JPH0438034U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0438034U JPH0438034U JP7966390U JP7966390U JPH0438034U JP H0438034 U JPH0438034 U JP H0438034U JP 7966390 U JP7966390 U JP 7966390U JP 7966390 U JP7966390 U JP 7966390U JP H0438034 U JPH0438034 U JP H0438034U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- fan
- heat treatment
- gas
- treatment apparatus
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
Description
第１図は本考案に係る半導体ウエーハの熱処理
装置を略示的に示した断面図、第２図は同装置の
要部のみを示す平面図、第３図は同要部における
軸受部の拡大断面図、第４図はフアンに対するノ
ズルからのガス噴射状態を示す説明図、第５図は
第３図と同様の軸受部の他の実施例を示す拡大断
面図、第６図は同実施例の支持軸端部の平面図で
ある。 １……熱処理装置、２……炉体、３……ヒータ
ー、４……処理チユーブ、５……ガス供給手段、
６……チヤンネル部材、７……排気手段、８……
蓋体、９……半導体ウエーハ、１０……ウエーハ
ボート、１１……軸、１２……支持手段、１３…
…フアン、１３ａ……軸受部、１３ｂ……凹部、
１４……支持軸、１４ａ……凸部、１４ｂ……噴
出孔。
装置を略示的に示した断面図、第２図は同装置の
要部のみを示す平面図、第３図は同要部における
軸受部の拡大断面図、第４図はフアンに対するノ
ズルからのガス噴射状態を示す説明図、第５図は
第３図と同様の軸受部の他の実施例を示す拡大断
面図、第６図は同実施例の支持軸端部の平面図で
ある。 １……熱処理装置、２……炉体、３……ヒータ
ー、４……処理チユーブ、５……ガス供給手段、
６……チヤンネル部材、７……排気手段、８……
蓋体、９……半導体ウエーハ、１０……ウエーハ
ボート、１１……軸、１２……支持手段、１３…
…フアン、１３ａ……軸受部、１３ｂ……凹部、
１４……支持軸、１４ａ……凸部、１４ｂ……噴
出孔。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 半導体ウエーハを熱処理する処理チユーブ
と、該処理チユーブ内に所定の処理ガスを供給す
るガス供給手段とを具備する熱処理装置であつて
、前記処理チユーブの内部に処理ガスを撹拌する
撹拌手段を設けたことを特徴とする半導体ウエー
ハの熱処理装置。 (2) 撹拌手段がフアンである請求項(1)記載の半
導体ウエーハの熱処理装置。 (3) フアンを支持する支持軸と、該フアンを回
転させるガス噴出ノズルとをガス供給手段に形成
して撹拌手段を構成する請求項(1)記載の半導体
ウエーハの熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7966390U JPH0438034U (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7966390U JPH0438034U (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0438034U true JPH0438034U (ja) | 1992-03-31 |
Family
ID=31624023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7966390U Pending JPH0438034U (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0438034U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010093069A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Koyo Thermo System Kk | 基板の熱処理装置 |
| JP2010093067A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Koyo Thermo System Kk | 基板の熱処理装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5138870A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-31 | Sharp Kk | Handotaiseizosochi |
| JPH01164024A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Fujitsu Ltd | 気相エピタキシャル成長装置 |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP7966390U patent/JPH0438034U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5138870A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-31 | Sharp Kk | Handotaiseizosochi |
| JPH01164024A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Fujitsu Ltd | 気相エピタキシャル成長装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010093069A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Koyo Thermo System Kk | 基板の熱処理装置 |
| JP2010093067A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Koyo Thermo System Kk | 基板の熱処理装置 |