JPH04372834A - レンズの偏心量測定方法および装置 - Google Patents

レンズの偏心量測定方法および装置

Info

Publication number
JPH04372834A
JPH04372834A JP17768291A JP17768291A JPH04372834A JP H04372834 A JPH04372834 A JP H04372834A JP 17768291 A JP17768291 A JP 17768291A JP 17768291 A JP17768291 A JP 17768291A JP H04372834 A JPH04372834 A JP H04372834A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
light
image
eccentricity
beam splitter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17768291A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3162112B2 (ja
Inventor
Kaneyasu Ookawa
金保 大川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP17768291A priority Critical patent/JP3162112B2/ja
Publication of JPH04372834A publication Critical patent/JPH04372834A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3162112B2 publication Critical patent/JP3162112B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズ単独またはレン
ズ系の個々のレンズ面の偏心量を測定するためのレンズ
の偏心量測定方法および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レンズ系の構成要素であるレンズの偏心
量を測定する手段としては、従来よりオートコリメーシ
ョン法が知られている。このオートコリメーション法を
用いた偏心量測定装置としては、特公昭51−9620
号公報などに数多くの周辺の技術が開示されている。図
9はこのオートコリメーション法を用いたレンズの偏心
量測定装置の基本構成図を示す。
【0003】図9において、1は点光源、2はハーフミ
ラー、3はコリメータレンズ、4aは被検面、4bは被
検面の曲率中心、5は入射光束、6は反射光束、7は基
準像位置、8は被検面反射による空中像である。この空
中像8は被検面4aの曲率中心で集束するような入射条
件にしたときにできる像であり、点光源1と共役な位置
に形成される。そして被検面4aの曲率中心が点光源1
およびコリメータレンズ3により定まる光軸上にあると
きは、前記空中像8は基準像位置7にできるが、図示の
ごとく曲率中心4bが光軸からδ1 だけ離間されてい
る(すなわち偏心している)ときは、前記空中像は基準
像位置7からδ3 だけ離間された位置に形成される。 これら離間距離δ1 およびδ3 は近軸的に比例する
ことになる。この比例定数を決定する要素として、被検
面4bによる倍率とコリメータレンズ3による投影倍率
が挙げられる。今図に示すように被検面4aによる像点
の光軸からのずれ量をδ2 とすれば、δ2 はδ1 
の2倍の関係となる。すなわち、被検面4bによる倍率
は、被検面4bの曲率半径に無関係に2倍となる。従っ
てδ3 を検出値とすれば、δ1 =(投影倍率/2)
×δ3 の関係が成立し、この式から被検面4aの偏心
量を測定することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】図10は上述した従来
技術の欠点の説明図である。図10において4は被検レ
ンズ、4cは被検面でないレンズ面を示し、その他は図
9に示すところと同様である。今、被検面でない面4c
上に、被検面4aの曲率中心位置4bが存在する特殊な
被検レンズ4を考える。この場合、入射光束5は被検面
4aの偏心に伴い多少屈折するが、近軸的には被検面で
はないレンズ面4c上に集光するため、この面での反射
光束により、基準像位置7に結像する。この像を以下、
面頂像と称する。この像は、被検面4aの偏心量に無関
係に点光源1と共役な位置に常に形成される。すなわち
、被検レンズによる面頂像は、被検レンズの偏心に無関
係に形成され、したがって偏心量の測定するに当たって
は空中像のみを問題にする必要がある。換言すれば、オ
ートコリメーション法によって偏心量を測定する場合、
被検レンズによる面頂像はノイズとして作用することに
なる。
【0005】ここで図10に示す被検レンズ4の形状は
特殊な場合であり、被検面でないレンズ面4cに被検面
4aの曲率中心4bのない(位置しない)場合が大部分
である。従って、実際には曲率中心4bの被検面でない
レンズ面4cからのずれ量が存在する(離れている)場
合がほとんどであるが、焦点深度の問題で、曲率中心4
bとレンズ面4cとが近接していると、レンズ面4cで
反射した光がボケ像(面頂像)として表れ、無視できな
い場合がある。また、面数の多いレンズ系の偏心量を測
定する装置においては、この面頂像がノイズとして作用
する確率が非常に高く、従って精度劣化の原因となって
いる。
【0006】本発明は、このような有害な被検レンズの
各面からの面頂像の影響を軽減し得るようにしたレンズ
の偏心量測定方法および装置を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段および作用】本発明は被検
レンズ面からの反射像の位置により該被検面レンズの偏
心量を測定するいわゆるオートコリメーシヨン方式によ
る偏心量測定方法において、ビームスプリッターを通る
光束の半分を偏光変調し、他の半分を該偏光変調と別の
偏光変調を施した後、前記被検レンズ面にほぼ垂直に入
射させ、この面からの反射光と他の面からの反射光を再
び前記2種の偏光変調を施した後、光源と共役な位置に
結像さらせ、他の面からの反射面頂像の強度が大きい側
に配置された光源により、これと共役位置に配置された
受光部上に得られる像点の位置を検出することを特徴と
するレンズの偏心量測定方法と光源と、この光源からの
光を偏光し分割する偏光ビームスプリッターと、この偏
光ビームスプリッターおよび被検面間に配置されたコリ
メータレンズと、前記偏光ビームスプリッターと前記被
検面との間に配置されるλ/4板と、受光部からなるい
わゆるオートコリメーション方式によるレンズの偏心量
測定装置において、前記偏光ビームスプリッターを特性
の異なる2種の偏光変調面で形成することを特徴とする
レンズの偏心量測定装置である。
【0008】図1は、本発明の概念を示す説明図、図2
,3は作用説明図である。図1において1は光源、3は
光源1と被検レンズ4間に配置したコリメータレンズ、
9は特性の異なる2種の偏光変調面9aおよび9bで形
成した偏光ビームスプリッターを示し、10はλ/4板
を示し、両者は光源1とコリメータレンズ3間に配置さ
れている。
【0009】図1に示す構成において、偏光ビームスプ
リッター9の反射面に対してP方向およびS方向の偏光
をそれぞれX軸およびY軸とする座標系を考える。偏光
ビームスプリッター9の偏光変調面9aおよび9bの透
過特性を表すマトリックスをMpおよびMp′とし、ま
た同じく反射特性を表すマトリックスMsおよびMs′
とすればこれらは数式1〜4で表すことができる。
【0010】
【数1】
【0011】
【数2】
【0012】
【数3】
【0013】
【数4】
【0014】また、λ/4板の特性を表すマトリックス
MQ は数式5で表すことができる。
【0015】
【数5】
【0016】今、空中像を上側光束で形成する像側の光
線および下側光線で形成する像側の光線をそれぞれ(外
1)および(外2)で表すと、反射光は図2に示す如く
入射光と同じ方向に反射することになるから上側光束に
ついては数式6となる。
【0017】
【外1】
【0018】
【外2】
【0019】
【数6】
【0020】また、下側光束については数7となる。
【0021】
【数7】
【0022】また、面頂像を上側光束で形成する像側光
線および下側光束で形成する像側の光線を(外3)およ
び(外4)で表すと、反射光は図3に示す如く入射光と
反対方向に反射することとなるので上側光束については
数式8となる。
【0023】
【外3】
【0024】
【外4】
【0025】
【数8】
【0026】また、下側光束についても数式9となる。
【0027】
【数9】
【0028】ここで(外5)は偏光ビームスプリッター
への入射光線を表す。
【0029】
【外5】
【0030】数式6,7,8,および9よりAS3=0
、AS3′=A2 、AS4=A1 、AS4′=0,
AN3=AN4=0,AN3′=AN4′=0を得る。 従って、空中像および面頂像の像点での強度をそれぞれ
PSおよびPN とすれば数式10および数式11が得
られる。
【0031】
【数10】
【0032】
【数11】
【0033】今、偏光ビームスプリッターへの入射光が
x方向の直線偏光の場合は、 (外6),A2 =0,
Δ2 −Δ1 =±π/2として良いため、PS =2
A2 ,PN =0となる。又、y方向の直線偏光の場
合は、A1 =0,(外7),Δ2 −Δ1 =±π/
2として良いため、 同様にPS =2A2 ,PN 
=0となる。また、円偏光の場合は、A1 =A2 =
A、Δ2 −Δ1 =0として良いため、これも前2例
と同様にPS =2A2 、PN =0となる。このよ
うにして、一般的にどのような偏光特性を有する入射光
線に対しても面頂像のみを完全に除去することができる
【0034】
【外6】
【0035】
【外7】
【0036】なお、説明上、図1において紙面と垂直の
方向で偏光変調面9aと9bとに分ける構成で説明した
が、分け方に制限を設けないことは明らかである。上述
したところは偏心のない状態での解析結果であり、実際
には偏心の影響を受ける結果、面頂像のみを完全には除
去できないが、大幅に小さくすることができる。
【0037】また、説明上、2種の偏光変調面の特性に
一方の偏光変調面9aについてはP偏光入射に対して1
00%透過、0%反射、S偏光入射に対して0%透過、
100%反射とし、他方に偏光変調面9bについては逆
にP偏光入射に対して0%透過、100%反射、S偏光
入射に対して100%透過、0%反射という理想的な条
件で説明したが、両者の偏光変調面9aおよび9bの特
性を入れ替えても効果は同じであることは当然であり、
また、各偏光調面の特性を変えるだけで前述の強度PS
 とPN に差が生じ、前記点光源1と基準線位置を偏
光変調面の特性に応じて入れ替えることによりPN <
PS が実現できるので面頂像の影響を軽減できるので
ある。
【0038】
【実施例】図4は本発明のレンズ系の偏心量測定方法お
よび装置の実施例1を示す構成図、図5,6は作用説明
図、図7,8は偏光膜の設計変更例を示すものである。 図4において、15は半導体レーザ、16は半導体レー
ザ15の光を平行光にするためのコリメータレンズで、
コリメータレンズ3とはその使い方において区別される
ものである。17はP偏光入射に対して100%透過、
0%反射、S偏光入射に対して0%透過、100%反射
の特性を持つ偏光膜17aおよびP偏光入射に対して0
%透過、100%反射、S偏光入射に対して100%透
過、0%反射の特性を持つ偏光膜17bを有する偏光プ
リズムで、半導体レーザ15のP成分とS成分が等しい
強度で入射し得るように前記半導体レーザ15の偏波長
面に対して45°傾けて配置される。18は集光レンズ
、19は対物レンズであり、図示しないが倍率の異なる
数種の対物レンズを切り替えて使用できるようになって
いる。20は光位置検出素子、21は光位置検出素子2
0のX,Y方向に対応する電圧信号を増幅するための増
幅器、22は表示部、23は被検レンズの基準としての
保持枠であり、これら構成素子を図示のように配置する
【0039】次に、図4により本発明レンズの偏心量測
定装置の実施例1の作用を説明する。半導体レーザ15
から発生した直線偏波光は、コリメータレンズ16によ
って所定の大きさの平行光となり、片側半部(図におい
て右側)の光は偏光膜17aを透過することにより前記
直線偏波光のうちP成分のみとなり、さらにλ/4板1
0を透過して右廻り円偏光(又は左廻り円偏光)となり
、適当な位置に移動配置されたコリメータレンズ3によ
り被検レンズ4の被検レンズ面4aの曲率中心に向かう
集束光となる。この光の中で、被検面4aによる反射光
は、左廻り円偏光(又は右廻り円偏光)となり入射光路
を逆行し、再びλ/4板10を通りS偏光となるので、
偏光プリズム17により反射し集光レンズ18により結
像し、さらに適当な倍率の対物レンズ19により拡大さ
れ、光位置検出素子20上に結像する。この光位置検出
素子20によって、集光した点像のX,Yの2方向の重
心位置をこれと比例的な関係にあるX,Yの電圧に変換
する。このX,Y電圧は、増幅器21により増幅されて
オシロスコープのような表示部22に、横軸をX電圧、
縦軸をY電圧として、図5に示されるように輝点24と
して表示される。
【0040】今、この状態で被検レンズ4をその保持枠
23を基準に回転すると、表示部22において輝点24
は図6に示すように回転して円の軌跡を描くようになる
。この円の軌跡の半径の大小が被検レンズ4の偏心量の
大小を示し、従ってこの半径を測定することにより偏心
量を知ることができる。また、同じ片側半部の光による
被検レンズの裏面(すなわち被検面4aとは反対側のレ
ンズ面)からの反射光は入射光とは反対側(図において
左側)に向かい、左廻り円偏光(又は右廻り円偏光)と
なり、λ/4板10を透過することによりS偏光となる
。このS偏光の光が偏光膜17bに入射することになり
、これにより全ての光がコリメータレンズ16側に透過
してしまい、集光レンズ18側への反射光は0となる。 従って被検レンズ4の裏面による面頂像は光位置検出素
子20上には形成されないことになる。
【0041】一方、他方の半部(図において左側)の光
は偏光膜17bを透過することにより前記直線偏波光の
うちS成分のみとなり、さらにλ/4板10を透過して
左廻り円偏光(又は右廻り円偏光)となる。この光がコ
リメータレンズ3を透過し、被検レンズ4の被検レンズ
面4aの曲率中心に向かう集束光となる。この光の中で
被検面4aによる反射光は、右廻り円偏光(又は左廻り
円偏光)となり、入射光路を逆行してλ/4板10を透
過しP偏光となるため、偏光膜17bにより全て反射し
、前述した所と同様の経路をたどり光位置検出素子上に
結像し、その位置は前述の結像位置と一致し、従って偏
心検出に寄与するようになる。
【0042】また、同じ片側半部の光による被検レンズ
の裏面(即ち被検面4aとは反対側のレンズ面)からの
反射光は、入射光とは反対側(図において右側)に向か
い、右廻り円偏光(又は左廻り円偏光)となり、λ/4
板10を透過することによりP偏光となる。このP偏光
の光が偏光膜17aに入射すると、反射光が0となり、
光位置検出素子20上には結像されなくなる。以上の作
用により、被検レンズ面による空中像の位置を検出する
ことによって、このレンズの偏心量を測定するときに検
出誤差となるレンズの裏面による面頂像を除去すること
ができる。
【0043】本実施例では半導体レーザを用いているが
、ハロゲンランプ等の他の光源でも干渉フィルターと共
に用いることができ、この場合には偏光プリズムとの方
位合わせは不要となる。
【0044】なお、本実施例では偏光プリズム17とλ
/4板10とを接合して構成してあるが、これらは離間
して配置しても何ら支障はない。
【0045】また、偏光膜17aと17bは同一プリズ
ム内で形成しているが、図7または図8に示す如く17
aの特性を有する偏光プリズムと偏光膜17bの特性を
有する偏光プリズムの2個を配置しても良い。
【0046】本実施例による固有の効果は、安価な構成
とし得るとともに、光位置検出素子の最大の欠点である
ゴーストノイズの影響を除くことにより、この検出素子
の長所である高分解能、低価格である点を生かすことが
でき、結果として高性能にして低価格のレンズ系の偏心
量測定装置を提供することができる。
【発明の効果】上述したように本発明によれば、レンズ
あるいはレンズ系の偏心量測定に有害となる被検レンズ
の各面からの面頂像を軽減することにより、高精度なレ
ンズあるいはレンズ系の偏心量測定を行うことができる
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の概念を示す説明図。
【図2】本発明の概念図を示す作用説明図。
【図3】本発明の概念図を示す作用説明図。
【図4】本発明の実施例1を示す構成図。
【図5】実施例1の作用説明図。
【図6】実施例1の作用説明図。
【図7】偏光膜の設計変更例を示す斜視図。
【図8】偏光膜の設計変更例を示す斜視図。
【図9】従来のレンズの偏心量測定装置の構成図。
【図10】従来のレンズの偏心量測定装置のおける欠点
を示す説明図。
【符号の説明】
1  点光源 3  コリメータレンズ 4  被検レンズ 7  基準像位置 9  偏光ビームスプリッター 10  λ/4板 15  半導体レーザー 16  コリメータレンズ 17  偏光プリズム 18  集光レンズ 20  光位置検出素子 21  増幅部 22  表示部 23  保持枠

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  被検レンズ面からの反射像の位置によ
    り該被検面レンズの偏心量を測定するいわゆるオートコ
    リメーシヨン方式による偏心量測定方法において、ビー
    ムスプリッターを通る光束の半分を偏光変調し、他の半
    分を該偏光変調と別の偏光変調を施した後、前記被検レ
    ンズ面にほぼ垂直に入射させ、この面からの反射光と他
    の面からの反射光を再び前記2種の偏光変調を施した後
    、光源と共役な位置に結像させ、他の面からの反射面頂
    像の強度が大きい側に配置された光源により、これと共
    役位置に配置された受光部上に得られる像点の位置を検
    出することを特徴とするレンズの偏心量測定方法。
  2. 【請求項2】  光源と、この光源からの光を分割する
    偏光ビームスプリッターと、この偏光ビームスプリッタ
    ーおよび被検面間に配置されるコリメータレンズと、前
    記偏光ビームスプリッターと前記被検面との間に配置さ
    れるλ/4板と、受光部とからなるいわゆるオートコリ
    メーション方式によるレンズの偏心量測定装置において
    、前記偏光ビームスプリッターを特性の異なる2種の偏
    光変調面にて形成したことを特徴とするレンズの偏心量
    測定装置。
JP17768291A 1991-06-21 1991-06-21 レンズの偏心量測定方法および装置 Expired - Fee Related JP3162112B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17768291A JP3162112B2 (ja) 1991-06-21 1991-06-21 レンズの偏心量測定方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17768291A JP3162112B2 (ja) 1991-06-21 1991-06-21 レンズの偏心量測定方法および装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04372834A true JPH04372834A (ja) 1992-12-25
JP3162112B2 JP3162112B2 (ja) 2001-04-25

Family

ID=16035265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17768291A Expired - Fee Related JP3162112B2 (ja) 1991-06-21 1991-06-21 レンズの偏心量測定方法および装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3162112B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP3162112B2 (ja) 2001-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2752003B2 (ja) 走査機能を備えた検査干渉計
NL7904579A (nl) Optisch afbeeldingsstelsel voorzien van een opto- -elektronisch detektiestelsel voor het bepalen van een afwijking tussen het beeldvlak van het afbeeldings- stelsel en een tweede vlak waarop afgebeeld moet worden.
US12000752B2 (en) Deflectometry measurement system
CN112236666A (zh) 瞬时椭偏仪或散射仪及相关测量方法
JPS61247944A (ja) 反射率測定装置
JPH02161332A (ja) 曲率半径測定装置及び方法
JPH0554902B2 (ja)
US4033696A (en) Lens meter
JPS5979104A (ja) 光学装置
JP2003240526A (ja) 表面測定装置及びその測定方法
US4105335A (en) Interferometric optical phase discrimination apparatus
JPH04372834A (ja) レンズの偏心量測定方法および装置
JPH05157512A (ja) 波面干渉計
JPH07294231A (ja) 光学式表面粗度計
JP3067697B2 (ja) 位相差測定装置
JPH01143906A (ja) 不透明体表裏面の平行度測定装置
JP2002214070A (ja) 偏芯測定装置、偏芯測定方法及びこれらを用いて偏芯が測定された光学素子を組み込んでなる投影レンズ
JPH11325848A (ja) 非球面形状測定装置
JP3162106B2 (ja) レンズ系の偏心量測定方法および装置
JPS6052371B2 (ja) 焦点位置測定装置
JPS598762B2 (ja) カンシヨウケイオシヨウシタソクテイホウ
JP3066056B2 (ja) レンズの偏心量測定方法およびその装置
JPH02259512A (ja) 一体型干渉測定装置
JP2808713B2 (ja) 光学式微小変位測定装置
JP2004340735A (ja) 波面収差測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010206

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090223

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090223

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100223

Year of fee payment: 9

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees