JPH0453222A - 電子ビーム露光装置 - Google Patents

電子ビーム露光装置

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JPH0453222A
JPH0453222A JP2162220A JP16222090A JPH0453222A JP H0453222 A JPH0453222 A JP H0453222A JP 2162220 A JP2162220 A JP 2162220A JP 16222090 A JP16222090 A JP 16222090A JP H0453222 A JPH0453222 A JP H0453222A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 電子ビーム露光装置、特に、鏡筒内の2つの、Iノンズ
間に信号線が配置されている電子ビーム露光装置に関し
、 2つのレンズ間の間隔を大きくすることなく、該2つの
レンズ間で真空側から大気側に信号線を取り出すことが
でき、光学系の短焦点化を達成できる電子ビーム露光装
置を提供することを目的とし、 内部が真空である鏡筒を含み、該鏡筒は、その内部に、
試料面に電子ビームを導くためのレンズ群と、偏向器あ
るいは補正コイルのための信号線であって前記レンズ群
の間に配置された信号線と、を備える電子ビーム露光装
置において、前記レンズ群の間には、セラミックのフラ
ンジ体が配置され、前記信号線は、フランジ体にメタラ
イズされた金属パターンから構成され、該フランジ体の
パターン面には、ガラスあるいはセラミックの薄膜が融
着され、該薄膜を有するフランジ体のパターン面は、鏡
筒に密着して真空シール面として機能するように構成す
る。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子ビーム露光装置、特に、鏡筒内の2つの
、レンズ間に信号線が配置されている電子ビーム露光装
置に関するものである。
近年、64M−DRAM等のようにパターンルールの微
細化が要求されるようになり、このため、高解像度の電
子ビーム露光装置が必要になっている。この場合に、フ
ィールドエミッション銃のような高輝度の電子銃を用い
て絞りを小さくし、露光を行うと、高解像度を達成する
ことができるが、スループットが低下するという問題が
ある。そこで、可変矩形、ブロック露光、ブランキング
アパーチャアレイ等の導入によってスループットを向上
させ、一方、解像度については、電磁レンズ、光学系、
偏向系の収差を改善することによって、達成している。
上記電磁レンズ、光学系、偏向系において、2つのレン
ズ間の間隔は、できるだけ小さい方がよい。しかしなが
ら、2つのレンズ間の間隙に各種の信号線を配置しなけ
ればならず、該信号線のために、ハーメチックシールを
配置するスペースが必要になる。このように2つのレン
ズ間にスペースを確保するためには、2つのレンズの強
度を落として焦点距離を大きくしなければならず、これ
は、球面収差、色収差、空間電荷相互作用による収差を
発生させ、解像度を悪化させる。
そこで、上記の事態を防止するために、2つのレンズ間
の間隔を小さくするための構成が望まれている。
〔従来の技術〕
従来、電子ビーム露光装置においては、静電偏向器、補
正コイル等が真空の鏡筒内に配置されており、電子ビー
ムの収束、偏向により試料上に描画するに際し、偏向器
、補正コイルの高速性は不可欠である。そこで、偏向器
としては、応答速度が速い静電型を使用し、補正コイル
としては、その直径を小さくすることによりインダクタ
ンスを小さくし、且つ、効率を良くするために軸上レン
ズ磁界の最大値付近に配置する必要がある。ここで、電
磁型偏向器の場合には、大気中に偏向コイルを配置し該
偏向コイルの内側に非磁性の絶縁体の真空壁□を設は該
真空壁の内側を金属薄膜で覆うことにより、磁界を真空
中に導入することができるが、これに対し、静電型偏向
器の場合には、前記電磁型偏向器のような構成にするこ
とができない。なぜならば、静電型偏向器は、その機能
から真空中に配置せざるをえないからである。また、補
正コイルの場合には、電磁レンズのポールピースのギャ
ップ付近に小型に配置しなければならないので、同様に
、真空中に配置される。
上記のように、静電型偏向器及び補正コイルが真空の鏡
筒内に配置されている場合に、該偏向器及び補正コイル
に電気信号を供給するために、ハーメチックシールを用
いて次のような構成をとっていた。すなわち、複数の電
磁レンズを積み重ね、レンズとレンズの間に偏向器ある
いは補正コイルが配置されている場合には、レンズとレ
ンズとの間にハーメチックシールを配置し、該ハーメチ
ックシールに信号線を設け、これにより、ハーメチック
シールの大気側からハーメチックシールの真空側の偏向
器あるいは補正コイルに電気信号を供給していた。
次に、レンズの収差の中で特に影響の大きい球面収差、
色収差は、レンズ強度を大きくすることにより、すなわ
ち、焦点距離を小さくすることにより、低減される。ま
た、空間電荷相互作用による収差は、ビーム飛距離に比
例するので、レンズの数を少なくできない場合には、や
はり焦点距離を小さくする必要がある。レンズの焦点距
離を小さくするには、すなわち、レンズの強度を大きく
するには、レンズの励磁電流の重加を必要とし、これは
、レンズコイルの発熱を考慮すれば、コイル線材に流す
電流量を増加させるよりも、コイルのターン数を増加さ
せることにより、達成される。
このようにレンズコイル(励磁コイル)のターン数を増
加させると、レンズコイルが大型化する。
ここで、計算上の電子ビーム光学系で決定される位置に
レンズを配置し、該レンズに要求される焦点距離に適合
するようにレンズコイルを配置しようとする場合に、上
下のレンズコイルは、ターン数が多いために、大型化し
、この結果、所望の光学系を満たすようにレンズ及びレ
ンズコイルを配置できなくなる。そこで、レンズコイル
の大きさを鏡筒の半径方向に大きくし且つ鏡筒の光軸方
向に小さくすることが考えられるが、レンズコイルの大
きさを鏡筒の半径方向に大きくする場合には、コイル線
材の1ターン当たりの長さが半径に比例して大きくなる
。そして、コイルの発熱、レンズ電源電圧を考慮すると
、レンズコイルの大きさを鏡筒の半径方向に大きくする
程度には、限界がある。従って、レンズの焦点距離を小
さ(するために、レンズコイルのターン数を増加させる
という方法をとることができない。
そこで、レンズの各種の収差を低減するために、上下の
レンズコイルをできるだけ上下で隙間なく配置して、レ
ンズの焦点距離を小さ(するという構成をとっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記のように、レンズの各種の収差を低減するために、
上下のレンズコイルをできるだけ上下で隙間なく配置し
ている。
しかしながら、前述したように、上下のレンズの間(上
下のレンズコイルの間)からは、各種の信号線を取り出
さねばならないので、上下のレンズの間には、ハーメチ
ックシールのためのスペースを確保しなければならない
。このため、上下のレンズをできるだけ上下で接近させ
ることが困難になり、レンズの強度を低下させてレンズ
の焦点距離を大きくせざるをえなかった。従って、レン
ズの球面収差、色収差、空間電荷相互作用による収差が
悪化し、解像度が悪化するという問題があった。
次に、例をあげて、上記問題点を更に説明する。
まず、投影レンズについて考えると、該投影レンズの上
には縮小レンズがあり、該縮小レンズのレンズ中心には
磁界補正用コイルがあり、その上にはアパーチャがある
。また、投影レンズの中には大偏向用の偏向コイル、そ
の内側に真空壁があり、更にその内側には小偏向用の静
電偏向器がある。そして、静電偏向器に電気信号を供給
する信号線は、投影レンズとその上の縮小レンズとの間
を通り、該信号線は、投影レンズと縮小レンズとの間の
スペーサに取り付けられたハーメチックシールから大気
側に取り出される。従って、スペーサの高さ分たけ投影
レンズと縮小レンズとの間隔が大きくなるという問題が
ある。
ここで、投影レンズの下部を通して信号線を取り出す方
法が考えられるが、この方法では、電極を固定する治具
にスペースを取り付けることになり、最も重要なレンズ
である投影レンズが試料の露光面から離れるので、投影
レンズの収差の増大を生じさせ、不適当である。なお、
電極の高さの周辺には、真空壁、偏向コイル、投影レン
ズのポールピース等かあり、ハーメチックシールを取り
付けることは不可能である。従って、上述のように、投
影レンズと縮小レンズとの間のスペースに取り付けられ
たハーメチックシールから、信号線を大気側に取り出さ
ざるをえなかった。
次に、ブランキングアパーチャアレイについて、第10
.11図を参照しながら説明する。
符号]−〇は、環状のフランジ体を示し、フラン] 0 ジ体10の内側、外側は、それぞれ、真空側、大気側で
ある。フランジ体10は、スペーサ12、及び、半径方
向に延びるようにスペーサ12に取り付けられた複数の
ハーメチックシール16を含み、また、フランジ体10
の内部には、ブランキングアパーチャアレイ18が配置
されている。ハーメチックシール16は、その中心に端
子20を有しており、該端子20の内側は、リード線2
2を介して、ブランキングアパーチャアレイ18に接続
されている。以上のようにして、端子20及びリード線
22を介して、大気側から真空側のブランキングアパー
チャアレイ18に電気信号が供給されることになる。
そして、ブランキングアパーチャアレイ18のよに非常
に多くの信号線を真空側から大気側に取り出す場合には
、従来のハーメチックシール16を使用すると、非常に
大きなスペースが必要になり、配線だけのために鏡筒が
大型化してしまう。
以上、詳細に説明してきたように、計算上では、レンズ
の強度を大きくして光学系を短焦点化すれば、高解像度
の鏡筒を得ることができるが、実際には、上下のレンズ
の間隙から各種の信号線を取り出さねばならず、このた
め、」1下のレンズ間にハーメチックシールを取り付り
るためのスペースを確保しなければならない。このため
、I、・ンズの強度を小さくして上下のレンズ間の間隔
を大きくする必要があり、これは、レンズの焦点距離を
増大させて、球面収差、色収差、空間電荷相互作用によ
る収差を発生させ、解像度を悪化させることになる。
本発明の目的は、2つのレンズ間の間隔を大きくするこ
となく、該2つのレンズ間で真空側から大気側に信号線
を取り出すことができ、光学系の短焦点化を達成できる
電子ビーム露光装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕 本発明は、内部が真空である鏡筒を含み、該鏡筒は、そ
の内部に、試料面に電子ビームを導くためのレンズ4.
0,44群と、偏向器42あるいは補正コイル60のた
めの信号線68であって前記レンズ群40.44の間に
配置された信号線68と、を備える電子ビーム露光装置
において、前記レンズ群の40.44間には、セラミッ
クのフランジ体66が配置され、前記信号線68は、フ
ランジ体66にメタライズされた金属パターン68から
構成され、該フランジ体66のパターン面70には、ガ
ラスあるいはセラミックの薄膜が融着され、該薄膜を有
するフランジ体66のパターン面70は、鏡筒に密着し
て真空シール面として機能することを特徴とする。
〔作用〕
本発明においては、薄膜を有するフランジ体66のパタ
ーン面70が鏡筒に密着して真空シール面として機能し
ている。
このように構成すると、複数の信号線68であっても、
2つのレンズ40.44間の限られたスペースで信号線
68を真空側から大気側に取り出すことが可能になり、
ハーメチックシールを取り付けるためのスペースを2つ
のレンズ40.4.4間に確保する必要がない。従って
、レンズ40.44の強度を小さくシ、て2つのレンズ
40.44間の間隔を大きくする必要がなく、この結果
、光学系の短焦点化を達成できる。それゆえ、レンズ4
0.44の球面収差、色収差、空間電荷相互作用による
収差を低減でき、高解像度の描画が可能になる。
また、2つの1ノンズ40.44間にブランキングアパ
ーチャアレイ42が配置されている場合に、ブランキン
グアパーチャアレイ42は、多くの信号線68を有する
が、フランジ体66上の金属パターン68を微細化する
ことにより、限られたスペースで信号線68を配置する
ことが可能となり、鏡筒を小型化できる。
〔実施例〕
以下、図面に基づいて本発明の好適な実施例を説明する
第1図には、本発明の実施例による電子ビーム露光装置
が示されている。
第1図において、電子銃30からの電子ビーム32は、
スリット34、レンズ36、静電偏向器38、レンズ4
0、ブランキングアパーチャアレイ42、レンズ44、
ブランキング電極46、レンズ48、アパーチャ50、
レンズ52.54を介して、試料(1クエハ)56の露
光面に照射される。なお、レンズ52.54は、それぞ
れ、補正コイル58.60を内部に有し、また、レンズ
54の外側には、静電偏向器62が配置されている。ま
た、符号64は、電子ビーム32の光軸を示す。
上記レンズ40.44間において、ブランキングアパー
チャアレイ42の上方には、環状のセラミックフランジ
体66が配置されており、以下、該フランジ体66につ
いて、第1.2.3図を参照しながら説明する。
フランジ体66には、半径方向に延びる複数の金属パタ
ーン68がメタライズされ、該フランジ体66のパター
ン面70には、ガラスあるいはセラミックの薄膜が融着
されている。このようにガラスあるいはセラミックの薄
膜が融着されたフランジ体66のパターン面70は、鏡
筒に密着して真空シール面として機能する。なお、パタ
ーン面70の金属パターン68の半径方向内端部68a
は、ブランキングアパーチャアレイ42の接結部に直接
にあるいはリード線71を介して接続される。
なお、第1図において、レンズ52.54間にには、他
のフランジ体72が配置されており、該フランジ体72
は、前記フランジ体66と同様に、パターン面74を有
し、鏡筒とのシール面として機能する。なお、パターン
面74の金属パターンは、リード線76を介して、補正
コイル60に接続されている。
次に、第4図には、他の実施例によるフランジ体の外観
が示され、第6.7図には、それぞれ、第4図のフラン
ジ体の詳細な正面、断面が示されている。
第4.5.6図において、セラミックのフランジ体78
は、環状部80及び中空円筒部82から構成され、該環
状部80及び円筒部82には、複数の金属パターン84
がメタライズされ、該フランジ体78のパターン面86
には、ガラスあるいはセラミックの薄膜が融着されてい
る。このようにガラスあるいはセラミックの薄膜が融着
されたフランジ体78のパターン面86は、鏡筒に密着
して真空シール面として機能する。そして、このような
フランジ体78によれば、環状部80よりも下方に、金
属パターン84の接続部84aを確保することができる
次に、第7図には、前述したブランキングアパーチャア
レイ42の構成が示され、第8図には、ブランキングア
パーチャアレイ42の外観が示されている。
第7.8図において、ブランキングアパーチャアレイ4
2は、複数の孔88を含む。なお、符号90.92.9
4.96.97は、それぞれ、Ov電極、+5V電極、
インバータ出力がデータ反転する電極、インバータ出力
がデータの電極、素子部(素子3つ型、インバータ1つ
)である。
また、符号98.100..102は、それぞれ+5V
線、データ線、GND線である。また、符号104.1
06は、それぞれ、信号線、インバータ出力線である。
上記ブランキングアパーチャアレイ42において、電子
ビームは、複数の孔88を通過して直進し試料56に到
達するが、電流の供給の仕方により孔88内の電界が変
化すると、いくつかの孔88を通過した電子ビームは、
偏向して直進せず試料56に到達しない。これにより、
ブランキングアパーチャアレイ42全体を通過する電子
ビームにより、所望の描画がなされるようになる。
次に、第9図には、フランジ体の変形例が示されている
第9図において、環状のスペーサ108の内部は、真空
であり、ブランキングアパーチャアレイ110が配置さ
れている。スペーサ108の半径方向の孔には、セラミ
ック体112が挿入固定されており、該セラミック体1
12には、金属パタ] 7 −ン114から成るパターン面116が形成されている
。そして、セラミック体112とスペーサ108との間
には、0リング118が配置されている。なお、セラミ
ック体112の金属パターン114は、リード線120
を介して、プランキングアパヤーヂャアレイ110に接
続されている。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、薄膜を有するフ
ランジ体のパターン面が鏡筒に密着して真空シール面と
して機能するので、2つのレンズ間の間隔を大きくする
ことなく、該2つのレンズ間で真空側から大気側に信号
線を取り出すことができ、従って、光学系の短焦点化を
達成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例による電子ビーム露光装置の
構成説明図、 第2図は、本発明の実施例によるフランジ体の外観斜視
図、 第3図は、第2図のフランジ体の使用状態の外観斜視図
、 第4図は、他の実施例によるフランジ体の外観斜視図、 第5.6図は、それぞれ、第4図のフランジ体の詳細な
正面図、断面図、 第7.8図は、それぞれ、ブランキングアパーチャアレ
イの構成説明図、外観斜視図、第9図は、フランジ体の
変形例を示す一部断面図、 第10図は、従来のフランジ体の一部断面図、第11図
は、従来のフランジ体の使用状態の外観斜視図である。 30・・・電子銃 32・・・電子ビーム 40・・・レンズ 42・・・ブランキングアパーチャアレイ(偏向器)4
4・・・レンズ 66・・・フランジ体 68〜68・・金属パターン(信号線)70・・・パタ
ーン面

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、内部が真空である鏡筒を含み、該鏡筒は、その内部
    に、試料面に電子ビームを導くためのレンズ(40、4
    4)群と、偏向器(42)あるいは補正コイル(60)
    のための信号線(68)であって前記レンズ群(40、
    44)の間に配置された信号線(68)と、を備える電
    子ビーム露光装置において、 前記レンズ群の(40、44)間には、セラミックのフ
    ランジ体(66)が配置され、前記信号線(68)は、
    フランジ体(66)にメタライズされた金属パターン(
    68)から構成され、該フランジ体(66)のパターン
    面(70)には、ガラスあるいはセラミックの薄膜が融
    着され、該薄膜を有するフランジ体(66)のパターン
    面(70)は、鏡筒に密着して真空シール面として機能
    することを特徴とする電子ビーム露光装置。 2、請求項1記載の電子ビーム露光装置において、前記
    フランジ体(66)のパターン面(70)は、鏡筒の光
    軸(64)にほぼ垂直な環状平面状、あるいは、光軸(
    64)にほぼ垂直な環状平面状及び光軸(64)をほぼ
    中心とする中空円筒状であることを特徴とする電子ビー
    ム露光装置。 3、請求項1又は2記載の電子ビーム露光装置において
    、前記金属パターン(68)は、複数であることを特徴
    とする電子ビーム露光装置。
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