JPH0515913A - Controller for rolling tension - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent a control system from oscillating to control sheet thickness with high accuracy by setting the response speed of a tension control means to amend the clearance between rolls of an adjacent rolling stand to characteristics mutually different from each other. CONSTITUTION:Plural rolling stands roll a hot rolled steel sheet in series. The tension of a steel sheet to be rolled on the upstream of the rolling stands is measured and a tension control means TC instructs amendment of the clearance between the rolls of the rolling stand and adjustment of the tension to a rolling down control means PC. The response speeds of the adjacent tension control means TC(i-l), TC(i), TC(i+l) of the rolling stands are set to the mutually different characteristics. Change of the rolling down by tension control of the (i)-th stand changes both upstream and downstream tensions. Oscillation of the control system is prevented since response characteristics are deviated and set. Since a system set in characteristics having a quick response speed follows and compensates quick disturbance, too, the sheet thickness can be controlled with high accuracy.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱延工場の仕上工程で
タンデム圧延機により圧延を実施する際のスタンド間圧
延材張力の制御に利用しうる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be utilized for controlling the tension between rolled materials between stands when rolling is performed by a tandem rolling mill in the finishing process of a hot rolling mill.

【０００２】[0002]

【従来の技術】本発明と関連のある従来技術は、例えば
特開昭５６−１３９２１０号，特開昭５７−１９３２１
３号，特開昭５９−１１８２２０号，及び特開昭５９−
１２７９１７号の各公報に開示されている。2. Description of the Related Art A conventional technique related to the present invention is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open Nos.
3, JP-A-59-118220, and JP-A-59-118220.
It is disclosed in each publication of No. 127917.

【０００３】タンデム熱間圧延機においてスタンド間に
おける被圧延材（以下、圧延材という）張力は圧延板厚
に影響を及ぼす。そこで従来は、スタンド間にル−パを
配設しこのル−パによりスタンド間の圧延材張力を一定
に維持するようにしている。図７に、タンデム仕上圧延
機の一例を示す。ル−パは電動機ＩＭで駆動される。ル
−パ高さ制御器Ｈ．Ｃおよびル−パ張力制御器により、
ル−パの高さが設定範囲内にありかつストリップのスタ
ンド間張力が目標値に安定するように電動機ＩＭのトル
ク（電流）が制御される。ストリップの圧延板厚はフィ
−ドフォワ−ド板厚制御機能Ｆ．Ｆと自動板厚制御機能
ＡＧＣで制御される。図７中のＡＧＣのブロックに接続
したＳＲは圧下レオナ−ド、ＳＭは圧下電動機、Ｓ0は
ロ−ルギャップ検出器、ＬＣは圧延荷重計であり、Ｆ１
〜Ｆ７が各スタンドである。各スタンドの圧延ロ−ルは
ロ−ル駆動電動機Ｍで回転駆動され、この速度を主機レ
オナ−ドＳＲが制御する。ＳＡＣはサクセッシブまたは
マスフロ−制御入力を意味する。In a tandem hot rolling mill, the tension of the material to be rolled (hereinafter referred to as rolled material) between the stands affects the rolled plate thickness. Therefore, conventionally, a looper is arranged between the stands, and the tension of the rolled material between the stands is kept constant by this looper. FIG. 7 shows an example of the tandem finish rolling mill. The looper is driven by the electric motor IM. Looper height controller H. C and looper tension controller
The torque (current) of the electric motor IM is controlled so that the height of the looper is within the set range and the tension between the stands of the strip stabilizes at the target value. The rolled plate thickness of the strip is controlled by the feed forward plate thickness control function F. F and automatic thickness control function AGC. In FIG. 7, SR connected to the AGC block is a reduction Leonard, SM is a reduction motor, S0 is a roll gap detector, LC is a rolling load cell, and F1
~ F7 is each stand. The rolling roll of each stand is rotationally driven by a roll driving electric motor M, and this speed is controlled by the main machine Leonard SR. SAC stands for Successive or Mass Flow Control Input.

【０００４】ところでこの種のタンデム圧延機では、ル
−パの応答性（数rad/sec）および圧延速度（Ｍによる
速度）の応答性（十数rad/sec）が、ロ−ル開度を定め
る油圧圧下位置制御装置（SR+SM)の応答性（百数十rad/
sec）に比べて桁違いに低いので、圧下位置（ロ−ル開
度）の変更によるスタンド間張力の変化に対するル−パ
の応答速度が低く、圧下の変化によって生ずる張力変動
を十分抑制できない。張力変動が生じると、ＡＧＣ制御
が抑制されて、薄物の圧延材の圧延時に平担度不良が生
じたり、板厚が目標値からずれる。例えば、検出した板
厚が目標値より大きくなると、ＡＧＣがロ−ル間間隙を
狭くするように圧下を調整するが、それによって圧延材
張力が小さくなり、その結果、板厚を小さくする効果が
弱くなるので、板厚調整の修正量が過少になる。In this type of tandem rolling mill, the responsiveness of the looper (several rad / sec) and the responsiveness of the rolling speed (speed according to M) (tens of rad / sec) determine the roll opening degree. Responsiveness of hydraulic pressure reduction position controller (SR + SM) to be defined
sec), which is an order of magnitude lower than that of (sec), the response speed of the looper to the change in tension between stands due to the change of the rolling position (roll opening) is low, and the tension fluctuation caused by the change in rolling cannot be sufficiently suppressed. When the tension changes, the AGC control is suppressed, a flatness failure occurs when rolling a thin rolled material, and the plate thickness deviates from a target value. For example, when the detected sheet thickness becomes larger than the target value, the AGC adjusts the rolling reduction so as to narrow the gap between the rolls, but this reduces the rolling material tension and, as a result, has the effect of reducing the sheet thickness. Since it becomes weaker, the correction amount of the plate thickness adjustment becomes too small.

【０００５】冷間圧延においては、張力変動を圧下位置
（ロ−ル開度）制御により抑制している。従来のこの一
態様を図８に示し、図９には図８に示す圧延設備の、圧
延制御機能を示す。この例では、＃１スタンドにおいて
圧下による板厚制御を実施し、＃２〜＃４スタンドでは
ロ−ル周速（スタンド間ロ−ル周速比）により板厚を決
定する。スタンド間張力が変化し、許容範囲を外れると
圧下により張力を許容範囲に戻す（圧下による張力制限
制御）。＃４−５スタンド間において速度による張力モ
ニタＡＧＣ（スタンド間ロ−ル周速比制御による板厚制
御）を実施する。図８において、ＡＰＣは圧下位置制御
装置、ＡＴＣは張力制御機能、ＡＳＲがロ−ル周速比制
御による板厚制御機能である。これらの制御機能の内容
を図９に示す。In cold rolling, tension fluctuation is suppressed by controlling the rolling position (roll opening). This conventional one mode is shown in FIG. 8, and FIG. 9 shows the rolling control function of the rolling equipment shown in FIG. In this example, the plate thickness control is performed by the reduction in the # 1 stand, and the plate thickness is determined by the roll peripheral speed (roll peripheral speed ratio between stands) in the # 2 to # 4 stands. When the tension between stands changes and goes out of the allowable range, the tension is returned to the allowable range by rolling down (tension limit control by rolling down). # 4-5 A tension monitor AGC (plate thickness control by roll peripheral speed ratio control between stands) is performed between the stands. In FIG. 8, APC is a rolling position control device, ATC is a tension control function, and ASR is a plate thickness control function by roll peripheral speed ratio control. The contents of these control functions are shown in FIG.

【０００６】スタンド間ロ−ル周速比により板厚を決定
しロ−ル周速比制御により板厚を制御し、圧下によりス
タンド間張力を制御する場合、油圧圧下位置制御装置の
応答性が高いので、ロ−ル周速の変化による張力変化を
十分吸収する速応性が高い張力制御が実現する。When the plate thickness is determined by the roll peripheral speed ratio between the stands, the plate thickness is controlled by the roll peripheral speed ratio control, and the tension between the stands is controlled by the rolling reduction, the responsiveness of the hydraulic pressure reduction position control device is reduced. Since it is high, tension control with high responsiveness that sufficiently absorbs tension changes due to changes in roll peripheral speed is realized.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ｉスタ
ンドの張力制御による圧下の変化は上流側張力（ｉスタ
ンドとｉ−１スタンド間の圧延材張力）と下流側張力
（ｉスタンドとｉ＋１スタンド間の圧延材張力）の両者
に変化をもたらす。これらの変化は、各スタンドにおい
て張力制御による圧下の変化を誘起し、これらが前方張
力および後方張力に変化をもたらす。すなわちｉスタン
ドにおける張力制御による更なる圧下の変化を誘起す
る。このようにしてスタンド間で張力制御が相互作用し
て張力制御が発振してしまう。However, the change in reduction due to the tension control of the i stand is caused by the upstream tension (rolling material tension between the i stand and the i-1 stand) and the downstream tension (between the i stand and the i + 1 stand). Rolling material tension) changes. These changes induce changes in tension-controlled reductions at each stand, which cause changes in anterior and posterior tensions. That is, it induces a further change in the rolling reduction due to the tension control in the i-stand. In this way, the tension control interacts between the stands and the tension control oscillates.

【０００８】冷間圧延の場合には、圧下を操作した場
合、上流側張力は大きく変化するが下流側張力はほとん
ど変化しないので、このような問題は大きくはない。し
かし熱間圧延の場合には、下流側張力の変化が大きく、
上述の問題が起り易い。この種の問題に内在する圧延挙
動を更に詳しく説明する。図10に、熱間タンデム圧延に
おいて、スタンド間ロ−ル周速比により板厚を決定しロ
−ル周速比制御により板厚を制御し圧下によりスタンド
間張力を制御する場合の、圧延スタンドの機能構成を示
す。図10に示す記号及び以下に示す記号は次の通りの事
項を意味する。In the case of cold rolling, when the reduction is operated, the tension on the upstream side changes greatly, but the tension on the downstream side hardly changes, so such a problem is not significant. However, in the case of hot rolling, the change in downstream tension is large,
The above problems are likely to occur. The rolling behavior inherent in this type of problem will be described in more detail. In the hot tandem rolling, Fig. 10 shows the rolling stand when the strip thickness is determined by the roll peripheral speed ratio between the stands, the strip thickness is controlled by the roll peripheral speed ratio control, and the inter-stand tension is controlled by the rolling reduction. The functional configuration of is shown. The symbols shown in FIG. 10 and the symbols shown below mean the following items.

【０００９】 Ｍ：ミル剛性係数 Ｑ：塑性係数 Ｒ：偏
平ロ−ル径 γ：圧下率 ｆ：先進率 Ｈ：入
側板厚 ｈ：出側板厚 Ｖ：入側板速度 ｖ：出
側板速度 Ｔ：上流側張力(後方張力) Ｓ：圧下位置（圧下を下げる方向を−とする） (1) ＃２スタンド上流側張力偏差（張力のゆるみ：ΔＴ
1−）を検出する。M: Mill rigidity coefficient Q: Plasticity coefficient R: Flat roll diameter γ: Rolling ratio f: Advanced ratio H: Inlet plate thickness h: Outlet plate thickness V: Inlet plate speed v: Outlet plate speed T: Upstream Side tension (rear tension) S: Reduction position (the direction of decreasing the reduction is-) (1) # 2 Stand upstream tension deviation (loosening tension: ΔT
1-) is detected.

【００１０】(2) 圧下による張力制御系Ｃ２が圧下位置
を上げる（ΔＳ２＋）。(2) The tension control system C2 for reduction raises the reduction position (ΔS2 +).

【００１１】(3) これにより出側板厚が増す（Δｈ２
＋）。(3) As a result, the outlet plate thickness increases (Δh2
+).

【００１２】(4) 圧下率γが小さくなり、先進率ｆが小
さくなる（Δｆ２−）。冷間圧延ではΔｆ２は略零であ
る。 γ＝（Ｈ−ｈ）／Ｈ， ｆ＝func.(γ，μ，
Ｒ)。(4) The rolling reduction γ is reduced and the advanced rate f is reduced (Δf2-). In cold rolling, Δf2 is almost zero. γ = (H−h) / H, f = func. (γ, μ,
R).

【００１３】(5) ロ−ル周速は一定なので、出側板速度
が減速する（Δｖ２−）。(5) Since the roll peripheral speed is constant, the outlet plate speed is reduced (Δv2-).

【００１４】(6) 上記(3)と(5)により、入側板速が増速
する（ΔＶ２＋）。(6) Due to the above (3) and (5), the entry side plate speed is increased (ΔV2 +).

【００１５】(7) ＃１スタンド出側板速は変化しない
（Δｖ１＝０）。(7) The # 1 stand exit side plate speed does not change (Δv1 = 0).

【００１６】(8) 上記(6)と(7)より、＃２スタンド後方
張力＝＃１スタンド前方張力が張る（ΔＴ1＋）。(8) From the above (6) and (7), # 2 stand rear tension = # 1 stand front tension is increased (ΔT1 +).

【００１７】ここまでで、＃２スタンド後方張力の偏差
が吸収される。冷間圧延の場合には、係数Ｂ２が小さい
ため、圧下による張力制御の効果は下流スタンドには大
きくは波及しない。しかし熱間圧延の場合には次の問題
が大きくなる。Up to this point, the deviation of the # 2 stand rear tension is absorbed. In the case of cold rolling, since the coefficient B2 is small, the effect of tension control by rolling does not significantly affect the downstream stand. However, hot rolling causes the following problems.

【００１８】(9) ＃３スタンド入側板速は変化なし（Δ
Ｖ２＝０）。(9) # 3 Stand-side plate speed remains unchanged (Δ
V2 = 0).

【００１９】(10) 上記(5)および(9)により、＃２スタ
ンド前方張力＝＃３スタンド後方張力が張る（ΔＴ２
＋）。(10) By the above (5) and (9), # 2 stand front tension = # 3 stand rear tension is increased (ΔT2
+).

【００２０】単一スタンドのみに圧下による張力制御系
を導入した場合にはここまでの変化となる。以下、全ス
タンドに圧下による張力制御系を導入している場合につ
いて説明する。When the tension control system by rolling down is introduced to only a single stand, the change is so far. Hereinafter, the case where the tension control system by the rolling is introduced to all the stands will be described.

【００２１】(11) 上記(10)の変化を検出して＃３スタ
ンドの張力制御系（Ｃ３）が圧下位置を下げる（ΔＳ３
−）。(11) Upon detecting the change in (10), the tension control system (C3) of the # 3 stand lowers the reduction position (ΔS3
-).

【００２２】(12) 上記(3)〜(8)と逆に制御され、＃３
スタンド後方張力＝＃２スタンド前方張力が緩む（ΔＴ
２−）。(12) Controlled in the reverse order of (3) to (8) above,
Rear stand tension = # 2 Stand front tension is loose (ΔT
2-).

【００２３】(13) 上記(12)に伴い、＃２スタンド出側
板厚が（更に）増してしまう（Δｈ２＋＋）。(13) With the above (12), the thickness of the # 2 stand outlet side plate is (further) increased (Δh2 ++).

【００２４】(14) 上記(3)〜(8)と同様に、＃２スタン
ド後方張力＝＃１スタンド前方張力が（更に）張る（Δ
Ｔ１＋＋）。 このようにして圧下による張力制御が過制御になり張力
制御系が発振する。この種の発振は、板厚精度の悪化に
つながる。特に、油圧制御による圧下装置の場合、応答
速度が速いので、ロ−ルの偏心に基づく外乱のように変
化の速い外乱に対しても正確な補償制御が可能である
が、その反面、速い補償制御によって複数スタンド間の
制御系が互いに干渉し発振を生じ易い。(14) Similar to (3) to (8) above, # 2 stand rear tension = # 1 stand front tension is (further) increased (Δ
T1 ++). In this way, the tension control due to the reduction is over-controlled and the tension control system oscillates. This type of oscillation leads to deterioration of plate thickness accuracy. In particular, in the case of a hydraulic pressure control system, since the response speed is fast, accurate compensation control is possible even for disturbances that change rapidly such as disturbances due to eccentricity of the roll, but on the other hand, fast compensation is possible. Due to the control, the control systems between the plurality of stands interfere with each other and oscillation is likely to occur.

【００２５】また、スタンド間の圧延材張力を検出し、
それの目標値とのずれに応じて上流側スタンドのロ−ル
回転速度を修正すれば、張力を補正可能であるが、ロ−
ル回転速度の変更制御では、十数rad／秒程度の応答速
度しか得られないので、圧下制御に比べて遅く、ロ−ル
の偏心に基づく外乱のように変化の速い外乱に対して
は、それを補償するように追従できないという難点があ
る。Further, by detecting the rolling material tension between the stands,
The tension can be corrected by correcting the roll rotation speed of the upstream stand according to the deviation from the target value.
In the control of changing the rotational speed of the roll, only a response speed of about a dozen rad / sec can be obtained. There is a drawback that it cannot follow to compensate for it.

【００２６】従って本発明は、圧延スタンド間での圧延
材の張力変化を抑制するとともに、張力制御系間の干渉
による発振を防止し、しかもロ−ルの偏心に基づく外乱
のように変化の速い外乱に対しても高速で追従して、高
精度の板厚制御を実現することを課題とする。Therefore, according to the present invention, the change in the tension of the rolled material between the rolling stands is suppressed, the oscillation due to the interference between the tension control systems is prevented, and the change is rapid like the disturbance due to the eccentricity of the roll. It is an object to realize high-precision plate thickness control by following a disturbance at high speed.

【００２７】[0027]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては、複数の圧延スタンドが連なって
配置された圧延設備の圧延張力制御装置において、圧延
スタンド上流の圧延材張力を検出する張力検出手段，及
び該張力検出手段の検出した上流側張力に応じて前記圧
延スタンドのロ−ル間間隙を修正する張力制御手段；を
複数の圧延スタンドにそれぞれ設置するとともに、互い
に隣接する圧延スタンドに設置された張力制御手段の応
答速度を互いに異なる特性に設定する。In order to solve the above problems, in the present invention, in a rolling tension control device for a rolling mill in which a plurality of rolling stands are arranged in series, the rolling material tension upstream of the rolling stand is detected. And a tension detecting means for adjusting the gap between the rolls of the rolling stand according to the upstream side tension detected by the tension detecting means; The response speeds of the tension control means installed on the stand are set to different characteristics.

【００２８】[0028]

【作用】圧延スタンド上流側の圧延材の張力を検出し、
その検出張力に応じた圧下量の修正を実施する張力制御
系を各々の圧延スタンドに設置する場合には、その張力
制御系の応答特性（周波数特性）が隣接するスタンド間
でよく似通ったものになるために、特定の比較的高い周
波数領域で制御系間に共振が生じ易く、そのために発振
が生じる。[Function] Detects the tension of the rolled material on the upstream side of the rolling stand,
When a tension control system that corrects the amount of reduction according to the detected tension is installed on each rolling stand, the response characteristics (frequency characteristics) of the tension control system should be similar between adjacent stands. Therefore, resonance easily occurs between the control systems in a specific comparatively high frequency region, which causes oscillation.

【００２９】しかし本発明の構成によれば、隣接する圧
延スタンドに配置される複数の張力制御手段の間では、
応答速度が互いに異なるように、故意に応答特性がずら
して設定されているので、上流側の張力制御手段と下流
側の張力制御手段との間に共振が生じにくく、従って制
御系の発振が防止される。応答速度の速い特性に設定さ
れた張力制御系においては、ロ−ルの偏心に基づく外乱
のように変化の速い外乱に対しても確実に追従してそれ
を補償できるので、高精度の板厚制御が期待できる。ま
た制御系間の共振による発振が生じにくいので、板厚制
御性能が悪化する恐れもない。However, according to the configuration of the present invention, between the plurality of tension control means arranged on the adjacent rolling stands,
Since the response characteristics are intentionally shifted so that the response speeds are different from each other, resonance is unlikely to occur between the tension control means on the upstream side and the tension control means on the downstream side, thus preventing oscillation of the control system. To be done. In the tension control system that is set to the characteristic of fast response speed, it is possible to reliably follow and compensate for a fast-changing disturbance such as a disturbance due to the eccentricity of the roll, so it is possible to obtain a highly accurate plate thickness. Control can be expected. Further, since oscillation due to resonance between control systems is unlikely to occur, there is no fear that the plate thickness control performance will deteriorate.

【００３０】[0030]

【実施例】図１に本発明を実施する熱間仕上圧延工程に
おけるタンデム圧延機の構成を一例として示す。図１を
参照すると、この実施例では、７基の圧延スタンド＃
１，＃２，＃３，＃４，＃５，＃６，及び＃７が設けら
れている。各々の圧延スタンドには、圧下位置を調整す
るための油圧圧下機構と、圧延ロ−ルを回転駆動する主
機速度モ−タが設けられている。また、ロ−ル位置、即
ちロ−ル間間隙を検出するロ−ル位置検出器と、圧延荷
重を検出するロ−ドセルが各圧延スタンドに設けられて
いる。更に、隣接する圧延スタンドの間には、圧延材
（鋼材）の張力を検出する張力計がそれぞれ設けられて
いる。EXAMPLE FIG. 1 shows, as an example, the configuration of a tandem rolling mill in the hot finish rolling step for carrying out the present invention. Referring to FIG. 1, in this example, seven rolling stands #
1, # 2, # 3, # 4, # 5, # 6 and # 7 are provided. Each rolling stand is provided with a hydraulic pressure reduction mechanism for adjusting the reduction position and a main machine speed motor for rotationally driving the rolling roll. Further, each rolling stand is provided with a roll position detector for detecting a roll position, that is, a gap between the rolls, and a load cell for detecting a rolling load. Further, a tensiometer for detecting the tension of the rolled material (steel material) is provided between the adjacent rolling stands.

【００３１】図１のタンデム圧延機の制御系の構成を図
２に示す。なお図２には３基の圧延スタンドとそれに対
応する制御系を示してあるが、他の圧延スタンドについ
ても同様の制御が実施される。図２においては、中央の
ｉ番目の圧延スタンドとそれに関連する要素は、その符
号に「(i)」を付して他のスタンドと区別し、それより
１スタンド上流側の圧延スタンドに対応する要素は、符
号に「(i-1)」を付し、１スタンド下流側の圧延スタン
ドに対応する要素は、符号に「(i+1)」を付してある。FIG. 2 shows the configuration of the control system of the tandem rolling mill of FIG. Although FIG. 2 shows three rolling stands and a control system corresponding thereto, similar control is performed for other rolling stands. In FIG. 2, the i-th rolling stand in the center and its related elements are marked with “(i)” to distinguish them from other stands, and correspond to the rolling stand one stand upstream. The elements are denoted by "(i-1)" and the elements corresponding to the rolling stands on the downstream side of one stand are denoted by "(i + 1)".

【００３２】図２を参照して各制御要素について説明す
る。圧下制御装置ＰＣは、圧下位置指令に基づいて油圧
圧下機構を制御し、圧下位置（ロ−ル間間隙）を調整す
る。この実施例では、圧下位置指令信号は張力制御装置
ＴＣから出力される。板厚計算装置ＳＨは、次に示すゲ
−ジメ−タ式に基づいてスタンド出側板厚を計算し、計
算結果を速度補正装置ＶＡ(i)及びＶＡ(i+1)に出力す
る。Each control element will be described with reference to FIG. The reduction control device PC controls the hydraulic pressure reduction mechanism based on the reduction position command to adjust the reduction position (gap between the rolls). In this embodiment, the reduction position command signal is output from the tension control device TC. The plate thickness calculator SH calculates the stand outlet side plate thickness based on the gauge meter formula shown below, and outputs the calculation result to the speed correction devices VA (i) and VA (i + 1).

【００３３】[0033]

【数１】 ｈ＝Ｓ＋（Ｆ／Ｍ）＋Δ ・・・（１） 但し、ｈ：スタンド出側板厚， Ｓ：圧下位置， Ｆ：圧延荷重実績， Ｍ：ミル剛性係数， Δ：各種補正係数 張力制御装置ＴＣは、スタンド間に配置された張力計が
出力するスタンド上流側張力に基づいて、圧下位置指令
信号を出力する。具体的に説明すると、入力される検出
張力と予め設定された張力設定値との差分、即ち張力偏
差を入力とするＰＩ制御系が圧下位置修正量を示す指令
信号を生成する。[Equation 1] h = S + (F / M) + Δ (1) However, h: Stand stand-out plate thickness, S: Rolling position, F: Rolling load performance, M: Mill rigidity coefficient, Δ: Various correction coefficients The tension control device TC outputs a pressure reduction position command signal based on the stand upstream side tension output by the tensiometer arranged between the stands. More specifically, the PI control system, which receives the difference between the input detected tension and the preset tension setting value, that is, the tension deviation, generates a command signal indicating the amount of rolling position correction.

【００３４】図２を参照すると、速度補正装置ＶＡ(i)
には、板厚計算装置ＳＨ(i-1)の出力する前スタンド出
側板厚，及び板厚計算装置ＳＨ(i)の出力する当スタン
ド出側板厚が入力される。速度補正装置ＶＡ(i)の構成
を図５に示す。図５を参照すると、入力される前スタン
ド出側板厚信号は、圧延材の移動速度に応じて時間を遅
らせる遅延要素１１１を通り、該前スタンド出側板厚に
対応する圧延材部分が当スタンド入側に到達するタイミ
ングで、当スタンドの入側板厚として、板厚計算装置Ｓ
Ｈ(i)から出力される当スタンド出側板厚と共に先進率
計算装置１１２に入力される。これらの入力信号に基づ
いて、先進率計算装置１１２においては、次の第(2)式
（又は第(3)式）の計算を実施して、当スタンドにおけ
る先進率ｆを計算する。Referring to FIG. 2, the speed correction device VA (i)
The front stand output side plate thickness output by the plate thickness calculation device SH (i-1) and the present stand output side plate thickness output by the plate thickness calculation device SH (i) are input. The structure of the speed correction device VA (i) is shown in FIG. Referring to FIG. 5, the front stand exit side plate thickness signal passes through a delay element 111 that delays the time according to the moving speed of the rolled material, and the rolled material part corresponding to the front stand exit side plate thickness enters the stand. At the timing of reaching the side, the thickness calculation device S
It is input to the advanced rate calculation device 112 together with the stand outlet side plate thickness output from H (i). Based on these input signals, the advanced rate calculating device 112 calculates the following advanced equation (2) (or equation (3)) to calculate the advanced rate f at this stand.

【００３５】[0035]

【数２】 [Equation 2]

【００３６】但し、ｆ：先進率， μ：摩擦係数，
Ｈ：ロ−ル入側板厚， ｈ：ロ−ル出側板厚， Ｒ：ロ−ル径， γ：圧下率［（Ｈ−ｈ）／Ｈ］， σ_f：前方張力（スタンド下流側張力）， σ_b：後方張力（スタンド上流側張力）， Ｋ_f：変形抵抗 メモリ１１３は、制御開始時の先進率を記憶し保持す
る。従って変換装置１１４には、制御開始時の先進率と
現在の先進率との偏差、すなわち先進率の変化分が入力
される。変換装置１１４は、入力される先進率の変化分
をロ−ル周速度の変化に換算する。その計算結果が、Ｐ
Ｉ制御装置１１５に入力される。ＰＩ制御装置１１５
は、ロ−ル周速度偏差指令を出力する。However, f: advanced rate, μ: friction coefficient,
H: Roll entry side plate thickness, h: Roll exit side plate thickness, R: Roll diameter, γ: Reduction ratio [(H−h) / H], σ _f : Front tension (stand downstream side tension) , Σ _b : rearward tension (stand upstream tension), K _f : deformation resistance memory 113 stores and holds the advanced rate at the start of control. Therefore, the converter 114 receives the deviation between the advanced rate at the start of control and the current advanced rate, that is, the change in the advanced rate. The converter 114 converts the input change in the advanced rate into a change in the roll peripheral speed. The calculation result is P
It is input to the I control device 115. PI controller 115
Outputs a roll peripheral velocity deviation command.

【００３７】一方、図１に示すように７番圧延スタンド
の出側にはＸ線板厚計が設置されている。このＸ線板厚
計の出力する検出板厚信号が、図２に示すＸ線モニタ板
厚制御装置ＸＨＣに入力される。Ｘ線モニタ板厚制御装
置ＸＨＣは、予め設定された出側板厚目標値と入力され
る検出板厚との差分、即ち板厚偏差に基づいて、その偏
差を修正するように各スタンド間のロ−ル周速度比を修
正する。この修正結果に基づいて、各々の圧延スタンド
に対応付けられた７つのロ−ル周速度基準信号を生成
し、それらを主機モ−タ速度制御装置ＭＶＣに対して出
力する。On the other hand, as shown in FIG. 1, an X-ray plate thickness gauge is installed on the exit side of the No. 7 rolling stand. The detection plate thickness signal output from the X-ray plate thickness meter is input to the X-ray monitor plate thickness controller XHC shown in FIG. The X-ray monitor plate thickness control device XHC, based on the difference between the preset output side plate thickness target value and the input detected plate thickness, that is, the plate thickness deviation, corrects the deviation so as to correct the deviation. -Correct the peripheral speed ratio. Based on this correction result, seven roll peripheral speed reference signals associated with each rolling stand are generated and output to the main motor speed controller MVC.

【００３８】主機モ−タ速度制御装置ＭＶＣは、Ｘ線モ
ニタ板厚制御装置ＸＨＣの出力する７つのロ−ル周速度
基準信号と、各速度補正装置ＶＡ(1)〜ＶＡ(7)の出力す
るロ−ル周速度偏差指令とに基づいて、各圧延スタンド
の主機モ−タ速度基準信号を生成する。主機モ−タ速度
制御装置ＭＶＣの構成を図４に示す。図４に示すよう
に、この主機モ−タ速度制御装置ＭＶＣは、各スタンド
間のマスフロ−が変化しないように、サクセシブをとり
ながら、各スタンドの主機モ−タ速度を調整する。７番
スタンドのロ−ル周速度基準とＶＡ(7)からのロ−ル周
速度偏差指令によって生成された７番スタンドのロ−ル
周速度は、ロ−ル周速度からモ−タ回転速度に変換され
て出力される。同様に６番スタンドのロ−ル周速度は、
６番スタンドのロ−ル周速度基準とＶＡ(6)からのロ−
ル周速度偏差指令によって生成されるが、７番スタンド
のロ−ル周速度に応じて修正された後で、モ−タ回転速
度に変換されて出力される。５番スタンドのロ−ル周速
度は、５番スタンドのロ−ル周速度基準とＶＡ(5)から
のロ−ル周速度偏差指令によって生成され、６番スタン
ドのロ−ル周速度に応じて修正される。同様に、４番ス
タンドのロ−ル周速度は、４番スタンドのロ−ル周速度
基準とＶＡ(4)からのロ−ル周速度偏差指令によって生
成され、５番スタンドのロ−ル周速度に応じて修正さ
れ、３番スタンドのロ−ル周速度は、３番スタンドのロ
−ル周速度基準とＶＡ(3)からのロ−ル周速度偏差指令
によって生成され、４番スタンドのロ−ル周速度に応じ
て修正され、２番スタンドのロ−ル周速度は、２番スタ
ンドのロ−ル周速度基準とＶＡ（２）からのロ−ル周速
度偏差指令によって生成され、３番スタンドのロ−ル周
速度に応じて修正され、１番スタンドのロ−ル周速度
は、１番スタンドのロ−ル周速度基準とＶＡ（１）から
のロ−ル周速度偏差指令によって生成され、２番スタン
ドのロ−ル周速度に応じて修正される。The main motor speed control device MVC outputs the seven roll peripheral speed reference signals output from the X-ray monitor plate thickness control device XHC and the speed correction devices VA (1) to VA (7). A master motor speed reference signal for each rolling stand is generated based on the roll peripheral speed deviation command. The structure of the main motor speed control device MVC is shown in FIG. As shown in FIG. 4, this main machine motor speed control device MVC adjusts the main machine motor speed of each stand while taking succession so that the mass flow between the stands does not change. The roll peripheral speed of the 7th stand generated by the roll peripheral speed reference of the 7th stand and the roll peripheral speed deviation command from VA (7) is from the roll peripheral speed to the motor rotation speed. Is converted to and output. Similarly, the roll peripheral speed of the 6th stand is
Roll peripheral speed reference for No. 6 stand and roll from VA (6)
It is generated according to the roll peripheral speed deviation command, but is corrected according to the roll peripheral speed of the No. 7 stand and then converted into the motor rotation speed and output. The roll peripheral speed of the No. 5 stand is generated by the roll peripheral speed reference of the No. 5 stand and the roll peripheral speed deviation command from VA (5), depending on the roll peripheral speed of the No. 6 stand. Will be corrected. Similarly, the roll peripheral speed of the No. 4 stand is generated by the roll peripheral speed reference of the No. 4 stand and the roll peripheral speed deviation command from VA (4). Corrected according to the speed, the roll peripheral speed of the 3rd stand is generated by the roll peripheral speed reference of the 3rd stand and the roll peripheral speed deviation command from VA (3). The roll peripheral velocity of the No. 2 stand is corrected according to the roll peripheral velocity, and is generated by the roll peripheral velocity reference of the No. 2 stand and the roll peripheral velocity deviation command from VA (2). The roll peripheral velocity of the 1st stand is corrected according to the roll peripheral velocity of the 3rd stand, and the roll peripheral velocity reference of the 1st stand and the roll peripheral velocity deviation command from VA (1) It is generated according to the roll peripheral speed of the No. 2 stand.

【００３９】ｉ−１番スタンドとｉ番スタンドの張力制
御系に関する伝達関数を図３に示す。図３を参照してｉ
−１番スタンドの制御系を説明する。張力制御装置ＴＣ
(i-1)においては、設定された張力目標値と検出張力と
の差分を入力し、ＰＩ制御系によって圧下位置修正量を
生成する。Ｋｉa1及びＫｐa1は、それぞれ張力制御装置
ＴＣ(i-1)における積分定数及び比例定数である。圧下
位置制御装置ＰＣ(i-1)においては、圧下位置指令（目
標値）に圧下位置修正量を加算し、検出した圧下位置を
減算した結果を入力としてＰＩ制御系で圧下操作量を生
成し、圧下機構を駆動する。Ｋｉb1及びＫｐb1は、それ
ぞれ圧下制御装置ＰＣ(i-1)における積分定数及び比例
定数である。圧下操作量の変化は、圧下プロセスを経て
圧下位置に変化を及ぼし、その変化が圧下−張力プロセ
スを経て張力に変化を及ぼす。FIG. 3 shows the transfer functions of the tension control systems for the i-1 stand and the i stand. Referring to FIG.
The control system of the -1st stand will be described. Tension control device TC
In (i-1), the difference between the set tension target value and the detected tension is input, and the PI control system generates a reduction position correction amount. Kia1 and Kpa1 are an integration constant and a proportional constant in the tension control device TC (i-1), respectively. In the reduction position controller PC (i-1), the reduction position correction amount is added to the reduction position command (target value), and the detected reduction position is subtracted to generate the reduction operation amount in the PI control system. , Drive the reduction mechanism. Kib1 and Kpb1 are an integration constant and a proportionality constant in the reduction control device PC (i-1), respectively. The change in the reduction operation amount changes the reduction position through the reduction process, and the change changes the tension through the reduction-tension process.

【００４０】ｉ番スタンドの制御系を説明する。張力制
御装置ＴＣ(i)においては、設定された張力目標値と検
出張力との差分を入力し、ＰＩ制御系によって圧下位置
修正量を生成する。Ｋｉa2及びＫｐa2は、それぞれ張力
制御装置ＴＣ(i)における積分定数及び比例定数であ
る。圧下位置制御装置ＰＣ(i)においては、圧下位置指
令（目標値）に圧下位置修正量を加算し、検出した圧下
位置を減算した結果を入力としてＰＩ制御系で圧下操作
量を生成し、圧下機構を駆動する。Ｋｉb2及びＫｐb2
は、それぞれ圧下制御装置ＰＣ(i)における積分定数及
び比例定数である。圧下操作量の変化は、圧下プロセス
を経て圧下位置に変化を及ぼし、その変化が圧下−張力
プロセスを経て張力に変化を及ぼす。The control system of the i-th stand will be described. In the tension control device TC (i), the difference between the set tension target value and the detected tension is input, and the PI control system generates a rolling position correction amount. Kia2 and Kpa2 are an integration constant and a proportional constant in the tension control device TC (i), respectively. In the reduction position control device PC (i), the reduction position correction amount is added to the reduction position command (target value), the detected reduction position is subtracted, and the PI control system is used to generate a reduction operation amount, Drive the mechanism. Kib2 and Kpb2
Are the integral constants and proportional constants in the rolling-down control device PC (i), respectively. The change in the reduction operation amount changes the reduction position through the reduction process, and the change changes the tension through the reduction-tension process.

【００４１】つまり、ＰＩ制御系の定数やプロセスの定
数が異なる他は、ｉ−１番スタンドとｉ番スタンドの張
力制御系は同一の構成になっている。従って、仮にＰＩ
制御系の定数を同一にすると、互いに隣接するスタンド
間の張力制御系は、その制御特性（特に応答速度）が非
常に良く似たものとなるので、隣接する張力制御系間に
共振による干渉が生じ易い。そこでこの実施例において
は、張力制御装置ＴＣ(i-1)の比例定数Ｋｐa1と張力制
御装置ＴＣ(i)の比例定数Ｋｐa2とを互いに大きく異な
る値に設定し、両者の制御ゲインに差を持たせ、張力制
御系の応答速度が隣接するスタンド間で異なるように構
成してある。That is, the tension control systems of the i-1 stand and the i stand are the same except that the constants of the PI control system and the process are different. Therefore, if the PI
If the constants of the control systems are the same, the tension control systems between adjacent stands will have very similar control characteristics (especially the response speed), so that interference due to resonance will occur between the adjacent tension control systems. It is easy to occur. Therefore, in this embodiment, the proportionality constant Kpa1 of the tension control device TC (i-1) and the proportionality constant Kpa2 of the tension control device TC (i) are set to values greatly different from each other, and there is a difference in the control gains of the two. Therefore, the response speed of the tension control system is different between the adjacent stands.

【００４２】一般に圧延プロセスにおいては、圧下位置
指令の変化に対する圧下位置の変化は張力変化に比べて
充分に速い。そこで張力に関する以下の説明では、単純
化するために圧下位置指令と圧下位置とを同一として考
える。この場合の張力目標値から圧延材張力までの伝達
関数Ｇ(S)は、次の第(4)式で表わされる。Generally, in the rolling process, the change of the rolling position with respect to the change of the rolling position command is sufficiently faster than the change of the tension. Therefore, in the following description regarding the tension, the rolling position command and the rolling position are considered to be the same for simplification. The transfer function G (S) from the target tension value to the rolled material tension in this case is expressed by the following equation (4).

【００４３】[0043]

【数３】 Ｇ(S)＝〔Ｋd(Ｋia＋ＫpaＳ)／Ｓ²〕／{１＋〔Ｋd(Ｋia＋ＫpaＳ)／Ｓ²〕} ＝(Ｋd・Ｋia＋Ｋd・Ｋpa・Ｓ)／(Ｓ²＋Ｋd・Ｋpa・Ｓ＋Ｋd・Ｋia)・・・(4) 但し、Ｋd：Ｋd1又はＫd2 Ｋia：Ｋia1又はＫia2 Ｋpa：Ｋpa1又はＫpa2 第(4)式は二次系であり、分母をＳ²＋２ζωoＳ＋ωo²
とおくと、折点周波数ωo及び減衰定数ζは次のように
表わされる。[Equation 3] G (S) = [Kd (Kia + KpaS) / S ² ] / {1+ [Kd (Kia + KpaS) / S ² ]} = (Kd · Kia + Kd · Kpa · S) / (S ² + Kd · Kpa · S + Kd Kia) (4) where Kd: Kd1 or Kd2 Kia: Kia1 or Kia2 Kpa: Kpa1 or Kpa2 Equation (4) is a quadratic system, and the denominator is S ² + 2ζωoS + ωo ²
In other words, the corner frequency ωo and the damping constant ζ are expressed as follows.

【００４４】ωo＝（Ｋd・Ｋia）の平方根， ζ＝Ｋd・Ｋpa／２ωo＝(Ｋpa／２)・〔(Ｋd／Ｋia)の平
方根〕 この実施例では、次の(1)〜(4)の条件を満たすように比
例定数Ｋpa及び積分定数Ｋiaを定めている。Ωo = square root of (Kd · Kia), ζ = Kd · Kpa / 2 ωo = (Kpa / 2) · [square root of (Kd / Kia)] In this embodiment, the following (1) to (4) The proportional constant Kpa and the integral constant Kia are determined so as to satisfy the condition of.

【００４５】(1) 張力制御系に対する主要な外乱（スキ
ッドマ−クなど）を抑制するために、折点周波数ωoを
その外乱の周波数よりも大きくする。例えばωo＞10 [r
ad/sec]とする。(1) In order to suppress a major disturbance (skid mark, etc.) to the tension control system, the break point frequency ωo is made higher than the frequency of the disturbance. For example, ωo> 10 [r
ad / sec].

【００４６】(2) ω＝ωoにおける共振ピ−クを防ぐた
めに、ζ＞0.7 とする。(2) In order to prevent the resonance peak at ω = ωo, ζ> 0.7.

【００４７】(3) ω＜ωoにおけるゲインの増大を防ぐ
ために、前記第(4)式の分子の折点周波数ω1に関して
（ω1＝Ｋd／Ｋpa）、ω1＞ωo とする。(3) In order to prevent the gain from increasing in the case of ω <ωo, the break frequency ω1 of the numerator of the equation (4) is set to (ω1 = Kd / Kpa) and ω1> ωo.

【００４８】(4) 隣接するスタンドの張力制御系が互い
に共振しないように、ｉ−１番スタンドの折点周波数ω
o(i-1)とｉ番スタンドの折点周波数ωo(i)とが２〜５倍
異なるように設定する。ｉ番スタンドの折点周波数ωo
(i)とｉ＋１番スタンドの折点周波数ωo(i+1)との関係
についても同様である。(4) In order to prevent the tension control systems of the adjacent stands from resonating with each other, the break frequency ω of the i-1 stand is
It is set so that o (i-1) and the corner frequency ωo (i) of the i-th stand differ by 2 to 5 times. Break frequency of stand i ωo
The same applies to the relationship between (i) and the corner frequency ωo (i + 1) of the i + 1th stand.

【００４９】実際にはこの実施例では、ｉ−１番スタン
ドを＃２スタンド、ｉ番スタンドを＃３スタンドと想定
した場合に、前者の応答特性Ｃ(i-1)、および後者の応
答特性Ｃ(i)を図６に示すように設定してある。つま
り、３番スタンドの張力制御系は非常に変化の速い外乱
に対しても充分に高い制御ゲインで応答してそれを抑制
するように動作するが、２番スタンドの張力制御系は３
番スタンドの張力制御系に比べると、変化の速い外乱に
は応答しないように制御ゲインが意識的に抑えられてい
る。いずれにしても、２番スタンドと３番スタンドの張
力制御系は図６に示されるように応答周波数特性が大き
く異なるので、両者の相互干渉によって制御に発振が生
じる可能性は小さい。他のスタンド間の張力制御系につ
いても同様である。In this embodiment, the response characteristic C (i-1) of the former and the response characteristic of the latter are actually assumed when the i-1 stand is the # 2 stand and the i-th stand is the # 3 stand. C (i) is set as shown in FIG. That is, the tension control system of the No. 3 stand operates by responding to a disturbance that changes very rapidly with a sufficiently high control gain and suppressing it, while the tension control system of the No. 2 stand has a 3
Compared to the tension control system of the No. stand, the control gain is consciously suppressed so as not to respond to a fast-changing disturbance. In any case, since the response frequency characteristics of the tension control systems of the 2nd stand and the 3rd stand are greatly different as shown in FIG. The same applies to the tension control system between the other stands.

【００５０】上記折点周波数ωo(i-1)とωo(i)とが２〜
５倍異なるように設定する理由について補足説明する。
一般的に制御ル−プＡのゲインとＢのゲインとが２０ｄ
Ｂ以上異なれば、例えばＡのゲインが０ｄＢでＢのゲイ
ンが−２０ｄＢと仮定すると、高い方（Ａ）からみて低
い方（Ｂ）は、ル−プが切れているように見える。い
ま、図６に示すようにＣ(i-1)とＣ(i)が折れ点周波数付
近で少なくとも２０dB／dec で降下すると（この実施例
では２次系で近似しているため４０dB／dec で降下して
いるところもあるが、１次系の場合、２０dB／dec で降
下するため）、ωo(i)におけるＣ(i-1)とＣ(i)のゲイン
の差ＤＧは、およそ ＤＧ＝２０ log₁₀(ωo(i)−ωo(i-1))［ｄＢ］ であると考えられる。従って、ＤＧ≧２０、つまり ωo(i)−ωo(i-1)≧１０ ωo(i)≧ωo(i-1)＋１０ であるが、張力制御系においては、ωo(i-1)≧１０［ra
d／sec］であるので、少なくとも、ωo(i)≧２×ωo(i-
1)の条件が必要である。しかし、実現する上でのコスト
を考慮すると、ωo(i)≦５×ωo(i-1)の条件が必要にな
る。実際、図１０の構成において、第２スタンドと第１
スタンド及び第３スタンドの制御ゲインが２０ｄＢ異な
ると、ωo(2)にて、第２スタンドからみて、第１スタン
ド及び第３スタンドの張力制御系が切れているのと同じ
になる。The breakpoint frequencies ωo (i-1) and ωo (i) are 2 to
A supplementary explanation will be given as to the reason why the settings are made so that they are five times different.
Generally, the gain of the control loop A and the gain of B are 20d.
If the difference is B or more, for example, assuming that the gain of A is 0 dB and the gain of B is −20 dB, the lower one (B) from the higher one (A) appears to be cut off. Now, as shown in FIG. 6, when C (i-1) and C (i) drop at at least 20 dB / dec near the break point frequency (in this embodiment, since they are approximated by a secondary system, 40 (dB / dec) Although there is a drop in some places, in the case of the first-order system, it drops at 20 dB / dec), so the difference DG between the gains of C (i-1) and C (i) at ωo (i) is approximately DG = It is considered to be 20 log ₁₀ (ωo (i) −ωo (i-1)) [dB]. Therefore, DG ≧ 20, that is, ωo (i) −ωo (i-1) ≧ 10 ωo (i) ≧ ωo (i-1) +10, but in the tension control system, ωo (i-1) ≧ 10 [Ra
d / sec], so at least ωo (i) ≧ 2 × ωo (i-
The condition of 1) is necessary. However, considering the cost for implementation, the condition of ωo (i) ≦ 5 × ωo (i-1) is required. In fact, in the configuration of FIG. 10, the second stand and the first stand
When the control gains of the stand and the third stand are different by 20 dB, it is the same as the tension control system of the first stand and the third stand being cut off when viewed from the second stand at ωo (2).

【００５１】[0051]

【発明の効果】以上のとおり本発明によれば、隣接する
圧延スタンドに配置される複数の張力制御手段の間で
は、応答速度が互いに異なるように、故意に応答特性が
ずらして設定されているので、制御系の発振が防止され
る。応答速度が速い特性に設定された張力制御系におい
ては、ロ−ルの偏心に基づく外乱のように変化の速い外
乱に対しても確実に追従してそれを補償できるので、高
精度の板厚制御が期待できる。As described above, according to the present invention, the response characteristics are intentionally set to be different from each other so that the response speeds of the plurality of tension control means arranged on the adjacent rolling stands are different from each other. Therefore, the oscillation of the control system is prevented. In a tension control system with a fast response speed, it is possible to reliably follow and compensate for fast-changing disturbances such as disturbances due to eccentricity of the roll, so it is possible to achieve accurate plate thickness. Control can be expected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 タンデム圧延機の構成の概要を示す正面図で
ある。FIG. 1 is a front view showing the outline of the configuration of a tandem rolling mill.

【図２】 図１の一部分の制御系の構成を示すブロック
図である。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a control system of a part of FIG.

【図３】 隣接するスタンドの２つの張力制御系の伝達
関数を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing transfer functions of two tension control systems of adjacent stands.

【図４】 図２のＭＶＣの構成を示すブロック図であ
る。FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of the MVC of FIG.

【図５】 図２のＶＡの構成を示すブロック図である。5 is a block diagram showing a configuration of VA in FIG.

【図６】 図３に示す２つの張力制御系の応答周波数特
性を示すグラフである。6 is a graph showing response frequency characteristics of the two tension control systems shown in FIG.

【図７】 タンデム圧延システムの従来例を示すブロッ
ク図である。FIG. 7 is a block diagram showing a conventional example of a tandem rolling system.

【図８】 張力制御を実施する従来例を示すブロック図
である。FIG. 8 is a block diagram showing a conventional example for performing tension control.

【図９】 図６の装置の制御の内容を示すブロック図で
ある。9 is a block diagram showing the contents of control of the apparatus of FIG.

【図１０】 ３スタンドの張力制御系の構成を示すブロ
ック図である。FIG. 10 is a block diagram showing the configuration of a three-stand tension control system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１１１：遅延要素 １１２：先進率
計算装置 １１３：メモリ １１４：変換装
置 １１５：ＰＩ制御装置 ＴＣ(i),ＴＣ(i-1),ＴＣ(i+1)：張力制御装置 ＰＣ(i),ＰＣ(i-1),ＰＣ(i+1)：圧下制御装置 ＳＨ(i),ＳＨ(i-1),ＳＨ(i+1)：板厚計算装置 ＶＡ(i),ＶＡ(i-1),ＶＡ(i+1)：速度補正装置 ＸＨＣ：Ｘ線モニタ板厚制御装置 ＭＶＣ：主機モ−タ速度制御装置111: Delay element 112: Advanced rate calculation device 113: Memory 114: Conversion device 115: PI control device TC (i), TC (i-1), TC (i + 1): Tension control device PC (i), PC (i-1), PC (i + 1): Rolling down control device SH (i), SH (i-1), SH (i + 1): Plate thickness calculation device VA (i), VA (i-1) , VA (i + 1): Speed correction device XHC: X-ray monitor plate thickness control device MVC: Main motor speed control device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塩 谷 政 典 富津市新富20−１ 新日本製鐵株式会社中 央研究本部内 (72)発明者 福 井 信 夫 君津市君津１番地 新日本製鐵株式会社君 津製鐵所内 (72)発明者 中 村 英 都 君津市君津１番地 新日本製鐵株式会社君 津製鐵所内 (72)発明者 原 川 哲 美 君津市君津１番地 新日本製鐵株式会社君 津製鐵所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Masanori Shiotani 20-1 Shintomi, Futtsu City Central Research Division, Nippon Steel (72) Inventor Nobuo Fukui 1 Kimitsu, Kimitsu Inside the Kimitsu Steel Works, Ltd. (72) Inventor Nakamura Ei, Kimitsu No. 1 Kimitsu City, Miyazu Shin Nippon Steel Co., Ltd. Inside Kimitsu Works (72) Inventor Satomi Harakawa Kimitsu No. 1 Kimitsu City New Japan Kimitsu Steel Works Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項１】 複数の圧延スタンドが連なって配置され
た圧延設備の圧延張力制御装置において、 圧延スタンド上流の被圧延材張力を検出する張力検出手
段，及び該張力検出手段の検出した上流側張力に応じて
前記圧延スタンドのロ−ル間間隙を修正する張力制御手
段；を複数の圧延スタンドにそれぞれ設置するととも
に、互いに隣接する圧延スタンドに設置された張力制御
手段の応答速度を互いに異なる特性に設定したことを特
徴とする、圧延張力制御装置。Claim: What is claimed is: 1. A rolling tension control device for a rolling mill in which a plurality of rolling stands are arranged in series, and a tension detecting means for detecting tension of a material to be rolled upstream of the rolling stand, and the tension detecting means. The tension control means for correcting the gap between the rolls of the rolling stand according to the detected upstream side tension of the rolling stand; and the response of the tension control means installed in the rolling stands adjacent to each other. A rolling tension control device characterized in that speeds are set to different characteristics.