JPH01156545U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01156545U JPH01156545U JP5320288U JP5320288U JPH01156545U JP H01156545 U JPH01156545 U JP H01156545U JP 5320288 U JP5320288 U JP 5320288U JP 5320288 U JP5320288 U JP 5320288U JP H01156545 U JPH01156545 U JP H01156545U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- treatment apparatus
- integrated circuit
- semiconductor integrated
- gas introduction
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の実施例を示す側面図、第2図
は、従来の熱処理装置の側面図である。 1……ヒータ、2……均熱管、3……炉心管、
4……ガス導入口、5……熱電対、6……着火点
、7……円筒部。
は、従来の熱処理装置の側面図である。 1……ヒータ、2……均熱管、3……炉心管、
4……ガス導入口、5……熱電対、6……着火点
、7……円筒部。
Claims (1)
- ガス導入部と開放部を有する円管型炉心管を備
えた半導体集積回路装置の熱処理装置において、
円筒型炉心管内にガス導入端側より内部温度を測
定する熱電対を入れる為の円筒部を有することを
特徴とする半導体集積回路装置の熱処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5320288U JPH01156545U (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5320288U JPH01156545U (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01156545U true JPH01156545U (ja) | 1989-10-27 |
Family
ID=31279194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5320288U Pending JPH01156545U (ja) | 1988-04-19 | 1988-04-19 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01156545U (ja) |
-
1988
- 1988-04-19 JP JP5320288U patent/JPH01156545U/ja active Pending