JPH05109122A

JPH05109122A - 光デイスク原盤とその製造方法およびドラム型スタンパの製造方法

Info

Publication number: JPH05109122A
Application number: JP27091591A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Isono; 仁志磯野; Tetsuya Inui; 哲也乾; Hirotoshi Takemori; 浩俊竹森; Kenji Ota; 賢司太田
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1991-10-18
Filing date: 1991-10-18
Publication date: 1993-04-30

Abstract

(57)【要約】【構成】可撓性を有するフレキシブル基板上に、例え
ば紫外線硬化型樹脂を塗布し、スタンパ１０を圧着す
る。圧着部位に紫外線１１を照射し、紫外線硬化型樹脂
を硬化させる。これらの工程を反復することにより、凹
凸パターンが形成されたマスタ記録部９ａを複数有した
シート状原盤８ａを作製する。【効果】複数の光ディスクの複製に対応する複数の凹
凸パターンが形成された光ディスク原盤を容易に製造で
きる。さらに、凹凸パターンの形成面を内側にして光デ
ィスク原盤を円筒状に丸めることができるので、高品質
なドラム型スタンパそのものを電鋳加工することができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクとその製造
方法に関し、特に、各種情報信号が予め記録された光デ
ィスクを大量複製するための光ディスク原盤とその製造
方法、並びに、主としてフレキシブル光ディスクの複製
工程で使用されるドラム型スタンパの製造方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】再生専用型、追記型、および書換え可能
型等の光ディスクの製造工程は、主として、音楽・映像
等の情報やトラッキング情報等の各種情報信号をマスタ
ー記録する原盤製造工程と、原盤からスタンパを作製
し、原盤になされたマスター記録をスタンパを用いて複
製する複製工程とから成っている。

【０００３】従来の原盤製造工程は以下のとおりであ
る。まず、図１０（ａ）に示すように、平坦なガラス基
板１にフォトレジスト２を塗布する。次に、図１０
（ｂ）に示すように、上記情報信号によって強度変調さ
れたレーザ光７を用いてフォトレジスト２を露光し、い
わゆるカッティングを行う。このカッティングされたフ
ォトレジスト２を現像すると、図１０（ｃ）に示すよう
に、所望のレジストパターン２ａが形成された原盤が得
られる。

【０００４】原盤からスタンパを作製するには、図１０
（ｄ）に示すように、スパッタリング、蒸着等の手段に
よって、レジストパターン２ａ上にニッケルの導電膜３
を形成する。さらに、図１０（ｅ）に示すように、電鋳
処理を行い導電膜３上にニッケルの電鋳膜５を形成す
る。最後に、図１０（ｆ）に示すように、原盤から電鋳
膜５を剥離することによって、スタンパ６が得られる。
なお、必要に応じて、電鋳膜５からマザースタンパを作
製し、マザースタンパに同様に電鋳処理を施して、スタ
ンパ６を得ることもできる。

【０００５】上記の製造方法以外に、スパッタエッチン
グ、イオンエッチング、プラズマエッチング等の手段に
より、ガラス基板に直接凹凸パターンをカッティングし
て原盤を作製する方法もある。

【０００６】次に、ロール状に巻取り可能なフィルムシ
ートを基板として用いるフレキシブル光ディスクを製造
するには、通常、円筒面にスタンパを設けたドラム型ス
タンパが使用されている。このドラム型スタンパを作製
するには、特公昭６３−３１８４７号公報に開示されて
いるように、上記図１０（ｅ）に対応する電鋳処理工程
で形成する電鋳膜５の厚みを２０〜８０μｍに設定す
る。こうして得られるシート状のスタンパ６を原盤から
剥離し、シリンダに接着剤または両面テープで貼りつけ
ることにより、ドラム型スタンパを作製していた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
光ディスク原盤の製造方法では、複数の光ディスクを一
度に複製するために、共通基板上に複数の原盤を製造し
ようとすると、一枚の原盤製造工程を何回も繰り返す必
要がある。例えば、特開昭６１−２１４１６０号公報で
は、フォトレジストを塗布した基板に対して、レーザ光
による露光、現像を作製しようとする原盤の数だけ繰り
返している。また、ガラス基板に直接凹凸パターンをカ
ッティングして原盤を作製する方法でも、同様に、カッ
ティング工程を何回も繰り返さなければならない。この
結果、原盤製造の歩留りが悪くなり、コスト高を招来す
るという問題点を有している。

【０００８】さらに、上記従来のドラム型スタンパの製
造方法では、２０〜８０μｍ厚の非常に薄いスタンパ６
をシリンダに貼りつける際に、スタンパ６とシリンダと
の間に気泡や埃が入りやすいため、スタンパ６とシリン
ダとの密着不良や剥離、あるいは皺の発生等の変形を招
来するという問題点を有している。また、スタンパ６を
原盤から剥離してから貼りつけるため、信号面を損傷す
る危険性が高いという問題点も有している。

【０００９】本発明の目的は、簡単な工程で、共通基板
上に複数の原盤を製造する方法およびその方法で製造さ
れた光ディスク原盤を提供すると共に、その光ディスク
原盤を利用することにより、剥離や変形が起こらない高
品質なドラム型スタンパを製造する方法を提供すること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明に係る光
ディスク原盤は、上記の課題を解決するために、所望の
情報信号（例えば、音楽信号、映像信号、またはトラッ
キング情報信号）に対応する凹凸パターンが予め形成さ
れた光ディスクの複製に用いる光ディスク原盤におい
て、可撓性を有するフレキシブル基板（例えば、プラス
チック基板）と、複数の光ディスクの複製に対応する複
数の上記凹凸パターンが形成された樹脂層（例えば、紫
外線硬化型樹脂層または熱硬化型樹脂層）とから成るこ
とを特徴としている。

【００１１】請求項２の発明に係る光ディスク原盤の製
造方法は、上記の課題を解決するために、光ディスクに
予め記録しておく所望の情報信号に基づいて、上記情報
信号に対応する凹凸パターンを有する第１の光ディスク
原盤を作製する第１工程と、上記第１の光ディスク原盤
に基づいて、凹凸形状が上記凹凸パターンと反転した反
転凹凸パターンを有するスタンパを作製する第２工程
と、基板上に熱硬化型または紫外線硬化型の樹脂層を形
成し、この樹脂層の１区域に上記スタンパを圧着した
後、スタンパ圧着部位を硬化させ、上記凹凸パターンを
転写する第３工程と、上記樹脂層の全域に対して上記第
３工程を繰り返すことにより、複数の上記凹凸パターン
が形成された第２の光ディスク原盤を作製する第４工程
とから成ることを特徴としている。

【００１２】請求項３の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、上記の課題を解決するために、所望の情報
信号に対応する凹凸パターンが予め形成された光ディス
クの複製に用いる光ディスク原盤に基づいて、凹凸形状
が上記凹凸パターンと反転した反転凹凸パターンを有す
る電鋳膜を得、この電鋳膜をシリンダの円筒面に接着し
て作製するドラム型スタンパの製造方法において、光デ
ィスク原盤から剥離される前の電鋳膜上に接着層を形成
した後、この接着層の端縁に上記シリンダの円筒面を圧
着し、上記電鋳膜を上記円筒面に接着しながら剥離して
いくことを特徴としている。

【００１３】請求項４の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、上記の課題を解決するために、所望の情報
信号に対応する凹凸パターンが予め形成された光ディス
クの複製に用いる光ディスク原盤に基づいて、凹凸形状
が上記凹凸パターンと反転した反転凹凸パターンを円筒
面に有するドラム型スタンパの製造方法において、可撓
性の光ディスク原盤に基づいて、ドラム型スタンパを作
製することを特徴としている。

【００１４】請求項５の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、上記の課題を解決するために、所望の情報
信号に対応する凹凸パターンが予め形成された光ディス
クの複製に用いる光ディスク原盤に基づいて、凹凸形状
が上記凹凸パターンと反転した反転凹凸パターンを円筒
面に有するドラム型スタンパの製造方法において、可撓
性を有するフレキシブル基板（例えば、プラスチック基
板）を用いて光ディスク原盤を作製する工程と、上記光
ディスク原盤上に導電膜（例えば、ニッケル膜）を形成
した後、上記導電膜が内面となるように、上記光ディス
ク原盤および導電膜を円筒状にする工程と、上記円筒状
の導電膜の内面に電鋳層（例えば、ニッケル電鋳層）を
積層する工程とから成ることを特徴としている。

【００１５】請求項６の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、上記の課題を解決するために、請求項５の
発明における上記円筒状の光ディスク原盤および導電膜
をシリンダフレームに嵌挿し、上記円筒状の光ディスク
原盤の外面を上記シリンダフレームの内面に密着させた
後、上記円筒状の導電膜の内面に電鋳層（例えば、ニッ
ケル電鋳層）を積層することを特徴としている。

【００１６】

【作用】請求項１の構成により、フレキシブル基板が可
撓性を有しているので、例えば、光ディスク原盤上に導
電膜を形成した後、上記導電膜が内面となるように、上
記光ディスク原盤および導電膜を円筒状に丸めることが
可能になる。これにより、上記円筒状の導電膜の内面に
電鋳層を積層すれば、電鋳層をそのまま高品質のドラム
型スタンパとすることができる。

【００１７】また、上記フレキシブル基板をプラスチッ
クとすれば、光ディスク原盤を容易に所望の大きさに切
断することができる。これにより、光ディスク原盤製造
工程に続く光ディスク複製工程に適合した様々な大きさ
（または様々な複製数）の光ディスク原盤を容易に提供
することが可能になる。

【００１８】また、請求項２の構成により、第１工程お
よび第２工程から成る通常の方法によりスタンパを作製
すれば、基板上に形成された熱硬化型または紫外線硬化
型の樹脂層に対して、上記スタンパを用いて２Ｐ（Phot
o Polymerization) 法あるいは加熱圧着法を繰り返すだ
けで、複数の上記凹凸パターンが形成された第２の光デ
ィスク原盤を容易に作製することができる。したがっ
て、光ディスク原盤製造工程に続く光ディスク複製工程
に適合した様々な大きさ（または様々な複製数）の光デ
ィスク原盤を容易に提供することが可能になる。

【００１９】また、請求項３の構成により、光ディスク
原盤から剥離される前の電鋳膜をシリンダの円筒面に接
着しながら剥離していくので、電鋳膜の面方向に適度な
張力を与えることができる。これにより、電鋳膜とシリ
ンダの円筒面との間の密着度が増し、気泡の残留や、皺
等の変形が生じにくくなる。また、光ディスク原盤から
電鋳膜を剥離してから、シリンダの円筒面に接着する場
合よりも、電鋳膜を損傷したり、埃等が付着する危険性
が大幅に減少する。

【００２０】また、請求項４の構成により、光ディスク
原盤が可撓性を有しているので、高品質のドラム型スタ
ンパを作製することが可能になる。光ディスク原盤が可
撓性を有していなければ、ドラム型スタンパを作製する
ために光ディスク原盤上に形成される電鋳膜を光ディス
ク原盤から剥離し、ドラム型スタンパの本体に接着する
工程が不可欠となる。しかし、光ディスク原盤が可撓性
を有していれば、凹凸パターンの形成面を内側にして光
ディスク原盤を円筒状に丸めることができるので、ドラ
ム型スタンパそのものを電鋳加工するという従来に無い
斬新な技術を提供することができる。

【００２１】また、請求項５の構成により、可撓性を有
するフレキシブル基板を用いて光ディスク原盤を作製し
たので、導電膜が内面となるように、上記光ディスク原
盤および導電膜を円筒状にすることが可能になる。これ
により、円筒状の導電膜の内面に電鋳層を積層するだけ
で、スタンパの剥離や変形等の要因が除去された高品質
のドラム型スタンパを作製することができる。

【００２２】また、請求項６の構成により、シリンダフ
レームによって光ディスク原盤および導電膜の真円度が
保持されるので、真円度の高いより高品質のドラム型ス
タンパを作製することができる。

【００２３】なお、円筒状の導電膜の内面に電鋳層を積
層する前に、導電膜の表面を不動態化すると、導電膜の
表面が保護されると共に、積層された電鋳層の剥離が容
易になる。

【００２４】

【実施例】

〔実施例１〕本発明に係る光ディスク原盤とその製造方
法に関する一実施例について図１ないし図３に基づいて
説明すれば、以下のとおりである。

【００２５】まず、図２（ａ）に示すように、平滑処理
および洗浄処理が施された平坦なガラス基板８に紫外線
硬化型樹脂９を均一に塗布する。ガラス基板８の大きさ
は、ガラス基板８に対して形成しようとする原盤の数
や、導電膜形成装置、電鋳処理装置の大きさ等を考慮し
て決定すればよい。なお、ガラス基板８の塗布面は、表
面粗さＲ_maxが通常５〜２０Åとなるように、平滑処理
される。

【００２６】本実施例では、ガラス基板８に対して６個
の原盤を作製するために、ガラス基板８の大きさを縦横
３００×５００ｍｍ、厚さ２ｍｍとする。また、紫外線
硬化型樹脂９としては、例えば、三菱レーヨン（株）製
のＭＰ−１０７や、大日本インキ化学工業（株）製のダ
イキュアクリアＳＴＭ−４０１等が適している。塗布方
法は樹脂の膜厚を均一にできるものであればよく、例え
ばスピンコート法やロールコート法等を用いることがで
きる。紫外線硬化型樹脂９の塗布厚は、５０μｍ程度で
あって、硬化後の膜厚が２０〜３０μｍ程度になればよ
い。もちろん、これより薄くすることも可能である。

【００２７】次に、図２（ｂ）（ｃ）に示すように、従
来例で説明したような公知の方法で作製された円盤状の
スタンパ１０を紫外線硬化型樹脂９に圧着し、スタンパ
１０の凹凸パターンを転写する。そして、図２（ｄ）に
示すように、ガラス基板８側から紫外線硬化型樹脂９に
紫外線１１を照射し、紫外線硬化型樹脂９を硬化させ
る。このとき、紫外線硬化型樹脂９における非原盤形成
領域が硬化してしまわないように、図１に示すように、
紫外線１１の照射領域を限定する遮蔽フード１２を使用
するとよい。

【００２８】スタンパ１０の凹凸パターンが転写された
部位の紫外線硬化型樹脂９が硬化したのちスタンパ１０
を剥離すると、図２（ｅ）に示すように、マスタ記録部
９ａが得られる。この後、紫外線硬化型樹脂９における
未硬化の非原盤形成領域に対して、図２（ｂ）〜（ｅ）
の工程を繰り返すことによって、図３に示すように、例
えば６個のマスタ記録部９ａが形成されたシート状原盤
８ａを容易に得ることができる。

【００２９】なお、紫外線硬化型樹脂９の代わりに、熱
硬化型樹脂を用いてもよい。この場合には、スタンパ１
０を加熱した後、熱硬化型樹脂に圧着して硬化させ、ス
タンパ１０の凹凸パターンを転写する。また、マスタ記
録部９ａの形成数に応じて、ガラス基板８の大きさを任
意に決めることもできる。

【００３０】このシート状原盤８ａを元にして６個の凹
凸パターンを有するスタンパを作製するには、上記マス
タ記録部９ａの形成面を安定化すると共に、離型性を促
す必要がある。そのために、図２（ｆ）に示すように、
マスタ記録部９ａの形成面に対してスパッタリングまた
は蒸着等の手法を用いてニッケル膜１３を形成した後、
シート状原盤８ａを重クロム酸カリウム５wt％水溶液に
浸漬し、ニッケル膜１３の表面にニッケル不動態被膜を
形成する。なお、ニッケル膜１３の膜厚は１００〜２０
０Å程度であり、浸漬時間は１分程度とした。ニッケル
膜１３を銀またはクロムで形成することもできる。

【００３１】上記のニッケル不動態被膜は、酸素プラズ
マ処理によっても形成することができる。酸素プラズマ
処理は、シート状原盤８ａに対して、例えば、酸素ガス
圧６ｍｍＴｏｒｒ、電力１５０Ｗ、３分間の条件下で行
われる。

【００３２】この後、図２（ｇ）に示すように、不動態
処理を行ったシート状原盤８ａに電鋳処理を施し、通例
に従って0.３ｍｍ厚のニッケル電鋳層１４を形成する。
このニッケル電鋳層１４をシート状原盤８ａから剥離す
れば、図２（ｈ）に示すように、凹凸パターンを有する
シート状スタンパ１５が得られる。シート状スタンパ１
５を用いれば、一度に複数（本実施例では６枚）の光デ
ィスクを複製することができる。

【００３３】上記のシート状原盤８ａを必要に応じて切
断して使用できるようにするには、ガラス基板８の代わ
りに、ポリカーボネイトあるいはアクリル等のプラスチ
ック基板を用いるとよい。プラスチック基板に対して、
図２（ｂ）〜（ｅ）に対応する同様の製造工程を経てシ
ート状原盤８ａを作製する。その後、必要に応じてシー
ト状原盤８ａを所望の大きさに切断し、図２（ｆ）〜
（ｈ）に対応する同様の製造工程を経て、所望の大きさ
のシート状スタンパ１５を得る。基板がプラスチックか
ら成っているので、ガラスの場合に比べてシート状原盤
８ａの切断は容易になる。この場合、導電膜形成工程や
電鋳処理工程等に適合した大きさのシート状原盤８ａを
容易に提供できる効果がある。

【００３４】〔実施例２〕次に、本発明に係るドラム型
スタンパの製造方法に関する一実施例について図４に基
づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の
便宜上、前記の実施例の図面に示した部材と同一の機能
を有する部材には、同一の符号を付記して、その説明を
省略する。

【００３５】上記図２（ａ）〜（ｇ）に対応する工程と
同様にして、不動態処理を行ったシート状原盤８ａに電
鋳処理を施す。このとき、ニッケル電鋳層１４の膜厚を
５０μｍ程度とする。この後、図４（ａ）に示すよう
に、ニッケル電鋳層１４上に接着剤を塗布し、接着剤層
１６を設ける。ただし、ニッケル電鋳層１４の表面粗さ
Ｒ_maxはおよそ５μｍなので、この表面粗さＲ_maxを覆
うことができるように、接着剤層１６の厚みを約１０μ
ｍとする。これによって、従来のようにニッケル電鋳層
１４の表面を研磨する手間を省くことができる。なお、
上記接着剤は、スピンコート法やロールコート法等によ
って均一に塗布される。

【００３６】次に、図４（ｂ）に示すように、例えば金
属製のシリンダ１７をシート状原盤８ａの端縁に圧着し
た後、図４（ｃ）に示すように、ニッケル電鋳層１４を
巻き取っていく。ニッケル電鋳層１４および不動態処理
を施されたニッケル膜１３間の付着力は、シリンダ１７
およびニッケル電鋳層１４間に働く接着力より弱いの
で、ニッケル電鋳層１４は、巻取りの際に容易に剥離す
る。このようにして、図５に示すように、１回のみの簡
便な巻取り操作で複数の凹凸パターンを有するドラム型
スタンパ１８が得られる。ドラム型スタンパ１８を用い
れば、連続して繰り出されるフレキシブル基板に対して
一度に複数のフレキシブル光ディスクを複製することが
できる。

【００３７】以上のように、ニッケル電鋳層１４は、剥
離と同時にシリンダ１７に接着されながら巻き取られる
ので、ニッケル電鋳層１４には、面方向に働く接着力と
剥離力とによって均一な張力が与えられる。このため、
ニッケル電鋳層１４に皺等の変形が生じにくくなり、ま
た、気泡も残留しにくくなる。さらに、シリンダ１７と
ニッケル電鋳層１４との間に埃等が侵入する機会が減少
し、凹凸パターンが形成されたニッケル電鋳層１４の信
号面を損傷する危険性もまた減少する。

【００３８】〔実施例３〕次に、本発明に係るドラム型
スタンパの製造方法に関する他の実施例について図６お
よび図７に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
なお、説明の便宜上、前記の実施例の図面に示した部材
と同一の機能を有する部材には、同一の符号を付記し
て、その説明を省略する。

【００３９】本実施例では、シート状原盤８ａを円筒状
に丸めるため、図２（ａ）に示すガラス基板８の代わり
にプラスチック基板８’を用いる。その上で、前記の両
実施例と同様にして不動態処理がなされたシート状原盤
８ａを、図６（ａ）に示すように、マスタ記録部９ａの
形成面を内側にして、円筒状に丸め、プラスチック製の
薄板１９等によって、円筒面の継目をシールし固定す
る。薄板１９は、円筒面の継目が電鋳加工時に外れない
ようにすると共に、不要なニッケルが継目に堆積しない
ようにする役目を持っている。

【００４０】このようにして作製されたロール状原盤８
ｂを電解液中に浸漬すると共に、図６（ｂ）に示すよう
に、ロール状原盤８ｂの中心部にチタン（または、白
金、ステンレス等）製の陽極棒１２を挿通する。そし
て、マスタ記録部９ａの形成面に前記のようにして成膜
されたニッケル膜１３を陰極として通電し、図６（ｃ）
に示すように、ニッケル電鋳層２０を堆積する。堆積終
了後、継目をシールしていた薄板１９を外し、ロール状
原盤８ｂを展開すると、図７に示すように、表面に複数
の凹凸パターンが形成されたドラム型スタンパ２１が得
られる。

【００４１】本実施例の製造方法で得られたドラム型ス
タンパ２１は、第２実施例のように、ニッケル電鋳層１
４が貼付されたドラム型スタンパ１８とは異なり、ドラ
ム部とスタンパ部とが一体になっている。したがって、
スタンパ部の剥離や変形が問題にならないので、ドラム
型スタンパ２１の品質が飛躍的に向上する。

【００４２】〔実施例４〕次に、本発明に係るドラム型
スタンパの製造方法に関するさらに他の実施例について
図８および図９に基づいて説明すれば、以下のとおりで
ある。なお、説明の便宜上、前記の実施例の図面に示し
た部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号を付
記して、その説明を省略する。

【００４３】第３実施例と同様にして円筒状に丸めたロ
ール状原盤８ｂを、図８（ａ）に示すように、金属製ま
たはプラスチック製等のシリンダ２２の内面に密接させ
る。

【００４４】その後、第３実施例と同様にして、ロール
状原盤８ｂの内側にニッケル電鋳層２０を堆積する。堆
積終了後、図８（ｂ）に示すように、シリンダ２２を抜
取ってロール状原盤８ｂを展開すれば、第３実施例と同
様のドラム型スタンパ２１が得られる。

【００４５】この場合、ロール状原盤８ｂの外殻がシリ
ンダ２２によって拘束されているので、電鋳加工時に圧
縮応力が均等に残留するようにニッケル電鋳層２０を堆
積すれば、ロール状原盤８ｂがシリンダ２２の内面に強
く押し付けられることになり、ロール状原盤８ｂの真円
度が崩れにくく、より高品質なドラム型スタンパを作製
することができる。

【００４６】ところで、ドラム型スタンパ２１を用い
て、加熱圧着法により一度に複数のフレキシブル光ディ
スクを複製する場合に、凹凸パターンの形成方向とドラ
ム型スタンパ２１の回転方向との関係によっては、凹凸
パターンの転写率が変化する。

【００４７】転写率を均一にするには、例えば、転写率
が悪い部分の温度を高くし、転写率が良い部分の温度を
低くするとよい。

【００４８】この目的を達成するために、図９（ａ）に
示すように、上記のニッケル電鋳層２０の堆積途中で通
電を一時停止し、転写率を高める必要がある部位にニク
ロム線等の電熱線２３を入れ子式に配置し、ドラム型ス
タンパ２１の温度分布を転写率の変化に応じて変えるこ
とができるようにした。電熱線２３の配置後、通電を再
開すれば、ニッケル電鋳層２０は電熱線２３を包み込む
ように堆積する。こうして、図８（ｂ）に示すように、
電熱線２３が内蔵されたドラム型スタンパ２４が得られ
る。

【００４９】

【発明の効果】請求項１の発明に係る光ディスク原盤
は、以上のように、可撓性を有するフレキシブル基板
と、複数の光ディスクの複製に対応する複数の上記凹凸
パターンが形成された樹脂層とから成る構成である。

【００５０】それゆえ、光ディスク原盤上に導電膜を形
成した後、上記導電膜が内面となるように、上記光ディ
スク原盤および導電膜を円筒状に丸めることができ、さ
らに、上記円筒状の導電膜の内面に電鋳層を積層して高
品質のドラム型スタンパを形成することができるという
効果を奏する。

【００５１】請求項２の発明に係る光ディスク原盤の製
造方法は、以上のように、光ディスクに予め記録してお
く所望の情報信号に基づいて、上記情報信号に対応する
凹凸パターンを有する第１の光ディスク原盤を作製する
第１工程と、上記第１の光ディスク原盤に基づいて、凹
凸形状が上記凹凸パターンと反転した反転凹凸パターン
を有するスタンパを作製する第２工程と、基板上に熱硬
化型または紫外線硬化型の樹脂層を形成し、この樹脂層
の１区域に上記スタンパを圧着した後、スタンパ圧着部
位を硬化させ、上記凹凸パターンを転写する第３工程
と、上記樹脂層の全域に対して上記第３工程を繰り返す
ことにより、複数の上記凹凸パターンが形成された第２
の光ディスク原盤を作製する第４工程とから成る構成で
ある。

【００５２】それゆえ、上記スタンパを用いて２Ｐ法あ
るいは加熱圧着法を繰り返すだけで、複数の上記凹凸パ
ターンが形成された第２の光ディスク原盤を容易に作製
することができる。さらに、光ディスク原盤製造工程に
続く光ディスク複製工程に適合した様々な大きさまたは
様々な複製数の光ディスク原盤を容易に提供することが
できるという効果を併せて奏する。

【００５３】請求項３の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、以上のように、光ディスク原盤から剥離さ
れる前の電鋳膜上に接着層を形成した後、この接着層の
端縁にシリンダの円筒面を圧着し、上記電鋳膜を上記円
筒面に接着しながら剥離していく構成である。

【００５４】それゆえ、電鋳膜とシリンダの円筒面との
間の密着度が増し、気泡の残留や、皺等の変形が生じに
くくなる。また、電鋳膜をシリンダの円筒面に接着する
際に、電鋳膜を損傷したり、埃等が付着する危険性が大
幅に減少するという効果を奏する。

【００５５】請求項４の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、以上のように、可撓性の光ディスク原盤に
基づいて、ドラム型スタンパを作製する構成である。

【００５６】それゆえ、凹凸パターンの形成面を内側に
して光ディスク原盤を円筒状に丸めることができるの
で、ドラム型スタンパそのものを電鋳加工するという従
来に無い斬新な技術を提供することができるという効果
を奏する。

【００５７】請求項５の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、以上のように、可撓性を有するフレキシブ
ル基板を用いて光ディスク原盤を作製する工程と、上記
光ディスク原盤上に導電膜を形成した後、上記導電膜が
内面となるように、上記光ディスク原盤および導電膜を
円筒状にする工程と、上記円筒状の導電膜の内面に電鋳
層を積層する工程とから成る構成である。

【００５８】それゆえ、円筒状の導電膜の内面に電鋳層
を積層するだけで、スタンパの剥離や変形等の要因が除
去された高品質のドラム型スタンパを作製することがで
きるという効果を奏する。

【００５９】請求項６の発明に係るドラム型スタンパの
製造方法は、以上のように、請求項５の構成に加えて、
円筒状の光ディスク原盤および導電膜をシリンダフレー
ムに嵌挿し、上記円筒状の光ディスク原盤の外面を上記
シリンダフレームの内面に密接させた後、上記円筒状の
導電膜の内面に電鋳層を積層する構成である。

【００６０】それゆえ、真円度の高いより高品質のドラ
ム型スタンパを作製することができるという効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光ディスク原盤の製造方法を示す
斜視図である。

【図２】（ａ）ないし（ｅ）は、本発明に係る光ディス
ク原盤の製造工程を、（ｆ）ないし（ｈ）は、スタンパ
の製造工程をそれぞれ示す縦断面図である。

【図３】図１および図２の製造方法によって作製された
光ディスク原盤を示す斜視図である。

【図４】本発明に係るドラム型スタンパの一製造方法を
示す縦断面図である。

【図５】図４の製造方法によって作製されたドラム型ス
タンパを示す斜視図である。

【図６】本発明に係るドラム型スタンパの他の製造方法
を示す斜視図である。

【図７】図６の製造方法によって作製されたドラム型ス
タンパを示す斜視図である。

【図８】本発明に係るドラム型スタンパのさらに他の製
造方法を示す斜視図である。

【図９】ヒータを内蔵するドラム型スタンパの製造方法
を示す斜視図である。

【図１０】（ａ）ないし（ｃ）は、従来の光ディスク原
盤の製造工程を、（ｄ）ないし（ｆ）は、従来のスタン
パの製造工程をそれぞれ示す縦断面図である。

【符号の説明】

８ガラス基板（基板）８’ プラスチック基板（フレキシブル基板）８ａシート状原盤８ａ（第２の光ディスク原盤）９紫外線硬化型樹脂１０スタンパ１３ニッケル膜（導電膜）１４ニッケル電鋳層（電鋳膜）１６接着剤層（接着層）１７シリンダ１８ドラム型スタンパ２０ニッケル電鋳層（電鋳層）２１ドラム型スタンパ２２シリンダ（シリンダフレーム）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者太田賢司大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シヤープ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所望の情報信号に対応する凹凸パターンが
予め形成された光ディスクの複製に用いる光ディスク原
盤において、可撓性を有するフレキシブル基板と、複数の光ディスクの複製に対応する複数の上記凹凸パタ
ーンが形成された樹脂層とから成ることを特徴とする光
ディスク原盤。
【請求項２】光ディスクに予め記録しておく所望の情報
信号に基づいて、上記情報信号に対応する凹凸パターン
を有する第１の光ディスク原盤を作製する第１工程と、上記第１の光ディスク原盤に基づいて、凹凸形状が上記
凹凸パターンと反転した反転凹凸パターンを有するスタ
ンパを作製する第２工程と、基板上に熱硬化型または紫外線硬化型の樹脂層を形成
し、この樹脂層の１区域に上記スタンパを圧着した後、
スタンパ圧着部位を硬化させ、上記凹凸パターンを転写
する第３工程と、上記樹脂層の全域に対して上記第３工程を繰り返すこと
により、複数の上記凹凸パターンが形成された第２の光
ディスク原盤を作製する第４工程とから成ることを特徴
とする光ディスク原盤の製造方法。
【請求項３】所望の情報信号に対応する凹凸パターンが
予め形成された光ディスクの複製に用いる光ディスク原
盤に基づいて、凹凸形状が上記凹凸パターンと反転した
反転凹凸パターンを有する電鋳膜を得、この電鋳膜をシ
リンダの円筒面に接着して作製するドラム型スタンパの
製造方法において、光ディスク原盤から剥離される前の電鋳膜上に接着層を
形成した後、この接着層の端縁に上記シリンダの円筒面
を圧着し、上記電鋳膜を上記円筒面に接着しながら剥離
していくことを特徴とするドラム型スタンパの製造方
法。
【請求項４】所望の情報信号に対応する凹凸パターンが
予め形成された光ディスクの複製に用いる光ディスク原
盤に基づいて、凹凸形状が上記凹凸パターンと反転した
反転凹凸パターンを円筒面に有するドラム型スタンパの
製造方法において、可撓性の光ディスク原盤に基づいて、ドラム型スタンパ
を作製することを特徴とするドラム型スタンパの製造方
法。
【請求項５】所望の情報信号に対応する凹凸パターンが
予め形成された光ディスクの複製に用いる光ディスク原
盤に基づいて、凹凸形状が上記凹凸パターンと反転した
反転凹凸パターンを円筒面に有するドラム型スタンパの
製造方法において、可撓性を有するフレキシブル基板を用いて光ディスク原
盤を作製する工程と、上記光ディスク原盤上に導電膜を形成した後、上記導電
膜が内面となるように、上記光ディスク原盤および導電
膜を円筒状にする工程と、上記円筒状の導電膜の内面に電鋳層を積層する工程とか
ら成ることを特徴とするドラム型スタンパの製造方法。
【請求項６】上記円筒状の光ディスク原盤および導電膜
をシリンダフレームに嵌挿し、上記円筒状の光ディスク
原盤の外面を上記シリンダフレームの内面に密接させた
後、上記円筒状の導電膜の内面に電鋳層を積層すること
を特徴とする請求項５に記載のドラム型スタンパの製造
方法。