JPH04281231A - 光集束光学系 - Google Patents
光集束光学系Info
- Publication number
- JPH04281231A JPH04281231A JP2340265A JP34026590A JPH04281231A JP H04281231 A JPH04281231 A JP H04281231A JP 2340265 A JP2340265 A JP 2340265A JP 34026590 A JP34026590 A JP 34026590A JP H04281231 A JPH04281231 A JP H04281231A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- optical
- laser beam
- optical system
- plane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 95
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1356—Double or multiple prisms, i.e. having two or more prisms in cooperation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1362—Mirrors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1372—Lenses
- G11B2007/13727—Compound lenses, i.e. two or more lenses co-operating to perform a function, e.g. compound objective lens including a solid immersion lens, positive and negative lenses either bonded together or with adjustable spacing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、光ディスク装置における光学系の改良に関
する。
する。
(従来の技術)
従来光ディスク装置においては、情報を読み出す際、
或は、情報を書き込む際には、対物レンズが合焦状態に
維持され、光源からのレーザービームが対物レンズによ
り集光されて光ディスクに照射される。
或は、情報を書き込む際には、対物レンズが合焦状態に
維持され、光源からのレーザービームが対物レンズによ
り集光されて光ディスクに照射される。
(発明が解決しようとする課題)
従来の光ディスク装置では、レーザービームが対物レ
ンズにより集光されるが、集光されたレーザービームは
、対物レンズ及び光ビームの波長で定まる回折限界以上
に絞れないと言う問題があり、より高密度での記録及び
再生に限界があるとされている。
ンズにより集光されるが、集光されたレーザービームは
、対物レンズ及び光ビームの波長で定まる回折限界以上
に絞れないと言う問題があり、より高密度での記録及び
再生に限界があるとされている。
この発明は、レーザービームを光ディスク上でより小さ
く絞ることができる光集束光学系を提供することを目的
とする。
く絞ることができる光集束光学系を提供することを目的
とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明によれば、上記課題を解決するために、光源と
、光源を出た光ビームを分割する手段と、分割された光
ビームの少なくとも一方の特性を変化させる手段と、再
度光ビームを合成する手段と、光を集光する手段を具備
した集束光学系が提供される。
、光源を出た光ビームを分割する手段と、分割された光
ビームの少なくとも一方の特性を変化させる手段と、再
度光ビームを合成する手段と、光を集光する手段を具備
した集束光学系が提供される。
(作用)
光ビームを2分割し、一方の光ビームは、光ディスク上
で通常の集光パターンを形成させる。他方の光ビームに
対して特性を変化させて光ディスク上で中心強度が比較
的小さく、しかもより広がりを持った集光パターンを描
くように工夫する。
で通常の集光パターンを形成させる。他方の光ビームに
対して特性を変化させて光ディスク上で中心強度が比較
的小さく、しかもより広がりを持った集光パターンを描
くように工夫する。
さらに光ディスク上で二つの光の位相差をλ/2だけず
らして光ビームの干渉を利用することにより集光パター
ンの周辺部の光量を減小させる。その結果、実質的に集
光スポットサイズを小さくすることができる。
らして光ビームの干渉を利用することにより集光パター
ンの周辺部の光量を減小させる。その結果、実質的に集
光スポットサイズを小さくすることができる。
(実施例)
第1図は、この発明の光ディスク装置の一実施例を示し
ている。第2A図から第4B図は、第1図に示した光デ
ィスク装置の基本原理を説明する為の説明図をである。
ている。第2A図から第4B図は、第1図に示した光デ
ィスク装置の基本原理を説明する為の説明図をである。
第2A図から第4B図を参照してこの発明の基本原理に
ついて説明し、更に第1図を参照して具体的な光学系に
ついて説明する。第2A図に示されるように略平面の等
位相面41を有するレーザービーム3が対物レンズ7を
通過して集束されると、合焦時には、情報記憶媒体の記
録層40上に第2B図に示されるような中心にピークを
有するある振幅分布51を有するビームスポットが形成
される。平面の等位相面41を有するレーザービームが
第3A図に示されるような高さhの段差を有する光反射
面43によって反射されると、反射直後のレーザービー
ム3の等位相面には、局部的に距離dだけずれが生じる
。
ついて説明し、更に第1図を参照して具体的な光学系に
ついて説明する。第2A図に示されるように略平面の等
位相面41を有するレーザービーム3が対物レンズ7を
通過して集束されると、合焦時には、情報記憶媒体の記
録層40上に第2B図に示されるような中心にピークを
有するある振幅分布51を有するビームスポットが形成
される。平面の等位相面41を有するレーザービームが
第3A図に示されるような高さhの段差を有する光反射
面43によって反射されると、反射直後のレーザービー
ム3の等位相面には、局部的に距離dだけずれが生じる
。
このレーザービーム3を対物レンズ7により集光すると
、ずれ量dの値がλ/2(ここで、レーザービーム3の
波長をλとする。)の時、情報記憶媒体の記録層40上
には、第3B図に示されるような振幅分布52を有する
ビームスポットが形成される。
、ずれ量dの値がλ/2(ここで、レーザービーム3の
波長をλとする。)の時、情報記憶媒体の記録層40上
には、第3B図に示されるような振幅分布52を有する
ビームスポットが形成される。
ここで、レーザービーム3の入射側から見た、ビーム断
面方向での光反射面43の段差の形状は、ストライプ形
でも良く、また、同心円状や楕円形状であっても良い。
面方向での光反射面43の段差の形状は、ストライプ形
でも良く、また、同心円状や楕円形状であっても良い。
第2B図及び第3B図に示されるいずれの振幅分布51
、52を有する光ビームにあっても合焦時情報記憶媒体
の記録層40上では、等位相面は平面となる。
、52を有する光ビームにあっても合焦時情報記憶媒体
の記録層40上では、等位相面は平面となる。
第4A図に示されるように2つの光ビームの振幅分布5
1、52を同一点状に重ねると互いに干渉し合うことと
なる。特に、このとき両者の位相をλ/2だけずらすと
、光ビームの振幅分布が互いに相殺し合うように干渉さ
れる。その結果、第4B図に示すように光ビームの振幅
分布51の周辺部が除かれ、光ビームの振幅分布51に
比べより幅の狭い光ビームの振幅分布53を有する集光
ビームスポットが形成される。
1、52を同一点状に重ねると互いに干渉し合うことと
なる。特に、このとき両者の位相をλ/2だけずらすと
、光ビームの振幅分布が互いに相殺し合うように干渉さ
れる。その結果、第4B図に示すように光ビームの振幅
分布51の周辺部が除かれ、光ビームの振幅分布51に
比べより幅の狭い光ビームの振幅分布53を有する集光
ビームスポットが形成される。
通常、レーザービーム3が対物レンズ7で集光されると
光ビームの回折の影響で集光点のスポットは、第2B図
に示すように広がりを持つて形成される。従って、従来
の技術では、光ビームを回折限界以上に絞るのは不可能
と考えられていた。
光ビームの回折の影響で集光点のスポットは、第2B図
に示すように広がりを持つて形成される。従って、従来
の技術では、光ビームを回折限界以上に絞るのは不可能
と考えられていた。
これに対し、第4A図に示すように2つの光ビームの干
渉を利用することによってよりスポットサイズの小さな
集光スポットを形成することができる。
渉を利用することによってよりスポットサイズの小さな
集光スポットを形成することができる。
このように2つの光ビームの干渉を利用してスポットサ
イズを微小化させることができるこの発明の集束光学系
の実施例を第1図を参照して説明する。
イズを微小化させることができるこの発明の集束光学系
の実施例を第1図を参照して説明する。
第1図に示される光学系においては、半導体レーザー素
子1から発生したレーザービーム3は、コリメートレン
ズ2を通過してその等位相面が平面に変換される。この
レーザービーム3は、λ/2板23を通過して三角柱状
のプリズム部材58に向けられる。このレーザービーム
3は、その電場の振動方向がλ/2板23によって適切
に所定の方向に回転される。プリズム部材58内におい
ては、レーザービームのS波成分は、偏光ビームスプリ
ット面14で反射されて検光子54に向けられ、レーザ
ービームのP波成分は、その偏光ビームスプリット面1
4を通過して光学特性を変化させる変化手段57へ向け
られる。光学特性変化手段57は、第一の平面55及び
この第一の平面55に対して特定の段差を有する第二の
平面56を有し、この二つの平面でP波成分のレーザー
ビーム3が全反射される。このP波成分のレーザービー
ム3の等位相面は、全反射することにより平面状態から
局所的に段差を有する状態に変化される。第二の平面5
6から見た第一の平面55の形状は、既に述べたように
ストライプ状でもよいし、楕円形状または円状でも良い
。
子1から発生したレーザービーム3は、コリメートレン
ズ2を通過してその等位相面が平面に変換される。この
レーザービーム3は、λ/2板23を通過して三角柱状
のプリズム部材58に向けられる。このレーザービーム
3は、その電場の振動方向がλ/2板23によって適切
に所定の方向に回転される。プリズム部材58内におい
ては、レーザービームのS波成分は、偏光ビームスプリ
ット面14で反射されて検光子54に向けられ、レーザ
ービームのP波成分は、その偏光ビームスプリット面1
4を通過して光学特性を変化させる変化手段57へ向け
られる。光学特性変化手段57は、第一の平面55及び
この第一の平面55に対して特定の段差を有する第二の
平面56を有し、この二つの平面でP波成分のレーザー
ビーム3が全反射される。このP波成分のレーザービー
ム3の等位相面は、全反射することにより平面状態から
局所的に段差を有する状態に変化される。第二の平面5
6から見た第一の平面55の形状は、既に述べたように
ストライプ状でもよいし、楕円形状または円状でも良い
。
三角柱プリズム58の光ビームの射出面には、検光子5
4が配置されている。この検光子54は、ゼラチン等の
異方性フィルムにより形成され、或は、偏光ビームスプ
リット膜14が形成されている面に対してねじれの関係
に配置される平面を有する偏光ビームスプリッターによ
り構成されている。そして、この検光子54は、特定の
偏光方向を有する光ビームのみを通過させる働きを備え
ている。従って、この検光子54をS波及びP波成分の
いずれをもある割合で、例えば、略均等に透過させるよ
うに配置することによって偏光ビームスプリット膜14
でS波とP波に分離されたレーザービーム3が再びこの
検光子54で再び合成される。
4が配置されている。この検光子54は、ゼラチン等の
異方性フィルムにより形成され、或は、偏光ビームスプ
リット膜14が形成されている面に対してねじれの関係
に配置される平面を有する偏光ビームスプリッターによ
り構成されている。そして、この検光子54は、特定の
偏光方向を有する光ビームのみを通過させる働きを備え
ている。従って、この検光子54をS波及びP波成分の
いずれをもある割合で、例えば、略均等に透過させるよ
うに配置することによって偏光ビームスプリット膜14
でS波とP波に分離されたレーザービーム3が再びこの
検光子54で再び合成される。
検光子54で合成されたレーザビームは、良く知られる
ようにビームスプリッタ15及び1/4λ板16を透過
して対物レンズ7によって情報記録媒体、即ち光ディス
ク18の記録面40に集束される。この時、光ディスク
上には、ビームスポットが形成されるが、このビームス
ポットの大きさは、第2A図及び第2B図を参照して説
明したように波面が揃えられたレーザービームが集光さ
れる場合に比して第3A図及び第3B図及び第4A図及
び第4B図を参照して説明したようにより微少なビーム
スポットが形成され、光ディスク18上に記録される情
報の記録密度を向上させることができる。
ようにビームスプリッタ15及び1/4λ板16を透過
して対物レンズ7によって情報記録媒体、即ち光ディス
ク18の記録面40に集束される。この時、光ディスク
上には、ビームスポットが形成されるが、このビームス
ポットの大きさは、第2A図及び第2B図を参照して説
明したように波面が揃えられたレーザービームが集光さ
れる場合に比して第3A図及び第3B図及び第4A図及
び第4B図を参照して説明したようにより微少なビーム
スポットが形成され、光ディスク18上に記録される情
報の記録密度を向上させることができる。
光ディスク18から反射された発散性のレーザービーム
は、対物レンズ7で集光されて合焦時には、平行ビーム
に変換され、再び1/4λ板16を通過して偏光ビーム
スプリッタ15に戻され、偏光ビームスプリッタ15の
偏光面13で反射される。反射されたレーザービームは
、集光レンズ19で集光され、シリンドリカルレンズ2
0でレーザービームに非点収差が与えられて検出器21
に照射され、対物レンズ7の合焦状態が検出される。こ
の集光レンズ19及びシリンドリカルレンズ20の組み
合せは、いわゆる、焦点検出検出方法における非点収差
法として知られている。明らかなように、この実施例で
は、非点収差法が説明されているが、光学的情報記録再
生装置の光学系の焦点検出方法として他の焦点検出方法
、例えば、ナイフエッジ法等が採用されても良い。
は、対物レンズ7で集光されて合焦時には、平行ビーム
に変換され、再び1/4λ板16を通過して偏光ビーム
スプリッタ15に戻され、偏光ビームスプリッタ15の
偏光面13で反射される。反射されたレーザービームは
、集光レンズ19で集光され、シリンドリカルレンズ2
0でレーザービームに非点収差が与えられて検出器21
に照射され、対物レンズ7の合焦状態が検出される。こ
の集光レンズ19及びシリンドリカルレンズ20の組み
合せは、いわゆる、焦点検出検出方法における非点収差
法として知られている。明らかなように、この実施例で
は、非点収差法が説明されているが、光学的情報記録再
生装置の光学系の焦点検出方法として他の焦点検出方法
、例えば、ナイフエッジ法等が採用されても良い。
第1図及び第5図に示される光学特性変化手段57の二
つの平面55、56は、エッチング法によっても作成す
ることができるが、この実施例では、次のようにリフト
オフ法により作成される。
つの平面55、56は、エッチング法によっても作成す
ることができるが、この実施例では、次のようにリフト
オフ法により作成される。
即ち、直角部分を有する三角柱プリズム58の直角部分
と対向する面に偏光ビームスプリット膜14が形成され
る。次に、反射後のS波とP波(但しここで言うP波と
は、第二の平面56のみで反射したレーザービームでは
なく、第一の平面55と第二の平面56でそれぞれ反射
した後、互いに干渉し合って合成されたレーザービーム
を言う。)の位相がλ/2だけずれるような厚みを持っ
た透明膜をその上に均一に積層し、第二の平面56とす
る。その上にフォトレジスト層を形成後、ストライプ・
楕円・円形等のマスクをかぶせて露光し、現像する。こ
の結果、第一の平面55が形成されるプリズム58の領
域は、露出され、第二の平面56に相当する領域は、フ
ォトレジスト層が残ったままになる。露出された領域上
に特定の厚みを有する先に形成したと同一の透明膜を形
成して第一の平面55を形成し、その後フォトレジスト
層を除去して第二の平面56を露出させる。二つの平面
55、56でレーザービームを全反射させることができ
るのでさらに光反射膜を形成する必要がない。
と対向する面に偏光ビームスプリット膜14が形成され
る。次に、反射後のS波とP波(但しここで言うP波と
は、第二の平面56のみで反射したレーザービームでは
なく、第一の平面55と第二の平面56でそれぞれ反射
した後、互いに干渉し合って合成されたレーザービーム
を言う。)の位相がλ/2だけずれるような厚みを持っ
た透明膜をその上に均一に積層し、第二の平面56とす
る。その上にフォトレジスト層を形成後、ストライプ・
楕円・円形等のマスクをかぶせて露光し、現像する。こ
の結果、第一の平面55が形成されるプリズム58の領
域は、露出され、第二の平面56に相当する領域は、フ
ォトレジスト層が残ったままになる。露出された領域上
に特定の厚みを有する先に形成したと同一の透明膜を形
成して第一の平面55を形成し、その後フォトレジスト
層を除去して第二の平面56を露出させる。二つの平面
55、56でレーザービームを全反射させることができ
るのでさらに光反射膜を形成する必要がない。
第1図及び第5図に示される光学系においては、レーザ
ービームが対物レンズ7を通過した後、情報記憶媒体、
即ち、光ディスク18上に最小のスポット形状を形成す
るためには合成時の二つのレーザービームの光振幅比を
適正に合わせる必要がある。そのため光学系の組立調整
時には、λ/2板23が回転可能に支持され、S波とP
波の振幅比がこのλ/2板23の回転により適切に変化
される。
ービームが対物レンズ7を通過した後、情報記憶媒体、
即ち、光ディスク18上に最小のスポット形状を形成す
るためには合成時の二つのレーザービームの光振幅比を
適正に合わせる必要がある。そのため光学系の組立調整
時には、λ/2板23が回転可能に支持され、S波とP
波の振幅比がこのλ/2板23の回転により適切に変化
される。
第1図に示される光集束光学系は、比較的構成が簡単で
比較的安価に作成できる。従って、第5図に示されるよ
うに情報記録再生光学系に第1図に示される光集束光学
系を組み込んだ場合にあっても、従来の光学系に対しそ
れ程光学系が大きくなることもなく、しかも高価になる
こともない。
比較的安価に作成できる。従って、第5図に示されるよ
うに情報記録再生光学系に第1図に示される光集束光学
系を組み込んだ場合にあっても、従来の光学系に対しそ
れ程光学系が大きくなることもなく、しかも高価になる
こともない。
本発明の基本原理を採用した応用例に係る光学系を第6
図に示す。この応用例に係る光学系は、第5図の光学系
に比べて簡略化した有している。
図に示す。この応用例に係る光学系は、第5図の光学系
に比べて簡略化した有している。
光学ヘッドは一般的に薄型化するために、光路を曲げて
光ビームを対物レンズへ向かわせる立ち上げミラーが組
み込まれる光学系か多く採用されている。第6図の光学
系では、立ち上げミラーとしての機能をも有する光学特
性変化手段57が採用されている。また、この光学特性
変化手段57では、第5図に示される偏光ビームスプリ
ット面14に代えてハーフミラー面12が採用されてい
る。
光ビームを対物レンズへ向かわせる立ち上げミラーが組
み込まれる光学系か多く採用されている。第6図の光学
系では、立ち上げミラーとしての機能をも有する光学特
性変化手段57が採用されている。また、この光学特性
変化手段57では、第5図に示される偏光ビームスプリ
ット面14に代えてハーフミラー面12が採用されてい
る。
このハーフミラー面12は、ここで二つの光ビームに分
割される振幅比が一定になるように光透過率及び光反射
率が設定されている。また、第6図に示される光学特性
変化手段においては、第5図に示される光学特性変化手
段とは、異なり、ハーフミラー面12を通過したレーザ
ービームは、全反射されず、ハーフコート層44で反射
される。
割される振幅比が一定になるように光透過率及び光反射
率が設定されている。また、第6図に示される光学特性
変化手段においては、第5図に示される光学特性変化手
段とは、異なり、ハーフミラー面12を通過したレーザ
ービームは、全反射されず、ハーフコート層44で反射
される。
このハーフコート層44の光反射率を比較的低く設定す
ることにより、ハーフミラー面12とハーフコート層4
4との間で複数回反射されて迷光ビームとして情報記憶
媒体8に達する光ビームを十分に減少させることができ
る。このハーフコート層44は、接着層45を介して三
角柱プリズム46に接合されている。
ることにより、ハーフミラー面12とハーフコート層4
4との間で複数回反射されて迷光ビームとして情報記憶
媒体8に達する光ビームを十分に減少させることができ
る。このハーフコート層44は、接着層45を介して三
角柱プリズム46に接合されている。
この第6図に示される光学系においては、半導体レーザ
ー素子1から発生したレーザービーム3は、コリメート
レンズ2を通過してその等位相面が平面に変換され、ビ
ームスプリッタ15を通過して三角柱状のプリズム部材
46に向けられる。
ー素子1から発生したレーザービーム3は、コリメート
レンズ2を通過してその等位相面が平面に変換され、ビ
ームスプリッタ15を通過して三角柱状のプリズム部材
46に向けられる。
プリズム部材46においては、その表面のハーフミラー
12でレーザービームの一部が反射され、他の部分がこ
のハーフミラー12を通過してハーフコート層44に向
けられる。このハーフコート層44は、第一の平面55
及びこの第一の平面55に対して特定の段差を有する第
二の平面56を有することから、レーザービーム3の等
位相面は、反射される際にその波面が平面状態から局所
的に段差を有する状態に変化される。このハーフコート
層44で反射されたレーザービーム3は、ハーフミラー
面12を通過する際、このハーフミラー面12で反射さ
れるレーザービームと干渉され、干渉が生じたレーザー
ビームは、対物レンズ7で集束されて情報記録媒体18
に集光される。情報記録媒体18上に集光されるレーザ
ービームは、第2A図、第2B図、第3A図及び第3B
図を参照して説明したように微少なビームスポットを形
成することとなる。
12でレーザービームの一部が反射され、他の部分がこ
のハーフミラー12を通過してハーフコート層44に向
けられる。このハーフコート層44は、第一の平面55
及びこの第一の平面55に対して特定の段差を有する第
二の平面56を有することから、レーザービーム3の等
位相面は、反射される際にその波面が平面状態から局所
的に段差を有する状態に変化される。このハーフコート
層44で反射されたレーザービーム3は、ハーフミラー
面12を通過する際、このハーフミラー面12で反射さ
れるレーザービームと干渉され、干渉が生じたレーザー
ビームは、対物レンズ7で集束されて情報記録媒体18
に集光される。情報記録媒体18上に集光されるレーザ
ービームは、第2A図、第2B図、第3A図及び第3B
図を参照して説明したように微少なビームスポットを形
成することとなる。
この発明の原理を用いた他の応用例を第7図を参照して
説明する。第1図に示される光学特性変化手段57では
、第一の平面55が第二の平面56に挟まれ、しかもそ
れぞれの面で反射した光ビームの位相がλ/2だけずれ
るように段差hを有している。然ながら、第7図に示さ
れる光学特性変化手段61では、中心線を境に第一の平
面59と第二の平面60が分割配置され、しかもそれぞ
れの平面で反射したレーザービームの位相がλ/4だけ
ずれるように段差hが設けられている。
説明する。第1図に示される光学特性変化手段57では
、第一の平面55が第二の平面56に挟まれ、しかもそ
れぞれの面で反射した光ビームの位相がλ/2だけずれ
るように段差hを有している。然ながら、第7図に示さ
れる光学特性変化手段61では、中心線を境に第一の平
面59と第二の平面60が分割配置され、しかもそれぞ
れの平面で反射したレーザービームの位相がλ/4だけ
ずれるように段差hが設けられている。
第7図に示される光学特性変化手段61では、偏光ビー
ムスプリット面14で反射したレーザービームは、情報
記憶媒体18上に第8A図に示される光振幅分布62を
形成する。これに対し光学特性変化手段61で反射した
レーザービームは、情報記憶媒体18上に第8A図に破
線で示すような光振幅分布63を形成する。この振幅分
布63は、第一の平面59と第二の平面60を分割する
中心線に対応する中心線に関して非対称なパターンを有
している。また、情報記憶媒体18上で二つの光振幅分
布62、63の位相をλ/2ずらすように設定すると、
互いに干渉して合って互いに重る部分が相殺され第8B
図に示すような光振幅分布64が形成される。第8B図
に示される振幅分布から明らかなように単にレーザービ
ームを対物レンズ7で集光した場合に比して比較的小さ
なビームスポットを形成することができる。
ムスプリット面14で反射したレーザービームは、情報
記憶媒体18上に第8A図に示される光振幅分布62を
形成する。これに対し光学特性変化手段61で反射した
レーザービームは、情報記憶媒体18上に第8A図に破
線で示すような光振幅分布63を形成する。この振幅分
布63は、第一の平面59と第二の平面60を分割する
中心線に対応する中心線に関して非対称なパターンを有
している。また、情報記憶媒体18上で二つの光振幅分
布62、63の位相をλ/2ずらすように設定すると、
互いに干渉して合って互いに重る部分が相殺され第8B
図に示すような光振幅分布64が形成される。第8B図
に示される振幅分布から明らかなように単にレーザービ
ームを対物レンズ7で集光した場合に比して比較的小さ
なビームスポットを形成することができる。
上述した実施例では、二つの光ビームの干渉を利用して
振幅分布の一部を互いに相殺していたが、互いに干渉さ
せて光振幅分布の一部を加算することによりサイズの小
さな集光スポットを形成させることもできる。対物レン
ズ7に入射するレーザービーム3の強度分布、即ち、振
幅分布としてその中心の強度を小さく設定し、その周辺
部の強度を大きくすることによって集光スポットサイズ
を小さくできる。しかしこのような振幅分布では、第9
A図に示すように光振幅分布66としてサイドローブが
大きくなってしまうと問題がある。本発明の応用例とし
てこの光振幅分布66を有するレーザービームにこの光
振幅分布66よりもスポットサイズは大きいが、第9A
図に示すようにサイドローブの小さな光振幅分布65を
有する光ビームを重ね合わせ、しかも互いに強め合うよ
うに位相を合わせることによって、第9B図に示すよう
に光振幅分布66よりもスポットサイズが小さくサイド
ローブが相対的に小さな光振幅分布67を形成させるこ
とができる。
振幅分布の一部を互いに相殺していたが、互いに干渉さ
せて光振幅分布の一部を加算することによりサイズの小
さな集光スポットを形成させることもできる。対物レン
ズ7に入射するレーザービーム3の強度分布、即ち、振
幅分布としてその中心の強度を小さく設定し、その周辺
部の強度を大きくすることによって集光スポットサイズ
を小さくできる。しかしこのような振幅分布では、第9
A図に示すように光振幅分布66としてサイドローブが
大きくなってしまうと問題がある。本発明の応用例とし
てこの光振幅分布66を有するレーザービームにこの光
振幅分布66よりもスポットサイズは大きいが、第9A
図に示すようにサイドローブの小さな光振幅分布65を
有する光ビームを重ね合わせ、しかも互いに強め合うよ
うに位相を合わせることによって、第9B図に示すよう
に光振幅分布66よりもスポットサイズが小さくサイド
ローブが相対的に小さな光振幅分布67を形成させるこ
とができる。
このような光振幅分布を形成することが可能な光学系を
第10図を参照して説明する。第10図に示される光学
系においては、コリメートレンズ2を通過したレーザー
ビーム3の振動面がλ/2板23の回転調整によって適
切な方向に向けられ、2つの光ビームのS波成分及びP
波成分の光振幅比が最適な状態に設定される。S波成分
は、偏光ビームスプリット面14で反射され、ビームス
プリッタ15及び対物レンズ7を通過して情報記憶媒体
上に第9A図に示される光振幅分布65を有するビーム
スポットを形成する。これに対して、P波成分は、偏光
ビームスプリット面14を透過される。偏光ビームスプ
リット面14の後方には、P波成分に対して特定の光路
差を与えるスペース層68と光反射層69が形成され、
接着層45を介して三角柱プリズム46に接合されてい
る。光反射層69はその中心部でストライプ状・円形状
・あるいは楕円形状の大きな欠如領域を有し、その領域
では、レーザービームが三角柱プリズム46中に進入さ
れる。従って偏光ビームスプリット面14を通過したP
波成分のうち周辺部のみが光反射層69で反射される。
第10図を参照して説明する。第10図に示される光学
系においては、コリメートレンズ2を通過したレーザー
ビーム3の振動面がλ/2板23の回転調整によって適
切な方向に向けられ、2つの光ビームのS波成分及びP
波成分の光振幅比が最適な状態に設定される。S波成分
は、偏光ビームスプリット面14で反射され、ビームス
プリッタ15及び対物レンズ7を通過して情報記憶媒体
上に第9A図に示される光振幅分布65を有するビーム
スポットを形成する。これに対して、P波成分は、偏光
ビームスプリット面14を透過される。偏光ビームスプ
リット面14の後方には、P波成分に対して特定の光路
差を与えるスペース層68と光反射層69が形成され、
接着層45を介して三角柱プリズム46に接合されてい
る。光反射層69はその中心部でストライプ状・円形状
・あるいは楕円形状の大きな欠如領域を有し、その領域
では、レーザービームが三角柱プリズム46中に進入さ
れる。従って偏光ビームスプリット面14を通過したP
波成分のうち周辺部のみが光反射層69で反射される。
この光反射層69で反射されたP成分のレーザービーム
は、偏光ビームスプリット面14、ビームスプリッタ1
5及び対物レンズ7を通過して情報記憶媒体上に第9A
図に示される光振幅分布66を有する比較的スポットサ
イズの小さなビームスポットを形成する。従って、P波
成分のレーザービームとS波成分の光ビームは、情報記
録媒体上で加算され、第9B図に示される光振幅分布を
有し、十分に小さなサイズを有するビームスポットが形
成される。
は、偏光ビームスプリット面14、ビームスプリッタ1
5及び対物レンズ7を通過して情報記憶媒体上に第9A
図に示される光振幅分布66を有する比較的スポットサ
イズの小さなビームスポットを形成する。従って、P波
成分のレーザービームとS波成分の光ビームは、情報記
録媒体上で加算され、第9B図に示される光振幅分布を
有し、十分に小さなサイズを有するビームスポットが形
成される。
尚、スペース層68は、偏光ビームスプリット面14上
に酸化物・フッ化物・窒化物などの透明物質を真空蒸着
法やスパッタリング法により積層して形成される。光反
射層69の形成方法は、前述したようにリフトオフ法に
よって形成するほかに、大きな欠如領域に対応したマス
クをかけながら真空蒸着法やスパッタリング法により積
層して形成することができる。振動面が互いに直交する
二つの光ビームを加算する場合には、P波成分とS波成
分の位相がnλ/2(但しnは整数、λは使用レーザー
波長)だけずれて直線偏光光ビームになっている条件の
時が最も二つの光ビームの加算効率が高い。従ってその
条件を満足するようにスペース層68の厚みが設定され
ている。
に酸化物・フッ化物・窒化物などの透明物質を真空蒸着
法やスパッタリング法により積層して形成される。光反
射層69の形成方法は、前述したようにリフトオフ法に
よって形成するほかに、大きな欠如領域に対応したマス
クをかけながら真空蒸着法やスパッタリング法により積
層して形成することができる。振動面が互いに直交する
二つの光ビームを加算する場合には、P波成分とS波成
分の位相がnλ/2(但しnは整数、λは使用レーザー
波長)だけずれて直線偏光光ビームになっている条件の
時が最も二つの光ビームの加算効率が高い。従ってその
条件を満足するようにスペース層68の厚みが設定され
ている。
第10図に示される光学特性変化手段61を対物レンズ
7の直前に配置し、立ち上げミラーと兼用させて光学系
の小型化を計った他の応用例を第11図に示す。第11
図には、第10図に示した箇所或は部分と同一箇所或は
、部分に同一符号を付してその説明を省略する。
7の直前に配置し、立ち上げミラーと兼用させて光学系
の小型化を計った他の応用例を第11図に示す。第11
図には、第10図に示した箇所或は部分と同一箇所或は
、部分に同一符号を付してその説明を省略する。
第12図には、第10図の光学系のλ/2板23とP光
ビームスプリット面14に代えて特定の光反射率と光透
過率を有する光学特性層70を用いた光学系が示されて
いる。光学特性層70で反射したレーザービームと、光
反射層71で反射した後光学特性層70を通過したレー
ザービームの間の位相差をnλに設定することが望まし
い。またこのように設定することにより光学特性層70
と光反射層71との間で多重反射したレーザービームの
位相差もそれぞれλの整数倍だけずれる。
ビームスプリット面14に代えて特定の光反射率と光透
過率を有する光学特性層70を用いた光学系が示されて
いる。光学特性層70で反射したレーザービームと、光
反射層71で反射した後光学特性層70を通過したレー
ザービームの間の位相差をnλに設定することが望まし
い。またこのように設定することにより光学特性層70
と光反射層71との間で多重反射したレーザービームの
位相差もそれぞれλの整数倍だけずれる。
従って、多重反射したレーザービームは、互いに強め合
い情報記憶媒体18上にスポットサイズの小さな集光パ
ターンの一部を形成することになる。
い情報記憶媒体18上にスポットサイズの小さな集光パ
ターンの一部を形成することになる。
第13図には、変形例に係る光学特性変化手段57が示
されている。この光学特性変化手段57は、その基本的
な原理が第4A図及び第4B図を参照して説明したと同
様であって、二つのレーザービームの位相がλ/2ずれ
るようにスペース層68の厚みが設定され、所定のパタ
ーンでミラー面80を形成している。第4A図の説明で
は、光の振幅分布52を作成するための光学特性変化手
段57として第3A図に示すように位相変化を利用して
いるが、第12図に示される光学特性手段57では、特
定のパターンを有するミラー面80を用いて光ビームに
強度分布の変化を生じさせている。即ち、予め、計算機
を用いて情報記憶媒体8上に形成したい集光スポットパ
ターンをフーリエ変換するシミュレーションを実行して
光ビームの強度分布を決定し、この光ビームの強度分布
に対応するミラー面80のパターンを決定している。
されている。この光学特性変化手段57は、その基本的
な原理が第4A図及び第4B図を参照して説明したと同
様であって、二つのレーザービームの位相がλ/2ずれ
るようにスペース層68の厚みが設定され、所定のパタ
ーンでミラー面80を形成している。第4A図の説明で
は、光の振幅分布52を作成するための光学特性変化手
段57として第3A図に示すように位相変化を利用して
いるが、第12図に示される光学特性手段57では、特
定のパターンを有するミラー面80を用いて光ビームに
強度分布の変化を生じさせている。即ち、予め、計算機
を用いて情報記憶媒体8上に形成したい集光スポットパ
ターンをフーリエ変換するシミュレーションを実行して
光ビームの強度分布を決定し、この光ビームの強度分布
に対応するミラー面80のパターンを決定している。
第4A図に示される光ビームの振幅分布52は、第14
A図に示すようなリング状の振幅分布に近い分布を有し
ている。第14B図は、このリングをX−X面で切断し
た振幅分布を表している。この第14A図及び第14B
図の振幅分布に対して計算機シミュレーションによりフ
ーリエ変換を実行すると、第14C図に示すような強度
分布を有するパターン81が得られる。半導体レーザー
素子1から発生され、コリメートレンズ2を通過した直
後のレーザービーム3の強度分布82は、第14D図に
実線で示すようなガウス分布に近い分布を有しているが
、このレーザービーム3を第14E図に示しすような特
定のパターンを有するミラー面80で反射させることに
より第14C図に示されるパターン81を有する光強度
分布とすることができる。特定のパターンを有するミラ
ー面80のパターン形状は、コリメートレンズ2を通過
した直後のレーザービーム3の強度分布82とフーリエ
変換を行ったパターン81から計算機シミュレーション
により求める。このシミュレーション結果から電子ビー
ム露光装置によりマスクパターンを作成し、そのマスク
パターンから前述したリフトオフ法により特定のパター
ンを持ったミラー面80を作ることができる。
A図に示すようなリング状の振幅分布に近い分布を有し
ている。第14B図は、このリングをX−X面で切断し
た振幅分布を表している。この第14A図及び第14B
図の振幅分布に対して計算機シミュレーションによりフ
ーリエ変換を実行すると、第14C図に示すような強度
分布を有するパターン81が得られる。半導体レーザー
素子1から発生され、コリメートレンズ2を通過した直
後のレーザービーム3の強度分布82は、第14D図に
実線で示すようなガウス分布に近い分布を有しているが
、このレーザービーム3を第14E図に示しすような特
定のパターンを有するミラー面80で反射させることに
より第14C図に示されるパターン81を有する光強度
分布とすることができる。特定のパターンを有するミラ
ー面80のパターン形状は、コリメートレンズ2を通過
した直後のレーザービーム3の強度分布82とフーリエ
変換を行ったパターン81から計算機シミュレーション
により求める。このシミュレーション結果から電子ビー
ム露光装置によりマスクパターンを作成し、そのマスク
パターンから前述したリフトオフ法により特定のパター
ンを持ったミラー面80を作ることができる。
[発明の効果]
以上説明したように本発明によれば、情報記憶媒体上
の集光スポットサイズを従来に比べて小さくすることが
でき、情報記憶媒体上の記憶密度を向上させることがで
きる。
の集光スポットサイズを従来に比べて小さくすることが
でき、情報記憶媒体上の記憶密度を向上させることがで
きる。
第1図は、この発明の光ディスク装置の一実施例に係
る光学系を示す概略図、第2A図、第2B図、第3A図
、第3B図、第4A図及び第4B図は、第1図に示した
光ディスク装置の基本原理を説明する為の説明図、第5
図、第6図及び第7図は、第1図に示された光ディスク
装置の光学系の変形例を示す概略図、第8A図及び第8
B図は、第7図に示された光学系における光振幅分布を
示すグラフ、第9A図及び第9B図は、この発明の光デ
ィスク装置の他の実施例に係る光振幅分布を示すグラフ
、第10図は、第9A図及び第9B図に示される光振幅
分布を実現する光学系を示す概略図、第11図、第12
図、及び第13図は、第10図に示された光学系の変形
例を示す概略図、第14A図から第14E図は、第13
図に示された光学系を実現する為のシュミュレーション
で求められた光ビームパターン、光振幅分布及びミラー
面のパターンを示している。 7…対物レンズ、12…ハーフミラー 面、14…偏光ビームスプリット面、18…光ディスク
、44…ハーフコート層、46、58…プリズム、57
…光学特性変化手段、68…スペース層、69、71…
光反射層、70…光学特性層、80…ミラー面
る光学系を示す概略図、第2A図、第2B図、第3A図
、第3B図、第4A図及び第4B図は、第1図に示した
光ディスク装置の基本原理を説明する為の説明図、第5
図、第6図及び第7図は、第1図に示された光ディスク
装置の光学系の変形例を示す概略図、第8A図及び第8
B図は、第7図に示された光学系における光振幅分布を
示すグラフ、第9A図及び第9B図は、この発明の光デ
ィスク装置の他の実施例に係る光振幅分布を示すグラフ
、第10図は、第9A図及び第9B図に示される光振幅
分布を実現する光学系を示す概略図、第11図、第12
図、及び第13図は、第10図に示された光学系の変形
例を示す概略図、第14A図から第14E図は、第13
図に示された光学系を実現する為のシュミュレーション
で求められた光ビームパターン、光振幅分布及びミラー
面のパターンを示している。 7…対物レンズ、12…ハーフミラー 面、14…偏光ビームスプリット面、18…光ディスク
、44…ハーフコート層、46、58…プリズム、57
…光学特性変化手段、68…スペース層、69、71…
光反射層、70…光学特性層、80…ミラー面
Claims (1)
- 光源と、光源を出た光ビームを分割する手段と、分割
された光ビームの少なくとも一方の特性を変化させる手
段と、再度光ビームを合成する手段と、光を集光する手
段を具備し、もって集光スポットサイズを小さくするこ
とを特徴とする光集束光学系。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2340265A JPH04281231A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光集束光学系 |
US07/799,188 US5311495A (en) | 1990-11-30 | 1991-11-27 | Optical system for converging light beams to form a single beam spot on an optical disc |
EP19910120595 EP0488407A3 (en) | 1990-11-30 | 1991-11-29 | Optical system for converging light beams to form a single beam spot on an optical disc |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2340265A JPH04281231A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光集束光学系 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04281231A true JPH04281231A (ja) | 1992-10-06 |
Family
ID=18335288
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2340265A Pending JPH04281231A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光集束光学系 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5311495A (ja) |
EP (1) | EP0488407A3 (ja) |
JP (1) | JPH04281231A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007193872A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ピックアップ及びその調整方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100230225B1 (ko) * | 1992-11-30 | 1999-11-15 | 윤종용 | 발광램프를 이용한 광픽업 |
KR100214046B1 (ko) | 1995-03-27 | 1999-08-02 | 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 | 초해상 광헤드장치 |
JPH10255307A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Pioneer Electron Corp | 多焦点光ビーム生成装置、多焦点ピックアップ及び情報再生装置 |
KR100322599B1 (ko) * | 1998-12-23 | 2002-03-08 | 윤종용 | 광픽업장치 |
JP2001201615A (ja) * | 2000-01-21 | 2001-07-27 | Sony Corp | 光学素子および光ピックアップ |
JP4849939B2 (ja) * | 2006-04-10 | 2012-01-11 | Hoya株式会社 | 光情報記録再生装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4464567A (en) * | 1981-06-30 | 1984-08-07 | Storage Technology Corporation | Photoelectric information and focus detector |
NL8104946A (nl) * | 1981-11-02 | 1983-06-01 | Philips Nv | Inrichting voor het uitlezen en/of inschrijven van een optisch uitleesbare informatiestructuur op een registratiedrager. |
JPS5990007A (ja) * | 1982-11-16 | 1984-05-24 | Olympus Optical Co Ltd | 光学式寸度測定装置 |
US4689481A (en) * | 1984-06-14 | 1987-08-25 | Nec Corporation | Focus error detector and optical head using the same |
JPS61133052A (ja) * | 1984-12-03 | 1986-06-20 | Hitachi Ltd | 光学的記録再生装置 |
JPS6299928A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ヘツド |
GB2182168B (en) * | 1985-10-25 | 1989-10-25 | Hitachi Ltd | Phased-array semiconductor laser apparatus |
JP2531626B2 (ja) * | 1986-04-10 | 1996-09-04 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学的記録媒体用基盤の光学的特性測定装置 |
DE3787282T2 (de) * | 1987-10-05 | 1994-03-31 | Hitachi Ltd | Optischer Aufbau mit einer phasenstarr gekoppelten Laserdiodenzeile. |
EP0312652B1 (en) * | 1987-10-19 | 1993-09-01 | Hitachi, Ltd. | Optical device with phase-locked diodelaser array |
JPH0834012B2 (ja) * | 1988-06-14 | 1996-03-29 | 日本電気株式会社 | 光ヘッド装置及び情報記録再生方法 |
EP0646911A3 (en) * | 1988-06-14 | 1995-08-23 | Nec Corp | Optical head arrangement. |
JP2580725B2 (ja) * | 1988-06-29 | 1997-02-12 | 日本電気株式会社 | 光ヘッド装置 |
US5072437A (en) * | 1988-09-19 | 1991-12-10 | Pioneer Electronic Corporation | Optical information reproducing apparatus |
JPH02161628A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-21 | Hitachi Ltd | 光学ヘッド,情報記録媒体および光学的情報処理装置 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2340265A patent/JPH04281231A/ja active Pending
-
1991
- 1991-11-27 US US07/799,188 patent/US5311495A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-11-29 EP EP19910120595 patent/EP0488407A3/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007193872A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ピックアップ及びその調整方法 |
JP4595818B2 (ja) * | 2006-01-18 | 2010-12-08 | パナソニック株式会社 | 光ピックアップの調整方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5311495A (en) | 1994-05-10 |
EP0488407A3 (en) | 1992-08-26 |
EP0488407A2 (en) | 1992-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4824191A (en) | Optical pickup | |
US7463569B2 (en) | Optical disk apparatus with a wavelength plate having a two-dimensional array of birefringent regions | |
JP2655077B2 (ja) | 光ヘッド装置 | |
JPH05159316A (ja) | 光ピックアップ装置、及びホログラム素子 | |
JP2005339766A (ja) | 光ディスク装置 | |
JPH10334500A (ja) | 光ヘッドおよび光ディスク装置 | |
KR101416230B1 (ko) | 홀로그래픽 정보 기록/재생 장치, 기록/재생 방법 및홀로그래픽 정보 저장매체 | |
JPH04281231A (ja) | 光集束光学系 | |
US20040156083A1 (en) | Holographic recording/reproducing apparatus and reproducing apparatus for holographically recorded information | |
US5923635A (en) | Optical information recording or playbacking system, optical head apparatus used in the system and method for recording or playbacking optical information | |
JP2002109778A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
JPH1139705A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
JP2005512254A (ja) | 光走査装置 | |
JP3635516B2 (ja) | 光ディスク装置 | |
US6556532B2 (en) | Optical pickup device | |
WO2006075272A1 (en) | Optical device, in particular holographic device | |
US5991254A (en) | Optical pickup having a multi-coated polarization holographic element | |
JPH085441Y2 (ja) | ビ−ムスプリツタ | |
JP2904419B2 (ja) | 光磁気ピックアップ | |
JPH097212A (ja) | 光ヘッド装置 | |
JP2526206B2 (ja) | 光ピツクアツプ | |
JP2857245B2 (ja) | 光ピックアップ装置 | |
JPH08329512A (ja) | 光ヘッド装置 | |
JPS633381B2 (ja) | ||
JPH08329518A (ja) | 光ピックアップ |