法では、高さセンサ１０本体と標準試料１
６とが、それぞれ独立に分離されているため、両者を相
互に一致させることは容易でなく、極めて調整誤差が生
じやすい。また、ＸＹＺテーブル１７上に固定された標
準試料１６上の位置Ｐは、レーザ照射部１８の定期的な
交換等によっても、レーザ光１１の照射方向が大幅に変
化するため、位置が常に定まらない。具体的な実測例と
して、中心軸Ｌ0 に対する、標準試料１６上の位置Ｐで
の鉛直線ＬとのずれΔは数百μｍにも及ぶことがある。
このような状況から、図４の従来方法では、再現性良く
レーザの光軸調整を行ない、ずれΔをゼロにすることは
至難である。
従来、レーザの光軸調整方法に於いて、次のような問題
点があった。図４における高さセンサ１０の電子線通過
孔１９の中心軸Ｌ0 は、図３中の電子線３の軸に対応し
ている。特に、ＬＳＩパターンのフィールド接続等の描
画精度を向上するには、この仮想の中心軸Ｌ0 に対し、
図示した標準試料１６上のレーザ光１１の照射位置Ｐ
を、再現性良く一致させる必要がある。しかし、図４の
ような調整方法では、高さセンサ１０本体と標準試料１
６とが、それぞれ独立に分離されているため、両者を相
互に一致させることは容易でなく、極めて調整誤差が生
じやすい。また、ＸＹＺテーブル１７上に固定された標
準試料１６上の位置Ｐは、レーザ照射部１８の定期的な
交換等によっても、レーザ光１１の照射方向が大幅に変
化するため、位置が常に定まらない。具体的な実測例と
して、中心軸Ｌ0 に対する、標準試料１６上の位置Ｐで
の鉛直線ＬとのずれΔは数百μｍにも及ぶことがある。
このような状況から、図４の従来方法では、再現性良く
レーザの光軸調整を行ない、ずれΔをゼロにすることは
至難である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題の要点は、高さ
センサ本体と標準試料とが、それぞれ独立に配置され
て、光軸調整を行なっている点にある。これが、再現性
のある調整をはばむ欠点である。従って、より基準性の
高い、高さセンサ１０側の電子線通過孔１９部を利用し
て、あたかも標準試料を一体化したようなセンタリング
治具を設定する。この治具は、勿論、方向性を持たせて
固定するものであり、レーザの入射光及び反射光用通過
孔は備えている。そして、高さセンサ１０に対する標準
試料の高さｈ、およびセンサの中心軸Ｌ0 をも加味した
十字線マーカをこのセンタリング治具の底面に、予め製
作しておく。調整者は、このセンタリング治具の真上か
らレーザ光の照射位置を肉眼で見ながら、レーザ光が十
字線の中心に当たるように、レーザ照射部の向きを調整
する。調整終了後は、上のセンタリング治具を取り外せ
ば良い。
センサ本体と標準試料とが、それぞれ独立に配置され
て、光軸調整を行なっている点にある。これが、再現性
のある調整をはばむ欠点である。従って、より基準性の
高い、高さセンサ１０側の電子線通過孔１９部を利用し
て、あたかも標準試料を一体化したようなセンタリング
治具を設定する。この治具は、勿論、方向性を持たせて
固定するものであり、レーザの入射光及び反射光用通過
孔は備えている。そして、高さセンサ１０に対する標準
試料の高さｈ、およびセンサの中心軸Ｌ0 をも加味した
十字線マーカをこのセンタリング治具の底面に、予め製
作しておく。調整者は、このセンタリング治具の真上か
らレーザ光の照射位置を肉眼で見ながら、レーザ光が十
字線の中心に当たるように、レーザ照射部の向きを調整
する。調整終了後は、上のセンタリング治具を取り外せ
ば良い。
【０００８】
【作用】高さセンサにおいては、特に、レーザ光の照射
位置調整が重要であり、センタリング治具を用いれば、
熟練者でなくても、比較的簡単に行なえる。しかも、セ
ンタリング治具の導入によりレーザ光の照射位置は再現
性よく調整できるため、その反射光がＰＳＤに至るまで
の光路調整は比較的に容易となるので、信頼性が高ま
る。
位置調整が重要であり、センタリング治具を用いれば、
熟練者でなくても、比較的簡単に行なえる。しかも、セ
ンタリング治具の導入によりレーザ光の照射位置は再現
性よく調整できるため、その反射光がＰＳＤに至るまで
の光路調整は比較的に容易となるので、信頼性が高ま
る。
【０００９】
【実施例】以下に、本発明の内容を詳細に説明する。
【００１０】図１は、本発明における高さセンサ用レー
ザ光の光軸調整方法を示すものである。高さセンサ１０
本体は、従来と同様に、ベース２１及び支持棒２０によ
って固定される。そこで、本発明では、高さセンサ１０
の電子線通過孔１９部に、センタリング治具２２を挿入
し固定する。
ザ光の光軸調整方法を示すものである。高さセンサ１０
本体は、従来と同様に、ベース２１及び支持棒２０によ
って固定される。そこで、本発明では、高さセンサ１０
の電子線通過孔１９部に、センタリング治具２２を挿入
し固定する。
【００１１】この治具には、図２の上面図に示すような
溝２３が、対向方向に二つ設けてある。この溝２３に
は、高さセンサ１０側のピン（図示なし）が合致するよ
うにはまり、センタリング治具２２の方向性を規定して
いる。更に、この治具２２は電子線通過孔１９部に対し
て嵌合で組み込むため、図２の十字線２４の中心位置ｍ
は、図３の電子線３の軸と精度良く一致する。十字線２
４の幅は５〜５０μｍ程度の範囲で良く、この面に照射
されるレーザ光の直径よりは小さい方が望ましい。理由
は、この十字線２４上でレーザ光１１による散乱が強い
場合には、ＰＳＤ１５まで到達しないときもあるからで
ある。十字線２４の形成は、例えば、鏡面状のＳｉウェ
ハ上に塗布した電子線レジストを電子線で描画すること
により、容易に作製できる。なお、この十字線２４があ
る底部Ｂは、センタリング治具２２から必要に応じて取
外し可能である。
溝２３が、対向方向に二つ設けてある。この溝２３に
は、高さセンサ１０側のピン（図示なし）が合致するよ
うにはまり、センタリング治具２２の方向性を規定して
いる。更に、この治具２２は電子線通過孔１９部に対し
て嵌合で組み込むため、図２の十字線２４の中心位置ｍ
は、図３の電子線３の軸と精度良く一致する。十字線２
４の幅は５〜５０μｍ程度の範囲で良く、この面に照射
されるレーザ光の直径よりは小さい方が望ましい。理由
は、この十字線２４上でレーザ光１１による散乱が強い
場合には、ＰＳＤ１５まで到達しないときもあるからで
ある。十字線２４の形成は、例えば、鏡面状のＳｉウェ
ハ上に塗布した電子線レジストを電子線で描画すること
により、容易に作製できる。なお、この十字線２４があ
る底部Ｂは、センタリング治具２２から必要に応じて取
外し可能である。
【００１２】図１におけるセンサのレーザ光学系の光軸
を調整するには、調整者がＩの位置から、センタリング
治具２２の十字線２４の中心位置ｍに注目しておく。レ
ーザ照射部１８から出たレーザ光１１は、貫通孔２５ａ
から入射後、十字線２４の中心位置ｍの近傍に当たる。
この時、調整者は肉眼で、レーザ光１１の照射位置が該
中心位置ｍと合致するように、レーザ照射部１８の向き
を変えていく。レーザ光１１が該中心位置ｍと合致した
場合には、若干、乱反射量が目立つため一目瞭然に確認
できる。もし、確認しにくい場合には、内面をつや消し
処理したセンタリング治具２２に置き換えても良い。最
適位置が求められたら、レーザ照射部１８をしっかり固
定する。当然ながら、図１のように組み込まれた十字線
２４の表面は、高さセンサ１０の下部からｈの寸法にな
るように製作してある。つまり、これは、実際の基準マ
ーク９の０μｍの高さと一致させている。これ以降の光
路調整は、従来通り、ミラーＭ１，Ｍ２，ＰＳＤの手順
で行なっていけばよい。
を調整するには、調整者がＩの位置から、センタリング
治具２２の十字線２４の中心位置ｍに注目しておく。レ
ーザ照射部１８から出たレーザ光１１は、貫通孔２５ａ
から入射後、十字線２４の中心位置ｍの近傍に当たる。
この時、調整者は肉眼で、レーザ光１１の照射位置が該
中心位置ｍと合致するように、レーザ照射部１８の向き
を変えていく。レーザ光１１が該中心位置ｍと合致した
場合には、若干、乱反射量が目立つため一目瞭然に確認
できる。もし、確認しにくい場合には、内面をつや消し
処理したセンタリング治具２２に置き換えても良い。最
適位置が求められたら、レーザ照射部１８をしっかり固
定する。当然ながら、図１のように組み込まれた十字線
２４の表面は、高さセンサ１０の下部からｈの寸法にな
るように製作してある。つまり、これは、実際の基準マ
ーク９の０μｍの高さと一致させている。これ以降の光
路調整は、従来通り、ミラーＭ１，Ｍ２，ＰＳＤの手順
で行なっていけばよい。
【００１３】なお、本発明のセンタリング治具は電子線
通過孔部に落し込む固定方法で説明したが、通過孔部の
下側から固定するような形状の治具を用いても、同様の
効果は得られる。又、中心軸調整用としてのマーカは、
十字線形状である必要はなく、中心度を明確に示せるも
のであれば、他の形状でもよい。
通過孔部に落し込む固定方法で説明したが、通過孔部の
下側から固定するような形状の治具を用いても、同様の
効果は得られる。又、中心軸調整用としてのマーカは、
十字線形状である必要はなく、中心度を明確に示せるも
のであれば、他の形状でもよい。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、高さセンサ用レーザ光
の光軸調整が、簡単なセンタリング治具を用いれば、再
現性よく実施できる。又、本調整では、肉眼による直視
が可能であり、熟練者でなくても容易に行なえるように
なった。これらの調整結果は、試料面におけるレーザ光
の照射位置が描画に供する電子線の到達位置と良く一致
することとなり、ＬＳＩパターンの描画精度向上に貢献
できる。
の光軸調整が、簡単なセンタリング治具を用いれば、再
現性よく実施できる。又、本調整では、肉眼による直視
が可能であり、熟練者でなくても容易に行なえるように
なった。これらの調整結果は、試料面におけるレーザ光
の照射位置が描画に供する電子線の到達位置と良く一致
することとなり、ＬＳＩパターンの描画精度向上に貢献
できる。
【図１】本発明における、試料面の高さセンサ用レーザ
光の光軸調整方法を示した説明図である。
光の光軸調整方法を示した説明図である。
【図２】本発明における、レーザ光の照射位置を調整す
る、センタリング治具の説明図。
る、センタリング治具の説明図。
【図３】電子線描画装置における、高さセンサの機能の
ブロック図。
ブロック図。
【図４】従来の、試料面の高さセンサ用レーザ光の光軸
調整方法を示した説明図。
調整方法を示した説明図。
１０…高さセンサ、１１…レーザ光、１２…位置検出
部、１５…ＰＳＤ、１８…レーザ照射部、１９…電子線
通過孔、２２…センタリング治具、２５ａ，25ｂ…貫通
孔。
部、１５…ＰＳＤ、１８…レーザ照射部、１９…電子線
通過孔、２２…センタリング治具、２５ａ，25ｂ…貫通
孔。
Claims (4)
- 【請求項１】荷電粒子線を所望の形状に整形して試料面
上に収束させ、前記試料面の高さ位置を測定する装置を
も備えてＩＣパターンの形成あるいはパターンの加工を
行なう荷電粒子線装置において、前記高さ測定装置の光
軸調整は前記荷電粒子線の照射位置と一致するようなセ
ンタリング治具をセンサ部に固定して行なうことを特徴
とする高さ測定装置の光軸調整方法。 - 【請求項２】請求項１において、前記高さ測定装置の光
軸調整に用いる前記センタリング治具は、固定方向を示
す溝又は突起を持っている高さ測定装置の光軸調整方
法。 - 【請求項３】請求項１において、前記センタリング治具
は、前記高さ測定装置の荷電粒子線通過孔に固定して用
いる高さ測定装置の光軸調整方法。 - 【請求項４】請求項１において、前記センタリング治具
は、中心軸調整用に用いるマーカの幅が照射するレーザ
光の直径よりも小さい高さ測定装置の光軸調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32025191A JPH05160013A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 高さ測定装置の光軸調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32025191A JPH05160013A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 高さ測定装置の光軸調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05160013A true JPH05160013A (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=18119419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32025191A Pending JPH05160013A (ja) | 1991-12-04 | 1991-12-04 | 高さ測定装置の光軸調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05160013A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160010096A (ko) * | 2014-07-18 | 2016-01-27 | 주식회사 선익시스템 | 증착두께 측정장치 |
| JP2018101723A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | トヨタ自動車株式会社 | 光軸調整用装置 |
-
1991
- 1991-12-04 JP JP32025191A patent/JPH05160013A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160010096A (ko) * | 2014-07-18 | 2016-01-27 | 주식회사 선익시스템 | 증착두께 측정장치 |
| JP2018101723A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | トヨタ自動車株式会社 | 光軸調整用装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105829828B (zh) | 测量激光束到工件中的透入深度的方法及激光加工设备 | |
| JP3718407B2 (ja) | ３次元物体を製造する装置を校正する方法、校正装置、及び３次元物体を製造する装置および方法 | |
| US6559459B2 (en) | Convergent charged particle beam apparatus and inspection method using same | |
| JP3141732B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
| US20210023622A1 (en) | Methods for calibrating a processing machine, and processing machines | |
| GB2183418A (en) | Determining distance to a surface | |
| TWI422867B (zh) | 安排光學模組於量測裝置中之方法及量測裝置 | |
| JPH05160013A (ja) | 高さ測定装置の光軸調整方法 | |
| JPH11250847A (ja) | 収束荷電粒子線装置およびそれを用いた検査方法 | |
| JPS6134936A (ja) | 電子線描画装置における試料面高さ補正方法 | |
| US6370221B2 (en) | Method of setting a position of an object of measurement in layer thickness measurement by X-ray fluorescence | |
| CN118237729A (zh) | 加工***以及加工方法 | |
| TW201643554A (zh) | 在多射束微影中的個別射束圖樣放置驗證 | |
| JPH1058175A (ja) | レーザ加工装置の光軸の較正方法 | |
| JP5358898B2 (ja) | 光学面の形状測定方法および装置および記録媒体 | |
| JP3704952B2 (ja) | 媒質の測定装置および測定方法 | |
| JP4081700B2 (ja) | 電子線分析装置 | |
| JPH04162337A (ja) | 電子線装置 | |
| JP5129535B2 (ja) | フォトマスク高さ測定方法及び高さ測定装置を有する電子線描画装置 | |
| US10438771B2 (en) | Measurement device, calibration method of measurement device, and calibration member | |
| JPH09293477A (ja) | 荷電ビームの調整方法 | |
| JPH063115A (ja) | 試料高さ計測装置 | |
| US20240102855A1 (en) | Device and Method for Determining a Focal Point | |
| US20240009761A1 (en) | Device and Method for Determining a Focal Point | |
| JP2534699B2 (ja) | マスク／レチクル処理装置における光軸方向位置補正方法 |