JPH05150443A

JPH05150443A - 異物検査装置

Info

Publication number: JPH05150443A
Application number: JP33590291A
Authority: JP
Inventors: Tsuneyuki Hagiwara; 恒幸萩原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1991-11-27
Filing date: 1991-11-27
Publication date: 1993-06-18

Abstract

(57)【要約】【目的】ペリクル膜やペリクルフレームの種類に応じ
て最適の検査領域を効率良く設定することができ、フレ
ーム迷光の影響を受けずに高精度の検査を行うことので
きる異物検査装置を提供する。【構成】検査光はレチクル１表面をｘ方向に走査し、
これと共にレチクル１は搬送アーム５によってｙ方向に
移動される。この時レチクル１から発生した光は複数の
受光器Ｒ，Ｆで受光されて光電変換される。光電変換信
号は信号処理部１０ａ，１０ｂに送られ、この信号に基
づいて異物検査が行われる。検査領域は、フレーム迷光
が受光される位置までレチクル１を移動させて光走査を
行うことにより、判定部１３でペリクル膜３とフレーム
２との少なくとも一方の光学特性に応じた領域が受光器
毎に設定される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子を製
造する際に用いられる、枠部材で支持された保護膜（以
下ペリクル膜と言う）表面とペリクル膜を備えたフォト
マスク表面との少なくとも一方の異物検査に好適な装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図７は、従来のこの種の異物検査装置の
構成を模式的に示した斜視図である。図において、被検
査レチクル１０１は搬送アーム１０５上に固定されてお
り、パターン形成面にはペリクルフレーム２が載置され
ている。ペリクルフレーム１０２にはレチクルのパター
ン形成面を覆うようにペリクル膜１０３が張設されてい
る。光源１０７から射出された検査光は走査手段として
の振動ミラー１０８を介してレチクル１０１に斜めに入
射する。検査光は、ミラー１０８の振動によってレチク
ル１０１表面をｘ方向に所定範囲だけ走査する。

【０００３】レチクル１０１の検査領域は、従来のこの
種の検査装置では一定であり、この一定の領域内を全面
に渡って走査するためにｘ方向の走査と同時に搬送アー
ム１０５によりレチクル１０１がｙ方向に移動される。
このときレチクル１０１のパターン形成面からは発生し
た散乱、回折光は受光器１０４に受光されて光電変換さ
れ、この受光器１０４の出力信号に基づいて異物の検出
が行われる。

【０００４】次に、従来の異物検査装置における検査領
域について図８を参照して説明する。図８は、ペリクル
フレーム１０２によってペリクル膜１０３が装着された
被検査レチクル１０１上の検査開始位置１０６ａ（検査
光がペリクルフレーム１０２にけられずにレチクル１０
１に入射し始める点）から順次レチクル１０１を搬送ア
ーム（不図示）によってｙ方向に移動させることにより
検査位置を紙面左側に移動させ（ペリクルフレーム１０
２の左側の内壁１０２ａに接近させ）、検査位置１０６
ｂを検査している様子を示す。図では、光源（図示せ
ず）からレチクル１０１に入射する検査光（入射光）を
実線で、レチクル１０１表面から受光器１０４に向かう
検査光（受光光）を一点鎖線で示している。また、検査
開始位置１０６ａでの入射光の方向をＩ₁ 、検査位置１
０６ｂでの入射光の方向をＩ₂ で示す。

【０００５】ここで、入射角α（レチクル１０１の法線
と入射光のなす角）や受光角β（レチクル１０１の法線
と受光光のなす角）を大きくすると、一般にどのような
ペリクル膜１０３も、透過率は上昇下降を繰り返しなが
ら低下する。入射角α、受光角βの少なくとも片方にお
けるペリクル膜１０３の透過率が１００％でない場合、
ペリクル膜１０３とレチクル１０１表面の間で入射光と
受光光は反射を繰り返す。

【０００６】これらの入射光と受光光の光路の交点１０
９ａ，１０９ｂにペリクルフレーム１０２の内壁１０２
ａがある場合を考えると、フレーム内壁１０２ａは入射
光Ｉ₂ により間接的に照明されることになり、散乱光を
発生する。そして、この内壁１０２ａからの散乱光は、
受光光の光路上に存在するので、受光器１０４に迷光と
して受光される（以下フレーム迷光と言う）。

【０００７】従来の異物検査装置では、このフレーム迷
光量を少なくするために入射角αと受光角βを小さく設
定し、概ねどのペリクルでも迷光量が検査領域Ａ（図
８）内で無視できる程度に少なくなる構成としていた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した入射
角α，受光角βと異物検査能力とは、入射角αと受光角
βが大きくなる程異物からの散乱光強度が高くなって異
物検査能力が向上するという関係にあり、従来の異物検
査装置では検査能力が犠牲になっていた。即ち、従来の
装置においては、ペリクル膜やペリクル膜付きのフォト
マスクを検査対象とする場合には、検査光の照射手段と
受光手段の配置が著しく制約されることになり、検査精
度を向上させることができなかった。

【０００９】又、従来においては、常に検査領域を一定
としているので、比較的散乱光を発生しにくいペリクル
膜やペリクルフレームを用いている場合でも、フレーム
内壁に近い領域については検査されないという問題もあ
った。

【００１０】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、ペリクル膜表面とペリクル膜を装着したフォトマ
スク表面との少なくとも一方を検査対象とするにあたっ
て、ペリクル膜やペリクルフレームの種類に応じて最適
の検査領域を複数の受光手段毎に独立して効率よく設定
することができ、フレーム迷光の影響を受けずに、高精
度の異物検査を行うことのできる装置を提供することを
目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記問題点の解決の為に
本発明では、枠部材で支持された保護膜表面と該保護膜
との少なくとも一方を備えたフォトマスク表面を被検査
面とし、前記被検査面に光ビームを照射する照射手段
と、前記被検査面からの光を受光して光電変換する複数
の受光手段と、該受光手段の検出信号に基づいて前記被
検査面上の異物を検出する検出手段を有する異物検出装
置において、前記枠部材と保護膜との少なくとも一方の
光学的性質に応じて、前記被検査面上における検査領域
を前記複数の受光手段毎に独立して、変更可能に設定す
る検査領域設定手段を設けることとした。本発明におけ
る検査領域設定手段の具体的な構成としては、前記被検
査面に前記光ビームを照射した際に前記受光手段で受光
される前記枠部材からの散乱光の光量に対応する量を前
記複数の受光手段毎に測定する測定手段を有し、該測定
手段の測定結果に基づいて前記検査領域を設定するもの
がある。又、前記検査領域設定手段に、前記測定手段に
よって測定された情報を前記保護膜と枠部材との少なく
とも一方の種類毎に記憶する記憶手段を設け、該記憶手
段に記憶された情報に基づいて前記検査領域を設定する
構成としても良い。

【００１２】

【作用】図６を参照して本発明の作用を説明する。図６
(A) において、ペリクル膜３はレチクル１のパターン形
成面上に載置されたペリクルフレーム２によって保持さ
れている。検査光Ｉはレチクル１上の検査点６を斜め方
向から照射し、レチクル１表面で反射されて受光器４に
入射する。図では、光源（図示せず）からレチクル１に
入射する検査光（入射光）を実線で、レチクル１表面か
ら受光器４に向かう検査光（受光光）を一点鎖線で示し
ている。また、簡単のため入射光、受光光とも主光線の
みを示す。

【００１３】次に、レチクル１上の検査点を移動するた
め、レチクル１を図中ｙ方向に移動すると、ペリクルフ
レーム２の内壁２ａが相対的に検査点に近づく。この様
子は図６(B) に示されており、検査点は６’に移る。図
６(B) において検査光Ｉ’はペリクル膜３とレチクル１
表面との間で複数回反射を繰り返してフレーム内壁２ａ
の点ｉを照明する。また内壁の点ｄは、受光器４とレチ
クルのなす角γで受光光軸の複数回折り返した光軸上に
ある。またこの光軸上に発光点があると、受光器４に入
射する。

【００１４】この際、入射光が複数回反射を繰り返して
進行する光路と、受光光軸を複数回折り返した光軸の交
点ア、イ、ウ、エが生じる。レチクル１が図に示すｙ方
向にさらに移動すると交点エから順次交点アの位置ま
で、フレーム内壁２ａが各交点位置を通過する。これら
の各交点位置にフレーム内壁２ａが存在するとき、フレ
ーム内壁２ａは入射光により照明され、散乱光を生じ
る。この散乱光は、受光光軸を複数回折り返した光軸上
にあるので、受光器４に入射する。

【００１５】次に、図６(C) は照射光学系と受光光学系
の各光束の立体角を考慮して描いた図６(B) に対応する
図である。図では、入射光と受光光の各々について最も
外側の光線の光路を示しており、ア’、イ’、ウ’、
エ’、オ’で示された領域にフレーム内壁２ａがあると
き、内壁２ａが検査光で照明されて、内壁２ａからの散
乱光が受光器４に入射する。。

【００１６】このときのフレーム迷光の入射光量は、１．内壁２ａの面が粗いほど、２．ペリクル膜３の入射角（図８の角α）での反射率が
大きいほど、３．ペリクル膜３の受光角度（図８の角β）での反射率
が大きいほど、４．入射光の反射回数が少ないほど、５．受光光の反射回数が少ないほど、６．受光系の光軸と入射面のなす角が小さい程、大きくなる。

【００１７】従って、図６(B) においてエ→アの順にフ
レーム内壁２ａからの散乱光の入射光量は大きくなり、
検査動作に与える影響が大きくなる。本発明は、フレー
ム内壁からの散乱光量が上記１〜３、つまりペリクル膜
とペリクルフレームとの少なくとも一方の状態に依存す
ることに注目してなされたものであり、従来ペリクル膜
やペリクルフレームの種類によらず一定であった検査領
域を、ペリクル膜やペリクルフレームの光学的性質に応
じて、受光手段毎に変更可能に設定する構成を取ってい
る。

【００１８】即ち、本発明においては、ペリクル膜やペ
リクルフレームの種類ごとに、検査点とフレーム内壁が
どれだけ接近したら検査上支障をきたす量の迷光が受光
器に入射するかをあらかじめ測定しておき、この情報に
基づいてペリクル膜やペリクルフレームの種類に応じた
最適の検査領域（フレーム迷光の影響を受けずに必要な
検査範囲をなるべく多くカバーできる領域）が設定され
る。

【００１９】又、ペリクル膜やペリクルフレームがフレ
ーム迷光を発生しにくいものである場合、例えば、ペリ
クルフレームに低反射処理（内壁の平滑化を行ったり、
乱反射防止部材を設けたりする処理であり、特願平３−
５６９３５号に詳しい。）が施されている場合には、必
要な検査範囲全体をカバーできる任意の検査領域が設定
される。

【００２０】ペリクル膜やペリクルフレームがフレーム
迷光を発生しやすいものである場合（ペリクル膜の検査
光に対する透過率が低く、フレームの反射率が高い場
合）、ある一つの受光手段については検査可能領域が必
要な検査範囲より狭くなることも考えられるが、本発明
の異物検査装置は複数の受光手段を有し、各受光手段毎
に検査領域が設定されるので、各受光手段の検査可能領
域を組み合わせることによって、必要な検査範囲を常に
カバーすることができる。

【００２１】実際の異物の散乱特性が未知であることを
考慮すると、被検査面を異なる方向から臨む複数の受光
手段を用いて異物検査を行うことは重要であるが、本発
明によれば、個々の受光手段についてフレーム迷光の影
響を受けずに必要な検査範囲をなるべく多くカバーでき
る検査領域が設定されるので、各検査領域の重複部分を
最大とすることができ、検査精度を向上させることが可
能である。

【００２２】

【実施例】次に、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１は本発明の第１の実施例による異物検査装置
の光学系の構成を示す斜視図であり、図２は第１実施例
による異物検査装置全体の模式的な構成図である。図に
おいて、レチクル１上にはパターン形成領域を囲むよう
にペリクルフレーム２が載置されており、ペリクルフレ
ーム２にはペリクル膜３が張設されている。

【００２３】光源７から射出された検査光（入射光）Ｉ
は走査手段としての振動ミラー８を介してレチクル１に
斜めに入射する。この入射角は、検査光Ｉがペリクルフ
レーム２にけられないように８０°から１０°の間とす
ることが好ましい。検査光Ｉは、振動ミラーによってレ
チクル１上をｘ方向の所定範囲内を走査する。この際、
ｙ方向のフレーム内壁については通常フレーム迷光は問
題とならないので、ｘ方向の走査範囲はあらかじめ一定
の範囲が定められている。

【００２４】上記のペリクル膜３付のレチクル１は搬送
アーム５上に固定されており、搬送アーム５は駆動部１
５によってｙ方向に移動可能にかつｘｙ平面内で回転可
能に構成されている。搬送アーム５の移動量は例えばリ
ニアエンコーダーのような測長器によって測定されるよ
うになっており、後述する判定部１３からの信号に基づ
いて搬送制御部１４よって所定の値に制御される。

【００２５】振動ミラーによるｘ方向の走査と搬送アー
ム５のｙ方向の移動により、あらかじめ設定された検査
領域（後述）内全面が検査光によってむらなく走査され
る。このとき被検査レチクル１から発生した光は、受光
器ＦＬ，ＦＲ及びＲＲ，ＲＬで受光されてここで光電変
換される。本実施例においては、受光器ＲＲ，ＲＬは検
査光の入射面とほぼ平行な方向に光軸をもち、検査光Ｉ
の入射方向からレチクル１を臨むように配置されてお
り、受光器ＦＬ，ＦＲは検査光の入射面とほぼ直角な方
向に光軸をもち、検査光Ｉによる走査方向（ｘ方向）か
らレチクル１を臨むように配置されている。なお、図２
中のＲ及びＦは、それぞれ図１のＦＬ又はＦＲ、ＲＲ又
はＲＬに対応している。

【００２６】これらの受光器Ｆ及びＲからの光電変換信
号はそれぞれ信号処理部１０ａ，信号処理部１０ｂに送
られ、この信号に基づいて異物の検出が行われる。異物
を検出するための信号処理は特に限定されるものではな
いが、例えば、パターンからの散乱、回折光は比較的指
向性が高く、異物からの散乱、回折光は比較的無指向性
であることを利用して異物と正規のパターンとの弁別を
行うことができる。

【００２７】又、本実施例のようにペリクル膜３越しの
表面検査を行う場合には、ペリクル膜３が介在すること
による光電変換信号の低下を補うためにペリクル膜３の
透過率に応じて受光器Ｆ及びＲの感度補正を行うことが
望ましい。本実施例では自動的に全検査を行えるよう
に、ペリクル透過率測定部１２、感度補正部１１からの
命令により、信号処理部１０ａ，１０ｂを制御できる構
成となっている。ペリクル膜３の透過率は、検査光Ｉと
同じ波長の光を実際の検査時の入射角及び受光角でペリ
クル膜３にそれぞれ照射して測定することが好ましい。

【００２８】次に、本実施例における検査領域設定のた
めの構成と動作について説明する。本実施例では、実際
の異物検査時と同等の受光感度条件で常に同じ閾値で検
査可能領域を設定するために、検査光Ｉの入射面とほぼ
平行な方向に光軸を持つ受光器Ｒを用いて受光器Ｒの検
査可能領域を測定する構成としている。このとき、受光
感度は、ペリクル膜の透過率に応じた損失分を前述した
透過率測定部１２、感度補正部１１からの命令に従って
補正しておく。又、本実施例では、従来の装置に比べて
搬送アーム５のｙ方向ストロークを十分大きく取ってあ
る。これは、検査可能領域を測定する際や低反射処理が
施されたフレームを用いたレチクルの異物検査を行う場
合に検査点をフレームに接近させる必要があるからであ
る。

【００２９】さて、受光器Ｒの検査可能領域を測定する
にあたっては、先ず、所望の検査領域内でペリクルフレ
ーム２からの散乱光を受光できる測定位置まで駆動部１
５、搬送アーム５によりレチクル１を移動させる。図２
はこの状態を示している。次に、振動ミラー８により入
射光Ｉでレチクル１上をｘ方向に走査すると共に、レチ
クル１からの反射光によってフレーム内壁２ａを走査す
る。このとき、フレーム内壁２ａからの散乱光は受光器
Ｒで受光されて光電変換され、受光器Ｒからのの光電変
換信号は、信号処理部１０を経て判定部１３に入力され
る。

【００３０】この判定部１３においては、フレーム迷光
量についてあらかじめ閾値が設定されており（実際の異
物検査に支障をきたすかどうかを考慮して設定される）
受光器Ｒからの信号がこの閾値を越えるか否かが判断さ
れる。閾値以下である場合には、判定部１３は搬送動作
制御部１４に信号を送って駆動部１５により搬送アーム
５をｙ方向に移動させて検査点を更にフレーム内壁に接
近させる。そして、その位置におけるフレーム迷光量が
閾値を越えるか否かが判定部１３で判断される。上記の
動作を繰り返すことによりフレーム迷光量が閾値を越え
るときの検査点の位置（ｙ方向の限界位置）が測定さ
れ、これにより検査可能領域が決定される。

【００３１】あるいは、ペリクルフレーム２からの散乱
光を受光できる測定位置（図２の状態）でレチクル１か
らの反射光によってフレーム内壁２ａを走査した際の受
光器Ｒからの信号によってフレーム２の種類を判断し、
あらかじめ設定されている幾つかの検査領域のなかから
適する検査領域を選択するようにしても良い。

【００３２】又、検査点をフレーム内壁２ａに接近させ
てもフレーム迷光量が閾値を越えない場合、つまり判定
部１３においてフレーム２に適切な低反射処理が施され
ている（もしくはペリクル膜３の検査光に対する透過率
がほぼ１００％）と判断された場合には、検査光Ｉがフ
レーム２にけられない範囲で任意の検査領域が設定され
る。

【００３３】次に、図４及び図５を参照して異物検査動
作について説明する。図４中のラインＳ₁ （前述した図
８の検査開始点１０６ａをレチクルの法線方向から見た
ラインに対応）、つまり、入射光Ｉがペリクルフレーム
２に遮られることなく被検査面上に入射しはじめる位置
が検査開始位置となる。同図はラインＳ₁ 上に入射ビー
ムがｘ方向に光走査されている様子を示している。異物
検査は、この状態から開始され、被検査レチクル１は図
４のｙ方向に搬送される。ｙ方向の移動量は、判定部１
３からの受光器ＲＬ，ＲＲの検査可能領域に関する情報
に基づいて、駆動動作制御部１４によって制御され、受
光器ＲＬ，ＲＲ及びＦＲ，ＦＬによって検査領域（Ｆ₁
＋Ｒ₁ ）が検査される。また受光器ＲＲ，ＲＬによって
検査不能である検査領域Ｆ₁ は受光器ＦＬ，ＦＲによっ
て検査される。この図４の状態で検査を行った場合（レ
チクル１の方向マークＭが左下に位置する場合）、ライ
ンＳ₁ からラインＥ₁ の間の検査が行われ、検査領域Ｎ
の検査が行われていない。

【００３４】次に検査領域Ｎを検査するために、レチク
ル１の方向マークＭが図５に示すように右上の位置にな
るまでレチクル１を１８０°回転させて、２回目の検査
を行う。図５は図４のレチクル１の向きを変えて、検査
領域Ｎの検査を開始した時点の図である。同図はライン
Ｓ₁ 上に入射ビームがｘ方向に光走査されている様子を
示している。図５の領域（Ｆ₂ ＋Ｒ₂）は前述した受光
器ＲＬ，ＲＲの検査可能領域内にあるので受光器ＲＬ，
ＲＲ及びＦＲ，ＦＬによって検査され、更に受光器Ｆ
Ｌ，ＦＲによって検査領域Ｆ₂ が検査される。これによ
り、１回目の検査（図４）で検査されなかったラインＳ
₁ とラインＥ₂ の間の領域Ｎが２回目の検査（図５）で
検査されることになる。尚、２回目の検査は１回目と同
様に入射光Ｉがペリクルフレーム２に遮られることな
く、被検査面上に入射しはじめる位置Ｓ₂ から検査をは
じめ、１回目と２回目の検査の重複領域つまりラインＳ
₁ とラインＳ₂ の間の領域については、検査結果を積算
してもよい。

【００３５】上記のようにして、必要な検査範囲全面が
４つの受光器ＦＬ，ＦＲ及びＲＲ，ＲＬによって検査さ
れ、検査結果は表示部１７に表示される。本実施例で
は、受光器ＲＬ，ＲＲの検査領域がフレーム迷光の影響
を受けない範囲で最も多く必要な検査範囲をカバーする
ように設定されるので、受光器ＲＬ，ＲＲと受光器Ｆ
Ｌ，ＦＲの検査領域の重複部分が最大となり、より確実
に異物の検出が行われる。

【００３６】次に、図３は本発明の第２の実施例であっ
て、第１の実施例とは検査可能領域を決定するための構
成が異なっている。その他の構成は第１の実施例と同様
である。即ち、図３の実施例においては、図２の判定部
１３の代わりにキーボード、バーコードリーダ等からな
る入力部１６が設けられており、ペリクル膜３とペリク
ルフレーム２の種類等を外部から入力できる構成となっ
ている。

【００３７】本実施例では検査対象となるレチクル１に
装着されるペリクル膜３及びペリクルフレーム２の品種
毎に、各受光器ＲＬ，ＲＲ，ＦＬ，ＦＲの検査可能な領
域が予め測定され（測定は第１の実施例と同様にして行
う）、測定結果はペリクル膜３及びペリクルフレーム２
の品種毎に装置内に記憶される。そして、実際の検査時
には、入力部１６に入力されたペリクル膜３及びペリク
ルフレーム２の品種とあらかじめ記憶されている上記の
検査可能領域に関するデータとを対照して、最適な検査
領域が受光器毎に設定される。検査領域を設定した後の
異物検査動作は、第１の実施例と同様である。

【００３８】本実施例においては、検査可能領域に関す
るデータの他に、ペリクル膜３の透過率に応じた受光器
ＦＬ，ＦＲ，ＲＬ，ＲＲの感度補正値も外部から入力す
る構成としても良い。

【００３９】なお、上記の第１及び第２の実施例におい
ては、ペリクル膜を装着したレチクル表面を検査する例
について説明したが、本発明の異物検査装置はペリクル
膜自体の異物検査にも適用できることは言うまでもな
い。

【００４０】又、光学系の配置、特に複数の受光器の配
置は上記の実施例に限定されるものではない。上記の実
施例では、受光器ＲＬ，ＲＲについてだけ検査可能領域
を測定しているが、受光器の配置によっては各受光器毎
に検査可能領域を測定して検査領域を設定するようにし
ても良い。

【００４１】

【発明の効果】以上の様に本発明の異物検査装置におい
ては、ペリクル膜とペリクルフレームとの少なくとも一
方の光学的性質に応じて検査領域を変更可能に設定する
手段を備えているので、ペリクル膜とペリクルフレーム
との少なくとも一方の種類毎に、フレーム迷光の影響を
受けずに必要な検査範囲を最も多くカバーできる検査領
域を効率良く設定して、異物検査を行うことができる。

【００４２】又、本発明の異物検査装置は複数の受光手
段を有し、各受光手段毎に検査領域が設定されるので、
複数の検査領域を組み合わせることによって、必要な検
査範囲を常にカバーすることができ、かつ各検査領域の
重複部分を最大とすることが可能である。異なる位置に
配置された受光手段の検査領域の重複部分を増すことに
よって、検査精度を向上させることが可能となる。

【００４３】更に、本発明によれば、検査光の照射手段
と受光手段の配置が著しく制約されることがないので、
検査光の照射手段と受光手段について異物の検出能力を
向上させる上で好ましい配置を取ることができ、微細な
異物の検出や微細パターンと異物の弁別等の検査を実現
する上で有利である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明実施例による異物検査装置の光学系の構
成を示す斜視図である。

【図２】本発明第１実施例による異物検査装置の全体的
な構成を示す構成図である。

【図３】本発明第２実施例による異物検査装置の全体的
な構成を示す構成図である。

【図４】本発明実施例における異物検査動作を説明する
ための概念図である。

【図５】本発明実施例における異物検査動作を説明する
ための概念図である。

【図６】(A),(B),(C) は本発明の作用を説明するための
概念図である。

【図７】従来の異物検査装置の構成を示す斜視図であ
る。

【図８】従来の異物検査装置におけるフレーム迷光を説
明するための概念図である。

【符号の説明】

１…レチクル、２…ペリクルフレーム、２ａ…フレーム
内壁、３…ペリクル膜、ＦＬ，ＦＲ，ＲＬ，ＲＲ…受光
器、５…搬送アーム、６，６’…検査点、１０ａ，１０
ｂ…信号処理部、１１…感度補正部、１２…ペリクル透
過率測定部、１３…判定部、１４…搬送動作制御部、１
５…駆動部、１６…入力部、１７…表示部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｊ 8406−4Ｍ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】枠部材で支持された保護膜表面と該保護
膜を備えたフォトマスク表面との少なくとも一方を被検
査面とし、前記被検査面に光ビームを照射する照射手段
と、前記被検査面からの光を受光して光電変換する複数
の受光手段と、該受光手段の検出信号に基づいて前記被
検査面上の異物を検出する検出手段を有する異物検出装
置において、前記枠部材と保護膜との少なくとも一方の光学的性質に
応じて、前記被検査面上における検査領域を前記複数の
受光手段毎に独立して、変更可能に設定する検査領域設
定手段を備えたことを特徴とする異物検査装置。
【請求項２】前記検査領域設定手段は前記被検査面に
前記光ビームを照射した際に前記受光手段で受光される
前記枠部材からの散乱光の光量に対応する量を前記複数
の受光手段毎に測定する測定手段を有し、該測定手段の
測定結果に基づいて前記検査領域を設定するものである
こと特徴とする請求項１の異物検査装置。
【請求項３】前記検査領域設定手段は前記測定手段に
よって測定された情報を前記保護膜と枠部材との少なく
とも一方の種類毎に記憶する記憶手段を有し、該記憶手
段に記憶された情報に基づいて前記検査領域を設定する
ものであることを特徴とする請求項１の異物検査装置。
【請求項４】前記検査領域設定手段は、前記複数の受
光手段毎に独立して設定する夫々の検査領域の重複部分
が最大となるように領域設定を行なうことを特徴とする
請求項１記載の異物検査装置。