JPH0459385A - 光情報記録媒体 - Google Patents
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光情報記録媒体に関する。
［従来の技術］
従来、凹凸状情報トラックを基板上に形成する方法とし
ては、インジェクション法とフォトボリメリゼーション
（２Ｐ）法が知られている。
ては、インジェクション法とフォトボリメリゼーション
（２Ｐ）法が知られている。
２Ｐ法は、ベースポリマー、希釈剤、光開始剤などを含
む紫外線硬化樹脂を用い、Ｎｉスタンバと基板の間に樹
脂を流し入れスタンバ上の情報トラックを基板上にうつ
しとる方法である。
む紫外線硬化樹脂を用い、Ｎｉスタンバと基板の間に樹
脂を流し入れスタンバ上の情報トラックを基板上にうつ
しとる方法である。
２Ｐ法の場合、使用する樹脂の耐熱性、吸水性などが重
要であり、耐熱性が低い場合、消去。
要であり、耐熱性が低い場合、消去。
記録をくりかえすと情報トラックが変形したり炭化する
など好ましくなく、吸水性か大きいと、記録膜の酸化や
腐食を促進させ好ましくない。
など好ましくなく、吸水性か大きいと、記録膜の酸化や
腐食を促進させ好ましくない。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、こうした実状の下に使用、保存環境において
安定で信頼性の高い光情報記録媒体を提供することを目
的とするものである。
安定で信頼性の高い光情報記録媒体を提供することを目
的とするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明らは、鋭意検討した結果、情報トラック層形成材
料としてＴＣＤ−ＤＭジアクリレート、アダマンチル（
メタ）アクリレート系光硬化性組成物を含有することが
有効であることを知見し、本発明に至った。
料としてＴＣＤ−ＤＭジアクリレート、アダマンチル（
メタ）アクリレート系光硬化性組成物を含有することが
有効であることを知見し、本発明に至った。
すなわち、本発明は、基板上に凹凸状情報トラックを有
し、がっ情報トラックがＴＣＤ−ＤＨジアクリレート、
アダマンチルメタクリレート或いはその誘導体又はアダ
マンチルアクリレート或いはその誘導体を含む光硬化性
樹脂及び光重合開始剤からなる光硬化性組成物の層を光
照射により重合硬化させて形成されたものであることを
特徴とする光情報記録媒体である。
し、がっ情報トラックがＴＣＤ−ＤＨジアクリレート、
アダマンチルメタクリレート或いはその誘導体又はアダ
マンチルアクリレート或いはその誘導体を含む光硬化性
樹脂及び光重合開始剤からなる光硬化性組成物の層を光
照射により重合硬化させて形成されたものであることを
特徴とする光情報記録媒体である。
本発明は、上記のように情報トラック層材料として一般
式 ％式％） トリシクロデカンジイルジメチレンジアクリレート （ＲはＨ又はＣＨ３） で表わされるアダマンチル（メタ）アクリレート或いは
その誘導体を含む光硬化性樹脂をラジカル重合により硬
化させてなるものを使用することが重要である。
式 ％式％） トリシクロデカンジイルジメチレンジアクリレート （ＲはＨ又はＣＨ３） で表わされるアダマンチル（メタ）アクリレート或いは
その誘導体を含む光硬化性樹脂をラジカル重合により硬
化させてなるものを使用することが重要である。
例えば、このアクリル系化合物に光反応開始剤を配合し
紫外線、電子線、放射線等を照射し硬化する方法により
ラジカル重合することができる。その際に使用される光
反応開始剤は、特に限定されず、例えば過酸化ベンゾイ
ン、ジイソプロピルパーオキサイドなどの有機過酸化物
。
紫外線、電子線、放射線等を照射し硬化する方法により
ラジカル重合することができる。その際に使用される光
反応開始剤は、特に限定されず、例えば過酸化ベンゾイ
ン、ジイソプロピルパーオキサイドなどの有機過酸化物
。
アゾイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、ベンゾフェ
ノン、ベンゾインエチルエーテル、アセトフェノンなど
の光増感剤などの光反応開始剤が使用できる。光反応開
始剤の使用量は、前記−数式で表わされるアクリル系化
合物１００部に対して０．０１〜２０部、更に好ましく
は□、０１〜１０部の範囲である。
ノン、ベンゾインエチルエーテル、アセトフェノンなど
の光増感剤などの光反応開始剤が使用できる。光反応開
始剤の使用量は、前記−数式で表わされるアクリル系化
合物１００部に対して０．０１〜２０部、更に好ましく
は□、０１〜１０部の範囲である。
このようにして得た樹脂は、ガラス転移温度１６０℃、
吸水率０．１３％、鉛筆硬度３Ｈ以上、収縮率８％のも
のである。
吸水率０．１３％、鉛筆硬度３Ｈ以上、収縮率８％のも
のである。
本発明の光情報記録媒体は、情報トラック層が上記の特
定の材料で構成される以外は公知のものが使用される。
定の材料で構成される以外は公知のものが使用される。
［実施例コ
以下に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。実
施例において得られる諸物性は、下記の試験法により測
定した。
施例において得られる諸物性は、下記の試験法により測
定した。
（１）カラス転移温度；パイブロンにて測定（２）吸水
率；沸騰水中、２時間 （３）鉛筆硬度；鉛筆硬度試験機にて測定実施例−１ 下記式のアダマンチルメタクリレート３０ｗｔ％に加え
、ＴＣＤ−ＤＭジアクリレート７０ｖｔ％、２，２ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン２νｔ％加え均一
にカクハン混合した後、脱泡し２Ｐ液を得た。この液を
ガラス板とガラス板の間に注入し出力８０Ｗ／ｃｍの高
圧水銀灯で１分間紫外線を照射し、重合を行なった。硬
化物をガラス板よりハクリし諸物性を評価した。
率；沸騰水中、２時間 （３）鉛筆硬度；鉛筆硬度試験機にて測定実施例−１ 下記式のアダマンチルメタクリレート３０ｗｔ％に加え
、ＴＣＤ−ＤＭジアクリレート７０ｖｔ％、２，２ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン２νｔ％加え均一
にカクハン混合した後、脱泡し２Ｐ液を得た。この液を
ガラス板とガラス板の間に注入し出力８０Ｗ／ｃｍの高
圧水銀灯で１分間紫外線を照射し、重合を行なった。硬
化物をガラス板よりハクリし諸物性を評価した。
実施例−２
下記式のジメチルアダマンタンアクリレート３０ｗｔ％
に加え、ＴＣＤ−０Ｍシフ り！、Ｉ Ｌ／ ） ７
０ｗｔ％、２．２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン２ｗｔ％加え均一にカクハン混合、脱泡し２Ｐ液
を得た。その後実施例−１と同様に諸物性を評価した。
に加え、ＴＣＤ−０Ｍシフ り！、Ｉ Ｌ／ ） ７
０ｗｔ％、２．２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン２ｗｔ％加え均一にカクハン混合、脱泡し２Ｐ液
を得た。その後実施例−１と同様に諸物性を評価した。
比較例−１
トリシクロデカンジイルジメチレンジアクリレート １
００ｖｔ％に対し下記式の２．２〜ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン２νｔ％加え均一にカクハン混合
、脱泡し２Ｐ液を得た。その後実施例−１と同様に諸物
性を評価した。
００ｖｔ％に対し下記式の２．２〜ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン２νｔ％加え均一にカクハン混合
、脱泡し２Ｐ液を得た。その後実施例−１と同様に諸物
性を評価した。
−ＣＨ３
比較例−２
光デイスク用ポリカーボネート（音大化成ＡＤ ９００
０）基板を上記の方法で諸物性を評価した。
０）基板を上記の方法で諸物性を評価した。
諸物性を評価した結果を表−１に示す。
記録膜に対する酸化、腐食性を調べるために光磁気ディ
スク記録媒体を作製し８０℃、８５％ＲＨ環境試験を行
ない、Ｃ／Ｎ、ＢＥＲの変化を調べた。
スク記録媒体を作製し８０℃、８５％ＲＨ環境試験を行
ない、Ｃ／Ｎ、ＢＥＲの変化を調べた。
実施例−３
外径φ１３０．内径φ１５．１．２ ｍｍ ｔのガラス
基板上にγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン／イソプロパノ−ルー３／９７の割合で混合したブラ
イマー液をスピンコードにより塗布し１１０℃１０分乾
燥後、実施例−１に示した２Ｐ液を環状に塗布しＮｉス
タンバとかさねあわせた。その後ガラス基板側から紫外
線を照射硬化させＮｉスタンパとハクリし光デイスク用
ガラス基板を得た。
基板上にγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン／イソプロパノ−ルー３／９７の割合で混合したブラ
イマー液をスピンコードにより塗布し１１０℃１０分乾
燥後、実施例−１に示した２Ｐ液を環状に塗布しＮｉス
タンバとかさねあわせた。その後ガラス基板側から紫外
線を照射硬化させＮｉスタンパとハクリし光デイスク用
ガラス基板を得た。
実施例−４
実施例−２に示した２Ｐ液を上記の方法と同様にして光
デイスク用ガラス基板を得た。
デイスク用ガラス基板を得た。
実施例−３，４で得られた光デイスク基板上にスパッタ
リング法によりＳ ｉ Ｎｌｌｌ１００ＯＡ。
リング法によりＳ ｉ Ｎｌｌｌ１００ＯＡ。
ＴｂＤｙＦｅＣｏ膜２００人、ＳｉＮ膜３００人。
／ｊ）膜５００人を積層した後、アクリル系紫外線硬化
樹脂（大日本インキ製５Ｄ−３１）Ｉ）をスピンコード
により４μ目塗布硬化させ光磁気ディスク媒体を得た。
樹脂（大日本インキ製５Ｄ−３１）Ｉ）をスピンコード
により４μ目塗布硬化させ光磁気ディスク媒体を得た。
このようにして得た光磁気ディスク媒体の環境試験を行
った結果約１０００時間経過後もＣ／Ｎ、ＢＥＲとも変
化なく高信頼性の光磁気ディスク媒体を得ることができ
た。
った結果約１０００時間経過後もＣ／Ｎ、ＢＥＲとも変
化なく高信頼性の光磁気ディスク媒体を得ることができ
た。
＾）アダマンチルアクリレートとＢ） ）リシクロデ
カンジ（メタ）アクリレートの組成物は、Ｂ）に対し、
１０〜４０ｗｔ％のＡ）を含有することが好ましい。
カンジ（メタ）アクリレートの組成物は、Ｂ）に対し、
１０〜４０ｗｔ％のＡ）を含有することが好ましい。
表−１
［発明の効果］
以上説明したように、本発明の光情報記録媒体は、情報
トラック層材料をアダマンチル（メタ）アクリレート系
光硬化性組成物を含有する構成としたことにより、耐環
境性に優れており信頼性の高い記録媒体である。
トラック層材料をアダマンチル（メタ）アクリレート系
光硬化性組成物を含有する構成としたことにより、耐環
境性に優れており信頼性の高い記録媒体である。
Claims (1)
- 基板上に凹凸状情報トラックを有し、かつ情報トラック
がトリシクロデカンジイルジメチレンジアクリレート（
ＴＣＤ−ＤＭジアクリレート）、アダマンチルメタクリ
レート或いはその誘導体又はアダマンチルアクリレート
或いはその誘導体を含む光硬化性樹脂及び光重合開始剤
からなる光硬化性組成物の層を光照射により重合硬化さ
せて形成されたものであることを特徴とする光情報記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2171320A JPH0459385A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2171320A JPH0459385A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0459385A true JPH0459385A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15921062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2171320A Pending JPH0459385A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0459385A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007002144A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Nippon Kayaku Co Ltd | 紫外線硬化型樹脂組成物並びにその硬化物 |
| JP2010218657A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2010218605A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Toshiba Corp | パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2011081902A (ja) * | 2010-12-08 | 2011-04-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2011090775A (ja) * | 2010-12-08 | 2011-05-06 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JP2011100538A (ja) * | 2010-11-29 | 2011-05-19 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US8070968B2 (en) | 2009-03-13 | 2011-12-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same |
| US20130244182A1 (en) * | 2010-11-19 | 2013-09-19 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive composition comprising an acrylate compound |
| WO2014157668A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 日本化薬株式会社 | エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物 |
-
1990
- 1990-06-29 JP JP2171320A patent/JPH0459385A/ja active Pending
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4693156B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2011-06-01 | 日本化薬株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物並びにその硬化物 |
| JP2007002144A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Nippon Kayaku Co Ltd | 紫外線硬化型樹脂組成物並びにその硬化物 |
| US8551685B2 (en) | 2009-03-13 | 2013-10-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet-curing resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same |
| JP2010218605A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Toshiba Corp | パターン転写用紫外線硬化性樹脂材料、及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法 |
| US8372575B2 (en) | 2009-03-13 | 2013-02-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet-curing resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same |
| US8070968B2 (en) | 2009-03-13 | 2011-12-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same |
| US8173029B2 (en) | 2009-03-18 | 2012-05-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording medium manufacturing method |
| JP4729114B2 (ja) * | 2009-03-18 | 2011-07-20 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2010218657A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US20130244182A1 (en) * | 2010-11-19 | 2013-09-19 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive composition comprising an acrylate compound |
| US9034561B2 (en) * | 2010-11-19 | 2015-05-19 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive composition comprising an acrylate compound |
| JP2011100538A (ja) * | 2010-11-29 | 2011-05-19 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2011081902A (ja) * | 2010-12-08 | 2011-04-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2011090775A (ja) * | 2010-12-08 | 2011-05-06 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
| WO2014157668A1 (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-02 | 日本化薬株式会社 | エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物 |
| JP2014196387A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | 日本化薬株式会社 | エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物 |
| CN105073799A (zh) * | 2013-03-29 | 2015-11-18 | 日本化药株式会社 | 能量射线固化型树脂组合物及其固化物 |
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