JPH04301672A - 画像表示装置 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1306—Details
- G02F1/1309—Repairing; Testing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
- G02F2201/50—Protective arrangements
- G02F2201/506—Repairing, e.g. with redundant arrangement against defective part
- G02F2201/508—Pseudo repairing, e.g. a defective part is brought into a condition in which it does not disturb the functioning of the device
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、画素を2次元状に配列
した画像表示装置に係わり、特に画像欠陥補正を行った
画像表示装置に関する。
した画像表示装置に係わり、特に画像欠陥補正を行った
画像表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、CRTに代わる表示手段として、
液晶,EL,LED等を用いた各種の画像表示装置が開
発されている。図5に、代表的な画像表示装置であるア
クティブ・マトリックスTFT(Thin Film
Transistor)液晶表示装置の断面を示す。ガ
ラス基板1上に、X−Yアドレスを行い画素電極2に任
意の電位を与える複数のTFT(図示せず)が形成され
ている。画素電極2上には、画素電極側を透明導体層4
としたガラス等の透明板5が設置され、画素電極2と透
明板5との間には液晶層3が収容されている。
液晶,EL,LED等を用いた各種の画像表示装置が開
発されている。図5に、代表的な画像表示装置であるア
クティブ・マトリックスTFT(Thin Film
Transistor)液晶表示装置の断面を示す。ガ
ラス基板1上に、X−Yアドレスを行い画素電極2に任
意の電位を与える複数のTFT(図示せず)が形成され
ている。画素電極2上には、画素電極側を透明導体層4
としたガラス等の透明板5が設置され、画素電極2と透
明板5との間には液晶層3が収容されている。
【0003】この装置で画像を表示する場合は、画像信
号のコントラストにより画素電極2の各電位を変化させ
て、画素電極2と透明導体層4との間の印加電圧を変え
、これにより液晶層3の分子配向を変えて光屈折率を制
御する。そして、ガラス基板1側から光を入射すること
によって、2次元の画像表示が行われる。
号のコントラストにより画素電極2の各電位を変化させ
て、画素電極2と透明導体層4との間の印加電圧を変え
、これにより液晶層3の分子配向を変えて光屈折率を制
御する。そして、ガラス基板1側から光を入射すること
によって、2次元の画像表示が行われる。
【0004】図6は、図5の装置を上から見た画素配置
図である。ここで、マトリックス配置された画素6のう
ちに、画像欠陥を有する画素6′があると、画質の劣化
要因となる。特に、コントラストの高い白傷画像欠陥で
あると、画質を著しく劣化させる。
図である。ここで、マトリックス配置された画素6のう
ちに、画像欠陥を有する画素6′があると、画質の劣化
要因となる。特に、コントラストの高い白傷画像欠陥で
あると、画質を著しく劣化させる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように従来、液晶
等を用いた画像表示装置においては、画像欠陥を有する
画素が存在すると、画質を著しく劣化させる問題があり
、この欠陥を取り除くことは困難であった。そして、欠
陥画素の存在が画像表示装置の品質を低下させる大きな
要因となっていた。
等を用いた画像表示装置においては、画像欠陥を有する
画素が存在すると、画質を著しく劣化させる問題があり
、この欠陥を取り除くことは困難であった。そして、欠
陥画素の存在が画像表示装置の品質を低下させる大きな
要因となっていた。
【0006】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、画像欠陥を有する画素
を補正して目立たなくすることができ、欠陥画素による
画質の劣化を最小限に抑えた画像表示装置を提供するこ
とにある。
ので、その目的とするところは、画像欠陥を有する画素
を補正して目立たなくすることができ、欠陥画素による
画質の劣化を最小限に抑えた画像表示装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、画像欠
陥を有する画素をマスクすると共に、マスクした画素を
その周辺画素の情報で補償することにある。
陥を有する画素をマスクすると共に、マスクした画素を
その周辺画素の情報で補償することにある。
【0008】即ち本発明は、画素領域に複数の画素を2
次元状に配列してなる画像表示装置において、画素領域
上に透明物質層を設置し、この透明物質層の欠陥画素上
に、外側に広がったテーパ状断面を有し且つ側面の一部
が該欠陥画素の周辺画素上に位置する凹部を設け、この
凹部の底部に遮光物質層を設けるようにしたものである
。
次元状に配列してなる画像表示装置において、画素領域
上に透明物質層を設置し、この透明物質層の欠陥画素上
に、外側に広がったテーパ状断面を有し且つ側面の一部
が該欠陥画素の周辺画素上に位置する凹部を設け、この
凹部の底部に遮光物質層を設けるようにしたものである
。
【0009】
【作用】本発明によれば、欠陥画素上の透明物質層に凹
部が形成され、その底部に遮光物質層が形成されるため
、欠陥画素はマスクされることになる。しかも、単に欠
陥画素をマスクするだけではなく、テーパ側面を介して
欠陥画素の周辺画素から一部光を取り出すことにより、
欠陥画素をその周辺画素の情報で補償することができる
。従って、欠陥画素を等価的に非欠陥画素と見なすこと
ができ、欠陥画素による画質の劣化を大幅に低減するこ
とが可能となる。
部が形成され、その底部に遮光物質層が形成されるため
、欠陥画素はマスクされることになる。しかも、単に欠
陥画素をマスクするだけではなく、テーパ側面を介して
欠陥画素の周辺画素から一部光を取り出すことにより、
欠陥画素をその周辺画素の情報で補償することができる
。従って、欠陥画素を等価的に非欠陥画素と見なすこと
ができ、欠陥画素による画質の劣化を大幅に低減するこ
とが可能となる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の詳細を図示の実施例によって
説明する。
説明する。
【0011】図1は、本発明の第1の実施例に係わる画
像表示装置の概略構成を示す断面図である。基本的な構
成は従来と同様であり、第1のガラス基板11上にTF
T(図示せず)によってX−Yアドレス選択される画素
電極12がマトリックス状に配列されている。なお、図
1では1221,1222,1223,1224,12
25が示されている。画素電極12上には、画素電極1
2側を透明導体層(共通電極)14とした第2のガラス
基板15が設置され、ガラス基板11,15で挟まれた
領域には液晶層13が収容されている。
像表示装置の概略構成を示す断面図である。基本的な構
成は従来と同様であり、第1のガラス基板11上にTF
T(図示せず)によってX−Yアドレス選択される画素
電極12がマトリックス状に配列されている。なお、図
1では1221,1222,1223,1224,12
25が示されている。画素電極12上には、画素電極1
2側を透明導体層(共通電極)14とした第2のガラス
基板15が設置され、ガラス基板11,15で挟まれた
領域には液晶層13が収容されている。
【0012】ガラス基板15上には、有機物による透明
物質層16が設けられている。画像欠陥(白傷)を有す
る画素(画素電極)1223の上において、透明物質層
16には凹部17が形成されている。この凹部17の底
部には、例えば炭素を含んだ遮光物質層18が形成され
ている。また、凹部17の側面は上側に広がったテーパ
であり、各側面は欠陥画素1223に隣接する周辺画素
の領域に一部重なるように形成されている。
物質層16が設けられている。画像欠陥(白傷)を有す
る画素(画素電極)1223の上において、透明物質層
16には凹部17が形成されている。この凹部17の底
部には、例えば炭素を含んだ遮光物質層18が形成され
ている。また、凹部17の側面は上側に広がったテーパ
であり、各側面は欠陥画素1223に隣接する周辺画素
の領域に一部重なるように形成されている。
【0013】図2は本装置の平面図であり、図2(a)
の矢視A−A断面及び同図(b)の矢視B−B断面が図
1に相当している。なお、図2(a)は凹部17を矩形
に形成した例で、同図(b)は凹部17を円形に形成し
た例である。
の矢視A−A断面及び同図(b)の矢視B−B断面が図
1に相当している。なお、図2(a)は凹部17を矩形
に形成した例で、同図(b)は凹部17を円形に形成し
た例である。
【0014】図2において、画素電極1222,122
3,1224の上側には画素電極1212,1213,
1214が配置され、下側には画素電極1232,12
33,1234が配置されているものとする。欠陥画素
1223上には、先にも説明したように遮光物質層18
が設けられている。図中に見られるように、透明物質層
16の凹部側面S1は欠陥画素1223の周辺画素12
12,1222,1232の領域上にあり、凹部側面S
2は周辺画素1214,1224,1234の領域上に
あり、凹部側面S3は周辺の画素電極1212,121
3,1214の領域上にあり、さらに凹部側面S4は周
辺画素1232,1233,1234の領域上にある。
3,1224の上側には画素電極1212,1213,
1214が配置され、下側には画素電極1232,12
33,1234が配置されているものとする。欠陥画素
1223上には、先にも説明したように遮光物質層18
が設けられている。図中に見られるように、透明物質層
16の凹部側面S1は欠陥画素1223の周辺画素12
12,1222,1232の領域上にあり、凹部側面S
2は周辺画素1214,1224,1234の領域上に
あり、凹部側面S3は周辺の画素電極1212,121
3,1214の領域上にあり、さらに凹部側面S4は周
辺画素1232,1233,1234の領域上にある。
【0015】なお、本実施例における凹部17の製造方
法としては、予め欠陥画素を検出しておき、検出した欠
陥画素に位置合わせして上方(表示面側)から透明物質
層16にレーザ光を照射し、レーザ光照射部の透明物質
層16を除去すればよい。このとき、レーザ光照射によ
り炭化物を形成すれば、凹部17の形成と同時に遮光物
質層18を形成することが可能である。
法としては、予め欠陥画素を検出しておき、検出した欠
陥画素に位置合わせして上方(表示面側)から透明物質
層16にレーザ光を照射し、レーザ光照射部の透明物質
層16を除去すればよい。このとき、レーザ光照射によ
り炭化物を形成すれば、凹部17の形成と同時に遮光物
質層18を形成することが可能である。
【0016】また、他の方法として、透明物質層16上
にレジストを塗布しておき、欠陥画素に相当する画素電
極以外の画素電極に黒レベルとなる電圧を印加した状態
で、裏面側から露光光を照射してレジストパターンを形
成し、このレジストパターンに合わせて透明物質層16
を選択エッチングしてもよい。この場合、欠陥画素が白
傷欠陥であれば、全ての画素電極に黒レベルとなる電圧
を印加した状態でも欠陥画素は白レベルとなるので、欠
陥画素の検出やアライメントなしに凹部17をセルフア
ラインで簡易に製造することも可能である。
にレジストを塗布しておき、欠陥画素に相当する画素電
極以外の画素電極に黒レベルとなる電圧を印加した状態
で、裏面側から露光光を照射してレジストパターンを形
成し、このレジストパターンに合わせて透明物質層16
を選択エッチングしてもよい。この場合、欠陥画素が白
傷欠陥であれば、全ての画素電極に黒レベルとなる電圧
を印加した状態でも欠陥画素は白レベルとなるので、欠
陥画素の検出やアライメントなしに凹部17をセルフア
ラインで簡易に製造することも可能である。
【0017】このような構成において、第1のガラス基
板11側から光が入射されると、画素電極12の印加電
圧に応じて液晶層13の配向が変わり透過光量が変化す
ることになり、これによって2次元画像を表示すること
ができる。ここで、欠陥画素1223上の液晶層13の
多くの透過光は、遮光物質層18により遮蔽される。一
方、透明物質層16に入射して凹部側面(図1ではS1
)に到達した隣接画素よりの光L11は屈折され、光L
12として前面に通過していく。この場合、通過光L1
2の光量は隣接画素1222からの透過光分が多い。つ
まり、欠陥画素1223が遮光物質層18でマスクされ
、欠陥画素1223はその周辺画素からの光で補償され
ることになる。
板11側から光が入射されると、画素電極12の印加電
圧に応じて液晶層13の配向が変わり透過光量が変化す
ることになり、これによって2次元画像を表示すること
ができる。ここで、欠陥画素1223上の液晶層13の
多くの透過光は、遮光物質層18により遮蔽される。一
方、透明物質層16に入射して凹部側面(図1ではS1
)に到達した隣接画素よりの光L11は屈折され、光L
12として前面に通過していく。この場合、通過光L1
2の光量は隣接画素1222からの透過光分が多い。つ
まり、欠陥画素1223が遮光物質層18でマスクされ
、欠陥画素1223はその周辺画素からの光で補償され
ることになる。
【0018】また、凹部側面(図1ではS2)に入射し
た欠陥画素1223の影響の強い光L21は入射角度θ
が大きくなり、側面S2で全反射され、光L22として
透明物質層16内に反射される。これにより、例えば第
2のガラス基板15の厚みのため一部広がった欠陥画素
1223上の液晶層透過光が表示装置前面に出ていくの
が抑制される。
た欠陥画素1223の影響の強い光L21は入射角度θ
が大きくなり、側面S2で全反射され、光L22として
透明物質層16内に反射される。これにより、例えば第
2のガラス基板15の厚みのため一部広がった欠陥画素
1223上の液晶層透過光が表示装置前面に出ていくの
が抑制される。
【0019】このように本実施例によれば、第2のガラ
ス基板15上に透明物質層16を設け、白傷等の画像欠
陥を有する画素1223上に位置する透明物質層16に
凹部17を形成すると共にその底部に遮光物質層18を
設けることにより、欠陥画素1223の透過光は遮光物
質層18で遮蔽され、該画素1223は隣接した周辺画
素上の透過光で補間されることになる。従って、欠陥画
素1223を等価的に非欠陥画素と見なすことができ、
欠陥画素に起因する画質の劣化を未然に防止することが
できる。 次に、本発明の第2の実施例について説明する。
ス基板15上に透明物質層16を設け、白傷等の画像欠
陥を有する画素1223上に位置する透明物質層16に
凹部17を形成すると共にその底部に遮光物質層18を
設けることにより、欠陥画素1223の透過光は遮光物
質層18で遮蔽され、該画素1223は隣接した周辺画
素上の透過光で補間されることになる。従って、欠陥画
素1223を等価的に非欠陥画素と見なすことができ、
欠陥画素に起因する画質の劣化を未然に防止することが
できる。 次に、本発明の第2の実施例について説明する。
【0020】この実施例は、素子構造は第1の実施例と
同様であり、欠陥画素とその隣接画素に印加する電圧を
変えたものである。図3に、欠陥画素電極とその周辺画
素電極に印加する電圧波形を示す。なお、図中 (1)
〜(5) は画素電極1221〜1225にそれぞれ印
加する電圧を示している。
同様であり、欠陥画素とその隣接画素に印加する電圧を
変えたものである。図3に、欠陥画素電極とその周辺画
素電極に印加する電圧波形を示す。なお、図中 (1)
〜(5) は画素電極1221〜1225にそれぞれ印
加する電圧を示している。
【0021】ここにおいて、基準電圧VAより正電圧だ
と透過光強度が大きいものとする。同じ明るさの画面を
表示する場合は、従来は(a)に示すように同じ電圧V
Bを各画素電極に印加する。これに対し、本実施例では
(b)に示すように、欠陥画素電極に印加する電圧を透
過光強度が下がる電圧、ここにおけるVAを印加し、こ
の欠陥画素電極に隣接した電極に印加する電圧を電圧V
Cのように上げて透過光強度を増やす。
と透過光強度が大きいものとする。同じ明るさの画面を
表示する場合は、従来は(a)に示すように同じ電圧V
Bを各画素電極に印加する。これに対し、本実施例では
(b)に示すように、欠陥画素電極に印加する電圧を透
過光強度が下がる電圧、ここにおけるVAを印加し、こ
の欠陥画素電極に隣接した電極に印加する電圧を電圧V
Cのように上げて透過光強度を増やす。
【0022】具体的には、図4に示すように、画素電極
を選択するTFT40のソースに印加する信号電圧を、
上記欠陥画素に隣接する周辺画素において一定レベル上
げるようにする。これによって、凹部17の側面が欠陥
画素に隣接する周辺画素上の一部領域にかかることによ
る画素光輝度低下を補正することができる。
を選択するTFT40のソースに印加する信号電圧を、
上記欠陥画素に隣接する周辺画素において一定レベル上
げるようにする。これによって、凹部17の側面が欠陥
画素に隣接する周辺画素上の一部領域にかかることによ
る画素光輝度低下を補正することができる。
【0023】なお、本発明は上述した各実施例に限定さ
れるものではない。実施例では液晶を用いた画像表示装
置の例を説明したが、他の表示素子、例えばLEDやE
L等を用いた画像表示装置に適用することもできる。ま
た、実施例では1画素の欠陥の場合について説明したが
、複数箇所についても同様に適用できるのは勿論のこと
である。また、第2の実施例においては、隣接する周辺
画素電極のみについて印加電圧を制御したが、さらに外
側の画素電極に印加する電圧も制御して画像欠陥補正を
さらに改善することも可能である。その他、本発明の要
旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することがで
きる。
れるものではない。実施例では液晶を用いた画像表示装
置の例を説明したが、他の表示素子、例えばLEDやE
L等を用いた画像表示装置に適用することもできる。ま
た、実施例では1画素の欠陥の場合について説明したが
、複数箇所についても同様に適用できるのは勿論のこと
である。また、第2の実施例においては、隣接する周辺
画素電極のみについて印加電圧を制御したが、さらに外
側の画素電極に印加する電圧も制御して画像欠陥補正を
さらに改善することも可能である。その他、本発明の要
旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することがで
きる。
【0024】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、画
像欠陥を有する画素をマスクすると共に、マスクした画
素をその周辺画素の情報で補償するようにしているので
、画像欠陥を有する画素を補正して目立たなくすること
ができ、欠陥画素による画質の劣化を最小限に抑えた画
像表示装置を実現することが可能となる。
像欠陥を有する画素をマスクすると共に、マスクした画
素をその周辺画素の情報で補償するようにしているので
、画像欠陥を有する画素を補正して目立たなくすること
ができ、欠陥画素による画質の劣化を最小限に抑えた画
像表示装置を実現することが可能となる。
【図1】本発明の第1の実施例に係わる画像表示装置の
概略構成を示す断面図、
概略構成を示す断面図、
【図2】第1の実施例における画素電極と凹部との位置
関係を示す平面図、
関係を示す平面図、
【図3】第2の実施例を説明するための信号波形図、
【
図4】第2の実施例を説明するための模式図、
図4】第2の実施例を説明するための模式図、
【図5】
従来の画像表示装置の概略構成を示す断面図、
従来の画像表示装置の概略構成を示す断面図、
【図6】
従来の画像表示装置の概略構成を示す平面図。
従来の画像表示装置の概略構成を示す平面図。
11…第1のガラス基板、
12…画素電極、
13…液晶層、
14…透明電極、
15…第2のガラス基板、
16…透明物質層、
17…凹部、
18…遮光物質層。
Claims (1)
- 【請求項1】画素領域に2次元状に配列された画素と、
前記画素領域上に設置された透明物質層と、前記画素の
うち画像欠陥を有する画素上の前記透明物質層に設けら
れ、外側に広がったテーパ状断面を有し且つ側面の一部
が該欠陥画素の周辺画素上に位置する凹部と、この凹部
の底部に形成された遮光物質層とを具備してなることを
特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6709991A JPH04301672A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6709991A JPH04301672A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 画像表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04301672A true JPH04301672A (ja) | 1992-10-26 |
Family
ID=13335102
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6709991A Pending JPH04301672A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 画像表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04301672A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006016463A1 (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置、及びその製造方法 |
JP2007065653A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-15 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2007241067A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示パネル |
WO2009019913A1 (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US7612861B2 (en) | 2005-06-13 | 2009-11-03 | Lg. Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel capable of minimizing a defect rate caused by bright point and repairing method thereof |
JP2018197781A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | シャープ株式会社 | 表示装置及び欠損画素補間方法 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6709991A patent/JPH04301672A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006016463A1 (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置、及びその製造方法 |
US7612861B2 (en) | 2005-06-13 | 2009-11-03 | Lg. Display Co., Ltd. | Liquid crystal display panel capable of minimizing a defect rate caused by bright point and repairing method thereof |
JP2007065653A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-15 | Lg Philips Lcd Co Ltd | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JP2007241067A (ja) * | 2006-03-10 | 2007-09-20 | Hitachi Displays Ltd | 液晶表示パネル |
WO2009019913A1 (ja) * | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
JPWO2009019913A1 (ja) * | 2007-08-09 | 2010-10-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
US8203690B2 (en) | 2007-08-09 | 2012-06-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method of manufacturing same |
JP2018197781A (ja) * | 2017-05-23 | 2018-12-13 | シャープ株式会社 | 表示装置及び欠損画素補間方法 |
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