JPH0493078A - ショットキーダイオード - Google Patents

ショットキーダイオード

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JPH0493078A
JPH0493078A JP2209105A JP20910590A JPH0493078A JP H0493078 A JPH0493078 A JP H0493078A JP 2209105 A JP2209105 A JP 2209105A JP 20910590 A JP20910590 A JP 20910590A JP H0493078 A JPH0493078 A JP H0493078A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
schottky diode
formula
hydrogen atom
organic semiconductor
polymer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2209105A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsunori Aoki
克徳 青木
Yasuhiko Osawa
康彦 大澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Motor Co Ltd
Original Assignee
Nissan Motor Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、安定性に優れ、電解重合法により容易に形
成可能な導電性重合体からなるP型半導体の表面に特定
の金属層が形成されてなるショクI・キーダイオードに
関する。
(従来の技術) 従来のP現有機半導体を用いたショットキーダイオード
としては、例えば特開昭56−146284号公報、特
開昭56−147487号公報に開示されているような
導電性ポリアセチレンにアルミニウム等の金属を被着し
てなるショットキーダイオードが知られている。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、このような従来の導電性ポリアセチレン
を用いたショットキーダイオードにあっては、空気中の
酸素や水分によって極めて酸化劣化し易いためそのショ
ットキーダイオードは整流性等の電気的特性が安定して
得られないという問題点があった。
(課題を解決するための手段) かかる現況に鑑み本発明者らは従来のショットキーダイ
オードの問題点を解決すべく鋭意研究を行った結果、次
の構造式 (式中のGは水素原子、アルキル基、またはアルコキシ
ル基を示し、nは0または1を示す)で表わされる、電
解酸化法により得られた酸化重合体を用いることにより
解決し得ることを知見し、この発明を達成するに至った
従って、この発明のショットキーダイオードは、式(1
)で表わされる繰返し単位を有する、電解酸化法により
得られた重合体から成るP現有機半導体膜の表面にアル
ミニウム(AI)、インジウム(In)およびガリウム
(Ga)よりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属
層が形成されてなるものである。
この発明において、上記P現有機半導体膜を形成する重
合体としては、式(1)のnが0または1のいずれかの
繰返し単位を有する重合体またはnが0または1の式(
1)の繰返し単位を有する重合体が任意の割合で混合さ
れてなる重合体が用いられる。
(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例により説明する
裏旌拠上 式(1)において、Gが水素原子、nがOのモノマブチ
ルアンモニウムへキサフルオロフォスフェートを含むベ
ンゾニトリル溶液中でガラス基板上に設けた酸化インジ
ウム錫 (ITO)を作用電極として、電解酸化を行い
電解重合膜から成るP型半導体の膜(3000人)を得
た。これを約10%アニオンドーピングしたのち、アセ
トム1−リルで洗浄し、乾燥した後、上部電極として八
1を蒸着しく500人)、第1図に示すようなショット
キーダイオード(へ1/P型有機半導体/ITO)を作
製した。第1図において1はガラス基板、2はITO,
3はP型半導体、4はアルミニウム、5はリード線を示
す。
このようにして得たダイオードの電流−電圧特性を第2
図に示す。±3.5vにおける整流比は11倍であった
。第2図から明らかなように得られたショットキーダイ
オードは良好な整流性を有し、またこの特性は経時的に
変化することなく、安定したものであった。
実施撚1 式(1)において、Gが水素原子、nが0のモノマを1
;4の割合で調整した混合溶液から電解重合膜を電解酸
化により形成した以外は、実施例1と同様にしてショッ
トキーダイオード(AI/P型有機半導体/ITO)を
作製した。
第3図かられかるように逆方向は電流はほとんど流さず
、±3,5vでの整流比は102以上であった。
このように得られたショットキーダイオードは良好な整
流性を有し、またこの特性は経時的に変化することなく
安定したものであった。
(発明の効果) 以上説明してきたように、この発明によれば、その構成
をトリフェニルアミンにチオフェン部位が直接結合した
モノマーの電解酸化重合膜からなるP型有機半導体表面
に特定の金属層を被着したショットキーダイオードとし
たため、酸素および水分等によって劣化することがなく
安定に使用できる。また電解重合法によって重合体を形
成することができる点できわめて容易に、ショットキー
ダイオードを作製できるという効果が得られる。
更にドーピングレベルの調節により、重合体膜の抵抗お
よび光の吸光度を調節することも容易であり、かかるシ
ョットキーダイオードは電子阻止回路におけるダイオー
ドや太陽電池等の用途に役立つ。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一例のショットキーダイオードの断
面図、 第2図および第3図はそれぞれ実施例1および実施例2
のショットキーダイオード(AI/P型有機半導体#T
O)の電流−電圧特性図である。 1・・・ガラス基板    2・・・ITO3・・・P
型半導体    4・・・アルミニウム5・・・リード

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  1、下記構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(1) (式中のGは水素原子、アルキル基、またはアルコキシ
    ル基を示し、nは0または1を示す)で表わされる繰返
    し単位を有する、電解酸化法により得られた重合体から
    成るP型有機半導体膜の表面にアルミニウム、インジウ
    ムおよびガリウムよりなる群から選ばれた少なくとも1
    種の金属層が形成されてなることを特徴とするショット
    キーダイオード。  2、nが0または1の式(1)の繰返し単位を有する
    重合体が任意の割合で混合されてなる重合体を用いたこ
    とを特徴とする請求項1記載のショットキーダイオード
JP2209105A 1990-08-09 1990-08-09 ショットキーダイオード Pending JPH0493078A (ja)

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