JPH05144709A - 減圧装置 - Google Patents
減圧装置Info
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- JPH05144709A JPH05144709A JP33418391A JP33418391A JPH05144709A JP H05144709 A JPH05144709 A JP H05144709A JP 33418391 A JP33418391 A JP 33418391A JP 33418391 A JP33418391 A JP 33418391A JP H05144709 A JPH05144709 A JP H05144709A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 減圧チャンバー内において、吸着手段に保持
されたウエハが落下するのを防止し、加えて減圧チャン
バーの減圧時間の短縮を可能にする。 【構成】 減圧チャンバー1は第1の真空ポンプ3をも
つ雰囲気排気ライン2によって減圧され、給気ライン4
を経て供給されるヘリウムガスによって150Torr
の減圧雰囲気に維持される。吸着ハンド12およびウエ
ハチャック13は、第2の真空ポンプ20をもつ吸着排
気ライン19によって真空吸引力を附与され、ウエハ1
1を吸着保持する。雰囲気排気ライン2と吸着排気ライ
ン19は逆止弁21aをもつ第1分岐ライン21、およ
び開閉弁22bをもつ第2分岐ライン22によって互に
接続され、真空吸引力の不足を補うとともに減圧チャン
バー1の減圧を迅速に行うことを可能にする。
されたウエハが落下するのを防止し、加えて減圧チャン
バーの減圧時間の短縮を可能にする。 【構成】 減圧チャンバー1は第1の真空ポンプ3をも
つ雰囲気排気ライン2によって減圧され、給気ライン4
を経て供給されるヘリウムガスによって150Torr
の減圧雰囲気に維持される。吸着ハンド12およびウエ
ハチャック13は、第2の真空ポンプ20をもつ吸着排
気ライン19によって真空吸引力を附与され、ウエハ1
1を吸着保持する。雰囲気排気ライン2と吸着排気ライ
ン19は逆止弁21aをもつ第1分岐ライン21、およ
び開閉弁22bをもつ第2分岐ライン22によって互に
接続され、真空吸引力の不足を補うとともに減圧チャン
バー1の減圧を迅速に行うことを可能にする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、X線露光装置のX線露
光室等の減圧チャンバーを減圧するとともに、該減圧チ
ャンバー内において操作される基板保持装置等の吸着手
段に真空吸引力を発生させる減圧装置に関するものであ
る。
光室等の減圧チャンバーを減圧するとともに、該減圧チ
ャンバー内において操作される基板保持装置等の吸着手
段に真空吸引力を発生させる減圧装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】ウエハ等の基板にマスクの微細パターン
を転写、焼付けするX線露光装置のX線露光室は、真空
ポンプによって減圧されるとともに、高純度のヘリウム
ガスを供給されて、ほぼ150Torrの減圧雰囲気に
維持される減圧チャンバーである。該減圧チャンバーに
おいては、露光される基板を保持する保持装置、および
該保持装置に対して基板の搬送および受渡しを行う搬送
装置が、真空吸引力によって基板を保持する吸着手段を
備えており、該吸着手段は、前記の減圧チャンバーを減
圧する真空ポンプとは別の真空ポンプによって減圧され
る。
を転写、焼付けするX線露光装置のX線露光室は、真空
ポンプによって減圧されるとともに、高純度のヘリウム
ガスを供給されて、ほぼ150Torrの減圧雰囲気に
維持される減圧チャンバーである。該減圧チャンバーに
おいては、露光される基板を保持する保持装置、および
該保持装置に対して基板の搬送および受渡しを行う搬送
装置が、真空吸引力によって基板を保持する吸着手段を
備えており、該吸着手段は、前記の減圧チャンバーを減
圧する真空ポンプとは別の真空ポンプによって減圧され
る。
【0003】従来例を図4を参照して説明する。減圧チ
ャンバーであるX線露光室101は、流量調整弁102
aおよび開閉弁102bをもつ雰囲気排気ライン102
を経て、第1の真空ポンプ103によって排気される。
上記X線露光室101は、さらに制御弁104aを備え
た給気ライン104をもち、該給気ライン104はヘリ
ウムガス供給源(図示せず)に接続される。上記第1の
真空ポンプ103によってX線露光室101内が10-3
〜10-4Torrに減圧されると、圧力センサー105
がこれを感知して制御弁104aを開き、給気ライン1
04からヘリウムガスが導入され、X線露光室101の
雰囲気圧力を150Torrに維持する。
ャンバーであるX線露光室101は、流量調整弁102
aおよび開閉弁102bをもつ雰囲気排気ライン102
を経て、第1の真空ポンプ103によって排気される。
上記X線露光室101は、さらに制御弁104aを備え
た給気ライン104をもち、該給気ライン104はヘリ
ウムガス供給源(図示せず)に接続される。上記第1の
真空ポンプ103によってX線露光室101内が10-3
〜10-4Torrに減圧されると、圧力センサー105
がこれを感知して制御弁104aを開き、給気ライン1
04からヘリウムガスが導入され、X線露光室101の
雰囲気圧力を150Torrに維持する。
【0004】基板であるウエハ111は、吸着ハンド1
12によってウエハチャック113の近傍へ搬送され、
受渡しが行われる。吸着ハンド112は、ウエハチャッ
ク113へ向う方向(X方向という)へ移動するXステ
ージ114、およびこれに垂直な方向(Z方向という)
へ移動するZステージ115からなる駆動手段によっ
て、XおよびZ方向へそれぞれ往復移動される。吸着ハ
ンド112およびウエハチャック113にそれぞれ真空
吸引力を発生させるための吸着ライン116,117
は、それぞれ弁116a,117aを介してディストリ
ビューター118に接続され、開閉弁119aをもつ吸
着排気ライン119を経て、第2の真空ポンプ120に
よって排気される。
12によってウエハチャック113の近傍へ搬送され、
受渡しが行われる。吸着ハンド112は、ウエハチャッ
ク113へ向う方向(X方向という)へ移動するXステ
ージ114、およびこれに垂直な方向(Z方向という)
へ移動するZステージ115からなる駆動手段によっ
て、XおよびZ方向へそれぞれ往復移動される。吸着ハ
ンド112およびウエハチャック113にそれぞれ真空
吸引力を発生させるための吸着ライン116,117
は、それぞれ弁116a,117aを介してディストリ
ビューター118に接続され、開閉弁119aをもつ吸
着排気ライン119を経て、第2の真空ポンプ120に
よって排気される。
【0005】前記吸着ライン116,117は、それぞ
れの弁116a、117aの切換えによって、ほぼ交互
に第2の真空ポンプ120に接続されるが、前記吸着ハ
ンド112とウエハチャック113の間でウエハ111
の受渡しを行う過程において、短時間ではあるが同時に
吸引状態になるときがある。
れの弁116a、117aの切換えによって、ほぼ交互
に第2の真空ポンプ120に接続されるが、前記吸着ハ
ンド112とウエハチャック113の間でウエハ111
の受渡しを行う過程において、短時間ではあるが同時に
吸引状態になるときがある。
【0006】例えば、ウエハ111を保持する吸着ハン
ド112がウエハチャック113に近づいてウエハ11
1を引渡す直前に、吸着ライン117の弁117aが開
いて、ウエハチャック113が吸引状態になるため、こ
のとき吸着ハンド112とウエハチャック113の両者
が同時に吸引状態となる。
ド112がウエハチャック113に近づいてウエハ11
1を引渡す直前に、吸着ライン117の弁117aが開
いて、ウエハチャック113が吸引状態になるため、こ
のとき吸着ハンド112とウエハチャック113の両者
が同時に吸引状態となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術においては、前述のように、互に接近した2つの
吸着手段が同時に吸引状態になる場合に、真空吸引力が
不足して、吸着手段が保持している基板を落下させるお
それがあった。また吸着手段の真空ポンプが故障した場
合にも、直ちに真空吸引力が不足して、吸着している基
板が落下するという問題もあった。
の技術においては、前述のように、互に接近した2つの
吸着手段が同時に吸引状態になる場合に、真空吸引力が
不足して、吸着手段が保持している基板を落下させるお
それがあった。また吸着手段の真空ポンプが故障した場
合にも、直ちに真空吸引力が不足して、吸着している基
板が落下するという問題もあった。
【0008】本発明は、上記従来の技術の有する解決す
べき課題に鑑みてなされたものであり、減圧チャンバー
内において、吸着手段に保持されている基板を落下させ
るおそれがなく、加えて減圧チャンバーの減圧時間の短
縮を可能にする減圧装置を提供することを目的とするも
のである。
べき課題に鑑みてなされたものであり、減圧チャンバー
内において、吸着手段に保持されている基板を落下させ
るおそれがなく、加えて減圧チャンバーの減圧時間の短
縮を可能にする減圧装置を提供することを目的とするも
のである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の減圧装置は、減圧チャンバーの減圧装置で
あって、前記減圧チャンバーを減圧するための第1の真
空発生源を備えた第1の減圧手段と、前記減圧チャンバ
ー内で、複数の吸着手段に真空吸引力を発生させるため
の、少くとも1個の第2の真空発生源を備えた第2の減
圧手段と、前記第1の減圧手段によって、前記吸着手段
に附加的な真空吸引力を発生させるための第1の分岐配
管と、前記第2の減圧手段によって前記減圧チャンバー
を補助的に減圧するための第2の分岐配管と、前記第2
の分岐配管を自在に遮断することのできる開閉弁とから
なることを特徴とする。
めに本発明の減圧装置は、減圧チャンバーの減圧装置で
あって、前記減圧チャンバーを減圧するための第1の真
空発生源を備えた第1の減圧手段と、前記減圧チャンバ
ー内で、複数の吸着手段に真空吸引力を発生させるため
の、少くとも1個の第2の真空発生源を備えた第2の減
圧手段と、前記第1の減圧手段によって、前記吸着手段
に附加的な真空吸引力を発生させるための第1の分岐配
管と、前記第2の減圧手段によって前記減圧チャンバー
を補助的に減圧するための第2の分岐配管と、前記第2
の分岐配管を自在に遮断することのできる開閉弁とから
なることを特徴とする。
【0010】なお、第2の減圧手段が、複数の吸着手段
にそれぞれ個別に真空吸引力を発生させるための複数の
第2の真空発生源を備えていてもよい。
にそれぞれ個別に真空吸引力を発生させるための複数の
第2の真空発生源を備えていてもよい。
【0011】
【作用】第2の減圧手段による真空吸引力が不足した場
合に、第1の分岐配管を介して第1の減圧手段による真
空吸引力が附加されて、前記の吸着手段の真空吸引力の
不足を補う。また減圧チャンバーの操業開始時あるいは
長期休止後の再開時には、第2の分岐配管の開閉弁を開
くことで、第2の減圧手段を第1の減圧手段に接続し、
両者の真空吸引力によって減圧チャンバーを迅速に減圧
することが可能である。
合に、第1の分岐配管を介して第1の減圧手段による真
空吸引力が附加されて、前記の吸着手段の真空吸引力の
不足を補う。また減圧チャンバーの操業開始時あるいは
長期休止後の再開時には、第2の分岐配管の開閉弁を開
くことで、第2の減圧手段を第1の減圧手段に接続し、
両者の真空吸引力によって減圧チャンバーを迅速に減圧
することが可能である。
【0012】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【0013】図1は第1実施例の説明図であって、減圧
チャンバー1は、流量調節弁2aおよび開閉弁2bをも
つ雰囲気排気ライン2を経て、第1の真空発生源である
第1の真空ポンプ3によって排気される。
チャンバー1は、流量調節弁2aおよび開閉弁2bをも
つ雰囲気排気ライン2を経て、第1の真空発生源である
第1の真空ポンプ3によって排気される。
【0014】上記減圧チャンバー1は、さらに制御弁4
a備えた給気ライン4をもち、給気ライン4はヘリウム
ガス供給源(図示せず)に接続される。基板であるウエ
ハ11は、吸着手段である吸着ハンド12によって、他
の吸着手段であるウエハチャック13の近傍へ搬送さ
れ、受渡しが行われる。吸着ハンド12は、ウエハチャ
ック13へ向う方向(X方向という)へ移動するXステ
ージ14、およびこれに垂直な方向(Z方向という)へ
移動するZステージ15からなる駆動手段によって、X
およびZ方向へそれぞれ往復移動される。吸着ハンド1
2およびウエハチャック13にそれぞれ真空吸引力を発
生させるための吸着ライン16,17は、それぞれ弁1
6a.17aを介してディストリビューター18に接続
され、直列に配設された2つの開閉弁19a,19bを
もつ吸着排気ライン19を経て、第2の真空発生源であ
る第2の真空ポンプ20によって排気される。
a備えた給気ライン4をもち、給気ライン4はヘリウム
ガス供給源(図示せず)に接続される。基板であるウエ
ハ11は、吸着手段である吸着ハンド12によって、他
の吸着手段であるウエハチャック13の近傍へ搬送さ
れ、受渡しが行われる。吸着ハンド12は、ウエハチャ
ック13へ向う方向(X方向という)へ移動するXステ
ージ14、およびこれに垂直な方向(Z方向という)へ
移動するZステージ15からなる駆動手段によって、X
およびZ方向へそれぞれ往復移動される。吸着ハンド1
2およびウエハチャック13にそれぞれ真空吸引力を発
生させるための吸着ライン16,17は、それぞれ弁1
6a.17aを介してディストリビューター18に接続
され、直列に配設された2つの開閉弁19a,19bを
もつ吸着排気ライン19を経て、第2の真空発生源であ
る第2の真空ポンプ20によって排気される。
【0015】上記雰囲気排気ライン2と吸着排気ライン
19との間は、逆止弁21aを備えた第1の分岐配管で
ある第1分岐ライン21、および流量調整弁22aと開
閉弁22bを備えた第2の分岐配管である第2分岐ライ
ン22によって互に接続される。前記第1分岐ライン2
1および第2分岐ライン22は、前記開閉弁19bの下
流側、かつ前記開閉弁19aの上流側において吸着排気
ライン19に接続されており、逆止弁21aは、雰囲気
排気ライン2から吸着排気ライン19へ向うガス流のみ
を遮断する。なお第1分岐ライン21は雰囲気排気ライ
ン2の開閉弁2bの下流側で流量調整弁2aの上流側、
第2分岐ライン22は雰囲気排気ライン2の流量調整弁
2aの下流側において、それぞれ雰囲気排気ライン2に
接続される。
19との間は、逆止弁21aを備えた第1の分岐配管で
ある第1分岐ライン21、および流量調整弁22aと開
閉弁22bを備えた第2の分岐配管である第2分岐ライ
ン22によって互に接続される。前記第1分岐ライン2
1および第2分岐ライン22は、前記開閉弁19bの下
流側、かつ前記開閉弁19aの上流側において吸着排気
ライン19に接続されており、逆止弁21aは、雰囲気
排気ライン2から吸着排気ライン19へ向うガス流のみ
を遮断する。なお第1分岐ライン21は雰囲気排気ライ
ン2の開閉弁2bの下流側で流量調整弁2aの上流側、
第2分岐ライン22は雰囲気排気ライン2の流量調整弁
2aの下流側において、それぞれ雰囲気排気ライン2に
接続される。
【0016】図2は、減圧チャンバー1の操業開始また
は長期休止後の操業再開時の立上り手順を示すフローチ
ャートであって、スタ−ト時に開閉弁19a,19b,
22bおよび2bがそれぞれ閉じていることを確認した
上で(S1)、第1および第2の真空ポンプ3,20の
駆動を開始し(S2)、開閉弁2b,19bおよび22
bを開いて(S3)、第1および第2の真空ポンプによ
る減圧チャンバー1の減圧を開始する。
は長期休止後の操業再開時の立上り手順を示すフローチ
ャートであって、スタ−ト時に開閉弁19a,19b,
22bおよび2bがそれぞれ閉じていることを確認した
上で(S1)、第1および第2の真空ポンプ3,20の
駆動を開始し(S2)、開閉弁2b,19bおよび22
bを開いて(S3)、第1および第2の真空ポンプによ
る減圧チャンバー1の減圧を開始する。
【0017】減圧チャンバー1が、例えば10-3〜10
-4Torrに減圧されると、圧力センサー5がこれを感
知して(S4、S5)、制御弁4aが開き、給気ライン
4から減圧チャンバー1に供給するヘリウムガスの流量
を制御して(S6)、減圧チャンバー1の雰囲気圧力を
ほぼ150Torrに維持する(S7)。
-4Torrに減圧されると、圧力センサー5がこれを感
知して(S4、S5)、制御弁4aが開き、給気ライン
4から減圧チャンバー1に供給するヘリウムガスの流量
を制御して(S6)、減圧チャンバー1の雰囲気圧力を
ほぼ150Torrに維持する(S7)。
【0018】減圧チャンバー1が前記の雰囲気圧力に減
圧されると、第2分岐ライン22の開閉弁22bが閉じ
て(S8)、吸着排気ライン19の開閉弁19aが開き
(S9)、吸着ライン16,17に真空吸引力が発生し
て減圧チャンバー1の操業が開始される(S10)。
圧されると、第2分岐ライン22の開閉弁22bが閉じ
て(S8)、吸着排気ライン19の開閉弁19aが開き
(S9)、吸着ライン16,17に真空吸引力が発生し
て減圧チャンバー1の操業が開始される(S10)。
【0019】吸着排気ライン19は、第1分岐ライン2
1によって雰囲気排気ライン2と連通しており、第1の
真空ポンプ3と第2の真空ポンプ20の両者によって吸
引される。従って、操業中に吸着ハンド12とウエハチ
ャック13に同時に真空吸引力を必要とするとき、すな
わち、各吸着ライン16,17の開閉時16a,17a
が同時に開いた場合にも、真空吸引力の不足によって、
吸着ハンド12またはウエハチャック13に吸着されて
いるウエハ11が落下するおそれはない。
1によって雰囲気排気ライン2と連通しており、第1の
真空ポンプ3と第2の真空ポンプ20の両者によって吸
引される。従って、操業中に吸着ハンド12とウエハチ
ャック13に同時に真空吸引力を必要とするとき、すな
わち、各吸着ライン16,17の開閉時16a,17a
が同時に開いた場合にも、真空吸引力の不足によって、
吸着ハンド12またはウエハチャック13に吸着されて
いるウエハ11が落下するおそれはない。
【0020】図3は第2実施例を示す説明図であって、
本実施例においては2つの吸着手段にそれぞぞ個別に真
空吸引力を発生させるために、第2の真空発生源である
第2の真空ポンプが2個設けられている。すなわち、吸
着手段である吸着ハンド52の吸着ライン56は、第1
実施例の2つの開閉弁19a,19bと同様の2つの開
閉弁190a,190bを介して一方の第2の真空ポン
プ200に接続され、吸着手段であるウエハチャック5
3の吸着ライン57も、同様に2つの開閉弁191a、
191bを介して他方の第2の真空ポンプ201に接続
される。
本実施例においては2つの吸着手段にそれぞぞ個別に真
空吸引力を発生させるために、第2の真空発生源である
第2の真空ポンプが2個設けられている。すなわち、吸
着手段である吸着ハンド52の吸着ライン56は、第1
実施例の2つの開閉弁19a,19bと同様の2つの開
閉弁190a,190bを介して一方の第2の真空ポン
プ200に接続され、吸着手段であるウエハチャック5
3の吸着ライン57も、同様に2つの開閉弁191a、
191bを介して他方の第2の真空ポンプ201に接続
される。
【0021】各第2の真空ポンプ200、201のそれ
ぞれの吸着排気ライン190,191は、それぞれ第1
実施例と同様の第1分岐ライン61および第2分岐ライ
ン62を経て、第1の真空ポンプ43の雰囲気排気ライ
ン42に接続される。減圧チャンバー41、給気ライン
44、Xステージ54、Zステージ55、各開閉弁42
b,56a,57a,62b、制御弁44a、各流量調
整弁42a,62a等については第1実施例と同じであ
るので説明は省略する。
ぞれの吸着排気ライン190,191は、それぞれ第1
実施例と同様の第1分岐ライン61および第2分岐ライ
ン62を経て、第1の真空ポンプ43の雰囲気排気ライ
ン42に接続される。減圧チャンバー41、給気ライン
44、Xステージ54、Zステージ55、各開閉弁42
b,56a,57a,62b、制御弁44a、各流量調
整弁42a,62a等については第1実施例と同じであ
るので説明は省略する。
【0022】本実施例においては、各吸着排気ライン1
90,191がそれぞれ個別の第2の真空ポンプ20
0,201によって排気されており、さらに第1分岐管
62を介して第1の真空ポンプ43によって真空吸引力
を補われるため、吸着ハンド52またはウエハチャック
53に吸着されている基板であるウエハ51が落下する
おそれはない。加えて2つの第2の真空ポンプ200、
201の一方が故障しても、第1の真空ポンプ43から
第1分岐ライン61を経て真空吸引力が補われるため、
吸着されているウエハ51が直ちに落下するおそれもな
い。
90,191がそれぞれ個別の第2の真空ポンプ20
0,201によって排気されており、さらに第1分岐管
62を介して第1の真空ポンプ43によって真空吸引力
を補われるため、吸着ハンド52またはウエハチャック
53に吸着されている基板であるウエハ51が落下する
おそれはない。加えて2つの第2の真空ポンプ200、
201の一方が故障しても、第1の真空ポンプ43から
第1分岐ライン61を経て真空吸引力が補われるため、
吸着されているウエハ51が直ちに落下するおそれもな
い。
【0023】また雰囲気排気ライン42による減圧チャ
ンバー41の立上り時の減圧に当っては、第2分岐ライ
ン62の開閉弁62を開くことで各第2のポンプ20
0,201の真空吸引力を附加することによってより迅
速に減圧することが可能である。
ンバー41の立上り時の減圧に当っては、第2分岐ライ
ン62の開閉弁62を開くことで各第2のポンプ20
0,201の真空吸引力を附加することによってより迅
速に減圧することが可能である。
【0024】
【発明の効果】減圧チャンバーにおいて、吸着手段の真
空吸引力が不足することなく、従って吸着手段に吸着さ
れているウエハが落下するおそれがない。加えて、操業
開始または長期休止後の操業再開に際して、減圧チャン
バーを短時間で所望の真空レベルに減圧することができ
る。さらに前記吸着手段に真空吸引力を発生させる真空
発生源が故障しても、直ちに吸着されている基板が落下
する危険もない。
空吸引力が不足することなく、従って吸着手段に吸着さ
れているウエハが落下するおそれがない。加えて、操業
開始または長期休止後の操業再開に際して、減圧チャン
バーを短時間で所望の真空レベルに減圧することができ
る。さらに前記吸着手段に真空吸引力を発生させる真空
発生源が故障しても、直ちに吸着されている基板が落下
する危険もない。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例を示す説明図である。
【図2】第1実施例の立上り時のフローチャートであ
る。
る。
【図3】第2実施例を示す説明図である。
【図4】従来例を示す説明図である。
1,41 減圧チャンバー 2,42 雰囲気排気ライン 3,43 第1の真空ポンプ 4,44 給気ライン 5,45 圧力センサー 11,51 ウエハ 12,52 吸着ハンド 13,53 ウエハチャック 16,56 吸着ライン 17,57 吸着ライン 20,200,201 第2の真空ポンプ 21,61 第1分岐ライン 21a,61a 逆止弁 22,62 第2分岐ライン 22b,62b 開閉弁
Claims (2)
- 【請求項1】 減圧チャンバーの減圧装置であって、前
記減圧チャンバーを減圧するための第1の真空発生源を
備えた第1の減圧手段と、前記減圧チャンバー内で、複
数の吸着手段に真空吸引力を発生させるための、少くと
も1個の第2の真空発生源を備えた第2の減圧手段と、
前記第1の減圧手段によって、前記吸着手段に附加的な
真空吸引力を発生させるための第1の分岐配管と、前記
第2の減圧手段によって前記減圧チャンバーを補助的に
減圧するための第2の分岐配管と、前記第2の分岐配管
を自在に遮断することのできる開閉弁とからなる減圧装
置。 - 【請求項2】 第2の減圧手段が、複数の吸着手段にそ
れぞれ個別に真空吸引力を発生させるための複数の第2
の真空発生源を備えていることを特徴とする請求項1記
載の減圧装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33418391A JPH05144709A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 減圧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33418391A JPH05144709A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 減圧装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05144709A true JPH05144709A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=18274470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33418391A Pending JPH05144709A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 減圧装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05144709A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1991
- 1991-11-22 JP JP33418391A patent/JPH05144709A/ja active Pending
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