JPH04282637A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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Landscapes
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポジ型感光性平版印刷
版に関するものであり、さらに詳しくは、親水化処理を
施したアルミニウム板上に中間層を設けたo−キノンジ
アジド化合物を含むポジ型感光性平版印刷版に関するも
のである。
版に関するものであり、さらに詳しくは、親水化処理を
施したアルミニウム板上に中間層を設けたo−キノンジ
アジド化合物を含むポジ型感光性平版印刷版に関するも
のである。
【0002】
【従来技術】従来、平版印刷版は、アルミニウム板上に
感光性組成物を薄層状に塗設した感光性平版印刷版を画
像露光後、現像して得られる。上記のアルミニウム板は
通常ブラシグレイン法やボールグレイン法のごとき機械
的な方法や電解グレイン法のごとき電気化学的方法ある
いは両者を組合せた方法などの粗面化処理に付され、そ
の表面が梨地状にされたのち、酸またはアルカリ等の水
溶液によりエッチングされ、さらに陽極酸化処理を経た
のち所望により親水化処理が施されて平版印刷版用支持
体とされ、この支持体上に感光層が設けられて感光性平
版印刷版(いわゆるPS版)とされる。このPS版は、
通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施して平版
印刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷する。
感光性組成物を薄層状に塗設した感光性平版印刷版を画
像露光後、現像して得られる。上記のアルミニウム板は
通常ブラシグレイン法やボールグレイン法のごとき機械
的な方法や電解グレイン法のごとき電気化学的方法ある
いは両者を組合せた方法などの粗面化処理に付され、そ
の表面が梨地状にされたのち、酸またはアルカリ等の水
溶液によりエッチングされ、さらに陽極酸化処理を経た
のち所望により親水化処理が施されて平版印刷版用支持
体とされ、この支持体上に感光層が設けられて感光性平
版印刷版(いわゆるPS版)とされる。このPS版は、
通常、像露光、現像、修正、ガム引き工程を施して平版
印刷版とされ、これを印刷機に取り付けて印刷する。
【0003】しかしながら上記の平版印刷版において、
ポジ作用のPS版を像露光し、現像して得られた平版印
刷版の非画像部には感光層中に含まれる物質が不可逆的
に吸着し、非画像部を汚染するため、いわゆる残色が生
じたり、修正工程で画像部と非画像部の識別が困難であ
ったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面となり、その
程度がひどくなると汚れとなるため印刷版として使用で
きなくなるという問題があった。
ポジ作用のPS版を像露光し、現像して得られた平版印
刷版の非画像部には感光層中に含まれる物質が不可逆的
に吸着し、非画像部を汚染するため、いわゆる残色が生
じたり、修正工程で画像部と非画像部の識別が困難であ
ったり、修正跡が明瞭に残り不均一な版面となり、その
程度がひどくなると汚れとなるため印刷版として使用で
きなくなるという問題があった。
【0004】これを改善するために、従来は、陽極酸化
処理したアルミニウム支持体表面を、米国特許第3,1
81,461号明細書などに開示されているようなアル
カリ金属シリケート処理(例えば珪酸ナトリウム水溶液
)、あるいは、特公昭36−22063号などに開示さ
れているような弗化ジルコン酸処理、あるいは、米国特
許第3,276,868号明細書などに開示されている
ポリビニルホスホン酸処理などにより親水化する方法が
用いられてきた。しかしながらこれらの方法では、非画
像部の残色、あるいは上述した汚れ性は良化するものの
感光性組成物と支持体との密着が充分でないため印刷枚
数は、数百枚程度にしかならなかった。
処理したアルミニウム支持体表面を、米国特許第3,1
81,461号明細書などに開示されているようなアル
カリ金属シリケート処理(例えば珪酸ナトリウム水溶液
)、あるいは、特公昭36−22063号などに開示さ
れているような弗化ジルコン酸処理、あるいは、米国特
許第3,276,868号明細書などに開示されている
ポリビニルホスホン酸処理などにより親水化する方法が
用いられてきた。しかしながらこれらの方法では、非画
像部の残色、あるいは上述した汚れ性は良化するものの
感光性組成物と支持体との密着が充分でないため印刷枚
数は、数百枚程度にしかならなかった。
【0005】また、その他に、陽極酸化処理したアルミ
ニウム支持体上に、特開昭60−149491号公報に
開示されているアミノ酸およびその塩類(Na塩、K塩
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩
、酢酸塩、りん酸塩等)、特開昭60−232998号
公報に開示されている水酸基を有するアミン類およびそ
の塩類(塩酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等)、特開昭63−
165183号公報に開示されているアミノ基及びホス
ホン酸基を有する化合物又はその塩を下塗りする方法な
どが提案されている。
ニウム支持体上に、特開昭60−149491号公報に
開示されているアミノ酸およびその塩類(Na塩、K塩
等のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、塩酸塩、蓚酸塩
、酢酸塩、りん酸塩等)、特開昭60−232998号
公報に開示されている水酸基を有するアミン類およびそ
の塩類(塩酸塩、蓚酸塩、りん酸塩等)、特開昭63−
165183号公報に開示されているアミノ基及びホス
ホン酸基を有する化合物又はその塩を下塗りする方法な
どが提案されている。
【0006】しかしながらこれらの方法では、非画像部
の残色の低減は必ずしも充分でなく、上述の汚れも、現
像液が疲労してくると特にひどく発生したりした。また
、アルカリ金属シリケートなどの親水化処理ほどではな
いものの、耐刷性能は下塗りのない場合よりは、劣化し
、充分ではなかった。
の残色の低減は必ずしも充分でなく、上述の汚れも、現
像液が疲労してくると特にひどく発生したりした。また
、アルカリ金属シリケートなどの親水化処理ほどではな
いものの、耐刷性能は下塗りのない場合よりは、劣化し
、充分ではなかった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、像様
露光後現像処理した時に非画像部の残色(感光層中の色
素成分の残存)が少なく消去液による修正跡汚れの少な
い平版印刷版を与えるようなポジ型感光性平版印刷版を
提供することである。またさらに他の目的は、画像部の
アルミニウム板との密着性が強く耐刷性能の優れた平版
印刷版を与えるようなポジ型感光性平版印刷版を提供す
ることである。
露光後現像処理した時に非画像部の残色(感光層中の色
素成分の残存)が少なく消去液による修正跡汚れの少な
い平版印刷版を与えるようなポジ型感光性平版印刷版を
提供することである。またさらに他の目的は、画像部の
アルミニウム板との密着性が強く耐刷性能の優れた平版
印刷版を与えるようなポジ型感光性平版印刷版を提供す
ることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく、鋭意検討した結果本発明を完成するに
至った。本発明は、陽極酸化処理し、その後に親水化処
理を施したアルミニウム板上に、R1(PO(OH)2
)n またはR1 −(PO(OH)(R2 ))n
で表される置換または無置換の脂肪族化合物または芳
香族化合物(nは1または2であり、nが1のとき、R
1 、R2 は置換または無置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アリール基、アシル基、アシ
ロキシ基を表し、nが2のときR1 は置換または無置
換のアルキレン基またはアリーレン基を表し、R2 は
前記定義のとおりであり、置換基としてはヒドロキシル
基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、
ハロゲンから選ばれた少くとも1種である)からなる化
合物群より選ばれた少くとも1種の化合物を含む有機層
を設け、その上にo−キノンジアジド化合物及び有機高
分子重合体を含むポジ型感光層を設けたことを特徴とす
る感光性平版印刷版によって達成される。
的を達成すべく、鋭意検討した結果本発明を完成するに
至った。本発明は、陽極酸化処理し、その後に親水化処
理を施したアルミニウム板上に、R1(PO(OH)2
)n またはR1 −(PO(OH)(R2 ))n
で表される置換または無置換の脂肪族化合物または芳
香族化合物(nは1または2であり、nが1のとき、R
1 、R2 は置換または無置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アリール基、アシル基、アシ
ロキシ基を表し、nが2のときR1 は置換または無置
換のアルキレン基またはアリーレン基を表し、R2 は
前記定義のとおりであり、置換基としてはヒドロキシル
基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、
ハロゲンから選ばれた少くとも1種である)からなる化
合物群より選ばれた少くとも1種の化合物を含む有機層
を設け、その上にo−キノンジアジド化合物及び有機高
分子重合体を含むポジ型感光層を設けたことを特徴とす
る感光性平版印刷版によって達成される。
【0009】以下本発明について詳しく説明する。本発
明において用いられるアルミニウム板は、純アルミニウ
ムや、アルミニウムを主成分とし、微量の異原子を含む
アルミニウム合金等の板状体である。この異原子には、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛
、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異
原子の含有量は高々10重量%以下である。本発明に好
適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に純
粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難であるので
、できるだけ異原子の含有量の低いものがよい。又、上
述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、本発
明に適用しうる素材ということができる。このように本
発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定さ
れるものではなく従来公知、公用の素材のものを適宜利
用することができる。本発明に用いられるアルミニウム
板の厚さは、およそ0.1mm〜0.5mm程度である
。
明において用いられるアルミニウム板は、純アルミニウ
ムや、アルミニウムを主成分とし、微量の異原子を含む
アルミニウム合金等の板状体である。この異原子には、
珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛
、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異
原子の含有量は高々10重量%以下である。本発明に好
適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に純
粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難であるので
、できるだけ異原子の含有量の低いものがよい。又、上
述した程度の含有率のアルミニウム合金であれば、本発
明に適用しうる素材ということができる。このように本
発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定さ
れるものではなく従来公知、公用の素材のものを適宜利
用することができる。本発明に用いられるアルミニウム
板の厚さは、およそ0.1mm〜0.5mm程度である
。
【0010】アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち
、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば
界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理が行な
われる。なお本発明の感光性平版印刷版は、片面のみ使
用できるものであっても、両面とも同様な処理によって
使用できるものであってもよい。両面でも同様なため、
以下は、片面の場合について説明する。まず、アルミニ
ウム板は、粗面化処理されるが粗面化処理方法としては
、機械的に表面を粗面化する方法、電気化学的に表面を
溶解する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法が
ある。機械的に表面を粗面化する方法としては、ボール
研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等
と称せられる公知の方法を用いることができる。また電
気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交
流又は直流により行なう方法がある。また、特開昭54
−63902号公報に開示されているように両者を組合
せた方法も利用することができる。
、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば
界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理が行な
われる。なお本発明の感光性平版印刷版は、片面のみ使
用できるものであっても、両面とも同様な処理によって
使用できるものであってもよい。両面でも同様なため、
以下は、片面の場合について説明する。まず、アルミニ
ウム板は、粗面化処理されるが粗面化処理方法としては
、機械的に表面を粗面化する方法、電気化学的に表面を
溶解する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法が
ある。機械的に表面を粗面化する方法としては、ボール
研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等
と称せられる公知の方法を用いることができる。また電
気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交
流又は直流により行なう方法がある。また、特開昭54
−63902号公報に開示されているように両者を組合
せた方法も利用することができる。
【0011】このように粗面化されたアルミニウム板は
、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理さ
れる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解
質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかな
るものでも使用することができ、一般には硫酸、燐酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、それ
らの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められ
る。
、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理さ
れる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解
質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいかな
るものでも使用することができ、一般には硫酸、燐酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、それ
らの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められ
る。
【0012】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は、5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電
解時間10秒〜50分の範囲にあれば適当である。陽極
酸化皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、
より好ましくは、2.0〜6.0g/m2 の範囲であ
る。陽極酸化皮膜が1.0gより少ないと耐刷性が不十
分であったり、平版印刷版の非画像部に傷がつき易くな
って、印刷時に、傷の部分にインキが付着するいわゆる
「傷汚れ」が生じ易くなる。
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は、5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電
解時間10秒〜50分の範囲にあれば適当である。陽極
酸化皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、
より好ましくは、2.0〜6.0g/m2 の範囲であ
る。陽極酸化皮膜が1.0gより少ないと耐刷性が不十
分であったり、平版印刷版の非画像部に傷がつき易くな
って、印刷時に、傷の部分にインキが付着するいわゆる
「傷汚れ」が生じ易くなる。
【0013】上述の処理を施した後に用いられる親水化
処理としては、従来より知られている、親水化処理が用
いられる。このような親水化処理としては、米国特許第
2,714,066号、第3,181,461号、第3
,280,734号、第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えば珪酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるか又は電
解処理される。あるいは、特公昭36−22063号公
報に開示されている弗化ジルコン酸カリウム及び米国特
許第3,276,868号、第4,153,461号、
第4,689,272号に開示されている様なポリビニ
ルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。これら
の中で特に好ましい親水化処理はアルカリ金属シリケー
ト処理である。
処理としては、従来より知られている、親水化処理が用
いられる。このような親水化処理としては、米国特許第
2,714,066号、第3,181,461号、第3
,280,734号、第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えば珪酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるか又は電
解処理される。あるいは、特公昭36−22063号公
報に開示されている弗化ジルコン酸カリウム及び米国特
許第3,276,868号、第4,153,461号、
第4,689,272号に開示されている様なポリビニ
ルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。これら
の中で特に好ましい親水化処理はアルカリ金属シリケー
ト処理である。
【0014】これらの親水化処理を施した後に、アルミ
ニウム板上に、後述する種々の方法で下記の有機層を設
ける。本発明に用いられる化合物は、(I) R1
− (PO(OH)2 )n で表わされる置換または
無置換の脂肪族化合物または芳香族化合物(nは1また
は2)、(II) R1 −(PO(OH)(R2
))nで表される置換または無置換の脂肪族化合物また
は芳香族化合物(nは1または2)、(nが1のとき、
R1 、R2 は置換、又は無置換のアルキル基(好ま
しくは炭素数1〜14のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜14のもの)、アリーロキシ基(好まし
くは炭素数6〜10のもの)、アリール基(好ましくは
炭素数6〜10のもの)、アシル基(好ましくは炭素数
1〜14のもの)、アシロキシ基(好ましくは炭素数1
〜14のもの)であり、nが2のときR1 はアルキレ
ン基(好ましくは炭素数1〜14のもの)またはアリー
レン基(好ましくは炭素数6〜10のもの)を表し、R
2 は前記定義のとおりであり、置換基としてはアルキ
ル基(但し、アリール残基に対する置換基に限る)、ア
リール基(但し、アルキル残基に対する置換基に限る)
、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、アリーロキ
シ基、ビニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、ハロゲンから選ばれた少くとも1種
が挙げられる)からなる化合物群より選ばれた少くとも
1種の化合物である。
ニウム板上に、後述する種々の方法で下記の有機層を設
ける。本発明に用いられる化合物は、(I) R1
− (PO(OH)2 )n で表わされる置換または
無置換の脂肪族化合物または芳香族化合物(nは1また
は2)、(II) R1 −(PO(OH)(R2
))nで表される置換または無置換の脂肪族化合物また
は芳香族化合物(nは1または2)、(nが1のとき、
R1 、R2 は置換、又は無置換のアルキル基(好ま
しくは炭素数1〜14のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜14のもの)、アリーロキシ基(好まし
くは炭素数6〜10のもの)、アリール基(好ましくは
炭素数6〜10のもの)、アシル基(好ましくは炭素数
1〜14のもの)、アシロキシ基(好ましくは炭素数1
〜14のもの)であり、nが2のときR1 はアルキレ
ン基(好ましくは炭素数1〜14のもの)またはアリー
レン基(好ましくは炭素数6〜10のもの)を表し、R
2 は前記定義のとおりであり、置換基としてはアルキ
ル基(但し、アリール残基に対する置換基に限る)、ア
リール基(但し、アルキル残基に対する置換基に限る)
、アルコキシ基、アシル基、アシロキシ基、アリーロキ
シ基、ビニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、ハロゲンから選ばれた少くとも1種
が挙げられる)からなる化合物群より選ばれた少くとも
1種の化合物である。
【0015】アリーロキシ基としては、フェノキシ基、
p−クロロフェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、ピ
リジニル基、アリール基としては、フェニル基、o−ト
リル基、m−トリル基、p−トリル基、p−クロロフェ
ニル基、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ベンゾイル基、アシロキシ基としては
、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオ
キシ基などが挙げられる。(I)及び(II)の化合物
は、塩の形で用いてもよい。塩としては、カリウム、ナ
トリウム、リチウム等のアルカリ金属塩の他に、カルシ
ウム、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、マグネシウ
ム、バリウム、銅などの塩が挙げられる。
p−クロロフェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、ピ
リジニル基、アリール基としては、フェニル基、o−ト
リル基、m−トリル基、p−トリル基、p−クロロフェ
ニル基、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ベンゾイル基、アシロキシ基としては
、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイルオ
キシ基などが挙げられる。(I)及び(II)の化合物
は、塩の形で用いてもよい。塩としては、カリウム、ナ
トリウム、リチウム等のアルカリ金属塩の他に、カルシ
ウム、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、マグネシウ
ム、バリウム、銅などの塩が挙げられる。
【0016】以下に具体例を示す。式(1)の化合物の
例としては、フェニルホスホン酸、フェニルリン酸、ナ
フチルホスホン酸、ナフチルリン酸、グリセロホスホン
酸、グリセロリン酸、p−ニトロフェニルホスホン酸、
p−ニトロフェニルリン酸、p−メトキシフェニルホス
ホン酸、p−メトキシフェニルリン酸、p−ヒドロキシ
フェニルホスホン酸、p−ヒドロキシフェニルリン酸、
p−トリルホスホン酸、p−トリルリン酸、p−アセチ
ルフェニルホスホン酸、p−アセチルフェニルリン酸、
p−シアノフェニルホスホン酸、p−シアノフェニルリ
ン酸、m−クロルフェニルホスホン酸、m−クロルフェ
ニルリン酸、メチルホスホン酸、メチレンジホスホン酸
、エチルホスホン酸、エチレンジホスホン酸、2−カル
ボキシエチルホスホン酸、フォスフォノアセティックア
シッド、2−フェニルエチルホスホン酸、2−ヒドロキ
シエチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−
ジホスホン酸、アミノヘキシルリン酸、2−メトキシエ
チルホスホン酸、2−アセチルエチルホスホン酸、グリ
シン−N,N−ビス(メチレンフォスフォン酸)、ホス
ホセリン、ホスホスレオニン、リン酸ピリドキサールな
どが挙げられる。
例としては、フェニルホスホン酸、フェニルリン酸、ナ
フチルホスホン酸、ナフチルリン酸、グリセロホスホン
酸、グリセロリン酸、p−ニトロフェニルホスホン酸、
p−ニトロフェニルリン酸、p−メトキシフェニルホス
ホン酸、p−メトキシフェニルリン酸、p−ヒドロキシ
フェニルホスホン酸、p−ヒドロキシフェニルリン酸、
p−トリルホスホン酸、p−トリルリン酸、p−アセチ
ルフェニルホスホン酸、p−アセチルフェニルリン酸、
p−シアノフェニルホスホン酸、p−シアノフェニルリ
ン酸、m−クロルフェニルホスホン酸、m−クロルフェ
ニルリン酸、メチルホスホン酸、メチレンジホスホン酸
、エチルホスホン酸、エチレンジホスホン酸、2−カル
ボキシエチルホスホン酸、フォスフォノアセティックア
シッド、2−フェニルエチルホスホン酸、2−ヒドロキ
シエチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1−
ジホスホン酸、アミノヘキシルリン酸、2−メトキシエ
チルホスホン酸、2−アセチルエチルホスホン酸、グリ
シン−N,N−ビス(メチレンフォスフォン酸)、ホス
ホセリン、ホスホスレオニン、リン酸ピリドキサールな
どが挙げられる。
【0017】式(II) の化合物の例としては、フェ
ニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニル
ホスフィン酸、ジメチルホスフィン酸、p−ニトロフェ
ニルホスフィン酸、p−メトキシフェニルホスフィン酸
、p−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、p−トリルホ
スフィン酸、p−アセチルフェニルホスフィン酸、ビス
ニトロフェニルリン酸、リン酸ジオクチル、リン酸ジイ
ソプロピル、リン酸ジブチルエステル、リン酸ジメチル
エステル、リン酸ジエチルエステル、リン酸ジ−2−エ
チルヘキシルエステル、リン酸ジフェニルエステル、メ
チルホスフィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチルホス
フィン酸、2−カルボキシエチルホスフィン酸、2−フ
ェニルエチルホスフィン酸、2−ヒドロキシエチルホス
フィン酸、2−メトキシエチルホスフィン酸、2−アセ
チルエチルホスフィン酸などが挙げられる。
ニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニル
ホスフィン酸、ジメチルホスフィン酸、p−ニトロフェ
ニルホスフィン酸、p−メトキシフェニルホスフィン酸
、p−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、p−トリルホ
スフィン酸、p−アセチルフェニルホスフィン酸、ビス
ニトロフェニルリン酸、リン酸ジオクチル、リン酸ジイ
ソプロピル、リン酸ジブチルエステル、リン酸ジメチル
エステル、リン酸ジエチルエステル、リン酸ジ−2−エ
チルヘキシルエステル、リン酸ジフェニルエステル、メ
チルホスフィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチルホス
フィン酸、2−カルボキシエチルホスフィン酸、2−フ
ェニルエチルホスフィン酸、2−ヒドロキシエチルホス
フィン酸、2−メトキシエチルホスフィン酸、2−アセ
チルエチルホスフィン酸などが挙げられる。
【0018】これらの化合物は2種以上併用してもよい
。これらの中で特に好ましい化合物としては、フェニル
ホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチルホスホン酸、ナ
フチルリン酸、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホス
フィン酸、ナフチルホスフィン酸が挙げられる。本発明
におるけ有機層は、次のような方法で設けることができ
る。すなわち、水又はメタノール、エタノールなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶解
させた溶液を塗布、乾燥して有機層を設ける方法と、水
又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤もしくはそ
れらの混合溶剤に、上記の化合物を溶解させた溶液に、
上述の親水化処理を施したアルミニウム板を浸漬して化
合物を吸着させ、しかる後、水などによって、洗浄、乾
燥して有機層を設ける方法である。前者の方法では、上
記のような化合物を0.005〜10重量%の濃度で溶
解した塗布液を種々の方法で塗布できる。例えばバーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等
のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の化合物
を溶解した溶液に浸漬後、水などによって洗浄する方法
では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20℃〜90℃
、好ましくは25℃〜50℃であり、浸漬時間は、0.
1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
。これらの中で特に好ましい化合物としては、フェニル
ホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチルホスホン酸、ナ
フチルリン酸、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホス
フィン酸、ナフチルホスフィン酸が挙げられる。本発明
におるけ有機層は、次のような方法で設けることができ
る。すなわち、水又はメタノール、エタノールなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶解
させた溶液を塗布、乾燥して有機層を設ける方法と、水
又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤もしくはそ
れらの混合溶剤に、上記の化合物を溶解させた溶液に、
上述の親水化処理を施したアルミニウム板を浸漬して化
合物を吸着させ、しかる後、水などによって、洗浄、乾
燥して有機層を設ける方法である。前者の方法では、上
記のような化合物を0.005〜10重量%の濃度で溶
解した塗布液を種々の方法で塗布できる。例えばバーコ
ーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等
のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の化合物
を溶解した溶液に浸漬後、水などによって洗浄する方法
では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20℃〜90℃
、好ましくは25℃〜50℃であり、浸漬時間は、0.
1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
【0019】有機層の乾燥後の被覆量は、2mg/m2
〜200mg/m2 が適当であり、好ましくは5m
g/m2 〜100mg/m2 、さらに好ましくは1
0mg/m2 〜60mg/m2 である。上記の被覆
量が2mg/m2 より少ないと非画像部の残色の低減
効果及び耐刷性能が充分でない。また、200mg/m
2 より多くなると、非画像部の残色低減効果はあるも
のの耐刷性能が充分なものが得られない。
〜200mg/m2 が適当であり、好ましくは5m
g/m2 〜100mg/m2 、さらに好ましくは1
0mg/m2 〜60mg/m2 である。上記の被覆
量が2mg/m2 より少ないと非画像部の残色の低減
効果及び耐刷性能が充分でない。また、200mg/m
2 より多くなると、非画像部の残色低減効果はあるも
のの耐刷性能が充分なものが得られない。
【0020】本発明の有機層を設ける際に使用する溶液
は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等
の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpH
を調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる
。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のため、黄
色染料を添加することもできる。また本発明の有機層に
は公知の例えばカルボキシメチルセルロース、デキスト
リン、アラビアゴム、2−アミノエチルホスホン酸など
のアミノ基を有するホスホン酸類、グリシンやβ−アラ
ニンなどのアミノ酸類、トリエタノールアミンの塩酸塩
等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等を混合させ
ることができる。本発明の有機層は、上記式(I)及び
/又は(II)の化合物を少なくとも30重量%含むこ
とが望ましく、より好ましくは80重量%以上、最も好
ましくは100重量%である。
は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等
の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpH
を調節し、pH1〜12の範囲で使用することもできる
。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のため、黄
色染料を添加することもできる。また本発明の有機層に
は公知の例えばカルボキシメチルセルロース、デキスト
リン、アラビアゴム、2−アミノエチルホスホン酸など
のアミノ基を有するホスホン酸類、グリシンやβ−アラ
ニンなどのアミノ酸類、トリエタノールアミンの塩酸塩
等のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等を混合させ
ることができる。本発明の有機層は、上記式(I)及び
/又は(II)の化合物を少なくとも30重量%含むこ
とが望ましく、より好ましくは80重量%以上、最も好
ましくは100重量%である。
【0021】このようにして得られた有機層で被覆され
たアルミニウム支持体上に、公知のo−キノンジアジド
化合物を有するポジ型感光性組成物を含む感光層を設け
て、感光性平版印刷版を得る。上記の感光層の組成物と
しては、露光の前後で現像液に対する溶解性又は膨潤性
が変化するものであればいずれも使用できる。以下、そ
の代表的なものについて説明する。
たアルミニウム支持体上に、公知のo−キノンジアジド
化合物を有するポジ型感光性組成物を含む感光層を設け
て、感光性平版印刷版を得る。上記の感光層の組成物と
しては、露光の前後で現像液に対する溶解性又は膨潤性
が変化するものであればいずれも使用できる。以下、そ
の代表的なものについて説明する。
【0022】o−ナフトキノンジアジド化合物としては
、特公昭43−28403号公報に記載されている1,
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとピロガ
ロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが好まし
い。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物として
は、米国特許第3,046,120号および同第3,1
88,210号明細書中に記載されている1,2−ジア
ゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドとフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあり、特開平2
−96163号公報、特開平2−96165号公報、特
開平2−96761号公報に記載されている1,2−ジ
アゾナフトキノン−4−スルホン酸クロリドとフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その他
の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの
特許に報告され、知られているものが挙げられる。たと
えば、特開昭47−5303号、同48−63802号
、同48−63803号、同48−96575号、同4
9−38701号、同48−13354号、特公昭37
−18015号、同41−11222号、同45−96
10号、同49−17481号公報、米国特許第2,7
97,213号、同第3,454,400号、同第3,
544,323号、同第3,573,917号、同第3
,674,495号、同第3,785,825号、英国
特許第1,227,602号、同第1,251,345
号、同第1,267,005号、同第1,329,88
8号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854
,890号などの各明細書中に記載されているものをあ
げることができる。
、特公昭43−28403号公報に記載されている1,
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとピロガ
ロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが好まし
い。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物として
は、米国特許第3,046,120号および同第3,1
88,210号明細書中に記載されている1,2−ジア
ゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドとフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあり、特開平2
−96163号公報、特開平2−96165号公報、特
開平2−96761号公報に記載されている1,2−ジ
アゾナフトキノン−4−スルホン酸クロリドとフェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その他
の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの
特許に報告され、知られているものが挙げられる。たと
えば、特開昭47−5303号、同48−63802号
、同48−63803号、同48−96575号、同4
9−38701号、同48−13354号、特公昭37
−18015号、同41−11222号、同45−96
10号、同49−17481号公報、米国特許第2,7
97,213号、同第3,454,400号、同第3,
544,323号、同第3,573,917号、同第3
,674,495号、同第3,785,825号、英国
特許第1,227,602号、同第1,251,345
号、同第1,267,005号、同第1,329,88
8号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854
,890号などの各明細書中に記載されているものをあ
げることができる。
【0023】本発明において特に好ましいo−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量1,000以下のポリヒ
ドロキシ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロリドとの反応により得られる化合物である。この
ような化合物の具体例は、特開昭51−139402号
、同58−150948号、同58−203434号、
同59−165053号、同60−121445号、同
60−134235号、同60−163043号、同6
1−118744号、同62−10645号、同62−
10646号、同62−153950号、同62−17
8562号、同64−76047号、米国特許第3,1
02,809号、同第3,126,281号、同第3,
130,047号、同第3,148,983号、同第3
,184,310号、同第3,188,210号、同第
4,639,406号などの各公報または明細書に記載
されているものを挙げることができる。
ノンジアジド化合物は、分子量1,000以下のポリヒ
ドロキシ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン
酸クロリドとの反応により得られる化合物である。この
ような化合物の具体例は、特開昭51−139402号
、同58−150948号、同58−203434号、
同59−165053号、同60−121445号、同
60−134235号、同60−163043号、同6
1−118744号、同62−10645号、同62−
10646号、同62−153950号、同62−17
8562号、同64−76047号、米国特許第3,1
02,809号、同第3,126,281号、同第3,
130,047号、同第3,148,983号、同第3
,184,310号、同第3,188,210号、同第
4,639,406号などの各公報または明細書に記載
されているものを挙げることができる。
【0024】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させる事が好ましく、0
.3〜1.0当量反応させる事がさらに好ましい。1,
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、
1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリド
または1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸ク
ロリドを用いることができる。
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させる事が好ましく、0
.3〜1.0当量反応させる事がさらに好ましい。1,
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、
1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリド
または1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸ク
ロリドを用いることができる。
【0025】また得られるo−ナフトキノンジアジド化
合物は、1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステ
ル基の位置及び導入量の種々異なるものの混合物となる
が、ヒドロキシル基がすべて1,2−ジアゾナフトキノ
ンスルホン酸エステルで転換された化合物がこの混合物
中に占める割合(完全にエステル化された化合物の含有
率)は5モル%以上である事が好ましく、さらに好まし
くは20〜99モル%である。
合物は、1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステ
ル基の位置及び導入量の種々異なるものの混合物となる
が、ヒドロキシル基がすべて1,2−ジアゾナフトキノ
ンスルホン酸エステルで転換された化合物がこの混合物
中に占める割合(完全にエステル化された化合物の含有
率)は5モル%以上である事が好ましく、さらに好まし
くは20〜99モル%である。
【0026】本発明の感光性組成物中に占めるこれらの
ポジ型に作用する感光性化合物(上記のような組合せを
含む)の量は10〜50重量%が適当であり、より好ま
しくは15〜40重量%である。o−キノンジアジド化
合物は単独でも感光層を構成するが、アルカリ水に可溶
な樹脂を結合剤(バインダー)としてこの種の樹脂と共
に使用することが好ましい。このようなアルカリ水に可
溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラック樹脂
があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂
、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、又はm
−/p−、m−/o−混合のいずれでもよい)混合ホル
ムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが挙げられる。
ポジ型に作用する感光性化合物(上記のような組合せを
含む)の量は10〜50重量%が適当であり、より好ま
しくは15〜40重量%である。o−キノンジアジド化
合物は単独でも感光層を構成するが、アルカリ水に可溶
な樹脂を結合剤(バインダー)としてこの種の樹脂と共
に使用することが好ましい。このようなアルカリ水に可
溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラック樹脂
があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂
、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、又はm
−/p−、m−/o−混合のいずれでもよい)混合ホル
ムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが挙げられる。
【0027】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダとして以下
(1)〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体を挙げることが
できる。(1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例
えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又
はN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p
−ヒドロキシフェニル−アクリレート又はメタクリレー
ト、(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステ
ル類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、又は2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、(3) アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸
、(4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N
−ジメチルアミノエチルアクリレート等の(置換)アル
キルアクリレート、(5) メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノ
エチルメタクリレート等の(置換)アルキルメタクリレ
ート、(6) アクリルアミド、メタクリルアミド、
N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシル
メタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド
、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニル
アクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、
N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリル
アミド若しくはメタクリルアミド類、(7) エチル
ビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類、(8)
ビニルアセテート、ビチルクロロアセテート、ビニ
ルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、
(9) スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチ
ルスチレン等のスチレン類、(10) メチルビニル
ケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、
フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、(11)
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、
イソプレン等のオレフィン類、(12) N−ビニル
ピロリドン、N−ビニルカルバゾル、4−ビニルピリジ
ン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等、(13
) N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニル
メタクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニル
)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノスル
ホニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリルアミド
類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類
、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−
アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−
アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等のメタク
リル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有するア
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダとして以下
(1)〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体を挙げることが
できる。(1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メ
タクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例
えばN−(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又
はN−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、
o−、m−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p
−ヒドロキシフェニル−アクリレート又はメタクリレー
ト、(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステ
ル類、およびメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、又は2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、(3) アクリル酸、メタクリル
酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸
、(4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミ
ル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリ
ル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N
−ジメチルアミノエチルアクリレート等の(置換)アル
キルアクリレート、(5) メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノ
エチルメタクリレート等の(置換)アルキルメタクリレ
ート、(6) アクリルアミド、メタクリルアミド、
N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシル
メタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド
、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニル
アクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、
N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリル
アミド若しくはメタクリルアミド類、(7) エチル
ビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒ
ドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類、(8)
ビニルアセテート、ビチルクロロアセテート、ビニ
ルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、
(9) スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチ
ルスチレン等のスチレン類、(10) メチルビニル
ケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、
フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、(11)
エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、
イソプレン等のオレフィン類、(12) N−ビニル
ピロリドン、N−ビニルカルバゾル、4−ビニルピリジ
ン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等、(13
) N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニル
メタクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニル
)ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノスル
ホニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリルアミド
類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類
、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−
アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−
アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等のメタク
リル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有するア
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。
【0028】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。上記
共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有す
ることが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の
値は0〜3meq /g、さらに好ましくは、0.5〜
2.5meq /gである。
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。上記
共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有す
ることが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の
値は0〜3meq /g、さらに好ましくは、0.5〜
2.5meq /gである。
【0029】上記共重合体の好ましい分子量は1〜10
万である。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、を添加してもよい。このようなアル
カリ可溶性の高分子化合物は、1種類あるいは2種類以
上組みあわせることができ、全組成物の80重量%以下
の添加量で用いられる。
万である。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、を添加してもよい。このようなアル
カリ可溶性の高分子化合物は、1種類あるいは2種類以
上組みあわせることができ、全組成物の80重量%以下
の添加量で用いられる。
【0030】更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。
【0031】本発明における感光性組成物中には、感度
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第4,115,128号明細書に記載されている
ように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4
−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル
酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェ
ニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット
酸等がある。
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第4,115,128号明細書に記載されている
ように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキ
サヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4
−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル
酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェ
ニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット
酸等がある。
【0032】フェノール類としては、ビスフェノールA
、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2
,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロ
キシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、4,4′、3″、4″−テトラヒドロ
キシ−3,5,3′、5′−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。
、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2
,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロ
キシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−トリ
フェニルメタン、4,4′、3″、4″−テトラヒドロ
キシ−3,5,3′、5′−テトラメチルトリフェニル
メタンなどが挙げられる。
【0033】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル類
、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエン
スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエ
ンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フ
ェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニ
ル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイ
ル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフ
タル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン
酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコ
ルビン酸などが挙げられる。
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル類
、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエン
スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエ
ンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フ
ェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニ
ル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイ
ル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフ
タル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン
酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコ
ルビン酸などが挙げられる。
【0034】上記の環状酸無水物類、フェノール類、有
機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜1
5重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量
%である。また本発明における感光性組成物中には、現
像のラチチュードを広げるために、特開昭62−251
740号公報や、特願平2−181248号明細書に記
載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭59
−121044号公報、特願平2−115992号明細
書に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミラ
ート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリ
セリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げ
られ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(
アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグ
リシン塩酸塩、アモーゲン水(商品名、第一工業(株)
製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋
化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げら
れる。
機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜1
5重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量
%である。また本発明における感光性組成物中には、現
像のラチチュードを広げるために、特開昭62−251
740号公報や、特願平2−181248号明細書に記
載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭59
−121044号公報、特願平2−115992号明細
書に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、
ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミラ
ート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリ
セリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げ
られ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(
アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグ
リシン塩酸塩、アモーゲン水(商品名、第一工業(株)
製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋
化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げら
れる。
【0035】上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.05%〜15
重量%が、好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量
%である。本発明における感光性組成物中には、露光後
直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤として
の染料やその他のフィラーなどを加えることができる。 露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光
によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有
機染料との組合せを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−
8128号公報に記載されているo−ナフトキノンジア
ジド─4─スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料と
の組合せや特開昭53−36223号、同54−747
28号、同60−3626号、同60−138539号
、同61−143748号、同61−151644号、
同63−58440号公報に記載されているトリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せをあげること
ができる。かかるトリハロメチル化合物は、オキサジア
ゾール系化合物とトリアジン系化合物があり、どちらも
、経時安定性に優れ、明瞭な焼出し画像を与える。
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.05%〜15
重量%が、好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量
%である。本発明における感光性組成物中には、露光後
直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤として
の染料やその他のフィラーなどを加えることができる。 露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光
によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有
機染料との組合せを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−
8128号公報に記載されているo−ナフトキノンジア
ジド─4─スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料と
の組合せや特開昭53−36223号、同54−747
28号、同60−3626号、同60−138539号
、同61−143748号、同61−151644号、
同63−58440号公報に記載されているトリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せをあげること
ができる。かかるトリハロメチル化合物は、オキサジア
ゾール系化合物とトリアジン系化合物があり、どちらも
、経時安定性に優れ、明瞭な焼出し画像を与える。
【0036】かかる化合物を含有した感光性組成物を用
いた場合に特に本発明は有効で、残色がほとんどない平
版印刷版を得ることができる。画像の着色剤として前記
の塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができ
る。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性
染料および塩基染料をあげることができる。具体的には
、オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブ
ルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(
以上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555
)、メチルバイオレット(C142535)、エチルバ
イオレット、ローダミンB(CI45170B)、マラ
カイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(
CI52015)などをあげることができる。また、特
開昭62−293247号公報に記載されている染料は
特に好ましい。
いた場合に特に本発明は有効で、残色がほとんどない平
版印刷版を得ることができる。画像の着色剤として前記
の塩形成性有機染料以外に他の染料も用いることができ
る。塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性
染料および塩基染料をあげることができる。具体的には
、オイルイエロー#101、オイルイエロー#130、
オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブ
ルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックB
Y、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(
以上、オリエント化学工業株式会社製)、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555
)、メチルバイオレット(C142535)、エチルバ
イオレット、ローダミンB(CI45170B)、マラ
カイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(
CI52015)などをあげることができる。また、特
開昭62−293247号公報に記載されている染料は
特に好ましい。
【0037】本発明における感光性組成物は、上記各成
分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキ
シ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセト
ンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そ
して、上記成分中の濃度(固形分)は、2〜50重量%
である。また、塗布量は用途により異なるが、一般的に
固形分として0.5〜3.0g/m2 が好ましい。塗
布量が薄くなるにつれて感光性は大になるが、感光膜の
物性は低下する。
分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキ
シ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセト
ンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そ
して、上記成分中の濃度(固形分)は、2〜50重量%
である。また、塗布量は用途により異なるが、一般的に
固形分として0.5〜3.0g/m2 が好ましい。塗
布量が薄くなるにつれて感光性は大になるが、感光膜の
物性は低下する。
【0038】本発明における感光性組成物中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。、好ましい添加量は、
全感光性組成物の0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。上記のようにして設
けられた感光層の表面は、真空焼枠を用いた密着露光の
際の真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐ為、
マット化することが好ましい。具体的には、特開昭50
−125805号、特公昭57−6582号、同61−
28986号の各公報に記載されているようなマット層
を設ける方法、特公昭62−62337号公報に記載さ
れているような固体粉末を熱融着させる方法などがあげ
られる。
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。、好ましい添加量は、
全感光性組成物の0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。上記のようにして設
けられた感光層の表面は、真空焼枠を用いた密着露光の
際の真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐ為、
マット化することが好ましい。具体的には、特開昭50
−125805号、特公昭57−6582号、同61−
28986号の各公報に記載されているようなマット層
を設ける方法、特公昭62−62337号公報に記載さ
れているような固体粉末を熱融着させる方法などがあげ
られる。
【0039】本発明の感光性平版印刷版の現像液は、具
体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム
、第二リン酸カリウムム、第三リン酸アンモニウム、第
二リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸アンモニ
ウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アン
モア水などのような水溶液が適当であり、それらの濃度
が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%に
なるように添加される。これらは単独又は混合して用い
られる。
体的には珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム
、第二リン酸カリウムム、第三リン酸アンモニウム、第
二リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸アンモニ
ウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アン
モア水などのような水溶液が適当であり、それらの濃度
が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%に
なるように添加される。これらは単独又は混合して用い
られる。
【0040】現像液成分としてはまた、水溶性有機アミ
ン化合物も使用できる。たとえば、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン
、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピ
ルアミン、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプ
ロパノールアミン、エチレンアミン、エチレンジアミン
、ピリジンなどのような化合物が挙げられる。このうち
特にモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミンなどが好ましく、無機アルカリ金属塩
などと組み合せて使用してもよい。
ン化合物も使用できる。たとえば、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン
、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピ
ルアミン、ジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、
モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプ
ロパノールアミン、エチレンアミン、エチレンジアミン
、ピリジンなどのような化合物が挙げられる。このうち
特にモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミンなどが好ましく、無機アルカリ金属塩
などと組み合せて使用してもよい。
【0041】これらの塩基性化合物の水溶液中の濃度は
、0.05重量%〜10重量%が好ましい。また必要に
応じて、該現像液中には、アニオン界面活性剤を加えて
もよい。更に、有機溶媒を加えることもできる。アニオ
ン界面活性剤としては例えば、ラウリルアルコールサル
フェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフェ
ートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェート
のアンモニウム塩、第2ナトリウムアルキルサルフェー
トなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル
塩類、例えばセチルアルコール燐酸エステルのナトリウ
ム塩などのような脂肪族アルコール燐酸エステル塩類、
例えばドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、メタ
ニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのような
アルキルアリールスルホン酸塩類、例えばC17H33
CON(CH3)CH2CH2SO3Na などのよう
なアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えばナトリウム
スルホこはく酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホ
こはく酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩類などが含まれる。
、0.05重量%〜10重量%が好ましい。また必要に
応じて、該現像液中には、アニオン界面活性剤を加えて
もよい。更に、有機溶媒を加えることもできる。アニオ
ン界面活性剤としては例えば、ラウリルアルコールサル
フェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフェ
ートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェート
のアンモニウム塩、第2ナトリウムアルキルサルフェー
トなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル
塩類、例えばセチルアルコール燐酸エステルのナトリウ
ム塩などのような脂肪族アルコール燐酸エステル塩類、
例えばドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、イ
ソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、メタ
ニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのような
アルキルアリールスルホン酸塩類、例えばC17H33
CON(CH3)CH2CH2SO3Na などのよう
なアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えばナトリウム
スルホこはく酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホ
こはく酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪酸エス
テルのスルホン酸塩類などが含まれる。
【0042】アニオン界面活性剤は、使用時の現像液の
総重量に対して0.1〜5重量%の範囲で含有させてお
くことが適当である。0.1重量%よりも少なくなると
その使用効果が低くなり、5重量%よりも多くなると、
画像部の色素の溶出(色抜け)が過多になったり、画像
の耐摩耗性などの機械的、化学的強度が劣化するなどの
弊害が出てくる。
総重量に対して0.1〜5重量%の範囲で含有させてお
くことが適当である。0.1重量%よりも少なくなると
その使用効果が低くなり、5重量%よりも多くなると、
画像部の色素の溶出(色抜け)が過多になったり、画像
の耐摩耗性などの機械的、化学的強度が劣化するなどの
弊害が出てくる。
【0043】有機溶媒としては、水に対する溶解度が約
10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重量
%以下のものから選ばれる。たとえば1−フェニルエタ
ノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパ
ノール−1,4−フェニルブタノール−1,4−フェニ
ルブタノール−2,2−フェニルブタノール−1,2−
フェキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、
o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジ
ルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベン
ジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシク
ロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及び3
−メチルシクロヘキサノール等をあげることができる。
10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重量
%以下のものから選ばれる。たとえば1−フェニルエタ
ノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパ
ノール−1,4−フェニルブタノール−1,4−フェニ
ルブタノール−2,2−フェニルブタノール−1,2−
フェキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、
o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジ
ルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベン
ジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシク
ロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及び3
−メチルシクロヘキサノール等をあげることができる。
【0044】有機溶媒の含有量は使用時の現像液の総重
量に対して1〜5重量%が好適である。その使用量は界
面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が
増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させること
が好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少なく、
有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従っ
て良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
量に対して1〜5重量%が好適である。その使用量は界
面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が
増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させること
が好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少なく、
有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従っ
て良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
【0045】また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては例えば Na2P2O7、Na5P3O
3 、Na3P3O9 、Na2O4P(NaO3P)
PO3Na2、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリウム)な
どのポリ燐酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、
そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリア
ミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリ
エチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、その
ナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ
酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロト
リ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−
ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノー
ルテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など
のようなアミノポリカルボン酸類を挙げることができる
。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度および
その使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用
量を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、
より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有さ
せられる。
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては例えば Na2P2O7、Na5P3O
3 、Na3P3O9 、Na2O4P(NaO3P)
PO3Na2、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリウム)な
どのポリ燐酸塩、例えばエチレンジアミンテトラ酢酸、
そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリア
ミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリ
エチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、その
ナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ
酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロト
リ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−
ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノー
ルテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など
のようなアミノポリカルボン酸類を挙げることができる
。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度および
その使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用
量を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、
より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有さ
せられる。
【0046】本発明の感光性平版印刷版の露光に使用さ
れる光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノ
ンランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ
などがある。本発明の感光性平版印刷版は、特開昭54
−8002号、同55−115045号、特開昭59−
58431号の各公報に記載されている方法で製版処理
してもよいことは言うまでもない。即ち、現像処理後、
水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処
理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水
溶液で処理後不感脂化処理を施してもよい。さらに、こ
の種の感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じ
て現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液
を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国
特許第 4,882,246号に記載されている方法で
補充することが好ましい。
れる光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノ
ンランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ
などがある。本発明の感光性平版印刷版は、特開昭54
−8002号、同55−115045号、特開昭59−
58431号の各公報に記載されている方法で製版処理
してもよいことは言うまでもない。即ち、現像処理後、
水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処
理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水
溶液で処理後不感脂化処理を施してもよい。さらに、こ
の種の感光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じ
て現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液
を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国
特許第 4,882,246号に記載されている方法で
補充することが好ましい。
【0047】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行なうことが好ましい。また、本発明
の感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又はリ
ンスしたのちに、不必要な画像部の消去を行なう場合に
は、特公平2−13293号公報に記載されているよう
な消去液を用いることが好ましい。更に製版工程の最終
工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては、特
公昭62−16834号、同62−25118号、同6
3−52600号、特開昭62−7595号、同62−
11693号、同62−83194号の各公報に記載さ
れているものが好ましい。
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行なうことが好ましい。また、本発明
の感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又はリ
ンスしたのちに、不必要な画像部の消去を行なう場合に
は、特公平2−13293号公報に記載されているよう
な消去液を用いることが好ましい。更に製版工程の最終
工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては、特
公昭62−16834号、同62−25118号、同6
3−52600号、特開昭62−7595号、同62−
11693号、同62−83194号の各公報に記載さ
れているものが好ましい。
【0048】更にまた、本発明の感光性平版印刷版を画
像露光し、現像し、水洗又はリンスし、所望により消去
作業をし、水洗したのちにバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に開示されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
像露光し、現像し、水洗又はリンスし、所望により消去
作業をし、水洗したのちにバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に開示されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
【0049】
【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、従来のも
のに比べて現像後の非画像部の残色が少なく、そのため
に検版性が優れ、さらに印刷時に消去液による修正跡汚
れが出にくく、またさらに高い耐刷力を有するという顕
著な効果を奏する。
のに比べて現像後の非画像部の残色が少なく、そのため
に検版性が優れ、さらに印刷時に消去液による修正跡汚
れが出にくく、またさらに高い耐刷力を有するという顕
著な効果を奏する。
【0050】
【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより具体的に
説明する。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない
限り「重量%」を示すものとする。
説明する。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない
限り「重量%」を示すものとする。
【0051】<実施例1〜5、比較例1〜3>厚さ0.
15mmの2S材アルミニウム板を80℃に保たれた第
三リン酸ナトリウムの10%水溶液に30秒間浸漬して
脱脂し、パミススラリーをアルミニウム板上に流しなが
らナイロンブラッシで砂目立て後、60℃のアルミン酸
ナトリウム水溶液中で10秒間エッチングし、引続き硫
酸水素ナトリウム3%水溶液で洗滌した。このアルミニ
ウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm2 におい
て2分間陽極酸化し、その後、70℃の2.5%ケイ酸
ナトリウム水溶液で1分間処理し、アルミニウム板支持
体Aを作製した。このように処理された基板Aの表面に
、下記組成の下塗り液(I)を塗布し90℃1分間乾燥
した。乾燥後の被覆量は20mg/m2 であった。 (I) フェニルリン酸 0.1g
……実施例1 メタノール 95g水
5g同様にして下塗り液
(I)のフェニルリン酸の代りに、フェニルホスホン酸
(実施例2)、ナフチルリン酸(実施例3)、フェニル
ホスフィン酸(実施例4)、ジフェニルホスフィン酸(
実施例5)を用いた下塗り液を20mg/m2 基板A
に塗布した支持体を作製した。
15mmの2S材アルミニウム板を80℃に保たれた第
三リン酸ナトリウムの10%水溶液に30秒間浸漬して
脱脂し、パミススラリーをアルミニウム板上に流しなが
らナイロンブラッシで砂目立て後、60℃のアルミン酸
ナトリウム水溶液中で10秒間エッチングし、引続き硫
酸水素ナトリウム3%水溶液で洗滌した。このアルミニ
ウム板を20%硫酸中で電流密度2A/dm2 におい
て2分間陽極酸化し、その後、70℃の2.5%ケイ酸
ナトリウム水溶液で1分間処理し、アルミニウム板支持
体Aを作製した。このように処理された基板Aの表面に
、下記組成の下塗り液(I)を塗布し90℃1分間乾燥
した。乾燥後の被覆量は20mg/m2 であった。 (I) フェニルリン酸 0.1g
……実施例1 メタノール 95g水
5g同様にして下塗り液
(I)のフェニルリン酸の代りに、フェニルホスホン酸
(実施例2)、ナフチルリン酸(実施例3)、フェニル
ホスフィン酸(実施例4)、ジフェニルホスフィン酸(
実施例5)を用いた下塗り液を20mg/m2 基板A
に塗布した支持体を作製した。
【0052】一方比較のために下塗り液を塗布してない
支持体(比較例1)を作製した。またさらに比較のため
に、支持体Aで陽極酸化処理までしたものに(I)液を
塗布した支持体(比較例2)も作製した。また(I)液
を塗布しない支持体も使用した(比較例3)。このよう
にして作製した基板に下記に示す感光液を塗布した。 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリド
とのエステル化物(エステル化率:90mol %)
0.47重量部
フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子量:2
300)
1.15重量
部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(
トリクロロメチル)−s−トリアジン
0.02重量部ナフトキノン−1
,2−ジアジド−4−スルホニルクロリド
0.01重量部 エチル
バイオレット(保土谷化学(株)の染料)
0.016重量部メガファックF−177(大日本イン
キ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)
0.004重量
部 メチルエチルケトン
12
重量部 メタノール
4重量部 エチレンジクロリド
4重量部 塗布乾燥重量は2.1
g/m2 であった。
支持体(比較例1)を作製した。またさらに比較のため
に、支持体Aで陽極酸化処理までしたものに(I)液を
塗布した支持体(比較例2)も作製した。また(I)液
を塗布しない支持体も使用した(比較例3)。このよう
にして作製した基板に下記に示す感光液を塗布した。 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンとナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニルクロリド
とのエステル化物(エステル化率:90mol %)
0.47重量部
フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分子量:2
300)
1.15重量
部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(
トリクロロメチル)−s−トリアジン
0.02重量部ナフトキノン−1
,2−ジアジド−4−スルホニルクロリド
0.01重量部 エチル
バイオレット(保土谷化学(株)の染料)
0.016重量部メガファックF−177(大日本イン
キ化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)
0.004重量
部 メチルエチルケトン
12
重量部 メタノール
4重量部 エチレンジクロリド
4重量部 塗布乾燥重量は2.1
g/m2 であった。
【0053】この感光性平版印刷版を30アンペアのカ
ーボンアーク灯で70cmの距離から45秒間画像露光
し、次に示す組成の現像液を用いて自動現像機にて25
℃で30秒間現像した。 原液(1:4に水で希釈して使用する)
水
75重量部 炭酸水素カリウム
3.5重量部 炭酸カリウム
7重量部 ペレック
スNBL(花王アトラス(株)製)
20重量部 フェニルセルソルブ
2重量部
ーボンアーク灯で70cmの距離から45秒間画像露光
し、次に示す組成の現像液を用いて自動現像機にて25
℃で30秒間現像した。 原液(1:4に水で希釈して使用する)
水
75重量部 炭酸水素カリウム
3.5重量部 炭酸カリウム
7重量部 ペレック
スNBL(花王アトラス(株)製)
20重量部 フェニルセルソルブ
2重量部
【0054】このように現像し
た後、十分水洗し、消去液にて不要部を消去し、ガム引
きしたのち、常法の手順で印刷した。この時の修正跡汚
れと、非画像部の残色の結果と、耐刷力の結果を表1に
示した。表1の結果から、本発明による感光性平版印刷
版は、比較例に比べて、残色、汚れ、耐刷力のいずれも
充分な性能であることがわかる。
た後、十分水洗し、消去液にて不要部を消去し、ガム引
きしたのち、常法の手順で印刷した。この時の修正跡汚
れと、非画像部の残色の結果と、耐刷力の結果を表1に
示した。表1の結果から、本発明による感光性平版印刷
版は、比較例に比べて、残色、汚れ、耐刷力のいずれも
充分な性能であることがわかる。
【0055】
〔第1表〕
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━
支 持 体
印刷時 残色*1 耐刷力
陽極 親水 下塗り
の修正 (枚数)
酸化 化処
跡汚れ
処理 理 ━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例
1 あり あり フェニルリン酸
なし 0.01 10万
〃 2 あり あり フェニルホス
ホン酸 なし 0.02
10万 〃 3 あり あり
ナフチルリン酸 なし 0.
01 10万 〃 4 あり
あり フェニルホスフィン 酸 なし
0.02 10万 〃 5
あり あり シ゛フェニルホスフィン酸
なし 0.01 10万
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━ 比較例1 あり あり
なし ヤヤアリ
0.04 1万以下 〃 2 あ
り なし フェニルリン酸 あ
り 0.07 8万 〃
3 あり なし なし
アリ(地汚) 0.15 12万
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━ *1)現像後の非画像部の濃度
と塗布前の支持体の濃度の差(△D)で表示
した。
━━━━━━━━━━━
支 持 体
印刷時 残色*1 耐刷力
陽極 親水 下塗り
の修正 (枚数)
酸化 化処
跡汚れ
処理 理 ━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例
1 あり あり フェニルリン酸
なし 0.01 10万
〃 2 あり あり フェニルホス
ホン酸 なし 0.02
10万 〃 3 あり あり
ナフチルリン酸 なし 0.
01 10万 〃 4 あり
あり フェニルホスフィン 酸 なし
0.02 10万 〃 5
あり あり シ゛フェニルホスフィン酸
なし 0.01 10万
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━ 比較例1 あり あり
なし ヤヤアリ
0.04 1万以下 〃 2 あ
り なし フェニルリン酸 あ
り 0.07 8万 〃
3 あり なし なし
アリ(地汚) 0.15 12万
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━ *1)現像後の非画像部の濃度
と塗布前の支持体の濃度の差(△D)で表示
した。
【0056】<実施例6〜10、比較例4〜6>厚さ0
.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウ
ムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗後20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。これ
をVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流
を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さ
を測定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。ひ
きつづいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し5
5℃で2分間デスマットした後、20%H2 SO4
水溶液中、電流密度2A/dm2 において厚さが2.
7g/m2 になるように陽極酸化し、その後70℃の
2.5%ケイ酸カリウム水溶液で30秒間処理し、アル
ミニウム支持体Bを作製した。このように処理された基
板Bの表面に、実施例1〜5、比較例1〜3と同様の下
塗りを施した。このようにして作製した基板に下記に示
す感光液を塗布した。
.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウ
ムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗後20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。これ
をVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流
を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さ
を測定したところ、0.6μ(Ra表示)であった。ひ
きつづいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し5
5℃で2分間デスマットした後、20%H2 SO4
水溶液中、電流密度2A/dm2 において厚さが2.
7g/m2 になるように陽極酸化し、その後70℃の
2.5%ケイ酸カリウム水溶液で30秒間処理し、アル
ミニウム支持体Bを作製した。このように処理された基
板Bの表面に、実施例1〜5、比較例1〜3と同様の下
塗りを施した。このようにして作製した基板に下記に示
す感光液を塗布した。
【0057】
1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロ
リドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(
米国特許第3,635,709 号明細書の実施例1に
記載されているもの)
0.45g クレゾール
−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ/パラ比、6
対4、重量平均分子量3,000 、数平均分子量1,
100)
1.1g 4−
〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイルアミノフェニル
〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジ
ン
0.02g テトラヒドロ無水
フタル酸
0.05g ビクトリアピュアブルー
BOH(保土谷化学(株)製) 0.02g メガ
ファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性
剤)0.006g メチルエチルケトン
15g 1−メトキシ−2−プロパノール
1
5gこのようにして作られた感光性平版印刷版を、真空
焼枠中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離
から3kwのメタルハライドランプにより、50秒間露
光を行なったのち、SiO2 /K2 Oのモル比が1
.5の珪酸カリウムの4.5%水溶液(pH=12.9
)で現像した。
リドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(
米国特許第3,635,709 号明細書の実施例1に
記載されているもの)
0.45g クレゾール
−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ/パラ比、6
対4、重量平均分子量3,000 、数平均分子量1,
100)
1.1g 4−
〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイルアミノフェニル
〕−2,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジ
ン
0.02g テトラヒドロ無水
フタル酸
0.05g ビクトリアピュアブルー
BOH(保土谷化学(株)製) 0.02g メガ
ファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性
剤)0.006g メチルエチルケトン
15g 1−メトキシ−2−プロパノール
1
5gこのようにして作られた感光性平版印刷版を、真空
焼枠中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離
から3kwのメタルハライドランプにより、50秒間露
光を行なったのち、SiO2 /K2 Oのモル比が1
.5の珪酸カリウムの4.5%水溶液(pH=12.9
)で現像した。
【0058】このように現像した後、十分水洗し、ガム
引きしたのち、実施例1〜5、比較例1〜3と同様の手
順で印刷した。表2にその結果を示す。本発明による印
刷版は比較例と比べて優れたものであることがわかる。
引きしたのち、実施例1〜5、比較例1〜3と同様の手
順で印刷した。表2にその結果を示す。本発明による印
刷版は比較例と比べて優れたものであることがわかる。
【0059】
〔第2表〕
Claims (1)
- 【請求項1】 陽極酸化処理し、その後に親水化処理
を施したアルミニウム板上に、R1(PO(OH)2
)n またはR1 −(PO(OH)(R2 ))n
で表される置換または無置換の脂肪族化合物または芳香
族化合物(nは1または2であり、nが1のとき、R1
、R2 は置換または無置換のアルキル基、アルコキ
シ基、アリーロキシ基、アリール基、アシル基、アシロ
キシ基を表し、nが2のときR1 は置換または無置換
のアルキレン基またはアリーレン基を表し、R2 は前
記定義のとおりである)からなる化合物群より選ばれた
少くとも1種の化合物を含む有機層を設け、その上にo
−キノンジアジド化合物及び有機高分子重合体を含むポ
ジ型感光層を設けたことを特徴とする感光性平版印刷版
。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4693291A JP2709535B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 感光性平版印刷版 |
US07/827,452 US5254430A (en) | 1991-01-31 | 1992-01-29 | Presensitized plate having anodized aluminum substrate, hydrophilic layer containing phosphonic or phosphinic compound and photosensitive layer containing O-quinone diazide compound |
DE69219175T DE69219175T2 (de) | 1991-01-31 | 1992-01-30 | Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
EP92101561A EP0497351B1 (en) | 1991-01-31 | 1992-01-30 | Presensitized plate for use in making lithographic printing plate |
US07/848,854 US5230988A (en) | 1991-03-12 | 1992-03-10 | Method of making lithographic printing plate |
DE69202888T DE69202888T2 (de) | 1991-03-12 | 1992-03-11 | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte. |
EP92104199A EP0503602B1 (en) | 1991-03-12 | 1992-03-11 | Method of making lithographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4693291A JP2709535B2 (ja) | 1991-03-12 | 1991-03-12 | 感光性平版印刷版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04282637A true JPH04282637A (ja) | 1992-10-07 |
JP2709535B2 JP2709535B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=12761099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4693291A Expired - Fee Related JP2709535B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-03-12 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2709535B2 (ja) |
Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0770911A1 (en) | 1995-10-23 | 1997-05-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive sheet having aluminum alloy support and silver halide light-sensitive material using the same |
EP1625944A1 (en) | 2004-08-13 | 2006-02-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP1629975A1 (en) | 2004-08-27 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor and method of making planographic printing plate |
EP1701213A2 (en) | 2005-03-08 | 2006-09-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
EP1705002A1 (en) | 2005-03-23 | 2006-09-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor and plate-making method thereof |
EP1708025A1 (en) | 2005-03-25 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1707353A2 (en) | 2005-03-29 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate precursor having an image-recording layer containing and infrared ray absorbent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a thiol compound |
EP1710627A1 (en) | 2005-03-28 | 2006-10-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
EP1757984A1 (en) | 2005-08-22 | 2007-02-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
EP1930770A2 (en) | 2006-12-07 | 2008-06-11 | FUJIFILM Corporation | Imaging recording material and novel compound |
EP1975707A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-01 | Fujifilm Corporation | Curable composition and planographic printing plate precursor |
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EP2042306A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor and method of producing a copolymer used therein |
EP2042309A2 (en) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Method of producing a negative planographic printing plate |
EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
EP2110261A2 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-21 | FUJIFILM Corporation | Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, ligthographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support |
EP2145772A2 (en) | 2008-07-16 | 2010-01-20 | FUJIFILM Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support and presensitized plate |
EP2204698A1 (en) | 2009-01-06 | 2010-07-07 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic princting plate and method for treating lithographic printing plate |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
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