JPH0481978B2 - - Google Patents

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JPH0481978B2
JPH0481978B2 JP59270550A JP27055084A JPH0481978B2 JP H0481978 B2 JPH0481978 B2 JP H0481978B2 JP 59270550 A JP59270550 A JP 59270550A JP 27055084 A JP27055084 A JP 27055084A JP H0481978 B2 JPH0481978 B2 JP H0481978B2
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approx
reaction
range
catalyst
pressure
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JP59270550A
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JPS60169450A (ja
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Eru Sutotsugurin Yuujin
Soo Uinsuton Ho Uin
Ei Montaanya Anjero
Sarutori Guido
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ExxonMobil Technology and Engineering Co
Original Assignee
Exxon Research and Engineering Co
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Publication date
Application filed by Exxon Research and Engineering Co filed Critical Exxon Research and Engineering Co
Publication of JPS60169450A publication Critical patent/JPS60169450A/ja
Publication of JPH0481978B2 publication Critical patent/JPH0481978B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C213/00Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C213/02Preparation of compounds containing amino and hydroxy, amino and etherified hydroxy or amino and esterified hydroxy groups bound to the same carbon skeleton by reactions involving the formation of amino groups from compounds containing hydroxy groups or etherified or esterified hydroxy groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
発明の背景 (1) 発明の分野 本発明は、高温および高圧に於て、水素添加触
媒の存在下で第一アミノ化合物をポリアルケニル
エーテルグリコールと反応させることによる重度
立体障害第二アミノエーテルアルコールの選択的
製造方法に関する。重度立体障害第二アミノエー
テルアルコールは酸性ガス洗浄プロセス、特に、
CO2とH2Sとを含むガス状流からのH2Sの選択的
除去に有用である。 (2) 関連特許および刊行物の説明 最近、H2S含有ガス状流からのH2Sの洗浄、特
にCO2とH2Sとを含む通常ガス状の混合物からの
H2Sの選択的除去に、重度立体障害第二アミノエ
ーテルアルコールがメチルジエタノールアミン
(MDEA)より優れていることが示された。かか
る方法は米国特許第4404585号に記載され、特許
請求されている。この特許の記載は参照文として
本明細書に含まれるものとする。これらの化合物
は、嵩ばつた炭素原子基を有する第二アミンをハ
ロアルコキシアルカノールと反応させるような方
法で製造することができる。この方法は、米国特
許第4471138号に、より完全に記載されている。
この特許の記載は参照文として本明細書に含まれ
るものとする。ハロアルコキシアルカノールの使
用に固有の1つの欠点は、ハロゲン化物副生成物
が生成するため耐食性装置を使用しなければなら
ずかつこれらのハロゲン化物副生成物を除去しな
ければならないことである。かかる方法は、副生
成物のアミン塩酸塩を無機塩化物へ変えるための
苛性アルカリの使用とそれに続く過とを含む数
多くの精製工程を必要とする。かかる精製操作は
所望のアミン生成物の製造原価を上げる原因とな
る。加えて、この方法で生成する多量の無機塩化
物の投棄は環境問題を引き起こす可能性がある。 水素添加−脱水素触媒による、アンモニア、第
一および第二アミンでのアルコールのアミノ化
は、エンサイクロペデイア・オブ・ケミカル・テ
クノロジー(ENCYCLOPEDIA OF
CHEMICAL TECHNOLOGY)第2巻、第3
版、276頁に記載されているように周知である。
しかし、非常に嵩ばつたアミンは、この方法には
無効のように思われる。 米国特許第3223734号は、アミノ部分の隣り
(α)の炭素が枝分かれしているアミンはアミ
ン/アルコールアミノ化反応で劣つた結果を与え
るのでかかるアミノ化方法にとつてあまり好まし
くないと記載している。 米国特許第3366687号
は、α−分枝イソプロピルアミンを用いるアミノ
化方法の有望性を記載している。しかし、もつと
嵩ばつた第三アルキル基をこのアミノ化反応に用
いることは記載していない。 米国特許第
3223734号も同様3366687号も共に、バリウム促進
亜クロム酸銅触媒がアミン/アルコールアミノ化
方法で60%を越える収率を与えることができると
記載している。ベイカー(Baiker)およびリチ
ヤーズ(Richarz〔テトラヘドロン・レター
(Tetrahedron Lett)、1967(1977)〕は、連続式
操作(固定床反応)によるジメチルアミン/アル
コール反応が、銅−クロム酸化物触媒(BASF
H3−107)を用いるとき第三アミンへの96%以上
の転化率を与えると報告している。ムラハスク
(Murahask)〔Chem.Comm.、931(1974)〕は、
パラジウム黒を用いると98%の収率でベンジルア
ルコールのC6アミンによるアミノ化が触媒され
ると記載している。 これらの記載とは対照的に、本発者らは、バリ
ウム促進または無促進亜クロム酸銅触媒およびパ
ラジウム黒触媒が第三ブチルアミンのような嵩ば
つたアミンとジエチレングリコールとの反応を触
媒しないことを見いだした。 本発明は、水素添加−脱水素触媒の存在下に於
て、立体障害を有する第一アミノ化合物をポリア
ルケニルエーテルグリコールと反応させるかある
いは第一アミノ化合物を立体障害をもつポリアル
ケニルエーテルグリコールと反応させるとき、重
度立体障害第二アミノエーテルアルコールが生成
するという発見に基づくものである。全く予期し
なかつたことには、得られた重度立体障害第二ア
ミノエーテルアルコールが、過剰のグリコール反
応成分を用いた場合でも、余分のグリコール反応
成分とさらに反応して第三アミンを生成すること
がない。このことは、典型的に第三アミンを与え
る、ポリアルケニルエーテルグリコールの第一ア
ミノ化合物によるアミノ化を含む他の方法とは対
照的である。 発明の要約 本発明は、 (a) 一般式 R1−NH2 (上記一般式中、R1は3−8個の炭素原子を
有する第二または第三アルキル基または3−8
個の炭素原子を有するシクロアルキル基からな
る群から選ばれる) を有する第一アミノ化合物を、 (b) 一般式 (上記一般式中、R2、R3、R4、R5は、おのお
のが独立に、水素、C1−C4アルキル基、C3
C8シクロアルキル基からなる群から選ばれ、
但し、窒素原子に直接結合しているR1の炭素
原子が第二級である場合には、ヒドロキシル基
に結合しているR2およびR3の少なくとも1個
はアルキルまたはシクロアルキルであることを
条件とし、x、yは、おのおのが独立に、2−
4の範囲の正整数であり、zは1−10、好まし
くは1−6、より好ましくは1−4である)を
有するポリアルケニルエーテルグリコールと反
応させることからなる重度立体障害第二アミノ
化合物を選択的に製造するためのバツチ式また
は連続式方法であつて、該方法を、触媒有効量
の担持族金属含有水素添加触媒の存在下で、
高温、高圧に於て行い、かつzが1より大きい
場合にはアミノ化合物対ポリアルケニルエーテ
ルグリコールのモル比が2:1未満である方法
に関する。 好ましくは、R1は4−6個の炭素原子を有す
るアルキル基でありかつRおよびR3は水素であ
りかつxおよびyは2である。最も好ましくは、
R1は第三ブチルでありかつR2およびR3は水素で
ありかつxおよびyは2でありかつzは1であ
る。反応成分をそのように定義するとき、化合物
第三ブチルアミノエトキシエタノール(TBEE)
が製造される。 発明の具体的説明 本発明の好ましい方法は、触媒有効量の水素添
加触媒の存在下に於けるジエチレングリコールの
第三ブチルアミンによるアミノ化を含む。この反
応は下記の一般方程式によつて示される。 上記方程式からわかるように、反応成分第三ブ
チルアミン(TBA)およびジエチレングリコー
ル(DEG)または所望の反応生成物第三ブチル
アミノエトキシエタノール(TBEE)のいずれか
の脱水によつて望ましくない副生成物N−第三ブ
チルモルホリン(TBM)が生成する。かくし
て、反応条件を制御することにより、あるいは例
えば連続反応方式で反応生成物をできるだけ速や
かに反応ゾーンから取り去ることにより、あるい
は反応時間を制御することにより、TBMの生成
量を最少にする。 本発明のアミノ化方法は、約160°−約425℃、
好ましくは約180°−約400℃、最も好ましくは約
190°−約350℃の範囲の温度で、圧力下で行われ
る。反応器内圧力は、約3.515−約210.9Kg/cm2
ージ圧(約50−約3000psig)、好ましくは約7.03
−約70.3Kg/cm2ゲージ圧(約100−約1000psig)、
最も好ましくは約10.545−約52.725Kg/cm2ゲージ
圧(約150−約750pisg)の範囲であることができ
る。 用いられる反応器には、本アミノ化方法を行う
ために所要な圧力に耐え得る任意の適当な容器が
含まれうる。好ましくは、アミノ化方法を固定床
反応器内で行い、それによつて反応成分を触媒固
定床上へ共流的または向流的に送る。本発明の方
法に使用するのに適当な他の反応器には、移動床
反応器および連続撹拌式反応器が含まれる。例え
ば、連続撹拌式反応器では、触媒を循環させかつ
反応成分および反応生成物を、制御された速度で
反応器中を通過させる。 本発明のアミノ化に用いる水素添加触媒には、
主として、公知の担持水素添加触媒のいずれかが
含まれる。説明のための水素添加触媒には、炭
素、シリカ、アルミナまたは他の耐火酸化物のよ
うな不活性担体上に析出させた白金、パラジウム
ならびに他のルテニウム、ロジウム、オスミウ
ム、イリジウムのような貴金属、ニツケル担持珪
藻土、ニツケル担持不活性担体、塊状ニツケルあ
るいはアルミナまたは珪藻土担体を有する、珪藻
塩および(または)アルミニウム塩と共沈させた
ニツケル−コバルトまたはニツケル−コバルト−
銅が含まれる。好ましい触媒には、シリカまたは
アルミナまたはシリカとアルミナとの混合物上に
担持された共沈ニツケルおよびニツケル−コバル
ト−銅が含まれる。白金担持アルミナも好まし
い。増加した濃度のニツケル、すなわち約40−70
重量%のニツケルを有する触媒はさらに好まし
い。好ましい触媒には、米国特許第3697445号、
第4251394号、第4251672号、第4263173号、第
4263225号、第4273680号、第4273939号、第
4307248号、第4318829号、に記載されている塊状
金属共沈水素添加触媒およびヨーロツパ特許出願
第8330339.2号に記載されかつ特許請求されてい
るアルミニウムおよびシリカ含有金属共沈触媒が
含まれるので、これらの記載は参照文として本明
細書に含まれるものとする。触媒は、アミノ化反
応に使用する前に、水素のような還元剤で還元ま
たは活性化することが好ましい。この還元または
活性化は、典型的には、175°−約400℃、好まし
くは200°−約350℃のような範囲の温度で、触媒
上へ水素を通じることによつて行われる。上記の
触媒に加えて、連続撹拌式反応器を用いるときの
連続アミノ化方法には、ラニーニツケルのような
非担持触媒を使用することができる。 水素添加触媒の濃度は、触媒有効濃度であり、
一般に、反応成分仕込重量に対して約0.1−約10
重量%、好ましくは約2−約8重量%の範囲であ
る。水素添加触媒の通常の前処理条件および取扱
いは、水素添加触媒技術に於ける当業者に公知の
ように実施されるべきである。 反応仕込物中のアミノ化合物対ポリアルケニル
エーテルグリコールの理論的当量モル比は1:1
である。ポリアルケニルエーテルグリコールがジ
エチレングリコールである場合には、アミノ化合
物対ジエチレングリコールのモル比は0.5:1−
6:1、好ましくは2:1−4:1の範囲であり
得る。ポリアルケニルグリコールがトリエチレン
グリコールまたはそれより高級のグリコールであ
る場合には、アミノ化合物対グリコールのモル比
は2:1未満に保たれねばならない。そうでない
と第二アミノエーテルアルコールは好ましくなく
なる。 ポリアルケニルエーテルグリコールのアミノ化
は溶媒なしで行われ得るが、しばしば反応媒質中
に不活性溶媒を含むことが望ましい。好ましく
は、溶媒は、反応成分がその中に溶解する環式も
しくは鎖状エーテルまたは炭化水素含有化合物で
ある。溶媒は、反応生成物から容易に除去できる
ように比較的低分子量でなければならない。溶媒
量は変化し得るが、一般に、使用反応成分の重量
に対して約10−50重量%、好ましくは約15−30重
量%の範囲である。好ましくは約15−30重量%の
範囲である。好ましい溶媒には、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ト
ルエンが含まれる。 触媒の還元は、水素の存在によつて本発明の方
法を行いながらその場で行うことができる。しか
し、水素は本発明の方法の実施にとつて不可欠で
はないが、例えば触媒の失活を最少にするために
用いることが好ましい。 アミノ化反応に要する時間は、副生成物の生成
に関して重要であることがわかつた。特別な反応
に於ける実際の所要時間は様々であり、当業者に
公知のように、使用する特別な反応成分、触媒、
温度、圧力ならびにバツチサイズに依存する。一
般に、反応時間すなわち反応成分が反応温度およ
び圧力で触媒と接触している時間が長いと、N−
第三ブチルモルホリンおよび分解(fragmented)
アミンを含む副生成物の生成を招く。同様な影響
は温度を上げるときにも見られる。 反応が完了したら、反応生成物は、溶媒蒸発、
蒸留などのような公知の方法で都合よく回収する
ことができる。 以下、例(実施例および比較例)によつて本発
明をさらに説明する。しかし、これらの例はいか
なる点でも本発明を限定するものと考えられるべ
きではない。特に断らない限り、部および%はす
べて重量になる。 例 1 300mlのステンレス鋼製撹拌式オートクレーブ
に、60gの第三ブチルアミンと43.5gのジエチレ
ングリコールと75mlのトルエンと0.9gのNi−
Al2O3−SiO2触媒〔ハーシヤウ(Harshaw)Ni
−5132P〕とを添加した。このオートクレーブ
を、自生圧下に、200℃に6時間加熱した。内容
物を冷却し、取り出し、過した。オートクレー
ブと過ケーキとを追加のトルエンで洗浄した。
20mmHg圧力で蒸留し、35.70g(単離収率54%)
の、123−127℃/20mmHgの沸点を有する第三ブ
チルアミノエトキシエタノールを得た。 例 2 例1と同じ操作に従い、50mlのトルエン中の20
gの第三ブチルアミンと29gのジエチレングリコ
ールと0.6gのNi−Al触媒〔デグツサ(Degussa)
B−113W〕とを、200℃で6時間反応させた。オ
ートクレーブ反応器から収率34%の第三ブチルア
ミノエトキシエタノールを単離した。 例 3 (比較例) 例1と同じ操作に従い、50mlのトルエン中の40
gの第三ブチルアミンと29gのジエチレングリコ
ールと0.6のバリウム促進亜クロム酸銅触媒〔ア
ルフア(Alfa)〕とを、200℃のオートクレーブ
中で4時間反応させた。オートクレーブ中の物質
のガスクロマトグラフイー(G.C.)分析は、何ら
の反応も起こらなかつたことを示した。 例 4 (比較例) 例1と同じ操作に従い、50mlのトルエン中の20
gの第三ブチルアミンと29gのジエチレングリコ
ールとを、オートクレーブ中で、0.6gのパラジ
ウム黒触媒と共に、200℃に於て20時間加熱した。
オートクレーブ中の物質のガスクロマトグラフイ
分析は収率1%の第三ブチルアミノエトキシエタ
ノールの存在を示した。 例 5 例1と同じ操作に従い、ジエチルレングリコー
ル(DEG)の第三ブチルアミン(TBA)による
接触アミノ化について多数の水素添加触媒の試験
を行つた。試験結果を第1表、第2表、第3表に
示す。これらの試験では、表中に示した以外に
TBAとDEGとの1:1モル混合比を用いた。オ
ートクレーブ中に仕込んだ反応成分に対して1−
2重量%の触媒をオートクレーブに仕込んだ。反
応は、200℃に於て自生圧で行つた。反応時間お
よび生成物第三ブチルアミノエトキシエタノール
(TBEE)の量は表中に示してある。第1表は非
担持触媒の結果、第2表、第3表は担持触媒の結
果を示す。
【表】
【表】
【表】
【表】 (3) 単離収率
【表】 第1表、第2表、第3表の試験結果は、幾つか
の水素添加触媒は本発明のアミノ化反応の触媒と
して有効であるが、他の公知の水素添加触媒は無
効であるかあるいは所望の生成物の有意の収率を
与えないことを示している。 例 6 種々の担持ニツケル触媒を用いて例1の操作を
行つた。この試験は、第三ブチルアミンとジエチ
レングリコールとの等モル混合物を用いて行つ
た。反応は、200℃に於て、自生圧で行つた。結
果は下記の通りである。
【表】 これらの結果は、触媒のニツケル含量を増すこ
とによつてアミノ化反応がより良く触媒されるこ
とを示している。 例 7 連続アミノ化 次の試験は、固定床触媒反応管を用いる連続ア
ミノ化方法を示す。固定床触媒反応管は長さが約
100mmで、内径が約10mmの細長い管からなる。こ
の反応管は約8c.c.の触媒充填容量を有する。この
反応管には、反応供給物、反応生成物、未反応の
反応成分、副生成物、水素、水を連続的に導入、
排出されるために、下部および上部に出入口があ
る。反応管の周りには、触媒を所望温度に加熱す
るために加熱コイルがある。反応生成物、未反応
の反応成分、副生成物、水素、水は反応管の上部
から捕集器へ排出され、補修器中で水素は排気に
よつて液体から分離され、液体生成物、副生成
物、未反応の反応成分は回収されて分析される。
試験の際、反応管に約8c.c.の触媒を充填する。触
媒床上に、触媒を固定するためにガラスウールと
セラミツクビーズとを置いた後、反応管の頂部を
閉じる。反応成分を供給する前に、反応管の下部
に包囲温度で水素を導入し、反応管を、1℃/分
の速度で徐々に所望の活性化温度に加熱(200℃
以上の温度では1℃/3分の速度で)し、活性化
中この活性化温度に保つ。活性化後、反応管を1
℃/分の速度で140℃まで徐々に冷却し、この温
度で、反応管中へ反応成分を10−160ml/時の範
囲の流速で供給する。液体が出口に達したとき、
反応管を再び1℃/分の速度で目標温度へ徐々に
加熱し、試験の過程中この温度に保つ。表示され
る空間速度は、流速を触媒床反応管容量(すなわ
ち8c.c.)で割つて得られる。このデータから見掛
け滞留時間が得られる。反応生成物、未反応反応
成分、副生成物は較正ガスクロマトグラフイーで
分析され、生成物は真空蒸留で単離される。 次の試験では、前節で記載した反応管および反
応条件を用いて種々の水素添加触媒を評価した。
使用した反応成分は第三ブチルアミン(TBA)
とジエチレングリコール(DEG)であり、これ
らの成分を1:1のモル比で反応管へ計量供給し
た。水素ガスを、触媒床反応管中へ、反応成分と
共流的に、1500SCF/B(標準立方フイート/バ
レル)の流速、すなわち2の空間速度に対して43
/時(STP)または4の空間速度に対して8.6
/時(STP)の水素流速で流した。各触媒の
実験に於ける反応生成物、第三ブチルアミノエト
キシエタノール(TBEE)および好ましくない副
生成物、N−第三ブチルモルホリン(TBM)の
量は第4表に示してある。これらの試験の結果も
第4表に示してある。
【表】 例 8 例7記載の反応管および実験操作を繰返した。
但し、活性化操作を変化させた。反応管には指示
触媒8c.c.を充填し、反応成分第三ブチルアミン
(TBA)とジエチレングリコール(DEG)とを
2:1のTBA/DEGモル比で反応管中へ供給し
た。水素を5/時(STP)で連続的に反応管
中へ供給し、5MPaの圧力で反応を行つた。これ
らの試験結果を、活性化条件、反応温度、空間速
度と共に第5表に示す。
【表】 例 9 200℃に於て水素で還元しかつ活性化したNi−
Cu−Co/SiO2/珪藻土〔トリメタリツク
(Trimetallic)2330〕触媒を用いて、例7記載の
操作を繰り返した。反応成分としては、第三ブチ
ルアミン(TBA)とジエチレングリコール
(DEG)とを2:1のモル比で用いた。種々の空
間速度でアミノ比反応を行い、反応生成物第三ブ
チルアミノエトキシエタノール(TBEE)および
望ましくない副生成物N−第三ブチルモルホリン
(TBM)を分析した。第1図に示した2種の異
なる触媒粒度についての試験の結果はTBEE製造
のための拡散限界(diffusion limit)を示す。こ
れらの試験は、副生成物TBMの生成を最少にす
ると共にTBEEの選択的生成を最大にするには滞
留時間が臨界的であることを示す。かくして、所
望のアミノ化を達成するには、1.5−3.5v/v/
時の範囲の見掛けの空間速度が最適のように思わ
れる。これは、0.29−約0.67時間、好まししくは
約0.35−約0.55時間の範囲の見掛けの滞留時間に
いいかえられる。 例 10 例9の操作を繰返した。但し、種種の温度に於
て4/時の空間速度で、および反応温度220℃に
於て空間速度を変化させて反応を行つた。これら
の試験の結果を第2図に示す。第2図はジエチレ
ングリコールの転化率をTBEE生成の選択率に対
してプロツトした図である。これらのデータは、
TBEEの選択的製造についての温度と空間速度
(滞留時間)とを関係を示す。 例 11 アミノ化反応に於ける水素の影響を見るために
幾つかの実験を行つた。水素が無い場合、固定床
反応管中で、線状毎時(linear hour)空間速度
4で200℃に於て約60時間の反応時間で、3金属
触媒(T−2330、Ni−Co−Cu/SiO2/珪藻土)
は約50%失活したが、同じ反応条件下で水素が存
在する場合には約12%失活した。水素が無い場合
には、触媒失活が速い上に暗褐色生成物流が生じ
るが、水素が存在すると透明な生成物が得られ
る。水素が存在する場合、1(STP)/時
(175SCF/B)−5(STP)/時(875SCF/
B)の範囲の水素流速は触媒失活、生成物品質、
TBEE収率に影響しなかつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、200℃に於て担持3金属触媒2330を
用いるときの空間速度の逆数(時間)に対する生
成物第三ブチルアミノエトキシエタノール
(TBEE)および副生成物N−第三ブチルモルホ
リンのモル%を示すグラフであり、第2図は、
種々の指示温度(℃)に於て担持3金属触媒2330
を用いる場合のジエチレングリコールの転化率%
に対する第三ブチルアミノエトキシエタノール/
N−第三ブチルモルホリンの選択率を示すグラフ
である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a) 一般式 R1−NH2 (上記一般式中、R1は3〜8個の炭素原子を
    有する第二または第三アルキル基と3〜8個の
    炭素原子を有するシクロアルキル基とからなる
    群から選ばれる) を有する第一アミノ化合物 を、 (b) 一般式 (上記一般式中、R2、R3、R4、R5は、おのお
    のが独立に、水素とC1−C4アルキル基とC3
    C8シクロアルキル基とからなる群から選ばれ、
    但し窒素原子に直接結合しているR1の炭素原
    子が第二級である場合には、ヒドロキシル基に
    結合している炭素に直接結合しているR2とR3
    の少なくとも1つが、アルキル基またはシクロ
    アルキル基であることを条件とし、xとyと
    は、おのおのが独立に、2−4の範囲の正整数
    であり、zは1−4の正整数である) と反応させることからなる重度立体障害第二ア
    ミノエーテルアルコールを選択的に製造する方
    法であつて、該方法を触媒有効量の族金属含
    有担持水素添加触媒の存在下で、高温および高
    圧に於て行い、かつzが1より大きい場合には
    アミノ化合物対ポリアルケニルエーテルグリコ
    ールのモル比が2:1未満である方法。 2 R1が4−6個の炭素原子を有するアルキル
    基でありかつR4とR5とが水素でありかつxが2
    である特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 R1が第三ブチルでありR2とR3とが水素であ
    りかつyが2である特許請求の範囲第2項記載の
    方法。 4 zが1である特許請求の範囲第3項記載の方
    法。 5 約160°−約425℃の範囲の温度および約3.515
    −約210.9Kg/cm2ゲージ圧(約50−約3000psig)
    の範囲の圧力に於て反応を行う特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 6 約180°−約400℃の範囲の温度および約7.03
    −約70.3Kg/cm2ゲージ圧(約100−約1000psig)
    の範囲の圧力に於て反応を行う特許請求の範囲第
    5項記載の方法。 7 約190°−350℃の範囲の温度および約10.545
    −約52.725Kg/cm2ゲージ圧(約150−約750psig)
    の範囲の圧力に於て反応を行う特許請求の範囲第
    6項記載の方法。 8 約190℃−約350℃の範囲の温度および約
    105.45−約52.725Kg/cm2ゲージ圧(約150−約
    750psig)の範囲の圧力に於て反応を行う特許請
    求の範囲第4項記載の方法。 9 水素添加触媒がニツケル触媒またはコバルト
    触媒またはニツケル−コバルト−銅触媒または白
    金触媒でありかつ全ての触媒がアルミナまたはシ
    リカまたはアルミナ−シリカ上に担持されている
    特許請求の範囲第1項−第8項のいずれか1項に
    記載の方法。
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