JPH0491463A - 半導体集積回路のパッケージ - Google Patents
半導体集積回路のパッケージInfo
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- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路のパンケージに関し、特に半
導体集積回路への高周波ノイズの侵入を防止する半導体
集積回路のパッケージに関するものである。
導体集積回路への高周波ノイズの侵入を防止する半導体
集積回路のパッケージに関するものである。
第5図は従来の半導体集積回路のパッケージを示してお
り、図中5は、パッケージを構築する枠体6内に収納さ
れた半導体集積回路である。半導体集積回路5の周囲に
は、枠体6を貫通して延在した電源用のリードフレーム
1.入力信号線用の3本のリードフレーム2a、 2b
+ 2c、接地用のリードフレーム3.出力信号線用の
3本のリードフレーム4a+ 4b+ 4cの各一端が
位置している。リードフレーム1.2a、 2b、 2
c、 3.4a、 4b、 4cの各端部と半導体集
積回路5の対応する各電極とは、インナーリード7a、
7b、 7c、 7d、 7e、 7f、 7g、
7hにて接続されている。
り、図中5は、パッケージを構築する枠体6内に収納さ
れた半導体集積回路である。半導体集積回路5の周囲に
は、枠体6を貫通して延在した電源用のリードフレーム
1.入力信号線用の3本のリードフレーム2a、 2b
+ 2c、接地用のリードフレーム3.出力信号線用の
3本のリードフレーム4a+ 4b+ 4cの各一端が
位置している。リードフレーム1.2a、 2b、 2
c、 3.4a、 4b、 4cの各端部と半導体集
積回路5の対応する各電極とは、インナーリード7a、
7b、 7c、 7d、 7e、 7f、 7g、
7hにて接続されている。
ところで、外部から半導体集積回路5へ高周波ノイズが
入力されることを防止する必要があり、いろいろな高周
波ノイズ対策が施されている。第6図は、このような高
周波ノイズ対策の一例を示しており、図中10は、第5
図に示すような構成を有する半導体集積回路のパンケー
ジである。リードフレーム1には電源用の信号線11が
接続されており、リードフレーム2a、 2b、 2c
には入力信号線12a、 12b、 12cが夫々接続
している。また、リードフレーム3には接地用の信号線
13が接続され、リードフレーム4a、 4b、 4c
には出力信号線14a、 14b。
入力されることを防止する必要があり、いろいろな高周
波ノイズ対策が施されている。第6図は、このような高
周波ノイズ対策の一例を示しており、図中10は、第5
図に示すような構成を有する半導体集積回路のパンケー
ジである。リードフレーム1には電源用の信号線11が
接続されており、リードフレーム2a、 2b、 2c
には入力信号線12a、 12b、 12cが夫々接続
している。また、リードフレーム3には接地用の信号線
13が接続され、リードフレーム4a、 4b、 4c
には出力信号線14a、 14b。
14cが夫々接続している。各入力信号&112a、1
2b。
2b。
12cには、高周波ノイズ対策用のフェライトコア15
a、 15b、 15cが夫々取付けられている。そし
て、外部から高周波ノイズが各入力信号線12a、 1
2b、 12cに侵入した場合に、各フェライトコア1
5a、 15b、 15cが各入力信号線12a、 1
2b、 12cのインピーダンスを上昇させるので、各
入力信号線12a、 12b、 12cに侵入した高周
波ノイズは減衰する。
a、 15b、 15cが夫々取付けられている。そし
て、外部から高周波ノイズが各入力信号線12a、 1
2b、 12cに侵入した場合に、各フェライトコア1
5a、 15b、 15cが各入力信号線12a、 1
2b、 12cのインピーダンスを上昇させるので、各
入力信号線12a、 12b、 12cに侵入した高周
波ノイズは減衰する。
上述したように、従来の高周波ノイズ対策は、半導体集
積回路のパッケージの外部において入力信号線にフェラ
イトコアを設けることとしている。
積回路のパッケージの外部において入力信号線にフェラ
イトコアを設けることとしている。
従って、小型システム化を実現するためにはフェライト
コアが占める面積を極力小さくする必要がある。ところ
が、フェライトコアは微細加工が困難であるので、従来
の高周波ノイズ対策ではシステムの小型化を達成するこ
とができないという問題点がある。
コアが占める面積を極力小さくする必要がある。ところ
が、フェライトコアは微細加工が困難であるので、従来
の高周波ノイズ対策ではシステムの小型化を達成するこ
とができないという問題点がある。
本発明はこのような問題点を解決するためになされたも
のであり、高周波ノイズの半導体集積回路への侵入を防
ぐと共にシステムの小型化が可能である半導体集積回路
のパッケージを提供することを目的とする。
のであり、高周波ノイズの半導体集積回路への侵入を防
ぐと共にシステムの小型化が可能である半導体集積回路
のパッケージを提供することを目的とする。
本発明に係る半導体集積回路のパンケージは、入力信号
用のリードフレームの少なくとも1本に、高周波ノイズ
を防止するような磁化特性、つまり高周波ノイズによっ
て透磁率が減少するような磁化特性を持つアモルファス
層を、リードフレームを取り巻くように設けてあること
を特徴とする。
用のリードフレームの少なくとも1本に、高周波ノイズ
を防止するような磁化特性、つまり高周波ノイズによっ
て透磁率が減少するような磁化特性を持つアモルファス
層を、リードフレームを取り巻くように設けてあること
を特徴とする。
本発明の半導体集積回路のパッケージにあっては、アモ
ルファス層が設けられているリードフレームに高周波ノ
イズが侵入した場合、アモルファス層の透磁率が減少す
る。そうすると、リードフレームのインピーダンスが増
加し、高周波ノイズは減衰する。
ルファス層が設けられているリードフレームに高周波ノ
イズが侵入した場合、アモルファス層の透磁率が減少す
る。そうすると、リードフレームのインピーダンスが増
加し、高周波ノイズは減衰する。
以下、本発明をその実施例を示す図面に基づいて具体的
に説明する。
に説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示しており、第2図は第
1図における各入力信号線用のリードフレーム2a、
2b、 2cの断面図である。図中5は、パッケージを
構築する枠体6内に収納された半導体集積回路である。
1図における各入力信号線用のリードフレーム2a、
2b、 2cの断面図である。図中5は、パッケージを
構築する枠体6内に収納された半導体集積回路である。
半導体集積回路5の周囲には、枠体6を貫通して延在し
た電源用のリードフレーム1.入力信号線用のの3本の
リードフレーム2a+2b、 2c、接地用のリードフ
レーム3.出力信号線用の3本のリードフレーム4a、
4b、 4cの各一端が位置決している。リードフレ
ーム1 、2a、 2b、 2c。
た電源用のリードフレーム1.入力信号線用のの3本の
リードフレーム2a+2b、 2c、接地用のリードフ
レーム3.出力信号線用の3本のリードフレーム4a、
4b、 4cの各一端が位置決している。リードフレ
ーム1 、2a、 2b、 2c。
3、4a+ 4b、 4cの各端部と半導体集積回路5
の対応する各電極とは、インナーリード7a+ 7b+
7c+7d、 7e、 7f、 7g、 7hにて接
続されでいる。
の対応する各電極とは、インナーリード7a+ 7b+
7c+7d、 7e、 7f、 7g、 7hにて接
続されでいる。
入力信号線用の各リードフレーム2a+ 2b、2cに
は、枠体6内の領域において、各リードフレーム2a、
2b、 2cを取り巻くような態様にて、高周波ノイ
ズを防止することが可能である磁化特性、つまり高周波
ノイズによって透磁率が減少するような磁化特性を有す
る鉄系のアモルファスJi8a、 8b。
は、枠体6内の領域において、各リードフレーム2a、
2b、 2cを取り巻くような態様にて、高周波ノイ
ズを防止することが可能である磁化特性、つまり高周波
ノイズによって透磁率が減少するような磁化特性を有す
る鉄系のアモルファスJi8a、 8b。
8cが設けられている。各リードフレーム2a、 2b
。
。
2cとアモルファス層8a、 8b、 8cとの間には
、両者の導通を防ぐための絶縁物9a、 9b、 9c
が介在されている。 CVD法、スパッタ法、蒸着法
、メツキ法またはアモルファス薄帯を巻く方法等によっ
て、このようなアモルファス層を各リードフレーム2a
。
、両者の導通を防ぐための絶縁物9a、 9b、 9c
が介在されている。 CVD法、スパッタ法、蒸着法
、メツキ法またはアモルファス薄帯を巻く方法等によっ
て、このようなアモルファス層を各リードフレーム2a
。
2b、 2cに設けることができる。
次に、動作について説明する。各リードフレーム2a、
2b、 2cに高周波ノイズが侵入すると、各アモル
ファス層8a+ 8b+ 8cの透磁率が減少する。こ
の結果、各リードフレーム2a、 2b 2cのイン
ピーダンスが増加して、侵入した高周波ノイズは減衰す
る。本発明では、このようにしてパッケージの内部にお
いて、高周波ノイズ対策を施すことができるので、フェ
ライトコア等のような対策部品をパッケージ外に設ける
必要がない。
2b、 2cに高周波ノイズが侵入すると、各アモル
ファス層8a+ 8b+ 8cの透磁率が減少する。こ
の結果、各リードフレーム2a、 2b 2cのイン
ピーダンスが増加して、侵入した高周波ノイズは減衰す
る。本発明では、このようにしてパッケージの内部にお
いて、高周波ノイズ対策を施すことができるので、フェ
ライトコア等のような対策部品をパッケージ外に設ける
必要がない。
なお、上述の実施例では、各リードフレーム2a+2b
、 2cの枠体6内の領域に、各アモルファス層8a+
8b、 8cを設けているが、このアモルファス層8a
。
、 2cの枠体6内の領域に、各アモルファス層8a+
8b、 8cを設けているが、このアモルファス層8a
。
8b、 8cを設ける位置は、各リードフレーム2a+
2b+20の任意の位置であって良い。前述の実施例
とはアモルファス層8a、 8b、 8cの設置位置が
異なる本発明の別の実施例を第3図に示す。
2b+20の任意の位置であって良い。前述の実施例
とはアモルファス層8a、 8b、 8cの設置位置が
異なる本発明の別の実施例を第3図に示す。
また、上述の実施例では、各リードフレーム2a2b、
2cと各アモルファス層8a、 8b、 8cとの間
に絶縁物9a、 9b、 9cを介在させているが、使
用するアモルファスの特性によっては、つまり使用する
アモルファスが低導電性である場合には、第4図に示す
ように、各リードフレーム2a+ 2b+ 2cを直接
各アモルファス層8a、 8b、 8cが取り巻くよう
にすることも可能である。
2cと各アモルファス層8a、 8b、 8cとの間
に絶縁物9a、 9b、 9cを介在させているが、使
用するアモルファスの特性によっては、つまり使用する
アモルファスが低導電性である場合には、第4図に示す
ように、各リードフレーム2a+ 2b+ 2cを直接
各アモルファス層8a、 8b、 8cが取り巻くよう
にすることも可能である。
更に、上述の実施例では、入力信号線用のすべてのリー
ドフレーム2a、 2b、 2cにアモルファス層8a
、 8b、 8cを設けることとしたが、これに限らず
、入力信号線用の少なくとも1本のリードフレームに高
周波ノイズ対策用のアモルファス層を設ける場合には、
同様の効果を奏する。
ドフレーム2a、 2b、 2cにアモルファス層8a
、 8b、 8cを設けることとしたが、これに限らず
、入力信号線用の少なくとも1本のリードフレームに高
周波ノイズ対策用のアモルファス層を設ける場合には、
同様の効果を奏する。
以上詳述したように、本発明の半導体集積回路のパッケ
ージでは、リードフレームに高周波ノイズ対策用のアモ
ルファス層を設けることとしたので、高周波ノイズの半
導体集積回路への侵入を防止できると共に、従来パンケ
ージの外部に設けていたフェライトコア等の高周波ノイ
ズ防止用の部品を設ける必要がなく、システムの小型化
を実現できるという効果がある。
ージでは、リードフレームに高周波ノイズ対策用のアモ
ルファス層を設けることとしたので、高周波ノイズの半
導体集積回路への侵入を防止できると共に、従来パンケ
ージの外部に設けていたフェライトコア等の高周波ノイ
ズ防止用の部品を設ける必要がなく、システムの小型化
を実現できるという効果がある。
第1図は本発明の半導体集積回路の一実施例を示す平面
図、第2図は第1図における入力信号線用のリードフレ
ームの断面図、第3図は本発明の別の実施例を示す平面
図、第4図は本発明の別の実施例における入力信号線用
のリードフレームの断面図、第5図、第6図は従来例を
示す平面図である。 2a、 2b、 2c・・・入力信号線用のリードフレ
ーム5・・・半導体集積回路 8a、 8b、 8c・
・・アモルファス層 9a、 9b、 9cm絶縁物 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
図、第2図は第1図における入力信号線用のリードフレ
ームの断面図、第3図は本発明の別の実施例を示す平面
図、第4図は本発明の別の実施例における入力信号線用
のリードフレームの断面図、第5図、第6図は従来例を
示す平面図である。 2a、 2b、 2c・・・入力信号線用のリードフレ
ーム5・・・半導体集積回路 8a、 8b、 8c・
・・アモルファス層 9a、 9b、 9cm絶縁物 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- (1)半導体集積回路と外部信号線とを接続するリード
フレームを備えた半導体集積回路のパッケージにおいて
、 前記外部信号線から入力される高周波ノイズによって透
磁率が減少するアモルファス層を、前記リードフレーム
に設けてあることを特徴とする半導体集積回路のパッケ
ージ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2206262A JPH0491463A (ja) | 1990-08-01 | 1990-08-01 | 半導体集積回路のパッケージ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2206262A JPH0491463A (ja) | 1990-08-01 | 1990-08-01 | 半導体集積回路のパッケージ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0491463A true JPH0491463A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16520418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2206262A Pending JPH0491463A (ja) | 1990-08-01 | 1990-08-01 | 半導体集積回路のパッケージ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0491463A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7636181B2 (en) | 2003-12-12 | 2009-12-22 | Ricoh Company, Ltd. | Image reading apparatus and image forming apparatus |
US7638870B2 (en) | 2005-07-22 | 2009-12-29 | Marvell International Ltd. | Packaging for high speed integrated circuits |
-
1990
- 1990-08-01 JP JP2206262A patent/JPH0491463A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7636181B2 (en) | 2003-12-12 | 2009-12-22 | Ricoh Company, Ltd. | Image reading apparatus and image forming apparatus |
US7638870B2 (en) | 2005-07-22 | 2009-12-29 | Marvell International Ltd. | Packaging for high speed integrated circuits |
US7884451B2 (en) | 2005-07-22 | 2011-02-08 | Marvell World Trade Ltd. | Packaging for high speed integrated circuits |
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