JP2003083902A - 被検物の検査方法および装置 - Google Patents

被検物の検査方法および装置

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JP2003083902A
JP2003083902A JP2001275269A JP2001275269A JP2003083902A JP 2003083902 A JP2003083902 A JP 2003083902A JP 2001275269 A JP2001275269 A JP 2001275269A JP 2001275269 A JP2001275269 A JP 2001275269A JP 2003083902 A JP2003083902 A JP 2003083902A
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Ippei Takahashi
一平 高橋
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複雑な走査機構や高価なカメラなどを必要と
せずに、換言すれば、簡単な構造でしかも低コストで欠
陥部分の精度良い検査を行うことができ、また検査幅が
比較的狭い被検物に対する検査にも都合のよい被検物の
検査方法および装置を提供する。 【解決手段】 被検物6に向けて検査光を出射する光源
1と、この光源1からの検査光αをライン状のビームに
成形する第1ビーム成形手段11と、このライン状のビ
ームに成形された検査光に対して、被検物の長さ方向の
大きさを狭める第2ビーム収束手段と、ビームの投光幅
Wを狭める第3ビーム収束手段3と、被検物6の正常部
分を透過する検査光が入射・受光する遮蔽領域に遮光部
材41を設けた受光部4と、この受光部4からの出力信
号を入力して被検物6の欠陥部分Dを検出する信号処理
部5とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、連続的に移送さ
れる透明または半透明なフィルムや反射性を有するシー
トなどの被検物に形成された擦り傷などの欠陥部分を光
学的に検出することができる被検物の検査方法および装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、ラインによって移送されてくる
(インライン中の)透明または半透明なフィルムなどの
被検物に対して、その表面に擦り傷などの欠陥があるか
否かを検査する検査装置が各種知られている。
【0003】この種の検査装置として、例えば、特開平
4−178545号公報や特開平2-83438号公報
などに記載のように、外部から被検物に検査光を投光す
るとともに、その被検物を透過した検査光をスクリーン
上に投影し、そのスクリーン上の投影像をビデオカメラ
などの受光器に入射・受光するように構成したものが知
られている。例えば、特開平4−178545号公報に
は、光源と共に凹面鏡を用いた平行光発生器と、CCD
ラインセンサを用いたカメラとを組合わせたものが開示
されており、特開平2-83438号公報には、ピンホ
ール光源と、TVカメラや高解像度カメラなどの2次元
カメラとを組合わせたものが開示されている。
【0004】また、この種の検査装置として、例えば特
開平6−207910号公報及び特開昭51−1261
91号公報に記載のように、レーザスポットを走査して
受光器に受光させる構成のものも知られている。特に、
特開平6−207910号公報にはレーザビームスポッ
トよりも受光器の有効窓幅を小さくしたものが開示され
ており、特開昭51−126191号公報には被検物の
同一箇所を2回(複数回)通過させることで、欠陥信号
を強調・増幅させるように構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たこれらの検査装置は、レーザ走査により広範囲の領域
に亙って検査するために複雑な走査機構を光源側に備え
ていたり、受光器としてCCDカメラなどを用いている
ので高価となってしまう、といった欠点を有している。
また、これらの検査装置の中には、検出精度を高めるた
めに、走査機構に特殊な機構を付与したりカメラ側に特
別な工夫を施したものも見られるが、その分コストが増
大する、といった欠点を有している。さらに、これらの
検査装置では、被検物が特に幅の狭い形状を有するもの
であっても、特に検査装置を構成する部品点数を削減で
きるわけではないから、検査幅に対してどうしても割高
になってしまう、といった欠点を有している。
【0006】このような事情については、透明または半
透明な被検物の欠陥部分を検出するための検査装置に限
らず、例えば入射(反射)面での欠陥部分を検出するた
めの検査装置についても同様であり、同様の不都合を生
じている。
【0007】そこで、この発明は、上記した事情に鑑
み、複雑な走査機構や高価なカメラなどを必要とせず
に、換言すれば、簡単な構造でしかも低コストで欠陥部
分の精度良い検査を行うことができ、また検査幅が比較
的狭い被検物に対する検査にも都合のよい被検物の検査
方法および装置を提供することを目的とするものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の被検物の検査方法は、被検物に向けて出
射する光源からの検査光を被検物の幅方向と直交する長
さ方向が細いライン状のビームに成形し、このライン状
に成形されたビームを検査光として被検物に投光し、前
記被検物に入射する前記検査光のうち、前記被検物の正
常部分を透過若しくは正反射する検査光のみを遮光部材
で遮光された受光部の遮光領域に入射・受光させるとと
もに、前記被検物に入射する前記検査光のうち、前記被
検物の欠陥部分で屈折若しくは散乱する検査光のみを前
記受光部の遮光部材が設けられていない受光領域に入射
・受光させ、前記受光部の受光領域に受光する前記検査
光の光量又は光強度に応じた出力信号から被検物の欠陥
部分を検出することを特徴としている。
【0009】また、この発明の透明体の検査方法では、
前記被検物にライン状のビームを投光するのに先立ち、
前記被検物の照射幅方向でのビームの投光領域が狭まる
ように、このビームを波形成形することができる。
【0010】また、上記目的を達成するために、被検物
に向けて検査光を出射する光源と、この光源からの検査
光を、被検物に投光する際に被検物の幅方向と直交する
長さ方向が細いライン状のビームに成形する第1ビーム
成形手段と、前記被検物に入射する検査光のうち、前記
被検物の正常部分を透過若しくは正反射する検査光が入
射・受光する遮光部材で遮光された遮光領域と、前記被
検物の欠陥部分で屈折または散乱した検査光が入射・受
光しこの入射・受光する検査光の光量若しくは光強度に
応じた信号を出力する遮光領域を除いて設けた受光領域
とを有する受光部と、この受光部からの出力信号を入力
して前記被検物の欠陥部分を検出する信号処理部とを備
えたことを特徴としている。
【0011】また、上記構成において、前記被検物の幅
方向と直交する長さ方向が細いライン状のビームに成形
された前記検査光を、前記被検物の長さ方向でのビーム
の投光領域が狭まるように収束させる第2ビーム成形手
段と、前記被検物の長さ方向と直交する幅方向でのビー
ムの投光領域が狭まるように前記検査光を収束させる第
3ビーム成形手段とを備えてもよい。
【0012】また、上記構成において、光源と前記第1
ビーム成形手段とを、レーザダイオードとレンズとを一
体に組合わせたレーザダイオードモジュールで構成して
もよい。このような構成によれば、部品の修理、交換、
点検などを容易に行うことができる。
【0013】また、上記構成において、前記波形成形手
段は、ライン状のビームが投光される被検物の照射幅方
向での投光領域が狭まるように、このビームを収束する
ように構成することができる。また、前記受光部は、半
導体光検出器で構成してもよい。
【0014】また、上記構成において、前記第1ビーム
成形手段、前記第2ビーム成形手段及び前記第3ビーム
成形手段に、それぞれシリンドリカルレンズを用いると
ともに、前記第3ビーム成形手段側のシリンドリカルレ
ンズ両端部に遮光部材を設けるのが好ましい。このよう
に構成することで、前記ビームの出射幅を規制するのと
同時にレンズ内反射によるゴースト光の生成を抑えるこ
とができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態に
ついて、添付図面を参照しながら詳細に説明する。図1
はこの発明に係る被検物の検査装置を示すものであり、
この被検物の検査装置は、光源1と、第1ビーム成形手
段である第1レンズ11、第2ビーム成形手段である第
2レンズ2及び第3ビーム成形手段である第3レンズ3
と、受光部4と、信号処理部5とを備えており、この実
施形態では、連続的に移送される透明又は半透明なフィ
ルムなどの被検物6に対して欠陥部分を光学的に検出す
るように構成されている。
【0016】光源1は、被検物6の欠陥部分を検出する
ための検査光を出射するものであり、この実施形態では
半導体レーザ(LD)を用いており、例えば波長680
nm程度の可視光を拡散ビーム状に出射する。この光源
1は、光軸が被検物6の検査(X−Z)面に垂直なY方
向に平行となるような状態で配置されており、この実施
形態では、寿命、コストなどの点から半導体レーザを用
いたが、これ以外に、例えばHe−Neレーザなどを用
いても良い。
【0017】また、この光源1から出射される検査光の
投光幅(W)を狭めたレーザビームとして波形成形する
ため、光源1、第1レンズ11の2点の光学素子を一体
にまとめた、例えばネオアーク社製のLDM−6820
Hなどを用いれば、安価で長寿命のものが実現できる。
【0018】第2レンズ2は、第1レンズ11から拡散
状態で出射するビーム状の検査光αを、被検物6の幅
(X)方向と直交する長さ(Z)方向が細いライン状の
ビームに波形成形して被検物6の検査領域Sに向けて投
光させるものであり、走査範囲をライン状に大幅に狭め
ることで(例えば、走査幅の比較的広いスリット光など
よりも)検査精度を高めることができるように構成され
ている。この実施形態の第2レンズ2には、検査光のう
ち被検物6の長さ(Z)方向に拡散しようとする光成分
(縦成分)をほぼライン状に成形・収束するため、略半
円柱状に形成されたシリンドリカルレンズを用いてお
り、円周面の母線がX軸と平行になるような状態で配置
されている
【0019】第3レンズ3には、シリンドリカルレンズ
を用いており、円周面の母線(Z)方向が第2レンズ2
の円周面を形成する母線(X)方向とは直交するように
配置されている。特に、この第3レンズ3では、検査光
αのうち被検物6の幅(X)方向に拡散しようとする光
成分(横成分)の検査光を適宜の投光角度(θ)に収束
させることにより、被検物6の検査領域である被検査部
Sへの投光幅(W)を所望の幅に狭め(この実施形態で
は100mm)、例えば欠陥部分が発生し易い特定の狭
い幅での被検査部Sに対しても、効率的に欠陥部分の検
査を行うことができるようになっている。
【0020】特に、この第3レンズ3には、図1に示す
ように、曲面で構成され検査光αが入射する入射面3A
の左右(X)両端部側に、図2(A)に示すように、曲
面3Aに沿って所要の長さ(L)の遮光部材31が取り
付けられている。この遮光部材31は、検査光α1が出
射面3Bから出射する際の出射幅(図1参照)を規制す
ると共に、出射面3Bから出射して被検物6の正常部分
を透過した検査光α1が受光部4の後述する遮光領域
(遮光部材41に相当する)以外に入射するのを防止す
るものであり、例えば入射する検査光α1を吸収させる
黒色のテープや誘電体多層膜を成膜した構成の反射防止
膜などで構成してもよい。
【0021】即ち、この遮光部材31は、図2(B)に
示すように、この第2レンズ3内部の左右両端部側で少
なくとも2回以上の多重散乱を起こした検査光α2が出
射面3Bから外部へ所定の出射角β1で別の出射角β2
方向に出射するのを防止する。これにより、検査光α
が、例えば被検物6の正常部分に入射したにも拘わら
ず、条件によっては、検査光α2として別方向に出射
し、受光部4の後述する検出面41(遮光領域)以外の
受光領域に入射して欠陥部分Dとして誤検出を起こす、
といったトラブルが発生するのを防止できるようになっ
ている。
【0022】受光部4は、光源1から出射し第1レンズ
11、第2レンズ2及び第3レンズ3を透過してライン
ビーム状(又はスリットビーム状)にビーム成形され被
検物6の被検査部S(図1参照)を透過した検査光が入
射・受光するようになっており、図3(A)に示すよう
に、被検物6の正常部分を透過する検査光が入射・受光
する遮光領域4Aと、被検物6の皺などの欠陥部分D
(図1参照)で屈折または散乱した検査光が入射・受光
する受光領域4Bとを備えている。このため、この実施
形態の受光部4には、中央部の遮光領域4Aに、その検
査光αの縦(Z)方向の大きさよりも若干広い、或いは
多少の揺らぎの大きさをカバーできる程度の大きさ
(H)を有する遮光部材41を設けている。
【0023】そして、この受光部4では、ここに受光す
る入射光量(又は入射強度)の変化に応じた電圧レベル
(または電流値)の信号を出力することにより、被検物
6の欠陥部分Dを検出するように構成されている。この
実施形態の受光部4には、半導体光検出器、例えば適宜
の光電変化素子などが用いられているが、欠陥部分Dで
屈折したり散乱したりする検査光を受光させるため、受
光面のできるだけ大きいものが必要である。その点から
は受光部4として光電子倍増管でもよいが、この光電子
倍増管は高価で寿命も短いので、大面積のフォトダイオ
ード、例えば浜松ホトニクス社製のPINフォトダイオ
ード(S3584−08)などが好ましい。
【0024】従って、被検物6に例えば皺などの欠陥部
分Dが存在する場合には、その欠陥部分Dが被検査部S
に達した瞬間に、検査光であるライン状(又はスリット
状)のビームは屈折したり散乱して光路が変化し、図3
(B)に示すように、遮光部材41が設けられた遮光域
からはみ出して受光領域4Bに受光するわけである。な
お、この遮光部材41としては、検査光α1を吸収する
黒色テープや適宜の吸収膜などを用いることができる。
【0025】信号処理部5は、受光部4から出力される
信号に基づき被検物6の欠陥部分を検出するものであ
り、この実施形態では、2値化回路51と、出力回路5
2とを備えている。2値化回路51は、受光部4からの
出力(受光)信号レベルが予め設定された電圧値(閾
値)以上になると欠陥部分があると判断するものであ
り、入力が受光部4の出力に接続されている。即ち、こ
れは、欠陥部分Dが存在すると、受光部4の遮光部材4
1からはみ出した受光領域4Bに検査光α1が入射・受
光するので、欠陥部分Dのない正常部分を透過した場合
に比べて受光部4の出力電圧レベルが上昇し、閾値を越
えるために欠陥部分Dがあると判断されるわけである。
【0026】出力回路52は、2値化回路51によって
処理されて得られた情報を信号処理部5の外部に取り出
すためのものであり、必要に応じて、例えば被検物6の
全長に亙り欠陥部分Dの検査結果をプリンタで印字した
り、デスプレイに欠陥部分Dを連続的に表示できるよう
になっており、入力が2値化回路51の出力に接続され
ている。
【0027】次に、この実施形態の作用について説明す
る。光源1から出射する検査光は、第1レンズ11によ
りX方向に広がるビームとなり、次に第2レンズ2で被
検物6の幅(X)方向に略平行で長さ(Z)方向を細く
絞ったライン状に波形成形される。さらに、第3レンズ
3では、被検物の幅(X)方向の拡がりが狭まる(この
実施形態では、被検物6の幅の半分)ように成形され、
先をすぼめたライン状ビームとなって被検物6及び受光
部4へ投光される。
【0028】一方、被検物6は、第3レンズ3と受光部
4との間の検査光α1の光路上を横切るような状態で
(検査光α1の波面に対して垂直方向に)連続的に移送
されており、この被検物6の検査(X−Z)面へ検査光
α1が常時投光されていく。このため、この実施形態で
は、走査機構を持たない構造でありながら、被検査部S
に相当する被検物6のごく細い領域を検査光で連続的に
走査できる。つまり、欠陥部分Dの精度高い検出を連続
して行うことができるわけである。
【0029】このように、検査光α1が投光される被検
査部Sで被検物6が正常部分である場合には、遮光部材
41からはみ出すことなく受光部4の遮光領域4Aへ入
射する。その結果、この遮光領域4Aへ入射・受光する
検査光α1は、受光量が少ないので、この受光部4から
の出力信号、つまり電圧レベルも低い。従って、信号処
理部5の2値化回路51では、受光部4から閾値以下の
電圧を入力することとなり、欠陥部分Dがないと判定さ
れて出力信号が出力回路52へ出力される。これによ
り、例えば出力回路52にプリンタを接続させてある場
合には、この部分では欠陥部分がないものとして検査デ
ータが印刷される。
【0030】一方、被検物6が欠陥部分Dを有している
場合には、被検査部Sにその欠陥部分Dが達すると、そ
の欠陥部分Dでは検査光α1が屈折若しくは散乱し、検
査光の進行する光路が変化する。このため、検査光α1
は、受光部4での受光位置が遮光部材41の設けられた
遮光領域4Aからずれ、受光部4の受光領域4Bに入射
・受光する。このため、受光部2での受光量は正常部分
での場合に比べて増大し、その分受光部4からの出力信
号、つまり電圧レベルなども高くなるわけである。従っ
て、2値化回路51では、閾値を上回る電圧を受光部4
から入力することとなり、欠陥部分Dがあると判定され
て出力信号が出力回路52へ出力される。これにより、
この部分には欠陥部分Dがあるとして検査データが印刷
される。
【0031】なお、この実施形態では、第3レンズ3に
よってライン状のビームの広がりを抑えるように収束さ
せているが、そのビーム投光幅(W)に比べて被検物6
の幅が狭い場合には、被検物6の全幅に亙って検査する
ように構成してもよい。逆に、そのビーム投光幅(W)
に比べて被検物6の幅が広い場合には、専ら欠陥部分が
頻発する領域のみに検査光を投光させてもよいし、同一
構成の検査装置を並列配置させることで、被検物6の全
幅での検査も可能である。
【0032】従って、この実施形態によれば、被検物6
を製造ラインなどで連続的に移送させるように構成して
おり、被検物6への照射の際に専用の走査機構を特に必
要としないので、単純な構成で、しかも低コストで製造
することができるようになる。また、この実施形態によ
れば、受光部に撮像用のカメラのような複雑で高価な部
品を必要とせず、単なるフォトダイオードや受光センサ
などで構成が可能であるから、さらにコストの削減を図
ることができる。更に、この実施形態では、第2レンズ
3に遮光部材31を設けており、この第2レンズ3内部
での散乱によるゴースト光の生成を抑えることができる
ので、検出感度を向上させることができる。なお、この
発明の被検物としては、連続移送される長尺シート物を
用いているが、これ以外に例えば枚葉シート物(カット
シート)などでもよい。
【0033】また、この実施形態の検査装置は、透明ま
たは反透明な被検物の欠陥部分を検出するように構成し
ているが、例えば表面部分に皺や擦り傷などの欠陥部分
を有する反射率の高いシート状などの被検物に対してそ
の欠陥部分を検出する検査装置としても適用可能であ
る。即ち、この場合には、光源及び第1ビーム成形手段
(必要に応じて、第2ビーム成形手段〜第3ビーム成形
手段)を、被検物の表面に対して検査光が一定の入射角
(例えばδ)で入射するように傾斜して配置する。一
方、光源からの検査光が被検物の正常部分で反射する場
合に、その反射点で正反射して戻る位置に受光領域が配
置されるように、受光部を、被検物の反射面側の空間
(先の実施形態とは異なり、光源側と同一空間)内で同
一角度(δ)に傾斜して配置すればよい。
【0034】
【発明の効果】以上説明してきたように、この発明で
は、被検物の長さ方向についての走査幅をライン(線)
状に細く狭めている一方、受光部も正常部分を透過した
そのライン状のビームが入射する領域をそのビームの幅
に合わせて遮光させており、被検物に対して欠陥の検出
を細かく行うことができるようになる。従って、複雑な
走査機構や高価なカメラなどを必要とせずに、換言すれ
ば、簡単な構造で、しかも低コストで欠陥部分の精度良
い検出を行うことができるので便宜である。
【0035】また、この発明によれば、特に、検査光は
第3ビーム収束手段で被検物へ投光・照射するビームの
投光幅を狭めることができるように構成しており、検査
幅が比較的狭い被検物に対しては、これに合わせて狭め
た投光幅でビームを投光させることができるから、特に
検査幅が比較的狭い被検物に対して、合理的に欠陥部分
の検査を行うことができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の被検物の検査装置の構成を示す斜視
図である。
【図2】(A)はこの発明の被検物の検査装置における
第3レンズの要部を示す拡大光路図であり、(B)は遮
光部材を設けない場合の欠点を示す光路図である。
【図3】この発明の被検物の検査装置の受光部を示すも
のであり、(A)は被検物の正常面を照射したときの受
光状態を示す説明図、(B)は欠陥部分に照射したとき
の受光状態を示す説明図である。
【符号の説明】
1 光源 11 第1レンズ(シリンドリカルレンズ;第1ビー
ム成形手段) 2 第2レンズ(シリンドリカルレンズ;第2ビー
ム成形手段) 3 第3レンズ(シリンドリカルレンズ;第3ビー
ム成形手段) 31 遮光部材 4 受光部 4A 遮光領域 4B 受光領域 41 遮光部材 5 信号処理部 51 2値化回路 52 出力回路 α 検査光 θ 投光角度 D 欠陥部分 S 被検査部 W 投光幅 X 被検物の幅方向 Z 被検物の長さ方向(移送方向)

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検物に向けて出射する光源からの検査
    光を被検物の幅方向と直交する長さ方向が細いライン状
    のビームに成形し、 このライン状に成形されたビームを検査光として被検物
    に投光し、 前記被検物に入射する前記検査光のうち、前記被検物の
    正常部分を透過若しくは正反射する検査光のみを遮光部
    材で遮光された受光部の遮光領域に入射・受光させると
    ともに、 前記被検物に入射する前記検査光のうち、前記被検物の
    欠陥部分で屈折若しくは散乱する検査光のみを前記受光
    部の遮光部材が設けられていない受光領域に入射・受光
    させ、 前記受光部の受光領域に受光する前記検査光の光量又は
    光強度に応じた出力信号から被検物の欠陥部分を検出す
    ることを特徴とする被検物の検査方法。
  2. 【請求項2】 前記被検物にライン状のビームを投光す
    るのに先立ち、前記被検物の長さ方向と直交する幅方向
    でのビームの投光領域が狭まるようにこのビームを収束
    ・調整することを特徴とする請求項1に記載の被検物の
    検査方法。
  3. 【請求項3】 被検物に向けて検査光を出射する光源
    と、 この光源からの検査光を、被検物に投光する際に被検物
    の幅方向と直交する長さ方向が細いライン状のビームに
    成形する第1ビーム成形手段と、 前記被検物に入射する検査光のうち、前記被検物の正常
    部分を透過若しくは正反射する検査光が入射・受光する
    遮光部材で遮光された遮光領域と、前記被検物の欠陥部
    分で屈折または散乱した検査光が入射・受光しこの入射
    ・受光する検査光の光量若しくは光強度に応じた信号を
    出力する遮光領域を除いて設けた受光領域とを有する受
    光部と、 この受光部からの出力信号を入力して前記被検物の欠陥
    部分を検出する信号処理部とを備えたことを特徴とする
    被検物の検査装置。
  4. 【請求項4】 前記被検物の幅方向と直交する長さ方向
    が細いライン状のビームに成形された前記検査光を、前
    記被検物の長さ方向でのビームの投光領域が狭まるよう
    に収束させる第2ビーム成形手段と、 前記被検物の長さ方向と直交する幅方向でのビームの投
    光領域が狭まるように前記検査光を収束させる第3ビー
    ム成形手段とを備えたことを特徴とする請求項3に記載
    の被検物の検査装置。
  5. 【請求項5】 前記光源と少なくとも前記第1ビーム成
    形手段とを、レーザダイオードとレンズとを一体に組合
    わせたレーザダイオードモジュールで構成したことを特
    徴とする請求項3に記載の被検物の検査装置。
  6. 【請求項6】 前記受光部は、半導体光検出器で構成し
    たことを特徴とする請求項3に記載の被検物の検査装
    置。
  7. 【請求項7】 前記第1ビーム成形手段、前記第2ビー
    ム成形手段及び前記第3ビーム成形手段に、それぞれシ
    リンドリカルレンズを用いるとともに、 前記第3ビーム成形手段のシリンドリカルレンズ両端部
    に遮光部材を設けたことを特徴とする請求項3または4
    に記載の被検物の検査装置。
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