JPH0459817A - 放射線硬化型樹脂組成物 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 28
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 title description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- -1 etc. Substances 0.000 claims abstract description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 14
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims abstract description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 claims description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 9
- 238000009835 boiling Methods 0.000 abstract description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 10
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 6
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 3
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005497 tetraalkylphosphonium group Chemical group 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBPYIPITWYYBOP-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1CCCC2C(C(O)=O)C(C(=O)O)CCC21 PBPYIPITWYYBOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(CC)C(CC)=CC=C3SC2=C1 GJZFGDYLJLCGHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=CC(N=C=O)=C1 VGHSXKTVMPXHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=C(CN=C=O)C=C1 OHLKMGYGBHFODF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobutane Chemical compound O=C=NCCCCN=C=O OVBFMUAFNIIQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- BFYSJBXFEVRVII-UHFFFAOYSA-N 1-prop-1-enylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC=CN1CCCC1=O BFYSJBXFEVRVII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWTPZNAZVBTPIP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylphenoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=CC=C1OCCOC(=O)C=C BWTPZNAZVBTPIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGDCJKDZZUALAO-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxypropane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)OCC=C IGDCJKDZZUALAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-hydroxyethoxy)benzoic acid Chemical compound OCCOC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 QLIQIXIBZLTPGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHFBICJRJGQIBN-UHFFFAOYSA-N C(CCC)NCCCC.C(C)N(CC)CC Chemical compound C(CCC)NCCCC.C(C)N(CC)CC CHFBICJRJGQIBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N DEAEMA Natural products CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPPQSCRMBWNHMW-UHFFFAOYSA-N Meprobamate Chemical compound NC(=O)OCC(C)(CCC)COC(N)=O NPPQSCRMBWNHMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 125000006226 butoxyethyl group Chemical group 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- UQFFSTQNDQYSAT-UHFFFAOYSA-N cyclobut-2-ene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CC=C1 UQFFSTQNDQYSAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C1CCCCC1 WVIIMZNLDWSIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXKOQQBKBHUATC-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1CC1CCCCC1 XXKOQQBKBHUATC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N diisocyanatomethane Chemical compound O=C=NCN=C=O KIQKWYUGPPFMBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N dimethyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC)=C1 VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000002224 dissection Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001261 hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、放射線に対する硬化性に優れ、金属及びプラ
スチック類に対する密着性、耐溶剤性、耐沸水性、耐候
性に優れる放射線硬化型樹脂組成物に関する。
スチック類に対する密着性、耐溶剤性、耐沸水性、耐候
性に優れる放射線硬化型樹脂組成物に関する。
(従来の技術)
放射線硬化型樹脂及び樹脂組成物は、硬化プロセスが省
資源、省エネルギーであり、高性能皮膜が得られるため
に、各種の接着剤、コーティング荊、インキ、塗料、磁
気記録媒体のバインダーなどへの用途開発が進んでいる
。特にウレタンアクリレート樹脂は放射線に対する硬化
性、硬化後の塗膜の強靭性といった優れた性能を有する
ために、上記の各種分野で検討されている。
資源、省エネルギーであり、高性能皮膜が得られるため
に、各種の接着剤、コーティング荊、インキ、塗料、磁
気記録媒体のバインダーなどへの用途開発が進んでいる
。特にウレタンアクリレート樹脂は放射線に対する硬化
性、硬化後の塗膜の強靭性といった優れた性能を有する
ために、上記の各種分野で検討されている。
しかしながら、従来のウレタンアクリレート樹脂及び樹
脂組成物は金属及びプラスチック類に対する密着性が不
充分であり、特にポリエチレンテレフタレートに対し満
足する密着性を示すものは得られていない。
脂組成物は金属及びプラスチック類に対する密着性が不
充分であり、特にポリエチレンテレフタレートに対し満
足する密着性を示すものは得られていない。
さらには、硬化後の皮膜特性のうち、耐溶剤性、耐沸水
性、耐候性に関しては、充分に満足のいく性能を有する
ものは得られていないのが現状である。
性、耐候性に関しては、充分に満足のいく性能を有する
ものは得られていないのが現状である。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は上記従来の課題を解決するものであり、その目
的とするところは、放射線に対する硬化性に優れ、金属
及びプラスチック類に対する密着性、耐溶剤性、耐沸水
性、耐候性に優れた放射線硬化型樹脂組成物を提供する
ことにある。
的とするところは、放射線に対する硬化性に優れ、金属
及びプラスチック類に対する密着性、耐溶剤性、耐沸水
性、耐候性に優れた放射線硬化型樹脂組成物を提供する
ことにある。
(課題を解決するための手段)
本発明者等は、(1)共重合ポリエステルポリオールの
酸成分として芳香族ジカルボン酸を、グリコール成分と
して1.6−ヘキサンジオールをそれぞれ特定量共重合
したポリエステルポリオールに、(2)ポリイソシアネ
ート化合物を介して、(3)1個以上の(メタ)アクリ
ロイルオキシ基と1個以上の水酸基を有する化合物を導
入し、必要により、(4)上記(1)以外のポリオール
及び/又はポリアミンを反応させて鎖延長して得られる
特定範囲の分子量を有するウレタンアクリレート樹Pg
<^)に特定量の(メタ)アクリレート化合物(B)を
配合することにより得られる樹脂組成物を使用すると、
放射線照射に対する硬化性に優れ、前記欠点を克服した
放射線硬化型樹脂組成物が得られることを見い出した。
酸成分として芳香族ジカルボン酸を、グリコール成分と
して1.6−ヘキサンジオールをそれぞれ特定量共重合
したポリエステルポリオールに、(2)ポリイソシアネ
ート化合物を介して、(3)1個以上の(メタ)アクリ
ロイルオキシ基と1個以上の水酸基を有する化合物を導
入し、必要により、(4)上記(1)以外のポリオール
及び/又はポリアミンを反応させて鎖延長して得られる
特定範囲の分子量を有するウレタンアクリレート樹Pg
<^)に特定量の(メタ)アクリレート化合物(B)を
配合することにより得られる樹脂組成物を使用すると、
放射線照射に対する硬化性に優れ、前記欠点を克服した
放射線硬化型樹脂組成物が得られることを見い出した。
すなわち、本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、(1)
酸成分として芳香族ジカルボン酸を40モル%以上
、グリコール成分として1,6.ヘキサンジオールを2
0モル%以上含有する共重合ポリエステルポリオール、 (2) ポリイソシアネート化合物、(3)1個以上
の(メタ)アクリロイルオキシ基と1個以上の水酸基を
有する化合物、及び必要により、 (4) 上記(1)以外のポリオール及び/又はポリ
アミンとを反応させて得られる分子量が1 、000〜
20.000のウレタンアクリレート樹脂(A)と分子
量が500未満の(メタ)アクリレート化合物(B)と
を80/20〜20/80の重量比率で含有してなるこ
とを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物である。
酸成分として芳香族ジカルボン酸を40モル%以上
、グリコール成分として1,6.ヘキサンジオールを2
0モル%以上含有する共重合ポリエステルポリオール、 (2) ポリイソシアネート化合物、(3)1個以上
の(メタ)アクリロイルオキシ基と1個以上の水酸基を
有する化合物、及び必要により、 (4) 上記(1)以外のポリオール及び/又はポリ
アミンとを反応させて得られる分子量が1 、000〜
20.000のウレタンアクリレート樹脂(A)と分子
量が500未満の(メタ)アクリレート化合物(B)と
を80/20〜20/80の重量比率で含有してなるこ
とを特徴とする放射線硬化型樹脂組成物である。
上記(1)の共重合ポリエステルポリオールは、ジカル
ボン酸成分とグリコール成分とからなる。
ボン酸成分とグリコール成分とからなる。
本発明における必須成分である芳香族ジカルボン酸は芳
香族性を有する基を分子内に有するジカルボン酸であり
、例えば、無水フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸
、オルソフタル酸、1,5−ナフタル酸などが代表的な
ものとしてあげられる。
香族性を有する基を分子内に有するジカルボン酸であり
、例えば、無水フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸
、オルソフタル酸、1,5−ナフタル酸などが代表的な
ものとしてあげられる。
必要により、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリ
ット酸などのトリ及びテトラカルボン酸を少量含んでい
てもよい。
ット酸などのトリ及びテトラカルボン酸を少量含んでい
てもよい。
芳香族ジカルボン酸以外で共重合可能なジカルボン酸と
しては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、
1.2−ヘキサヒドロフタル酸、■、3−ヘキサヒドロ
フタル酸、1.4−ヘキサヒドロフタル酸、パーヒドロ
ナフタレンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、フマ
ール酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン
酸、テトラヒドロフタル酸、シクロブテンジカルボン酸
等の不飽和脂環族ジカルボン酸、p−ヒドロキシエチル
オキシ安息香酸、ε−カプロラクトン等のオキシ酸が挙
げられる。
しては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、
1.2−ヘキサヒドロフタル酸、■、3−ヘキサヒドロ
フタル酸、1.4−ヘキサヒドロフタル酸、パーヒドロ
ナフタレンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、フマ
ール酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン
酸、テトラヒドロフタル酸、シクロブテンジカルボン酸
等の不飽和脂環族ジカルボン酸、p−ヒドロキシエチル
オキシ安息香酸、ε−カプロラクトン等のオキシ酸が挙
げられる。
グリコール成分としては、1.6−ヘキサンジオールを
必須とする。1,6−ヘキサンジオール以外で共重合可
能なグリコールとしては、例えば、エチレンクリコール
、プロピレングリコール、113−7”l:1パンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、2,2.4トリメチル〜1
.3−ベンタンジオール、1.4−シクロヘキサンジメ
タツール、スピログリコール、l、4−フェニレングリ
コール、1,4−フェニレングリコールのエチレンオキ
サイド付加物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド
付加物およびプロピレンオキサイド付加物、水素化ビス
フェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピ
レンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
などのジオールなどがある。必要によりトリノチロール
エタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタ
エリスリトールなどのトリオールおよびテトラオールを
少量含んでいてもよい。
必須とする。1,6−ヘキサンジオール以外で共重合可
能なグリコールとしては、例えば、エチレンクリコール
、プロピレングリコール、113−7”l:1パンジオ
ール、1,4−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール
、ジプロピレングリコール、2,2.4トリメチル〜1
.3−ベンタンジオール、1.4−シクロヘキサンジメ
タツール、スピログリコール、l、4−フェニレングリ
コール、1,4−フェニレングリコールのエチレンオキ
サイド付加物、ビスフェノールAのエチレンオキサイド
付加物およびプロピレンオキサイド付加物、水素化ビス
フェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピ
レンオキサイド付加物、ポリエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール
などのジオールなどがある。必要によりトリノチロール
エタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタ
エリスリトールなどのトリオールおよびテトラオールを
少量含んでいてもよい。
このようなジカルボン酸成分とグリコール成分より共重
合ポリエステルポリオールを得るためには、ジカルボン
酸原料に対して、グリコール原料を過剰に用いて合成す
ればよい。カルボキシル基末端が共重合ポリエステル中
に50eq、/10hg未満になるように合成すること
が望ましい、 50eq、/10’ g以上になると後
述のウレタンアクリレート樹脂を合成する際にジイソシ
アネート化合物との反応における不活性末端が多くなり
すぎ、目的とするウレタン系樹脂が得られず放射線に対
する硬化性が低下する。
合ポリエステルポリオールを得るためには、ジカルボン
酸原料に対して、グリコール原料を過剰に用いて合成す
ればよい。カルボキシル基末端が共重合ポリエステル中
に50eq、/10hg未満になるように合成すること
が望ましい、 50eq、/10’ g以上になると後
述のウレタンアクリレート樹脂を合成する際にジイソシ
アネート化合物との反応における不活性末端が多くなり
すぎ、目的とするウレタン系樹脂が得られず放射線に対
する硬化性が低下する。
本発明で使用するジカルボン酸成分は芳香族ジカルボン
酸が40モル%以上、グリコール成分は1.6−ヘキサ
ンジオールが20モル%以上の範囲である。
酸が40モル%以上、グリコール成分は1.6−ヘキサ
ンジオールが20モル%以上の範囲である。
この範囲外では、金属及びプラスチック類、特にポリエ
チレンテレフタレートに対する密着性が悪くなるだけで
なく、耐沸水性、耐溶剤性、耐候性が悪くなり好ましく
ない。
チレンテレフタレートに対する密着性が悪くなるだけで
なく、耐沸水性、耐溶剤性、耐候性が悪くなり好ましく
ない。
本発明で使用される(2)ポリイソシアネート化合物と
しては2.4− )リレンジイソシアネー)、2.6ト
リレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネ
ート、ビフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、テトラメチレンジイソシアネート、 3.3’−ジ
メトキシ−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、
2,4−ナフタレンジイソシアネー)、3.3’−ジメ
チル−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、4.
4’−ジフェニレンジイソシアネート、4.4’−ジイ
ソシアネートジフェニルエーテル、1.5′−ナフタレ
ンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート
、m−キシリレンジイソシアネート、1.3−ジイソシ
アネートメチルシクロヘキサン、1.4−ジイソシアネ
ートメチルシクロヘキサン、4.4′−ジイソシアネー
トジシクロヘキサン、4.4′−ジイソシアネートジシ
クロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート等の
ジイソシアネート化合物、あるいは全イソシアネート基
のうち7モル%以下の2.4− トリレンジイソシアネ
ートの二量体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量
体等のトリイソシアネート化合物があげられる。
しては2.4− )リレンジイソシアネー)、2.6ト
リレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネ
ート、ビフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、テトラメチレンジイソシアネート、 3.3’−ジ
メトキシ−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、
2,4−ナフタレンジイソシアネー)、3.3’−ジメ
チル−4,4′−ビフェニレンジイソシアネート、4.
4’−ジフェニレンジイソシアネート、4.4’−ジイ
ソシアネートジフェニルエーテル、1.5′−ナフタレ
ンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート
、m−キシリレンジイソシアネート、1.3−ジイソシ
アネートメチルシクロヘキサン、1.4−ジイソシアネ
ートメチルシクロヘキサン、4.4′−ジイソシアネー
トジシクロヘキサン、4.4′−ジイソシアネートジシ
クロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート等の
ジイソシアネート化合物、あるいは全イソシアネート基
のうち7モル%以下の2.4− トリレンジイソシアネ
ートの二量体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量
体等のトリイソシアネート化合物があげられる。
1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基と1個以上の
水酸基とを有する化合物としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、ヘキサメチレングリコール等
のグリコールのモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロビル(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパン、グリセリン、トリメチロールエタン等のトリ
オール化合物のモノ(メタ)アクリレート及びジ(メタ
)アクリレート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリ
スリトール等の4価以上のポリオールのモノ(メタ)ア
クリレート、ジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)ア
クリレート、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリ
ンジアクリルエーテル等のヒドロキシル基含有アクリル
系化合物が挙げられる。
水酸基とを有する化合物としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、ヘキサメチレングリコール等
のグリコールのモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロビル(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパン、グリセリン、トリメチロールエタン等のトリ
オール化合物のモノ(メタ)アクリレート及びジ(メタ
)アクリレート、ペンタエリスリトール、ジペンタエリ
スリトール等の4価以上のポリオールのモノ(メタ)ア
クリレート、ジ(メタ)アクリレート、トリ(メタ)ア
クリレート、グリセリンモノアリルエーテル、グリセリ
ンジアクリルエーテル等のヒドロキシル基含有アクリル
系化合物が挙げられる。
前記(])以外のポリオール及び/又はポリアミンとし
ては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
前記(1)共重合ポリエステルポリオールのグリコール
成分として挙げられた化合物、ヘキサメチレンジアミン
、ジアミノジフェニルメタン、N−メチルジェタノール
アミン、分子中に1級又は2級のアミノ基を2個以上有
する、末端アミノ化ポリブタジェン等の高分子量ポリア
ミン、水等が挙げられる。
ては、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
前記(1)共重合ポリエステルポリオールのグリコール
成分として挙げられた化合物、ヘキサメチレンジアミン
、ジアミノジフェニルメタン、N−メチルジェタノール
アミン、分子中に1級又は2級のアミノ基を2個以上有
する、末端アミノ化ポリブタジェン等の高分子量ポリア
ミン、水等が挙げられる。
本発明の放射線硬化型樹脂は、前記(1)共重合ポリエ
ステルポリオールと(2)ポリイソシアネート化合物を
反応させて、イソシアネート末端プレポリマーを得た後
、(3)1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基と1
個以上の水素基、とを有する化合物、及び必要により、
(4)上記(1)以外のポリオール及び/又はポリアミ
ン反応させて得ることができきる゛。
ステルポリオールと(2)ポリイソシアネート化合物を
反応させて、イソシアネート末端プレポリマーを得た後
、(3)1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基と1
個以上の水素基、とを有する化合物、及び必要により、
(4)上記(1)以外のポリオール及び/又はポリアミ
ン反応させて得ることができきる゛。
別なる製法としては、反応させる化合物を一括して仕込
み反応させる方法がある。
み反応させる方法がある。
また、必要に応じ、ポリウレタンアクリレートを得る方
法の任意の段階において、−NR2、−NRze、−3
03M、−COOM、−PO(OM’ )z、>PO(
OM’ ) (式中Rは水素原子、アルキル、アリー
ル、アラルキル基を表わし、Mは水素原子、アルカリ金
属原子、テトラアルキルアンモニウム、テトラアルキル
ホスホニウムを表わし、M′は水素原子、アルカリ金属
原子、テトラアルキルアンモニウム、アルキル、アリー
ル、アラルキル基を表わす。)等の極性基を有する化合
物を反応させることにより、各種基材との密着性や、顔
料、添加剤等の均一分散性の向上を計ることもできる。
法の任意の段階において、−NR2、−NRze、−3
03M、−COOM、−PO(OM’ )z、>PO(
OM’ ) (式中Rは水素原子、アルキル、アリー
ル、アラルキル基を表わし、Mは水素原子、アルカリ金
属原子、テトラアルキルアンモニウム、テトラアルキル
ホスホニウムを表わし、M′は水素原子、アルカリ金属
原子、テトラアルキルアンモニウム、アルキル、アリー
ル、アラルキル基を表わす。)等の極性基を有する化合
物を反応させることにより、各種基材との密着性や、顔
料、添加剤等の均一分散性の向上を計ることもできる。
このようにして得られる本発明のウレタンアクリレート
樹脂(A)の分子量は1 、000〜20.000の範
囲内であることが必要である0分子量が1 、000よ
り小さくなると、硬化時の歪が大きくなり、基材への密
着性が悪くなり好ましくなく 、20,000を越える
と、後述の(メタ)アクリレート化合物(B)との相溶
性が悪くなる、粘度が高くなり過ぎ使用が困難になる等
の問題が生じ好ましくない。
樹脂(A)の分子量は1 、000〜20.000の範
囲内であることが必要である0分子量が1 、000よ
り小さくなると、硬化時の歪が大きくなり、基材への密
着性が悪くなり好ましくなく 、20,000を越える
と、後述の(メタ)アクリレート化合物(B)との相溶
性が悪くなる、粘度が高くなり過ぎ使用が困難になる等
の問題が生じ好ましくない。
本発明の別の必須成分としての分子量が500未満の(
メタ)アクリレート化合物(B)としては、例えば(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(
メタ)アクリル酸ブチル、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート
、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トルイルオ
キシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)ア
クリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
テニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク
リレート、N、N−ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、イソボニル(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、N−メチ
ルビニルピロリドン、カプロラクトン変性テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロキ
シエチルサクシネート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピル(メタ)アクリレート等のモノアクリレート
化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレン
グリコールシ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ビスフェ
ノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイ
ド変性ビスフェノ−7L/ A シ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等
のジアクリレート化合物、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)
アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロー
ルプロパントリアクリレート等のトリアクリレート化合
物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレー
ト、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールテトラ(
メタ)アクリレート等のテトラアクリレート化合物等が
挙げられる。
メタ)アクリレート化合物(B)としては、例えば(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(
メタ)アクリル酸ブチル、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート
、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、トルイルオ
キシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)ア
クリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
テニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アク
リレート、N、N−ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、イソボニル(メタ)アクリレート、エチレン
オキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、N−メチ
ルビニルピロリドン、カプロラクトン変性テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロキ
シエチルサクシネート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピル(メタ)アクリレート等のモノアクリレート
化合物、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレン
グリコールシ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリ
ン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ビスフェ
ノールAジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイ
ド変性ビスフェノ−7L/ A シ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等
のジアクリレート化合物、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)
アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロー
ルプロパントリアクリレート等のトリアクリレート化合
物、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート
、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレー
ト、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールテトラ(
メタ)アクリレート等のテトラアクリレート化合物等が
挙げられる。
これらの(メタ)アクリレート(8)でポリエチレンテ
レフタレートに対する接着性に優れる点で下記一般式(
1)で示される(メタ)アクリレート化合物である。
レフタレートに対する接着性に優れる点で下記一般式(
1)で示される(メタ)アクリレート化合物である。
A −(CHz)、lB・・・・・・・・・ (1)こ
の中で特に好ましい化合物は、テトラヒドロフルフリ−
ルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、トル
イルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート
である。
の中で特に好ましい化合物は、テトラヒドロフルフリ−
ルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、トル
イルオキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート
である。
これらの化合物を使用した放射線硬化型樹脂組成物は、
放射線に対する硬化性、金属及びプラスチック類特にポ
リエチレンテレフタレートに対する密着性、耐沸水性、
耐溶剤性、耐候性に優れており好ましい。
放射線に対する硬化性、金属及びプラスチック類特にポ
リエチレンテレフタレートに対する密着性、耐沸水性、
耐溶剤性、耐候性に優れており好ましい。
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は上記のウレタンアク
リレート樹脂(A)と(メタ)アクリレート化合物(B
)を配合したものであって、その配合比率は重量比で(
A) / (B) = 80/20〜20 / 80の
範囲である。(^)が20重量%未滴になるとウレタン
アクリレート樹脂としての特性が失なわれ、金属及びプ
ラスチック類に対する密着性の低下、耐溶剤性、耐候性
の低下が生じ、好ましくない、また(A)が80重量%
を越えると粘度が高過ぎて使用が困難になるだけでなく
、放射線に対する硬化性が悪くなり好ましくない。
リレート樹脂(A)と(メタ)アクリレート化合物(B
)を配合したものであって、その配合比率は重量比で(
A) / (B) = 80/20〜20 / 80の
範囲である。(^)が20重量%未滴になるとウレタン
アクリレート樹脂としての特性が失なわれ、金属及びプ
ラスチック類に対する密着性の低下、耐溶剤性、耐候性
の低下が生じ、好ましくない、また(A)が80重量%
を越えると粘度が高過ぎて使用が困難になるだけでなく
、放射線に対する硬化性が悪くなり好ましくない。
本発明の放射線硬化型樹脂組成物を製造する方法として
は、上記の方法でウレタンアクリレート樹脂(A)を合
成した後に(メタ)アクリレート化合物(B)を配合す
る方法がある。別なる方法としては、(メタ)アクリレ
ート化合物(B)を反応溶媒としてウレタンアクリレー
ト樹脂(A)を合成する方法がある。
は、上記の方法でウレタンアクリレート樹脂(A)を合
成した後に(メタ)アクリレート化合物(B)を配合す
る方法がある。別なる方法としては、(メタ)アクリレ
ート化合物(B)を反応溶媒としてウレタンアクリレー
ト樹脂(A)を合成する方法がある。
本発明の放射線硬化型樹脂組成物には有機溶剤を加える
ことができる。有機溶剤は揮発性のものに限定され、放
射線硬化前に加熱乾燥環により大部分もしくは全部が揮
発する必要がある。使用可能な溶剤としては、アセトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族R化水素類、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類
、またはこれらの混合物等がある0本発明のウレタンア
クリレート樹脂(A)の合成時に使用した溶剤をそのま
ま使用することもできる。
ことができる。有機溶剤は揮発性のものに限定され、放
射線硬化前に加熱乾燥環により大部分もしくは全部が揮
発する必要がある。使用可能な溶剤としては、アセトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シク
ロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等
のエステル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族R化水素類、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類
、またはこれらの混合物等がある0本発明のウレタンア
クリレート樹脂(A)の合成時に使用した溶剤をそのま
ま使用することもできる。
本発明において使用する放射線は紫外線、電子線、T線
、中性子線等である。紫外線を使用する場合には放射線
硬化型塗料組成物に光開始剤を添加することが望ましい
。
、中性子線等である。紫外線を使用する場合には放射線
硬化型塗料組成物に光開始剤を添加することが望ましい
。
光開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、
ベンジルエチルケタール、ヘンジインイソブチルケトン
、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、2.2−ジェトキシア
セトフェノン、ミヒラーケトン、2−ヒドロキシ−2−
メチルプロピオフェノン、ベンジル、ジエチルチオキサ
ンソン、2−クロロチオキサンソン、ヘンジイルエトキ
シホスフィンオキサイド、1−1リメチルベンゾイルジ
フエニルホスインオキサイド等が使用できる。また必要
に応じてn−ブチルアミン、ジローブチルアミントリエ
チルアミン等の光増感剤があげられる。
ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、
ベンジルエチルケタール、ヘンジインイソブチルケトン
、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ
シクロへキシルフェニルケトン、2.2−ジェトキシア
セトフェノン、ミヒラーケトン、2−ヒドロキシ−2−
メチルプロピオフェノン、ベンジル、ジエチルチオキサ
ンソン、2−クロロチオキサンソン、ヘンジイルエトキ
シホスフィンオキサイド、1−1リメチルベンゾイルジ
フエニルホスインオキサイド等が使用できる。また必要
に応じてn−ブチルアミン、ジローブチルアミントリエ
チルアミン等の光増感剤があげられる。
電子線照射機としてはスキャニング方式、あるいはカー
テンビーム方式が採用でき、吸収線量は1〜20Mra
d好ましくは2〜15Mradが良い、吸収線量がI
Mrad未満では硬化反応が不充分であり、20Mra
dを越えると硬化に使用されるエネルギー効率が低下し
たり、過度の架橋が進行したりするため、好ましくない
。
テンビーム方式が採用でき、吸収線量は1〜20Mra
d好ましくは2〜15Mradが良い、吸収線量がI
Mrad未満では硬化反応が不充分であり、20Mra
dを越えると硬化に使用されるエネルギー効率が低下し
たり、過度の架橋が進行したりするため、好ましくない
。
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、放射線に対する優
れた硬化性、金属及びプラスチック類に対する密着性、
耐溶剤性、耐沸水性、耐候性に優れるという特徴を生か
し、接着剤、コーティング剤、インキ、塗料、レジスト
材料、磁気記録媒体のバインダー等の様々な用途に使用
できる。
れた硬化性、金属及びプラスチック類に対する密着性、
耐溶剤性、耐沸水性、耐候性に優れるという特徴を生か
し、接着剤、コーティング剤、インキ、塗料、レジスト
材料、磁気記録媒体のバインダー等の様々な用途に使用
できる。
(実施例)
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
実施例中単に部とあるのは重量部を示す。
〈共重合ポリエステルポリオールの製造例〉温度計、攪
拌機、蒸留類、コンデンサー、減圧装置を具備した反応
容器中に、ジメチルテレフタレート440部、ジメチル
イソフタレート440部、エチレングリコール279部
、ヘキサンジオール274部、及びテトラブトキシチタ
ネート0.5部を仕込み、150〜230℃で120分
間加熱してエステル交−換反応をさせた0次いで反応系
を1018gに減圧し30分間で250℃まで昇温しで
反応を行ない、共重合ポリエステル−ポリオールAを得
た。
拌機、蒸留類、コンデンサー、減圧装置を具備した反応
容器中に、ジメチルテレフタレート440部、ジメチル
イソフタレート440部、エチレングリコール279部
、ヘキサンジオール274部、及びテトラブトキシチタ
ネート0.5部を仕込み、150〜230℃で120分
間加熱してエステル交−換反応をさせた0次いで反応系
を1018gに減圧し30分間で250℃まで昇温しで
反応を行ない、共重合ポリエステル−ポリオールAを得
た。
ポリエステルポリオールAの分子量は2.000であっ
た、同様の方法により得られたポリエステルポリオール
B−Eを第1表に示した。樹脂組成は”HNMRにより
分析した。
た、同様の方法により得られたポリエステルポリオール
B−Eを第1表に示した。樹脂組成は”HNMRにより
分析した。
第1表
溶解後、イソホロンジイソシアネート22部及びジブチ
ル錫ジラウレート0.05部を仕込み、70〜80″C
で2時間反応させた後、更に2−ヒドロキシエチルアク
リレート12部を加え70〜80℃で5時間反応させて
、ウレタンアクリレート樹脂のフェノキシエチルアクリ
レート溶液である放射線硬化型樹脂組成物Aを得た。ウ
レタンアクリレート樹脂の分子量は3,000であった
。同様の方法によりウレタンアクリレート樹脂を合成し
、放射線硬化型樹脂組成物B−Gを得た。得られた組成
物を第2表に示す。
ル錫ジラウレート0.05部を仕込み、70〜80″C
で2時間反応させた後、更に2−ヒドロキシエチルアク
リレート12部を加え70〜80℃で5時間反応させて
、ウレタンアクリレート樹脂のフェノキシエチルアクリ
レート溶液である放射線硬化型樹脂組成物Aを得た。ウ
レタンアクリレート樹脂の分子量は3,000であった
。同様の方法によりウレタンアクリレート樹脂を合成し
、放射線硬化型樹脂組成物B−Gを得た。得られた組成
物を第2表に示す。
以下余白
く放射線硬化型樹脂組成物の製造例〉
温度計、攪拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中に
共重合ポリエステルポリオールA100部、フェノキシ
エチルアクリレート134部を仕込み、第 表 実施例1および比較例1 第2表に示した放射線硬化型樹脂組成物A−Gをポリエ
チレンテレフタレートシート上に硬化後の厚みが10I
IIlになるように、アプリケーターを用いて塗布した
。
共重合ポリエステルポリオールA100部、フェノキシ
エチルアクリレート134部を仕込み、第 表 実施例1および比較例1 第2表に示した放射線硬化型樹脂組成物A−Gをポリエ
チレンテレフタレートシート上に硬化後の厚みが10I
IIlになるように、アプリケーターを用いて塗布した
。
次いで加速電圧165KV、電流2.5m^、吸収線量
7.5Mradの電子線照射を行ない硬化皮膜を作成し
た。同様の方法により亜鉛メツキ鋼板、ポリカーボネー
トシート、ポリイミドシート、塩ビシート上に硬化皮膜
を作製した。
7.5Mradの電子線照射を行ない硬化皮膜を作成し
た。同様の方法により亜鉛メツキ鋼板、ポリカーボネー
トシート、ポリイミドシート、塩ビシート上に硬化皮膜
を作製した。
硬化皮膜の評価は以下の方法で行なった。
0ゲル分率
硬化皮膜を円筒濾紙に入れ、ソックスレー抽出器を用い
て、メチルエチルケトンにより24時間抽出を行なった
0円筒源紙内の残渣を乾燥した後、秤量し、抽出前の重
量とから不溶分の重量分率を算出し、ゲル分率とした。
て、メチルエチルケトンにより24時間抽出を行なった
0円筒源紙内の残渣を乾燥した後、秤量し、抽出前の重
量とから不溶分の重量分率を算出し、ゲル分率とした。
0密着性
皮膜にカッターで1■×100ケの基盤目を切り、セロ
ハンテープを貼り付け、引きはがして密着性を試験した
。
ハンテープを貼り付け、引きはがして密着性を試験した
。
○耐溶剖性
硬化皮膜の表面を、ガーゼにエタノールを含ませて50
回こすった後の表面状態を観察した。
回こすった後の表面状態を観察した。
O:異常なし。
Δ:傷付きあり。
×:塗膜がはがれる。
○耐沸水性
湧水中に硬化皮膜を浸せき後、2時間煮沸し、皮膜の表
面状態を目視判定した。
面状態を目視判定した。
○:異常なし。
Δ:わずかに曇るもしくはわずかにはがれる。
×:ひどく曇るもしくははがれる。
O耐候性
促進耐候性試験機(Quv)で300時間暴露後の光沢
の変化を目視判定した。
の変化を目視判定した。
O:異常なし。
Δ:光沢がわずかに低下する。
×:光沢がひどく低下する。
比較例2
実施例1において放射線硬化型樹脂組成物A〜Gの代わ
りに、放射線硬化型樹脂組成物Aの成分であるフェノキ
シエチルアクリレートをメチルエチルケトンに代えたも
のを使用し、電子線照射前に80℃で20分間加熱乾燥
する以外は実施例1と同様にして硬化皮膜を作製し評価
を行なった。
りに、放射線硬化型樹脂組成物Aの成分であるフェノキ
シエチルアクリレートをメチルエチルケトンに代えたも
のを使用し、電子線照射前に80℃で20分間加熱乾燥
する以外は実施例1と同様にして硬化皮膜を作製し評価
を行なった。
比較例3
実施例1において放射線硬化型樹脂組成物A〜Eの代わ
りにフェノキシエチルアクリレートを使用する以外は実
施例1と同様にして硬化皮膜を作製しようとしたが、電
子線照射により硬化せず、評価を行なうことができなか
った。
りにフェノキシエチルアクリレートを使用する以外は実
施例1と同様にして硬化皮膜を作製しようとしたが、電
子線照射により硬化せず、評価を行なうことができなか
った。
以下余白
実施例2および比較例4
第2表に示した放射線硬化型樹脂組成物A−E100部
□、に対し、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノンを2.5部加え、ポリエチレンテレフタレートシー
ト上に硬化後の厚みがIOM−になるようにアプリケー
タを用いて塗布した0次いで6.4KWX J灯水冷式
低圧水銀灯で500+J/cjの紫外線照射を行ない硬
化皮膜を作製した。同様の方法により亜鉛メツキ鋼板、
ポリカーボネートシート、ポリイミドシート、塩ビシー
ト上に硬化皮膜を作製し、実施例1と同様にして評価を
行なった。
□、に対し、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェ
ノンを2.5部加え、ポリエチレンテレフタレートシー
ト上に硬化後の厚みがIOM−になるようにアプリケー
タを用いて塗布した0次いで6.4KWX J灯水冷式
低圧水銀灯で500+J/cjの紫外線照射を行ない硬
化皮膜を作製した。同様の方法により亜鉛メツキ鋼板、
ポリカーボネートシート、ポリイミドシート、塩ビシー
ト上に硬化皮膜を作製し、実施例1と同様にして評価を
行なった。
比較例5
実施例2において放射線硬化型樹脂組成物A〜Eの代わ
り、に放射線硬化型樹脂組成物Aの成分であるフェノキ
シエチルアクリレートをメチルエチルケトンに代えたも
のを使用し、紫外線照射前に80℃で20分間加熱乾燥
する以外は実施例2と同様にして評価を行なった。
り、に放射線硬化型樹脂組成物Aの成分であるフェノキ
シエチルアクリレートをメチルエチルケトンに代えたも
のを使用し、紫外線照射前に80℃で20分間加熱乾燥
する以外は実施例2と同様にして評価を行なった。
比較例6
実施例2において放射線硬化型樹脂組成物A〜Eの代わ
りにフェノキシエチルアクリレートを使用する以外は実
施例2と同様にして硬化皮膜を作製しようとしたが、紫
外線照射により硬化せず、評価を行なうことができなか
った。
りにフェノキシエチルアクリレートを使用する以外は実
施例2と同様にして硬化皮膜を作製しようとしたが、紫
外線照射により硬化せず、評価を行なうことができなか
った。
以下余白
(発明の効果)
本発明の放射線硬化型樹脂組成物は、放射線に対する硬
化性に優れ、硬、化後の皮膜は、金属及びプラスチック
類に対する密着性、耐溶剤性、耐湧水性、耐候性に優れ
たものが得られる。
化性に優れ、硬、化後の皮膜は、金属及びプラスチック
類に対する密着性、耐溶剤性、耐湧水性、耐候性に優れ
たものが得られる。
手
続
補
正
書
(自発)
平成2年11月21日
特許出願人 東洋紡績株式会社
1゜
&
事件の表示
平成2年特許願第173887号
発明の名称
放射線硬化型樹脂組成物
補正をする者
事件との関係 特許出願人
大阪市北区堂島浜二丁目2番8号
&
明細書の「発明の詳細な説明」の欄
補正の内容
「水素」を「水酸」に訂正する。
■ 同第14頁第3行目
「(メタ)アクリレート」の次に「化合物」挿入する。
■ 同第14頁第4行目
「優れる点で」の次に「好ましい化合物は」挿入する。
に)同第21頁の第2表中の第14行目を
を
同第25頁の第3表中
に訂正する。
訂正する。
−1に
Claims (4)
- (1)酸成分として芳香族ジカルボン酸を40モル%以
上、グリコール成分として1,6−ヘキサンジオールを
20モル%以上含有する共重合ポリエステルポリオール
、 - (2)ポリイソシアネート化合物、
- (3)1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基と1個
以上の水酸基を有する化合物、及び必要により、 - (4)上記(1)以外のポリオール及び/又はポリアミ
ンとを反応させて得られる分子量が1,000〜20,
000のウレタンアクリレート樹脂(A)と分子量が5
00未満の(メタ)アクリレート化合物(B)とが80
/20〜20/80の重量比率で含有してなることを特
徴とする放射線硬化型樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2173687A JP2987887B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 放射線硬化型樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JPH0459817A true JPH0459817A (ja) | 1992-02-26 |
JP2987887B2 JP2987887B2 (ja) | 1999-12-06 |
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ID=15965246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2173687A Expired - Fee Related JP2987887B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 放射線硬化型樹脂組成物 |
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JP (1) | JP2987887B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002052681A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 化粧シートおよびその製造方法 |
JP2007503491A (ja) * | 2003-08-27 | 2007-02-22 | サイテク サーフェィス スペシャルティーズ オーストリア ゲーエムベーハー | 放射線硬化性不飽和ポリエステル・ウレタン樹脂 |
WO2007099753A1 (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-07 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 活性光線硬化型組成物、それを用いた活性光線硬化型インクジェットインク、画像形成方法及びインクジェット記録装置 |
JP2011136578A (ja) * | 2011-03-03 | 2011-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 化粧シートおよびその製造方法 |
JP2012038499A (ja) * | 2010-08-05 | 2012-02-23 | Jsr Corp | 電線被覆層形成用放射線硬化性樹脂組成物 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7375144B2 (en) | 2005-06-16 | 2008-05-20 | Eastman Chemical Company | Abrasion resistant coatings |
Citations (4)
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JPS63235317A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-30 | Kuraray Co Ltd | ウレタン変性アクリレ−ト組成物 |
JPS649212A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Nippon Synthetic Chem Ind | Resin composition curable with actinic radiation |
JPH02618A (ja) * | 1987-12-16 | 1990-01-05 | Toyobo Co Ltd | 放射線硬化型樹脂及びそれを用いた磁気記録媒体 |
-
1990
- 1990-06-29 JP JP2173687A patent/JP2987887B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
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JP4733637B2 (ja) * | 2003-08-27 | 2011-07-27 | サイテク サーフェィス スペシャルティーズ オーストリア ゲーエムベーハー | 放射線硬化性不飽和ポリエステル・ウレタン樹脂 |
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