JPH0438384Y2 - - Google Patents
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、パネル表面を押圧することにより、
押圧した部分が着色する、所謂タツチ式デイスプ
レイパネルに関する。詳しくは、電圧印加によ
り、可逆的な着色、消色をするエレクトロクロミ
ツクデイスプレイ（以下、ECDと略記すること
もある）素子を用いたタツチ式デイスプレイパネ
ルである。[Detailed description of the invention] [Industrial field of application] The invention enables
This invention relates to a so-called touch-type display panel in which the pressed part is colored. Specifically, it is a touch-type display panel that uses an electrochromic display (hereinafter sometimes abbreviated as ECD) element that reversibly colors and decolors by applying voltage.
従来、ECD素子を使用したタツチ式デイスプ
レイパネルとして第２図に示すものが知られてい
る。即ち、ガラス板のような透明な基板１４上
に、導電層３、エレクトロクロミツク層（以下、
EC層と略記することもある）４、電解質層５、
対向電極層６及び導電層７を順次積層したデイス
プレイ基板と空間１１を隔てて可撓性を有する電
極１３を設けた構造である。
Conventionally, the one shown in FIG. 2 is known as a touch-type display panel using an ECD element. That is, on a transparent substrate 14 such as a glass plate, a conductive layer 3 and an electrochromic layer (hereinafter referred to as
(sometimes abbreviated as EC layer) 4, electrolyte layer 5,
This structure includes a display substrate in which a counter electrode layer 6 and a conductive layer 7 are sequentially laminated, and a flexible electrode 13 separated by a space 11.
しかしながら、上記のタツチ式デイスプレイパ
ネルは、押圧する面、即ちタツチ入力面である可
撓性を有する電極面１３とデイスプレイ面である
透光な基板とがパネルの反対側に位置するため、
押圧による表示を直接見ることが困難であつた。
また、かかる問題を解消するため、可撓性を有す
る電極を透明な材質で構成し、該タツチ入力面側
から表示を見ることができるようにすることも考
えられる。しかし、このようなタツチ式デイスプ
レイパネルは、可撓性を有する電極１３及び空間
１１を介してECD素子の表示を見るため、表示
の鮮明度が低く、特に該電極１３の表面に細かい
傷がついた場合には表示が著しく不鮮明になると
いう問題を有していた。 However, in the touch-type display panel described above, the flexible electrode surface 13, which is the surface to be pressed, that is, the touch input surface, and the transparent substrate, which is the display surface, are located on opposite sides of the panel.
It was difficult to directly see the display caused by pressing.
Furthermore, in order to solve this problem, it is conceivable that the flexible electrode be made of a transparent material so that the display can be viewed from the touch input surface side. However, in such a touch-type display panel, the display of the ECD element is viewed through the flexible electrode 13 and the space 11, so the display clarity is low, and the surface of the electrode 13 is particularly prone to fine scratches. In this case, there was a problem in that the display became extremely unclear.
本考案者等は、かかる問題を解決すべく研究を
重ねた結果、可撓性を有するフイルム状のエレク
トロクロミツクデイスプレイ素子と電極面を有す
る電極基板とを空間を隔てて対向させることによ
り、可撓性ECDフイルム側からパネルを押圧す
ることができるため、タツチ入力面から直接表示
を見ることができ、表示の鮮明度を著しく向上し
得ることを見い出し、本考案を完成した。
As a result of repeated research to solve this problem, the inventors of the present invention have found that a flexible film-like electrochromic display element and an electrode substrate having an electrode surface face each other across a space. Since the panel can be pressed from the flexible ECD film side, the display can be viewed directly from the touch input surface, and the present invention was completed after discovering that the clarity of the display can be significantly improved.
本考案は、可撓性を有するフイルム状のエレク
トロクロミツクデイスプレイ素子と電極面を有す
る電極基板とを空間を隔てて対向させたタツチ式
デイスプレイパネルである。 The present invention is a touch-type display panel in which a flexible film-like electrochromic display element and an electrode substrate having an electrode surface are opposed to each other with a space between them.
以下、本考案を添付図面に従つて詳細に説明す
るが、本考案はこれらの添付図面に限定されるも
のではない。第１図は、本考案のタツチ式デイス
プレイパネルの代表的な態様について、その部分
断面を示す斜視図である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to these drawings. FIG. 1 is a partial cross-sectional perspective view of a typical embodiment of the touch-type display panel of the present invention.
本考案において、可撓性ECDフイルムは、可
撓性を有するフイルム状ECD素子より構成され
ていれば特に制限されないが、第１図に示すよう
に押圧する面に保護用の可撓性を有する透明フイ
ルム１を設け、これに導電層３、エレクトロクロ
ミツク層４、電解質層５、対向電極層６及び導電
層７よりなるECD素子を積層して可撓性ECDフ
イルム８を構成することが好ましい。 In the present invention, the flexible ECD film is not particularly limited as long as it is composed of a flexible film-like ECD element, but as shown in Fig. 1, the flexible ECD film has protective flexibility on the surface to be pressed. A transparent film 1 is provided, and an ECD element consisting of a conductive layer 3, an electrochromic layer 4, an electrolyte layer 5, a counter electrode layer 6, and a conductive layer 7 is laminated thereon to form a flexible ECD film 8. It is preferable to configure.
上記の可撓性を有する透明フイルム１は、公知
のものが特に制限なく使用される。例えば、ポリ
エチレンテレフタレートフイルム、ポリカーボネ
ートフイルム等が透明性及び耐擦傷性の面で好適
に使用される。 As the above-mentioned flexible transparent film 1, any publicly known film may be used without particular limitation. For example, polyethylene terephthalate film, polycarbonate film, etc. are preferably used in terms of transparency and scratch resistance.
また、導電層３及び導電層７は電子導電性を示
すことを要件とするが、第１図に示す態様におい
ては、少なくとも導電層３ができるだけ透明であ
ることが、透明フイルム１側からEC層４の表示
を見るために好ましい。かかる導電層としては、
例えば酸化インジウムに酸化スズをドープしたも
の、酸化すず、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カド
ミウム、すず酸化カドミウム等の酸化物半導体薄
膜あるいは、厚さ500〓以下の金、銀等の薄膜が
透明性を付与する場合に好適に使用される。ま
た、導電層７のように透明性を要求されない場合
は銅、銀等の500〓を越える膜でも使用し得るが
該膜の厚みは1μ以下とすることが好ましい。か
かる導電性層の形成方法としては、例えばスパツ
タリング、真空蒸着、イオンプレーテイング、ス
プレー法、ゾルーゲル法、CVD法等の公知の方
法を採用することができる。 Furthermore, although the conductive layer 3 and the conductive layer 7 are required to exhibit electronic conductivity, in the embodiment shown in FIG. It is preferable to view the display of 4. As such a conductive layer,
For example, thin films of oxide semiconductors such as indium oxide doped with tin oxide, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, cadmium oxide, and cadmium tin oxide, or thin films of gold, silver, etc. with a thickness of 500 mm or less can improve transparency. It is suitably used when applying. Further, when transparency is not required as in the case of the conductive layer 7, a film of copper, silver, etc. with a thickness exceeding 500 mm may be used, but the thickness of the film is preferably 1 μm or less. As a method for forming such a conductive layer, known methods such as sputtering, vacuum evaporation, ion plating, spray method, sol-gel method, and CVD method can be employed.
尚、対向電極層が高い電子導電性を示す場合は
導電層７は必要でない。 Note that if the counter electrode layer exhibits high electronic conductivity, the conductive layer 7 is not necessary.
また、EC層４は、エレクトロクロミツク物質
を含む層であればよい。該エレクトロクロミツク
物質としては例えば、無定形酸化タングステンが
最も代表的であるが、その他にも、有機色素、金
属錯体、遷移金属化合物、有機物の高分子体など
が適宜採用される。該EC層の形成方法としては、
例えば真空蒸着、スパツタリング、イオンプレー
テイング、プラズマ等の公知の方法が適宜採用さ
れる。また、他の形成方法として塩化タングステ
ンをアルコール等の有機溶媒に溶解した液を膜状
に形成し、該有機溶媒を除去した後、或いは除去
と同時に水中又は水蒸気中で加水分解する方法も
好適である。EC層は、一般に100〓〜5μの厚さが
好ましい。 Furthermore, the EC layer 4 may be any layer containing an electrochromic substance. The most typical example of the electrochromic substance is amorphous tungsten oxide, but organic dyes, metal complexes, transition metal compounds, organic polymers, and the like may also be used as appropriate. The method for forming the EC layer is as follows:
For example, known methods such as vacuum evaporation, sputtering, ion plating, and plasma may be employed as appropriate. Another suitable method is to form a film by dissolving tungsten chloride in an organic solvent such as alcohol, and then hydrolyzing it in water or steam after or simultaneously with the removal of the organic solvent. be. The EC layer generally has a preferred thickness of 100 to 5 microns.
本考案において、電解質層５を構成する電解質
は、公知のものが特に制限なく使用し得るが、可
撓性を有する固体電解質を用いることが好まし
い。例えば、高分子体に電解質物質を分散させた
もの、具体的には分子量1000以上のポリアルキレ
ンオキサイドに、過塩素酸アルカリ等の電解質物
質を分散させたものが挙げられる。また、イオン
交換基を有する重合体、例えば、イオン交換体を
電解質として用いることが、得られるECD素子
の応答速度及びコントラスト比が向上するために
好ましい。かかる電解質層の厚みは一般に1000〓
〜200μmが好適である。また、電解質層の形成方
法としては、例えば、スピンナー法、スクリーン
印刷等の公知の方法が採用される。 In the present invention, any known electrolyte can be used without particular limitation as the electrolyte constituting the electrolyte layer 5, but it is preferable to use a flexible solid electrolyte. For example, examples include those in which an electrolyte substance is dispersed in a polymer, specifically those in which an electrolyte substance such as alkali perchlorate is dispersed in a polyalkylene oxide having a molecular weight of 1000 or more. Further, it is preferable to use a polymer having an ion exchange group, for example, an ion exchanger, as an electrolyte because the response speed and contrast ratio of the resulting ECD device are improved. The thickness of such an electrolyte layer is generally 1000〓
~200 μm is preferred. Further, as a method for forming the electrolyte layer, for example, a known method such as a spinner method or screen printing may be employed.
対向電極層６としては、公知のものが使用でき
る。例えば酸化インジウム、酸化インジウム−酸
化すず膜（ITO膜）、無定形酸化タングステン、
鉄錯体、遷移金属化合物−カーボン焼結体及び酸
化マンガン等が挙げられる。形成方法としては、
スパツタリング、真空蒸着、電解メツキ等の公知
の方法が採用される。尚、本発明に於ける対向電
極とは、上記で説明した公知のものの他、エレク
トロクロミツク層と透明導電層との２層からな
り、電極として機能するものをも含む。 As the counter electrode layer 6, a known one can be used. For example, indium oxide, indium oxide-tin oxide film (ITO film), amorphous tungsten oxide,
Examples include iron complexes, transition metal compound-carbon sintered bodies, and manganese oxide. As for the formation method,
Known methods such as sputtering, vacuum deposition, electrolytic plating, etc. are employed. The counter electrode in the present invention includes, in addition to the well-known ones described above, those which are composed of two layers, an electrochromic layer and a transparent conductive layer, and which function as an electrode.
対向電極層の厚みは100〓〜80μmが好ましい。 The thickness of the counter electrode layer is preferably 100 μm to 80 μm.
第１図においては、可撓性ECDフイルム８の
構成として、可撓性を有する透明フイルム１に導
電層３、EC層４、電解質層５、対向電極層６及
び導電層７を順次積層する態様を示したが、その
他、可撓性を有する透明フイルム１に導電層７、
対向電極層６、電解質層５、EC層４及び導電層
３を順次積層した態様も採用される。かかる態様
においては、導電層７、対向電極層６及び電解質
層５は透明性を有する材質を選択して使用すれば
よい。しかし、表示の鮮明度の点で、第１図に示
す態様の可撓性ECDフイルムが好適である。 In FIG. 1, the structure of the flexible ECD film 8 is such that a conductive layer 3, an EC layer 4, an electrolyte layer 5, a counter electrode layer 6, and a conductive layer 7 are sequentially laminated on a flexible transparent film 1. However, in addition, a conductive layer 7, a flexible transparent film 1,
An embodiment in which the counter electrode layer 6, electrolyte layer 5, EC layer 4, and conductive layer 3 are sequentially laminated is also adopted. In such an embodiment, the conductive layer 7, the counter electrode layer 6, and the electrolyte layer 5 may be made of transparent materials. However, from the viewpoint of display clarity, the flexible ECD film of the embodiment shown in FIG. 1 is preferable.
また、可撓性ECDフイルム８におけるECD素
子は、第１図に示すように、酸化珪素の蒸着、絶
縁性を有するインクを用いたスクリーン印刷によ
り形成された絶縁体１２により、平面方向に対し
て複数個のセグメントに分割することが好まし
い。かかるセグメントの大きさ、形状等は表示す
る文字、図形線等の大きさ、形状、解像度等に応
じて適宜決定すればよい。尚、第１図はEC素子
の全層が分割された態様を示したが、導電層３、
EC層４及び電解質層５或いはEC層４、電解質層
５及び導電層７が複数のセグメントに分割されて
いれば充分である。 In addition, as shown in FIG. 1, the ECD elements in the flexible ECD film 8 are formed by an insulator 12 formed by vapor deposition of silicon oxide and screen printing using an insulating ink. Preferably, it is divided into multiple segments. The size, shape, etc. of such segments may be appropriately determined depending on the size, shape, resolution, etc. of characters, graphic lines, etc. to be displayed. Although FIG. 1 shows an embodiment in which all the layers of the EC element are divided, the conductive layer 3,
It is sufficient that the EC layer 4 and the electrolyte layer 5 or the EC layer 4, the electrolyte layer 5 and the conductive layer 7 are divided into a plurality of segments.
上記の可撓性ECDフイルムの厚みは一般に
500μm以下、好ましくは100〜300μm程度が好ま
しく、かかる範囲となるように各層の厚みを決定
すればよい。以下、可撓性ECDフイルムの代表
的な製法を例示するが、これに限定されるもので
はない。 The thickness of the above flexible ECD film is generally
The thickness is preferably 500 μm or less, preferably about 100 to 300 μm, and the thickness of each layer may be determined within this range. Hereinafter, typical manufacturing methods for flexible ECD films will be illustrated, but the method is not limited thereto.
まず透明な可撓性フイルム上に、例えば酸化イ
ンジウムに酸化すずをドープしたものをスパツタ
リング等の方法により透明導電層を形成する。次
いで、その上に真空蒸着、スパツタリング等の方
法によりエレクトロクロミツク層を形成する。こ
の際、エレクトロクロミツク層を複数個に分割す
るには、エレクトロクロミツク層の形成前にフオ
トレジストを用いてITO全面にレジストを塗布し
てエレクトロクロミツク層を形成したい部分のみ
レジストを剥離してその状態でエレクトロクロミ
ツク層を形成する。形成後、残つていたレジスト
と共に不必要な部分のエレクトロクロミツク層を
剥離することで、エレクトロクロミツク層を複数
個に分割できる。次にエレクトロクロミツク層の
形成されていない部分に絶縁体をスクリーン印刷
等の方法により形成する。そして、エレクトロク
ロミツク層上に電解質層をスクリーン印刷等の方
法により形成し、その上に対向電極層をスクリー
ン印刷等の方法で形成する。さらにその上に導電
層をスクリーン印刷等の方法により順次積層する
ことで、透明な可撓性フイルム上にECD素子を
形成して可撓性デイスプレイフイルムをつくるこ
とができる。 First, a transparent conductive layer is formed on a transparent flexible film by sputtering or the like using, for example, indium oxide doped with tin oxide. Next, an electrochromic layer is formed thereon by a method such as vacuum deposition or sputtering. At this time, in order to divide the electrochromic layer into multiple parts, before forming the electrochromic layer, apply a photoresist to the entire ITO surface and peel off the resist only on the parts where you want to form the electrochromic layer. In this state, an electrochromic layer is formed. After formation, the electrochromic layer can be divided into a plurality of pieces by peeling off unnecessary portions of the electrochromic layer along with the remaining resist. Next, an insulator is formed on the portion where the electrochromic layer is not formed by a method such as screen printing. Then, an electrolyte layer is formed on the electrochromic layer by a method such as screen printing, and a counter electrode layer is formed thereon by a method such as screen printing. Furthermore, by sequentially laminating conductive layers on the transparent flexible film by a method such as screen printing, it is possible to form an ECD element on the transparent flexible film and create a flexible display film.
本考案において、電極基板２は、デイスプレイ
パネルとしてある程度の強度を有するものであれ
ば特に制限なく使用される。例えばガラス板、プ
ラスチツク板、金属板などが挙げられるが、特に
透明である必要はない。また、電極面９は、上記
電極基板２に形成されるものであり、材質は導電
性を有するものであれば特に制限されない。例え
ば銅、ニツケル、アルミニウム等の金属が挙げら
れる。電極面の形成方法としては、例えば、スパ
ツタリング、プラズマ、真空蒸着、圧延銅を積層
する方法等が挙げられる。尚、電極基板２自体が
導電性を有している場合は、別途電極面を形成さ
せる必要はない。 In the present invention, the electrode substrate 2 can be used without particular limitation as long as it has a certain degree of strength as a display panel. Examples include glass plates, plastic plates, metal plates, etc., but they do not need to be particularly transparent. Further, the electrode surface 9 is formed on the electrode substrate 2, and the material thereof is not particularly limited as long as it has conductivity. Examples include metals such as copper, nickel, and aluminum. Examples of methods for forming the electrode surface include sputtering, plasma, vacuum deposition, and a method of laminating rolled copper. Note that if the electrode substrate 2 itself has conductivity, there is no need to separately form an electrode surface.
本考案において、可撓性ECDフイルム８と電
極基板２との空間１１の間隙は、小さ過ぎると誤
作動が起こり易く、大き過ぎると操作性が悪いば
かりでなく、可撓性ECDフイルム８も屈曲も激
しくなり寿命が低下する。そのため、かかる間隙
は５〜1000μm、好ましくは10〜300μmとするこ
とが好ましい。 In the present invention, if the gap 11 between the flexible ECD film 8 and the electrode substrate 2 is too small, malfunctions are likely to occur, and if it is too large, not only is the operability poor, but also the flexible ECD film 8 is bent. It also becomes more severe and its lifespan decreases. Therefore, the gap is preferably 5 to 1000 μm, preferably 10 to 300 μm.
上記した空間１１を均一に維持するために、ス
ペーサー１０を介して可撓性デイスプレイフイル
ム８と電極基板２とを積層することは好ましい態
様である。かかるスペーサーの厚みは空間１１の
間隙に応じて決定すればよく、切欠部の大きさ形
状は特に制限されないが、EC素子のセグメント
の形状に応じて決定するのが一般的である。該ス
ペーサー１０の材質は絶縁性を有するものであれ
ば特に制限されない。例えば、ゴム、プラスチツ
ク、セラミツクス、紙等が一般に使用される。 In order to maintain the above-mentioned space 11 uniformly, it is a preferable embodiment to laminate the flexible display film 8 and the electrode substrate 2 with spacers 10 in between. The thickness of such a spacer may be determined according to the gap between the spaces 11, and the size and shape of the notch are not particularly limited, but it is generally determined according to the shape of the segment of the EC element. The material of the spacer 10 is not particularly limited as long as it has insulation properties. For example, rubber, plastic, ceramics, paper, etc. are commonly used.
本考案のタツチ式デイスプレイパネルを作動さ
せるための配線は電極基板２の電極面９と可撓性
ECDフイルム８の透明フイルム１側に位置する
EC素子の導電層（第１図にあつては導電層３）
とを夫々電源と接続することにより行うことがで
きる。この場合、該導電層が複数のセグメントに
分割されている場合には、個々のセグメントに位
置する導電層を直接電源に接続してもよいし、
EC素子内で導電層を電気的に接続して電源に接
続してもよい。 The wiring for operating the touch-type display panel of the present invention is connected to the electrode surface 9 of the electrode substrate 2 and the flexible wiring.
Located on the transparent film 1 side of ECD film 8
Conductive layer of EC element (conductive layer 3 in Figure 1)
This can be done by connecting both to a power source. In this case, if the conductive layer is divided into a plurality of segments, the conductive layer located in each segment may be directly connected to a power source,
The conductive layer may be electrically connected within the EC element to connect to a power source.
本考案のタツチ式デイスプレイパネルは、可撓
性ECDフイルムと電極基板とより成る。即ち、
可撓性ECDフイルム８を押圧（タツチ入力）す
ることにより、該可撓性ECDフイルム８が電極
基板２の電極面９に接触し、ECD素子に電圧が
印加されてEC層４の反応が起こる。そして、か
かる反応によつて表われるEC層４の発色は、上
記の空間１１を介することなく直接見ることがで
きる。
The touch-type display panel of the present invention consists of a flexible ECD film and an electrode substrate. That is,
By pressing the flexible ECD film 8 (touch input), the flexible ECD film 8 comes into contact with the electrode surface 9 of the electrode substrate 2, voltage is applied to the ECD element, and a reaction occurs in the EC layer 4. . The color development of the EC layer 4 caused by this reaction can be directly observed without going through the space 11 described above.
従つて、タツチ入力面から表示を見ることが可
能であると共に、EC層４の発色を空間１１を介
すことなく見ることができるため、表示が極めて
鮮明であるという効果を発揮する。 Therefore, it is possible to view the display from the touch input surface, and the coloring of the EC layer 4 can be seen without going through the space 11, resulting in an extremely clear display.
第１図は本考案の代表的な態様のタツチ式デイ
スプレイパネルの部分断面を示す斜視図、第２図
は従来のタツチ式デイスプレイパネルの部分断面
を示す斜視図である。
１……可撓性を有する透明フイルム、２……電
極基板、３……導電層、４……EC層、５……電
解質層、６……対向電極層、７……導電層、８…
…可撓性ECDフイルム、９……電極面、１０…
…スペーサー、１１……空間、１２……絶縁体、
１３……電極、１４……基板。
FIG. 1 is a perspective view showing a partial cross section of a touch type display panel according to a typical embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing a partial cross section of a conventional touch type display panel. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Flexible transparent film, 2... Electrode substrate, 3... Conductive layer, 4... EC layer, 5... Electrolyte layer, 6... Counter electrode layer, 7... Conductive layer, 8 ...
...Flexible ECD film, 9... Electrode surface, 10...
...Spacer, 11...Space, 12...Insulator,
13...electrode, 14...substrate.
Claims (1)
ツクデイスプレイ素子と電極面を有する電極基板
とを空間を隔てて対向させたタツチ式デイスプレ
イパネル。 A touch-type display panel in which a flexible film-like electrochromic display element and an electrode substrate having an electrode surface face each other across a space.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7091087U JPH0438384Y2 (en) | 1987-05-14 | 1987-05-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7091087U JPH0438384Y2 (en) | 1987-05-14 | 1987-05-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63180890U JPS63180890U (en) | 1988-11-22 |
| JPH0438384Y2 true JPH0438384Y2 (en) | 1992-09-08 |
Family
ID=30912980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7091087U Expired JPH0438384Y2 (en) | 1987-05-14 | 1987-05-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0438384Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3641605B2 (en) * | 2001-09-28 | 2005-04-27 | 株式会社東芝 | Electric equipment, heating cooker, refrigerator and washing machine |
-
1987
- 1987-05-14 JP JP7091087U patent/JPH0438384Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63180890U (en) | 1988-11-22 |
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