JPH0440937A - 磁気共鳴装置のスライス厚調節方法 - Google Patents

磁気共鳴装置のスライス厚調節方法

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JPH0440937A
JPH0440937A JP2146236A JP14623690A JPH0440937A JP H0440937 A JPH0440937 A JP H0440937A JP 2146236 A JP2146236 A JP 2146236A JP 14623690 A JP14623690 A JP 14623690A JP H0440937 A JPH0440937 A JP H0440937A
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JP
Japan
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excitation
time
slice thickness
pulse
magnetic resonance
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Pending
Application number
JP2146236A
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English (en)
Inventor
Takao Kasugai
隆夫 春日井
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0440937A publication Critical patent/JPH0440937A/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/20Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
    • G01R33/44Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance using nuclear magnetic resonance [NMR]
    • G01R33/48NMR imaging systems
    • G01R33/483NMR imaging systems with selection of signals or spectra from particular regions of the volume, e.g. in vivo spectroscopy
    • G01R33/4833NMR imaging systems with selection of signals or spectra from particular regions of the volume, e.g. in vivo spectroscopy using spatially selective excitation of the volume of interest, e.g. selecting non-orthogonal or inclined slices
    • G01R33/4835NMR imaging systems with selection of signals or spectra from particular regions of the volume, e.g. in vivo spectroscopy using spatially selective excitation of the volume of interest, e.g. selecting non-orthogonal or inclined slices of multiple slices

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ (産業上の利用分野) 本発明は、磁気共鳴装置におけるスライス厚を調節する
スライス厚調節方法に関する。
(従来の技術) 例えば、磁気共鳴イメージング装置(以下、MRI装置
という)では、その分解能を向上させるため、スライス
面の厚さを薄くしようという試みが図られている。
従来において、スライス厚を薄くするために、傾斜磁場
強度を大きくしたり、励起パルスの印加時間を長くする
等の方法が用いられ、また、別の方法として3次元フー
リエ変換法(3DFT)が採用されることもあった。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、傾斜磁場強度を大きくするためには、傾
斜磁場発生装置の規模を大容量とする必要があり、コス
ト的に負担が大きい。また、励起パルスの印加時間を長
くすると、これに伴なってエコー発生時間も長くなって
しまうので、所望のT+(縦緩和時間)、T2(横緩和
時間)強調像を得るには制約が大きくなってしまう。
一方、3DFTは収集時間が長いという制約から、現実
的には長い繰り返し時間のスキャンは不可能であり、T
2強調の画像が得られにくいという問題があった。
この発明はこのような従来の課題を解決するためになさ
れたもので、その目的とするところは、容易に薄いスラ
イス厚の断面像を得ることのできる磁気共鳴装置のスラ
イス厚調節方法を提供することにある。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明は、磁場中に置かれた
被検体の励起面を時系列的に切換え、各励起面から発生
するMR倍信号基に画像を再構成して得られる断層像の
スライス厚を調節する磁気共鳴装置のスライス厚調節方
法において、隣接する2つの励起面を重複させて励起パ
ルスを印加することが特徴である。
また、この発明において、励起面に励起パルスを印加す
る直前に、隣接の励起面を再励起させることが特徴であ
る。
(作用) 上述の如く構成すれば、隣接する励起面の一部が重複す
るように励起パルスが印加される。従って、ある励起面
に励起パルスを印加すると、隣りの励起面と重複した部
分は縦磁化の回復時間が非常に短くなるので、この部分
から発生するMR倍信号重複しない部分から発生するM
R倍信号比べて無視できるほど小さくなる。その結果、
実際の励起面から重複した部分を除いた部分がMR像の
スライス厚となる。
従って、各励起面どうしの重複部分を制約することで、
容易にスライス厚を調節することができるようになる。
また、ある励起面に励起パルスを印加する直前にこれと
隣接する励起面を再励起させれば隣接する励起との重複
部分から発生するMR倍信号完全に除去することができ
るるようになる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。第
1図は本発明方法が適用されるMRI装置の主要部を示
すブロック図である。
図示のように、磁石装置ユは、この内部に一定強度の主
磁場を形成する静磁場コイル2と、X方向、X方向及び
2方向に傾斜磁場を形成する傾斜磁場コイル3と、被検
体(不図示)の原子核のスピンを励起するための高周波
パルス(RFパルス)を与えるとともに、被検体内のM
R倍信号受信するための送受信コイル4とを備えている
。被検体はこの磁石装置]−内に配置される。
システムコントローラ5は、このMHI装置の制御中枢
として位置づけられるものであり、傾斜磁場制御回路6
と、高周波発振器7と、ゲート回路8に接続されている
傾斜磁場制御回路6は、システムコントローラ5の指令
により傾斜磁場コイル3の電流を制御するものである。
高周波発振器7は、システムコントローラ5で設定され
た被検体のスライス面を励起させるべく高周波信号を発
生するものである。ゲート回路8は、システムコントロ
ーラ5からタイミング信号により高周波発振器7から出
力された高周波信号を変調し、高周波パルスを生成して
これを増幅器9に出力している。
電力増幅器9は、ゲート回路8がら出力された高周波パ
ルスを電力増幅するものであり、この増幅出力はデュプ
レクサ回路]0を介して送受信コイル4に供給される。
また、デュプレクサ回路10は、送受信コイル4で取込
まれたMR倍信号図示しない画像作成部へ供給しており
、これによってMR両画像作成されるようになっている
静磁場制御回路1]は、静磁場コイル2に供給する電流
を調節し、これによって磁石装置1に発生する静磁場の
大きさを制御している。
次に、本実施例の作用について説明する。
第2図は本実施例方法の原理を簡易的に説明するための
図である。同図に示すSa、Scはそれぞれ励起面を示
しており、両励起面Sa、Scは重複部分を有している
ので、励起面Saのみにょる面Aと、両励起面が重複し
ている面Bと、励起面Scのみによる面Cとに分類され
る。
いま、スライス厚が“a となるようなパルスシーケン
スて励起面S a、S cXS a−=の順で交互に励
起パルスを印加すると、励起面Saのパルスシーケンス
で得られる面AからのMR倍信号大きさはS a −S
 aの繰り返し時間で決定され、面BからのMR倍信号
大きさはS c −S aの繰り返し時間で決定される
。同様に、励起面Scのパルスシーケンスで得られる面
CからのMR倍信号大きさはS c −S cの繰り返
し時間で決定され、面BからのMR倍信号大きさはS 
a −S cの繰り返し時間で決定される。
従って励起パルスの印加間隔時間を均一にすれば、例え
ば励起面ScのパルスシーケンスではSc −S cの
繰り返し時間が、S a −S cの繰り返し時間の2
倍となる。その結果、面Cから得られるMR倍信号方が
面Bから得られるMR倍信号りも繰り返し時間が異なる
分だけ大きくなる。
第3図は上述した方法を実際のマルチスライスによる励
起法に適用したときの説明図である。図ては1.0個の
スライス面81〜SIOに励起パルスを印加する例を示
しており、第1図に示したシステムコントローラ5に設
定されたパルスシーケンスによって所定の時間間隔で8
1〜SIOの順に励起パルスが印加される。また、隣り
合う励起面はそれぞれの半分が重複するように励起パル
スが印加されている。
第4図は各励起面81〜SIOへ印加する励起パルスの
タイムチャートを示している。図示のように、各励起パ
ルスは均一な時間間隔て印加されている。
そして、例えば第3図に示す励起面S2では、もし、従
来の励起方法、即ち、励起面を重複させない励起方法で
あれば、第4図に示すように前回励起面S2を励起させ
た時点toから今回励起させた時点t1までの時間TR
が繰り返し時間となる。しかし、本実施例では、励起面
S2の左半分(第3図D])か励起面S1と重複してい
るので、この部分では繰り返し時間か、励起面S1を励
起させてから励起面S2を励起させるまでの時間となる
。つまり、第4図に示す時間TRLが繰り返し時間とな
る。
一方、励起面S2の右半分(第3図D2)は、励起面S
3と重複しているので、この部分ては繰り返し時間か励
起面S3を励起させてから励起面S2を励起させるまで
の時間となる。つまり、第4図に示す時間TRRが繰り
返し時間となる。
このため、・、励起面S2に励起パルスを印加したとき
、この励起面S2の右半分(D2)は左半分(Dl)の
9倍の繰り返し時間となっている。
従って、左半分(Dl)から得られるMR倍信号右半分
(D2)から得られるMR倍信号比べて無視できる程小
さいものとなる。
その結果、励起面S2に励起パルスを印加すると、実際
にはその右半分(D2)のみのMR倍信号得られること
になり、これによって、励起面の半分の厚さのスライス
厚となるMR像を得ることができる。
このようにして、本実施例では、マルチスライスによる
MR像撮影時に、励起面か重複するように励起パルスを
印加している。従って、励起面の右半分と左半分とで繰
り返し時間が異なり、繰り返し時間の短い方は発生する
MR倍信号無視することができるようになる。その結果
、励起面の半分の厚さのスライス厚でMR像を得ること
ができる。
なお、本実施例では、励起面81〜S 10の半分づつ
を重複させる構成としたが、重複部分を種々変更させる
ことて、スライス厚を自在に調節できることは言うまで
もない。
また、第4図に示す繰り返し1時間TRLにょるMR倍
信号無視できない場合や、このMR倍信号完全に除去さ
せた場合には、第5図にそのパルスシーケンスが示され
るように、励起面s2を励起させる直前に、励起面S1
を再励起させればよい。
これによって、より鮮明な画質のMR像か得られるよう
になる。
なお、本実施例では磁気共鳴イメージング装置について
述べたか、本発明はこれに限らすスペクトロスコピー等
MR技術にも適用できることは勿論である。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明では、ある励起面とこれと
隣接する励起面とが重複されており、この重複部分は繰
り返し時間が非常に短くなるので、発生するMR倍信号
無視できるほど小さくなる。
その結果、実際の励起面から重複部を除いた部分がスラ
イス厚となるので、重複させる部分を制御することで、
容易にスライス厚を調節することができる。これによっ
て、容易に薄いスライス厚のMR像を得ることができる
ようになり、MR装置の分解能が向上する また、ある励起面に励起パルスを印加する直前に隣りの
励起面を再励起させれば、両励起面の重複部分から発生
するMR倍信号完全に除去することができ、MR像の画
質を向上させることができるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法が適用されるMHI装置の概略構成
を示すブロック図、第2図は本発明方法の原理を説明す
るための図、第3図は重複させた励起面を示す説明図、
第4図は印加する励起パルスのタイムチャート、第5図
はある励起面を励起させる直前に隣接する励起面を再励
起させるときのパルスシーケンスである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)磁場中に置かれた被検体の励起面を時系列的に切
    換え、各励起面から発生するMR信号を基に画像を再構
    成して得られる断層像のスライス厚を調節する磁気共鳴
    装置のスライス厚調節方法において、 隣接する2つの励起面を重複させて励起パルスを印加す
    ること を特徴とする磁気共鳴装置のスライス厚調節方法。
  2. (2)励起面に励起パルスを印加する直前に、隣接の励
    起面を再励起させる請求項1記載の磁気共鳴装置のスラ
    イス厚調節方法。
JP2146236A 1990-06-06 1990-06-06 磁気共鳴装置のスライス厚調節方法 Pending JPH0440937A (ja)

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JP2146236A JPH0440937A (ja) 1990-06-06 1990-06-06 磁気共鳴装置のスライス厚調節方法
US08/266,797 US5422577A (en) 1990-06-06 1994-06-28 Method and apparatus for producing slicing planes for nuclear magnetic resonance imaging with desired thickness

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Also Published As

Publication number Publication date
US5422577A (en) 1995-06-06

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