JP2006520478A - 有機材料を用いたディスプレイ - Google Patents
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Abstract
Description
図3Bによる構造を有するダイオードは、基板としてのガラス、第1の電極としてのインジウム酸化スズ(ITO)電極、半導体としての100nm肉厚層のMEH−PPV(ポリ(2−メトキシ),5エチル,(2’ヘキシルオキシ)パラ−フェニレン ビニレン)、第2の電極としてのアルミニウム電極で作られる。ITO電極は、フォトリソグラフィが続くスパッタリングとその後の湿式エッチングで形成されている。MEH−PPVは、トルエン溶液内のほぼ0.5%の固形分からスピンキャスティングにより基板上に形成してある。アルミニウム電極は熱蒸着により基板上に形成され、パターン形成はシャドーマスキングによって達成される。
図3Bになる構造を有するダイオードは、基板としてのガラス、第1の電極としてのインジウム酸化スズ(ITO)、半導体としてのMEH−PPV(ポリ(2−メトキシ),5エチル,(2’ヘキシルオキシ)パラ−フェニレン ビニレン)、第2の電極としてのアルミニウム電極を用いて製作したものである。ITO電極は、湿式エッチングが続くスパッタリングで形成されている。MEH−PPVは、トルエン溶液内の0.5%固形分を用いることでインクジェット印刷により基板上に形成されている。アルミニウム電極は熱蒸着により基板上に形成され、パターン形成はシャドーマスキングにより行われる。
Claims (68)
- それぞれが発光するように構成された複数のピクセルと、
それぞれがピクセルからの光照射を調整するように構成され、有機半導体を含む1以上の2端子スイッチング素子を含む前記複数のピクセル制御回路と
を備えるディスプレイ。 - 前記ピクセル制御回路は、互いに逆向きに並列配置した2端子スイッチング素子を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記ピクセル制御回路のうちの1以上は、直列配置した2以上の2端子スイッチング素子を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記半導体は、ポリマー、共役ポリマー、オリゴマーからなる群から選択した1以上の成分を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記半導体は、アセチレン、フェニレン、ビニレン、フルオリン、チオフェン、シクロペンタジチォフェンからなる群から選択したユニットを備えるバックボーンを有する1以上のポリマーを含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記半導体は共重合体を含む請求項5記載のディスプレイ。
- 前記有機半導体は、MEH−PPV(ポリ(2−メトキシ),5エチル,(2’ヘキシルオキシ)パラ−フェニレンビニレン)を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記有機半導体はポリ(3−ヘキシル−チオフェン)を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記1以上の2端子スイッチング素子は、有機導体を含む少なくとも一つの電極を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記有機導体は、ポリアニリン、ポリピロール、ポリエチレンジオキシチオフェンからなる群から選択した1以上の成分を含む請求項9記載のディスプレイ。
- 前記ピクセル制御回路は、透明基板上に配置した請求項1記載のディスプレイ。
- 前記1以上のスイッチング素子は、第1の電極と第2の電極の間に配置した有機半導体を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記第1の電極と前記第2の電極は、それぞれ有機導体を含む請求項1記載のディスプレイ。
- 前記ピクセル制御回路は、300℃未満の融点を有する基板上に含まれる請求項1記載のディスプレイ。
- 前記ピクセルはそれぞれ第1のピクセル電極と第2のピクセル電極の間に配置した液晶を含む請求項1記載のディスプレイ。
- それぞれが発光する構成とされた複数のピクセルと、
それぞれが前記ピクセルからの光の照射を調整する構成とされ、有機導体を含む1以上の電極を含む前記複数のピクセル制御回路と
を備えるディスプレイ。 - 前記有機導体は、ポリアニリン、ポリピロール、ポリエチレンジオキシチォフェンからなる群から選択した1以上の成分を含む請求項16記載のディスプレイ。
- 少なくとも一つの2端子スイッチング素子が有機半導体を含む請求項16記載のディスプレイ。
- 前記半導体は、ポリマー、共役ポリマー、オリゴマーからなる群から選択した請求項18記載のディスプレイ。
- 前記半導体は、アセチレン、フェニレン、ビニレン、フルオリン、チオフェン、シクロペンタジチオフェンからなる群から選択したユニットを備えるバックボーンを有する1以上のポリマーを含む請求項19記載の方法。
- 前記ピクセル制御回路はそれぞれ複数の電極を含み、該各電極が有機導体を含む請求項16記載のディスプレイ。
- 前記ピクセルはそれぞれ、第1のピクセル電極と第2のピクセル電極の間に配置した液晶を含む請求項16記載のディスプレイ。
- それぞれがディスプレイ上のピクセルからの光の照射を調整するように構成されており、基板上に設けた複数のピクセル制御回路でzって、前記基板が400℃未満の融点を有する前記複数のピクセル制御回路を備えるディスプレイ。
- 前記基板は、300℃未満の融点を有する請求項23記載のディスプレイ。
- 前記基板は、60℃〜350℃の範囲の融点を有する請求項23記載のディスプレイ。
- 前記基板のうちの少なくとも一つが、60℃〜300℃の範囲の融点を有する請求項23記載のディスプレイ。
- 前記基板は、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、マイラー、PET(ポリエチレンテレフタレート)、ポリイミドからなる群から選択した材料を含む請求項23記載のディスプレイ。
- 前記ピクセル制御回路は、半導体として機能する有機材料を含む請求項23記載のディスプレイ。
- 前記ピクセル制御回路は、有機導体を含む1以上の電極を含む請求項23記載のディスプレイ。
- 前記ピクセルはそれぞれ、ピクセル制御回路に接続したピクセル電極を含む請求項23記載のディスプレイ。
- 少なくとも一つが350℃未満の融点を有する基板の間に配置した液晶を備えるディスプレイ。
- 前記各基板は、300℃未満の融点を有する請求項31記載のディスプレイ。
- 前記基板のうちの少なくとも一つは、60℃〜350℃の範囲の融点を有する請求項31記載のディスプレイ。
- 前記基板のうちの少なくとも一つは、60℃〜300℃の範囲の融点を有する請求項31記載のディスプレイ。
- 前記基板のうちの少なくとも一つは、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、マイラー、PET(ポリエチレンテレフタレート)、ポリイミドからなる群から選択した材料を含む請求項31記載のディスプレイ。
- 複数のピクセル制御回路が前記基板のうちの一つに配置されており、前記ピクセル制御回路がディスプレイ上のピクセルからの光の照射を調整し、かつ半導体として機能する有機材料を含む請求項31記載のディスプレイ。
- 前記基板のうちの一つに複数ピクセル制御回路が配置してあり、各ピクセル制御回路が前記ディスプレイ上のピクセルからの光の照射を調整する構成とされ、有機導体を含む1以上の電極を含む請求項31記載のディスプレイ。
- ディスプレイ形成方法であって、
前記ディスプレイに使用する基板を得ることと、
前記基板上に、それぞれがピクセルからの光の照射を制御する複数のピクセル制御回路を形成することとを含み、
前記ピクセル制御回路を形成することが、前記基板上への溶液からの半導体を付着させることを含む、方法。 - 前記半導体は有機半導体である請求項38記載の方法。
- 前記半導体は、ポリマー、共役ポリマー、オリゴマーからなる群から選択した請求項39記載の方法。
- 前記半導体は、アセチレン、フェニレン、ビニレン、フルオリン、チオフェン、シクロペンタジチオフェンからなる群から選択したユニットを備えるバックボーンを有する1以上のポリマーを含む請求項39記載の方法。
- 前記有機半導体は、MEH−PPV(ポリ(2−メトキシ),5エチル,(2’ヘキシルオキシ)パラ−フェニレンビニレン)を含む請求項39記載の方法。
- 前記有機半導体は、ポリ(3−ヘキシル・チオフェン)を含む請求項39記載の方法。
- 前記溶液は、半導体と溶剤を含む請求項38記載の方法。
- 前記基板上に半導体を付着させることが、スピンコーティング、スプレーコーティング又はディップコーティングを含む請求項38記載の方法。
- 前記基板上に半導体を付着させることが、前記基板の1以上の部分を変質させ、前記溶液を前記基板の領域に優先的に付着させることを含む請求項38記載の方法。
- 前記基板の1以上の部分を変質させることは、前記基板の1以上の部分の疎水特性の増大化を含む請求項46記載の方法。
- 前記基板のうちの1以上の部分を変質させることは、前記基板の1以上の部分の親水特性の増大化を含む請求項47記載の方法。
- 前記基板上に前記半導体をパターン化することをさらに含む請求項38記載の方法。
- 前記半導体をパターン化することは、前記半導体をパターン化するフォトリソグラフィの使用を含む請求項38記載の方法。
- 前記基板上に半導体を付着させることは、前記基板上に前記半導体を印刷することを含む請求項38記載の方法。
- 前記基板上に前記半導体を印刷することは、インクジェット印刷、熱転写印刷、シルクスクリーン印刷、又はオフセット印刷を含む請求項51記載の方法。
- 前記基板上に前記半導体を付着させることは、インクジェット印刷を含む請求項51記載の方法。
- 前記基板上に前記回路を形成することが前記基板上への電極形成を含み、前記半導体を付着させることが前記電極への前記半導体の少なくとも一部を付着させることを含む請求項38記載の方法。
- 前記基板上に回路を形成することは、有機導体を含む1以上の電極を前記基板上への形成することを含む請求項38記載の方法。
- 前記基板は、350℃未満の融点を有する請求項38記載の方法。
- ディスプレイ形成方法であって、
前記ディスプレイに使用する基板を得ることと、
それぞれがピクセルからの発光を調整するように構成された複数のピクセル制御回路を前記基板上に形成するとを含み、
前記ピクセル制御回路を形成することが前記基板上への有機半導体のパターン形成を含む、方法。 - ディスプレイの形成方法であって、
前記ディスプレイに使用する基板をえることと、
それぞれがピクセルからの発光を調整するように構成された複数のピクセル制御回路を前記基板上に形成するとを含み、
前記ピクセル制御回路を形成することが前記基板上に有機導体を含む1以上の電極を形成することを含む、方法。 - 前記有機導体は、ポリアニリン、ポリピロール、ポリエチリンジオキシチオフェンからなる群から選択した請求項58記載の方法。
- 前記基板上に1以上の電極を形成することは、前記基板上への溶液から有機導体を付着させることを含む請求項58記載の方法。
- 前記基板上に前記有機導体を付着させることは、スピンコーティング、スプレーコーティング、又はディップコーティングを含む請求項60記載の方法。
- 前記有機導体を前記基板上に付着させた後、前記有機導体をパターン化することをさらに含む請求項60記載の方法。
- 前記有機導体をパターン化することは、前記半導体をパターン化するフォトリソグラフィの使用を含む請求項62記載の方法。
- 前記基板上に前記有機導体を付着させることは、前記基板上へ前記半導体のパターンを形成することを含む請求項60記載の方法。
- 前記基板上に前記有機導体を付着させることは、インクジェット印刷、熱転写印刷、シルクスクリーン印刷、又はオフセット印刷を含む請求項60記載の方法。
- 前記基板上へ前記半導体を付着させることは、インクジェット印刷を含む請求項60記載の方法。
- 前記基板は、350℃未満の融点を有する請求項58記載の方法。
- それぞれが有機材料を含むピクセル電極を含み、発光する構成とされた複数のピクセルと、
それぞれがピクセルからの光の照射を調整するように構成された複数のピクセル制御回路とを備えるディスプレイ。
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