JPH04315576A - ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置 - Google Patents
ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置Info
- Publication number
- JPH04315576A JPH04315576A JP10678191A JP10678191A JPH04315576A JP H04315576 A JPH04315576 A JP H04315576A JP 10678191 A JP10678191 A JP 10678191A JP 10678191 A JP10678191 A JP 10678191A JP H04315576 A JPH04315576 A JP H04315576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abrasive
- liquid
- powder
- fine
- iron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 125
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 title claims abstract description 77
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 title abstract description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 90
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 25
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 12
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 12
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 8
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 6
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims description 4
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical class C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- -1 is generated Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、シリコンウエハ、ガ
リウム・ヒ素ウエハ等の半導体基板の研磨やアルミディ
スクやフェライト単結晶等の鏡面加工などを行なうラッ
プ加工装置において、使用済みの砥粒液を再生し、それ
を循環させて使用することができるようにする砥粒液再
生・循環装置に関する。
リウム・ヒ素ウエハ等の半導体基板の研磨やアルミディ
スクやフェライト単結晶等の鏡面加工などを行なうラッ
プ加工装置において、使用済みの砥粒液を再生し、それ
を循環させて使用することができるようにする砥粒液再
生・循環装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】遊離砥粒方式のラップ加工には、ラップ
媒体（ラッピング剤）として砥粒液が使用される。例え
ば、シリコン（Ｓｉ）ウエハやガリウム・ヒ素（ＧａＡ
ｓ）ウエハ等の半導体基板の研磨には、純水１，０００
ｇに対し砥粒としてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を２００〜
２５０ｇの割合で配合した砥粒液が使用され、この砥粒
液は標準的なラップ加工装置（ラッピングマシン）１台
当り１分間に約２００〜２５０ｇ消費される。また、Ａ
Ｖ（オーディオ・ビジュアル）用やコンピュータ用のア
ルミ（Ａｌ）ディスクやフィライト単結晶などの鏡面加
工には、砥粒液の砥粒としてダイヤモンド粒が使用され
ている。
媒体（ラッピング剤）として砥粒液が使用される。例え
ば、シリコン（Ｓｉ）ウエハやガリウム・ヒ素（ＧａＡ
ｓ）ウエハ等の半導体基板の研磨には、純水１，０００
ｇに対し砥粒としてアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）を２００〜
２５０ｇの割合で配合した砥粒液が使用され、この砥粒
液は標準的なラップ加工装置（ラッピングマシン）１台
当り１分間に約２００〜２５０ｇ消費される。また、Ａ
Ｖ（オーディオ・ビジュアル）用やコンピュータ用のア
ルミ（Ａｌ）ディスクやフィライト単結晶などの鏡面加
工には、砥粒液の砥粒としてダイヤモンド粒が使用され
ている。
【０００３】これらの砥粒液中に含まれる砥粒は、高純
度で、かつ極めて優良な粒度分布を有していることが要
求されることから、非常に高価であり、この砥粒費用が
ラップ加工コストの約３０％を占めると一般に言われて
いる。
度で、かつ極めて優良な粒度分布を有していることが要
求されることから、非常に高価であり、この砥粒費用が
ラップ加工コストの約３０％を占めると一般に言われて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ラップ加工
装置では、半導体基板の研磨加工等に伴い、砥粒液が消
費されて砥粒が破砕され摩耗して微細化され、また、被
研磨物が研磨されてその加工屑である研磨粉が生成され
、さらには、加工装置の定盤から鉄錆粉が発生したり、
その定盤自体が研磨されて鉄粉や微細鉄粉が生成された
りする。そして、使用済みの砥粒液中には、未だ有用な
加工砥粒の他に、それら微細砥粒や研磨粉、鉄錆粉、鉄
粉、微細鉄粉が混在することになる。このため、ラップ
加工装置において砥粒液を循環させて繰り返し使用した
場合には、上記の不要な微細砥粒や研磨粉、鉄粉等が砥
粒液中に徐々に蓄積し、それらの蓄積物が被研磨物の品
質に悪影響を及ぼし、また研磨生産性を阻害することに
なる。一方、使用済みの砥粒液中から有用な加工砥粒だ
けを回収してそれを再利用することは、砥粒液中に懸濁
状態で混在している有用な加工砥粒と無用の蓄積物とを
厳密に分級することが技術的に難しいため、現実には行
なわれていない。
装置では、半導体基板の研磨加工等に伴い、砥粒液が消
費されて砥粒が破砕され摩耗して微細化され、また、被
研磨物が研磨されてその加工屑である研磨粉が生成され
、さらには、加工装置の定盤から鉄錆粉が発生したり、
その定盤自体が研磨されて鉄粉や微細鉄粉が生成された
りする。そして、使用済みの砥粒液中には、未だ有用な
加工砥粒の他に、それら微細砥粒や研磨粉、鉄錆粉、鉄
粉、微細鉄粉が混在することになる。このため、ラップ
加工装置において砥粒液を循環させて繰り返し使用した
場合には、上記の不要な微細砥粒や研磨粉、鉄粉等が砥
粒液中に徐々に蓄積し、それらの蓄積物が被研磨物の品
質に悪影響を及ぼし、また研磨生産性を阻害することに
なる。一方、使用済みの砥粒液中から有用な加工砥粒だ
けを回収してそれを再利用することは、砥粒液中に懸濁
状態で混在している有用な加工砥粒と無用の蓄積物とを
厳密に分級することが技術的に難しいため、現実には行
なわれていない。
【０００５】上述した理由から、従来は、国の内外を問
わず研磨業界では、砥粒液を循環使用することなく１回
限りの使用で捨てていた。しかしながら、このように砥
粒液を使い捨てるのは、上記した通り砥粒は高価である
ことから、著しく不経済であるとともに、砥粒液の廃棄
による環境汚染の問題も招来することになる。
わず研磨業界では、砥粒液を循環使用することなく１回
限りの使用で捨てていた。しかしながら、このように砥
粒液を使い捨てるのは、上記した通り砥粒は高価である
ことから、著しく不経済であるとともに、砥粒液の廃棄
による環境汚染の問題も招来することになる。
【０００６】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、ラップ加工装置において使用された
使用済みの砥粒液を再生し循環させて使用することがで
きる砥粒液再生・循環装置を提供することを技術的課題
とする。
されたものであり、ラップ加工装置において使用された
使用済みの砥粒液を再生し循環させて使用することがで
きる砥粒液再生・循環装置を提供することを技術的課題
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明では、ラップ加
工装置において使用された後の使用済み砥粒液を集めて
タンク内に貯留し、その使用済み砥粒液をポンプによっ
て送給し、砥粒液再生装置によって使用済み砥粒液を再
生して、その再生砥粒液に、秤量混合機により所定量の
加工砥粒及び純水を計量して添加混合し、このようにし
て再生砥粒液に新しい砥粒液が追加された調製砥粒液を
砥粒液送給手段によってラップ加工装置へ戻すようにし
た。砥粒液の再生装置は、使用済み砥粒液中の鉄錆粉を
砥粒液から分離して除去するふるい機、使用済み砥粒液
を、所定粒度より小さい微細粒子を含む砥粒液と所定粒
度より大きい粒子を含む砥粒液とに分離する粒度選別手
段、例えば液体サイクロン、この粒度選別手段によって
分離され所定粒度より小さい微細粒子を含む砥粒液から
微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉を分離して除去するフィ
ルタ、並びに、前記粒度選別手段によって分離され所定
粒度より大きい粒子を含む砥粒液から鉄粉を分離して除
去する除鉄機を備えて構成される。また、砥粒液再生装
置において使用済み砥粒液から分離除去された鉄錆粉、
微細砥粒、研磨粉、微細鉄粉及び鉄粉は、固化装置によ
ってそれらを塊状に固化させて廃棄するようにした。
工装置において使用された後の使用済み砥粒液を集めて
タンク内に貯留し、その使用済み砥粒液をポンプによっ
て送給し、砥粒液再生装置によって使用済み砥粒液を再
生して、その再生砥粒液に、秤量混合機により所定量の
加工砥粒及び純水を計量して添加混合し、このようにし
て再生砥粒液に新しい砥粒液が追加された調製砥粒液を
砥粒液送給手段によってラップ加工装置へ戻すようにし
た。砥粒液の再生装置は、使用済み砥粒液中の鉄錆粉を
砥粒液から分離して除去するふるい機、使用済み砥粒液
を、所定粒度より小さい微細粒子を含む砥粒液と所定粒
度より大きい粒子を含む砥粒液とに分離する粒度選別手
段、例えば液体サイクロン、この粒度選別手段によって
分離され所定粒度より小さい微細粒子を含む砥粒液から
微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉を分離して除去するフィ
ルタ、並びに、前記粒度選別手段によって分離され所定
粒度より大きい粒子を含む砥粒液から鉄粉を分離して除
去する除鉄機を備えて構成される。また、砥粒液再生装
置において使用済み砥粒液から分離除去された鉄錆粉、
微細砥粒、研磨粉、微細鉄粉及び鉄粉は、固化装置によ
ってそれらを塊状に固化させて廃棄するようにした。
【０００８】上記において、粒度選別手段によって分離
され所定粒度より大きい粒子を含む砥粒液に、フィルタ
によって微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が除去された後
の濾過液を合流させるように構成することができる。
され所定粒度より大きい粒子を含む砥粒液に、フィルタ
によって微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が除去された後
の濾過液を合流させるように構成することができる。
【０００９】以上のような構成の装置により、ラップ加
工装置において使用された使用済みの砥粒液が再生され
、その再生砥粒液に、ラップ加工装置で使用され破砕摩
耗して微細化された砥粒に見合った量の砥粒を含む砥粒
液が随時補充されながら、砥粒液がラップ加工装置に繰
り返し循環させて使用される。
工装置において使用された使用済みの砥粒液が再生され
、その再生砥粒液に、ラップ加工装置で使用され破砕摩
耗して微細化された砥粒に見合った量の砥粒を含む砥粒
液が随時補充されながら、砥粒液がラップ加工装置に繰
り返し循環させて使用される。
【００１０】
【実施例】以下、この発明の好適な実施例について図面
を参照しながら説明する。
を参照しながら説明する。
【００１１】図１及び図２は、この発明の１実施例を示
し、図１は、ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置の
概略構成並びに砥粒液の流れを示す流路構成図であり、
図２は、この装置の主要構成部品の設置状態を、ハウジ
ングの図示を省略して斜視的に示す図である。
し、図１は、ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置の
概略構成並びに砥粒液の流れを示す流路構成図であり、
図２は、この装置の主要構成部品の設置状態を、ハウジ
ングの図示を省略して斜視的に示す図である。
【００１２】この装置は、ラップ加工装置１０において
使用された使用済み砥粒液１２を集めて貯留するタンク
１４、使用済み砥粒液の再生装置１６、並びに、再生さ
れた砥粒液に新鮮な砥粒液を補充して調製された砥粒液
をラップ加工装置１０へ供給するための砥粒液供給装置
１８などを備えて構成されている。タンク１４には、使
用済み砥粒液１２を撹拌するための撹拌機２０が設けら
れており、タンク１４内に貯留された使用済み砥粒液１
２は、送給ポンプ２２によってタンク１４から送給され
るようになっている。また、砥粒液供給装置１８は、調
製砥粒液２４を貯留し、撹拌機２８が設けられた供給タ
ンク２６、及び、供給タンク２６内に貯留された調製砥
粒液２４を供給路３２を通してラップ加工装置１０へ送
るための供給ポンプ３０を備えて構成されている。
使用された使用済み砥粒液１２を集めて貯留するタンク
１４、使用済み砥粒液の再生装置１６、並びに、再生さ
れた砥粒液に新鮮な砥粒液を補充して調製された砥粒液
をラップ加工装置１０へ供給するための砥粒液供給装置
１８などを備えて構成されている。タンク１４には、使
用済み砥粒液１２を撹拌するための撹拌機２０が設けら
れており、タンク１４内に貯留された使用済み砥粒液１
２は、送給ポンプ２２によってタンク１４から送給され
るようになっている。また、砥粒液供給装置１８は、調
製砥粒液２４を貯留し、撹拌機２８が設けられた供給タ
ンク２６、及び、供給タンク２６内に貯留された調製砥
粒液２４を供給路３２を通してラップ加工装置１０へ送
るための供給ポンプ３０を備えて構成されている。
【００１３】この装置の主要部をなす砥粒液再生装置１
６は、使用済み砥粒液からその中に混入している鉄錆粉
を分離して除去するふるい機３４、使用済み砥粒液中に
含まれた有用な加工砥粒と、ラップ加工装置１０で消費
されて破砕され摩耗して微細化された無用の微細砥粒と
を選別する粒度選別機３６、この粒度選別機３６によっ
て分離された一方の、より小さい粒度の微細粒子を含む
砥粒液から微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉を分離して除
去するフィルタ３８、４０、粒度選別機３６によって分
離された他方の、より大きい粒度の粒子を含む砥粒液か
ら鉄粉を分離して除去する除鉄機４２、並びに、この除
鉄機４２によって鉄粉が除去された後の再生砥粒液に、
新鮮な砥粒液を補充し添加混合する秤量混合機４４を備
えている。粒度選別機３６は、この実施例では、３台の
液体サイクロン４６、４８、５０を直列的に連設して構
成されている。これらの液体サイクロン４６、４８、５
０ではそれぞれ、上部排出口から所定粒度より小さい微
細粒子、例えば８μｍ以下の微細粒子を懸濁状態で含ん
だ砥粒液が排出され、下部排出口からは所定粒度より大
きい粒子、例えば８μｍ以上の粒子を懸濁状態で含んだ
砥粒液が排出される。また、秤量混合機４４には、所要
量の加工砥粒を計量して秤量混合機４４に供給する加工
砥粒計量供給機５２と、純水供給源５６から純水を流量
計５８及び流量調節バルブ６０で計量して所要量だけ秤
量混合機４４に供給する純水計量供給装置５４とが併設
されている。
６は、使用済み砥粒液からその中に混入している鉄錆粉
を分離して除去するふるい機３４、使用済み砥粒液中に
含まれた有用な加工砥粒と、ラップ加工装置１０で消費
されて破砕され摩耗して微細化された無用の微細砥粒と
を選別する粒度選別機３６、この粒度選別機３６によっ
て分離された一方の、より小さい粒度の微細粒子を含む
砥粒液から微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉を分離して除
去するフィルタ３８、４０、粒度選別機３６によって分
離された他方の、より大きい粒度の粒子を含む砥粒液か
ら鉄粉を分離して除去する除鉄機４２、並びに、この除
鉄機４２によって鉄粉が除去された後の再生砥粒液に、
新鮮な砥粒液を補充し添加混合する秤量混合機４４を備
えている。粒度選別機３６は、この実施例では、３台の
液体サイクロン４６、４８、５０を直列的に連設して構
成されている。これらの液体サイクロン４６、４８、５
０ではそれぞれ、上部排出口から所定粒度より小さい微
細粒子、例えば８μｍ以下の微細粒子を懸濁状態で含ん
だ砥粒液が排出され、下部排出口からは所定粒度より大
きい粒子、例えば８μｍ以上の粒子を懸濁状態で含んだ
砥粒液が排出される。また、秤量混合機４４には、所要
量の加工砥粒を計量して秤量混合機４４に供給する加工
砥粒計量供給機５２と、純水供給源５６から純水を流量
計５８及び流量調節バルブ６０で計量して所要量だけ秤
量混合機４４に供給する純水計量供給装置５４とが併設
されている。
【００１４】また、砥粒液再生装置１６による使用済み
砥粒液の再生操作に伴ってふるい機３４において分離除
去される鉄錆粉や、フィルタ３８、４０において分離除
去される微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉、さらに除鉄機
４２において分離除去される鉄粉をそれぞれ塊状に固化
させて廃棄し易い形態にする固化装置６２が設けられて
いる。図２中の６４は、ハウジングの外形線である。
砥粒液の再生操作に伴ってふるい機３４において分離除
去される鉄錆粉や、フィルタ３８、４０において分離除
去される微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉、さらに除鉄機
４２において分離除去される鉄粉をそれぞれ塊状に固化
させて廃棄し易い形態にする固化装置６２が設けられて
いる。図２中の６４は、ハウジングの外形線である。
【００１５】次に、上記構成の砥粒液再生・循環装置を
用いて使用済み砥粒液を再生し、砥粒液を循環させてラ
ップ加工装置に繰り返し使用する一連の操作について説
明する。
用いて使用済み砥粒液を再生し、砥粒液を循環させてラ
ップ加工装置に繰り返し使用する一連の操作について説
明する。
【００１６】半導体基板の研磨やアルミディスク等の鏡
面加工などを行なうラップ加工装置１０において使用さ
れた使用済み砥粒液１２は、タンク１４内に集められて
貯留される。この使用済み砥粒液１２中には、未だ有用
な加工砥粒と共に、半導体基板の研磨加工等に伴って砥
粒液が消費され砥粒が破砕されて摩耗し微細化された微
細砥粒、半導体基板等の被研磨物が研磨されて生成され
る研磨粉、並びに、加工装置の定盤から出てくる鉄錆粉
、鉄粉及び微細鉄粉が混在している。タンク１４内に貯
留された使用済み砥粒液１２は、送給ポンプ２２によっ
てタンク１４から送給され、最初に、ふるい機３４によ
って使用済み砥粒液中に混入している鉄錆粉が分離して
除去される。鉄錆粉が除去された使用済み砥粒液は、次
に、３台の液体サイクロン４６、４８、５０を直列的に
連設して構成された粒度選別機３６へ送られる。この粒
度選別機３６へ送り込まれた砥粒液は、各液体サイクロ
ン４６、４８、５０の上部排出口から排出される砥粒液
と、最後のサイクロン５０の下部排出口からから排出さ
れる砥粒液とに分離され、前者の砥粒液中には、例えば
８μｍ以下の微細粒子である微細砥粒、研磨粉及び微細
鉄粉が混在しており、後者の砥粒液中には、例えば８μ
ｍ以上の粒子である有用な加工砥粒と共に鉄粉が含まれ
ている。そして、微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が混在
する砥粒液はフィルタ３８、４０へ送られ、これらのフ
ィルタ３８、４０を砥粒液が通過することにより、砥粒
液中の微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が分離されて除去
された後、その濾過液が、有用な加工砥粒と共に鉄粉が
含まれた砥粒液に合流する。尚、砥粒液中の微細砥粒等
が分離除去された濾過液を有用な加工砥粒等が含まれた
砥粒液に合流させずに、その濾過液を排水処理するよう
にしてもよい。
面加工などを行なうラップ加工装置１０において使用さ
れた使用済み砥粒液１２は、タンク１４内に集められて
貯留される。この使用済み砥粒液１２中には、未だ有用
な加工砥粒と共に、半導体基板の研磨加工等に伴って砥
粒液が消費され砥粒が破砕されて摩耗し微細化された微
細砥粒、半導体基板等の被研磨物が研磨されて生成され
る研磨粉、並びに、加工装置の定盤から出てくる鉄錆粉
、鉄粉及び微細鉄粉が混在している。タンク１４内に貯
留された使用済み砥粒液１２は、送給ポンプ２２によっ
てタンク１４から送給され、最初に、ふるい機３４によ
って使用済み砥粒液中に混入している鉄錆粉が分離して
除去される。鉄錆粉が除去された使用済み砥粒液は、次
に、３台の液体サイクロン４６、４８、５０を直列的に
連設して構成された粒度選別機３６へ送られる。この粒
度選別機３６へ送り込まれた砥粒液は、各液体サイクロ
ン４６、４８、５０の上部排出口から排出される砥粒液
と、最後のサイクロン５０の下部排出口からから排出さ
れる砥粒液とに分離され、前者の砥粒液中には、例えば
８μｍ以下の微細粒子である微細砥粒、研磨粉及び微細
鉄粉が混在しており、後者の砥粒液中には、例えば８μ
ｍ以上の粒子である有用な加工砥粒と共に鉄粉が含まれ
ている。そして、微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が混在
する砥粒液はフィルタ３８、４０へ送られ、これらのフ
ィルタ３８、４０を砥粒液が通過することにより、砥粒
液中の微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が分離されて除去
された後、その濾過液が、有用な加工砥粒と共に鉄粉が
含まれた砥粒液に合流する。尚、砥粒液中の微細砥粒等
が分離除去された濾過液を有用な加工砥粒等が含まれた
砥粒液に合流させずに、その濾過液を排水処理するよう
にしてもよい。
【００１７】続いて、有用な加工砥粒と共に鉄粉が含ま
れた砥粒液は、除鉄機４２へ送られ、その除鉄機４２を
通すことにより鉄粉が分離されて除去される。除鉄機４
２によって鉄粉が除去されて精製された再生砥粒液は、
秤量混合機４４へ送られ、一方、加工砥粒計量供給機５
２から秤量混合機４４へ、ラップ加工装置で使用され破
砕摩耗して微細化された砥粒に見合った量の新しい加工
砥粒が計量されて供給されるとともに、純水計量供給装
置５４により秤量混合機４４へ、所要の配合割合となる
ように純水が計量されて所要量だけ供給される。そして
、秤量混合機４４において再生砥粒液に新鮮な砥粒液が
混合され、その調製砥粒液が供給タンク２６へ送られて
供給タンク２６内に貯留され、調製砥粒液２４は、砥粒
液供給装置１８によって供給路３２を通しラップ加工装
置１０へ送られる。以上のようにして、ラップ加工装置
１０において使用された使用済みの砥粒液が再生装置１
６により再生され、その再生砥粒液に必要量の新鮮な砥
粒液が随時補充されながら、砥粒液がラップ加工装置１
０に繰り返し循環させられて使用される。
れた砥粒液は、除鉄機４２へ送られ、その除鉄機４２を
通すことにより鉄粉が分離されて除去される。除鉄機４
２によって鉄粉が除去されて精製された再生砥粒液は、
秤量混合機４４へ送られ、一方、加工砥粒計量供給機５
２から秤量混合機４４へ、ラップ加工装置で使用され破
砕摩耗して微細化された砥粒に見合った量の新しい加工
砥粒が計量されて供給されるとともに、純水計量供給装
置５４により秤量混合機４４へ、所要の配合割合となる
ように純水が計量されて所要量だけ供給される。そして
、秤量混合機４４において再生砥粒液に新鮮な砥粒液が
混合され、その調製砥粒液が供給タンク２６へ送られて
供給タンク２６内に貯留され、調製砥粒液２４は、砥粒
液供給装置１８によって供給路３２を通しラップ加工装
置１０へ送られる。以上のようにして、ラップ加工装置
１０において使用された使用済みの砥粒液が再生装置１
６により再生され、その再生砥粒液に必要量の新鮮な砥
粒液が随時補充されながら、砥粒液がラップ加工装置１
０に繰り返し循環させられて使用される。
【００１８】また、砥粒液再生装置１６においてふるい
機３４により分離除去された鉄錆粉、フィルタ３８、４
０により分離除去された微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉
、並びに、除鉄機４２により分離除去された鉄粉はそれ
ぞれ、固化装置６２へ送られ、固化装置６２において塊
状に固化させられた後、廃棄される。
機３４により分離除去された鉄錆粉、フィルタ３８、４
０により分離除去された微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉
、並びに、除鉄機４２により分離除去された鉄粉はそれ
ぞれ、固化装置６２へ送られ、固化装置６２において塊
状に固化させられた後、廃棄される。
【００１９】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この発明に係る砥粒液再生・循環装
置をラップ加工装置に併設すると、ラップ加工装置にお
いて使用された使用済みの砥粒液を再生し循環させて使
用することができるため、被研磨物の品質に悪影響を及
ぼしたり研磨生産性を阻害すること無く、使用済みの砥
粒液中に含まれている有用な加工砥粒を有効に利用し加
工砥粒の利用効率を高めてラップ加工コストを低廉化す
ることができ、また、砥粒液の廃棄による環境汚染の問
題を招来することも無い。
かつ作用するので、この発明に係る砥粒液再生・循環装
置をラップ加工装置に併設すると、ラップ加工装置にお
いて使用された使用済みの砥粒液を再生し循環させて使
用することができるため、被研磨物の品質に悪影響を及
ぼしたり研磨生産性を阻害すること無く、使用済みの砥
粒液中に含まれている有用な加工砥粒を有効に利用し加
工砥粒の利用効率を高めてラップ加工コストを低廉化す
ることができ、また、砥粒液の廃棄による環境汚染の問
題を招来することも無い。
【図１】この発明の１実施例を示し、ラップ加工装置の
砥粒液再生・循環装置の概略構成並びに砥粒液の流れを
示す流路構成図である。
砥粒液再生・循環装置の概略構成並びに砥粒液の流れを
示す流路構成図である。
【図２】この装置の主要構成部品の設置状態を、ハウジ
ングの図示を省略して斜視的に示す図である。
ングの図示を省略して斜視的に示す図である。
１０ ラップ加工装置
１２ 使用済み砥粒液
１４ タンク
１６ 砥粒液再生装置
１８ 砥粒液供給装置
２２ ポンプ
２４ 調製砥粒液
２６ 供給タンク
３０ 供給ポンプ
３２ 供給路
３４ ふるい機
３６ 粒度選別機
３８、４０ フィルタ
４２ 除鉄機
４４ 秤量混合機
４６、４８、５０ 液体サイクロン
５２ 加工砥粒計量供給機
５４ 純水計量供給装置
６２ 固化装置
Claims (3)
- 【請求項１】 ラップ加工装置において使用され、加
工砥粒と共に、加工砥粒が摩耗した微細砥粒、被研磨物
が研磨されて出てくる研磨粉、並びに、加工装置自体か
ら出てくる鉄錆粉、鉄粉及び微細鉄粉が混在する使用済
み砥粒液を集めて貯留するタンクと、このタンクに貯留
される使用済み砥粒液を送給するためのポンプと、使用
済み砥粒液中の鉄錆粉を砥粒液から分離して除去するふ
るい機と、使用済み砥粒液を、所定粒度より小さい微細
粒子を含む砥粒液と所定粒度より大きい粒子を含む砥粒
液とに分離する粒度選別手段と、この粒度選別手段によ
って分離され所定粒度より小さい微細粒子を含む砥粒液
から微細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉を分離して除去する
フィルタと、前記粒度選別手段によって分離され所定粒
度より大きい粒子を含む砥粒液から鉄粉を分離して除去
する除鉄機と、この除鉄機によって鉄粉が除去された後
の再生砥粒液に、加工砥粒及び純水を計量して添加混合
する秤量混合機と、この秤量混合機によって再生砥粒液
に新しい砥粒液が追加された調製砥粒液をラップ加工装
置へ供給するための砥粒液供給手段と、使用済み砥粒液
から分離除去された鉄錆粉、微細砥粒、研磨粉、微細鉄
粉及び鉄粉を塊状に固化させる固化装置とを備えてなる
、ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置。 - 【請求項２】 粒度選別手段によって分離され所定粒
度より大きい粒子を含む砥粒液に、フィルタによって微
細砥粒、研磨粉及び微細鉄粉が除去された後の濾過液を
合流させるようにした請求項１記載の、ラップ加工装置
の砥粒液再生・循環装置。 - 【請求項３】 粒度選別手段が液体サイクロンである
請求項１又は請求項２記載の、ラップ加工装置の砥粒液
再生・循環装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3106781A JPH0741535B2 (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3106781A JPH0741535B2 (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04315576A true JPH04315576A (ja) | 1992-11-06 |
| JPH0741535B2 JPH0741535B2 (ja) | 1995-05-10 |
Family
ID=14442449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3106781A Expired - Lifetime JPH0741535B2 (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0741535B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0798080A1 (en) * | 1996-03-27 | 1997-10-01 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Lapping apparatus and method |
| US5772900A (en) * | 1994-06-22 | 1998-06-30 | Noritake Co., Limited | Method and apparatus for reclaiming used working fluid |
| EP1142672A1 (en) * | 2000-04-06 | 2001-10-10 | Nec Corporation | Grinding slurry recycling apparatus |
| KR100476322B1 (ko) * | 1996-10-18 | 2005-07-18 | 니혼덴기 가부시기가이샤 | 연마제의회수재이용방법및장치 |
| WO2008020507A1 (fr) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Asahi Glass Company, Limited | Procédé de récupération d'un abrasif à partir d'un rejet liquide de boue d'abrasif et appareil associé |
| WO2008078349A1 (en) * | 2006-12-22 | 2008-07-03 | Garbo S.R.L. | Process and apparatus for treating exhausted abrasive slurries from the lapping process for the recovery of their reusable abrasive component |
| JP2008546548A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-25 | エスアイシー プロセッシング アクチェンゲゼルシャフト | 使用済み研磨材スラリーを処理し、それらの再使用可能な成分を回収するための方法及び装置 |
| WO2009056152A1 (en) * | 2007-10-30 | 2009-05-07 | Pall Corporation | Method for treating spent abrasive slurry |
| JP2012056016A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Matluster Technocracy Corp | 湿式分離装置及びこれを用いた研磨材回収システム |
| CN108949035A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-12-07 | 西安超纳精密光学有限公司 | 一种超精密氧化铈抛光粉的筛选方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3199159B2 (ja) | 1996-01-26 | 2001-08-13 | 信越半導体株式会社 | 油性スラリー廃液の再利用システム |
| JP3249373B2 (ja) | 1996-02-21 | 2002-01-21 | 信越半導体株式会社 | 水溶性スラリー廃液の再利用システム |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5714920U (ja) * | 1980-06-20 | 1982-01-26 | ||
| JPS63283862A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-21 | Shintou Bureetaa Kk | 研摩方法及び研摩装置 |
| JPH01316170A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-21 | Osaka Titanium Co Ltd | 切削加工法および砥液再利用装置 |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP3106781A patent/JPH0741535B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5714920U (ja) * | 1980-06-20 | 1982-01-26 | ||
| JPS63283862A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-21 | Shintou Bureetaa Kk | 研摩方法及び研摩装置 |
| JPH01316170A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-21 | Osaka Titanium Co Ltd | 切削加工法および砥液再利用装置 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5772900A (en) * | 1994-06-22 | 1998-06-30 | Noritake Co., Limited | Method and apparatus for reclaiming used working fluid |
| US5800251A (en) * | 1996-03-27 | 1998-09-01 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Apparatus and method of lapping works |
| EP0798080A1 (en) * | 1996-03-27 | 1997-10-01 | Shin-Etsu Handotai Company Limited | Lapping apparatus and method |
| KR100476322B1 (ko) * | 1996-10-18 | 2005-07-18 | 니혼덴기 가부시기가이샤 | 연마제의회수재이용방법및장치 |
| EP1142672A1 (en) * | 2000-04-06 | 2001-10-10 | Nec Corporation | Grinding slurry recycling apparatus |
| US6547961B2 (en) | 2000-04-06 | 2003-04-15 | Nec Electronics Corporation | Grinding slurry recycling apparatus |
| JP2008546548A (ja) * | 2005-06-24 | 2008-12-25 | エスアイシー プロセッシング アクチェンゲゼルシャフト | 使用済み研磨材スラリーを処理し、それらの再使用可能な成分を回収するための方法及び装置 |
| KR101512516B1 (ko) * | 2005-06-24 | 2015-04-15 | 에스아이씨 프로세싱 아게 | 재사용가능한 구성요소들을 재생하기 위하여 배출된 연마 슬러리를 처리하기 위한 방법 및 장치 |
| WO2008020507A1 (fr) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Asahi Glass Company, Limited | Procédé de récupération d'un abrasif à partir d'un rejet liquide de boue d'abrasif et appareil associé |
| JPWO2008020507A1 (ja) * | 2006-08-16 | 2010-01-07 | 旭硝子株式会社 | 研磨剤スラリー廃液からの研磨剤回収方法及び装置 |
| WO2008078349A1 (en) * | 2006-12-22 | 2008-07-03 | Garbo S.R.L. | Process and apparatus for treating exhausted abrasive slurries from the lapping process for the recovery of their reusable abrasive component |
| WO2009056152A1 (en) * | 2007-10-30 | 2009-05-07 | Pall Corporation | Method for treating spent abrasive slurry |
| US8940174B2 (en) | 2007-10-30 | 2015-01-27 | Pall Corporation | Method for treating spent abrasive slurry |
| JP2012056016A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Matluster Technocracy Corp | 湿式分離装置及びこれを用いた研磨材回収システム |
| CN108949035A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-12-07 | 西安超纳精密光学有限公司 | 一种超精密氧化铈抛光粉的筛选方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0741535B2 (ja) | 1995-05-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100639618B1 (ko) | 반도체 제조에서의 연마 폐수 재이용 방법, 재이용 장치, 및 파쇄 장치 | |
| JPH04315576A (ja) | ラップ加工装置の砥粒液再生・循環装置 | |
| US8940174B2 (en) | Method for treating spent abrasive slurry | |
| CN104114324B (zh) | 研磨材料再生方法 | |
| JP6406010B2 (ja) | 研磨材再生方法 | |
| CN104203497B (zh) | 研磨材料再生方法 | |
| JP3830619B2 (ja) | ラップ加工装置の使用済み組成物の再生循環方法および再生循環装置 | |
| JPH11156719A (ja) | ワイヤソー砥粒スラリーの再生方法及び装置 | |
| JPH05261641A (ja) | 強磁性材料の加工から生じた残分を後処理する方法および装置 | |
| JP3982719B2 (ja) | ワイヤソーの砥粒循環装置 | |
| WO2014017531A1 (ja) | 研磨材再生方法 | |
| JP3222784B2 (ja) | ワイヤソーのスラリー管理システム | |
| JP2003309091A (ja) | 半導体製造における研磨廃液再利用方法及び破砕装置 | |
| JPH01316170A (ja) | 切削加工法および砥液再利用装置 | |
| JP2678699B2 (ja) | 研削廃液浄化方法 | |
| WO2019181498A1 (ja) | 研磨剤リサイクル処理システム及び研磨剤回収・再生方法 | |
| JP2003266309A (ja) | ラッピングスラリ液再生装置および方法 | |
| JP2000237958A (ja) | ワイヤソー用水溶性スラリの再使用方法およびその装置 | |
| CN107427990A (zh) | 研磨料的回收方法 | |
| JP3778734B2 (ja) | 研摩加工用スラリー | |
| JPS61214975A (ja) | 非磁性ワ−クの研削方法及びその装置 | |
| JPH09207062A (ja) | ワイヤソ−の加工方法および加工システム | |
| JPS6123012B2 (ja) | ||
| JP2004195598A (ja) | 使用済み研削液の濾過方法 | |
| JPS61297078A (ja) | 超砥粒砥石のドレツシング方法 |