JPH04277733A - Production of focal plate - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To suppress unnaturality, such as rough feel and out-of-focus images, and to decrease narrow-angle diffused light by forming periodic fine ruggedness by a photolithography method. CONSTITUTION:A photosensitive material 23 is applied on a plane substrate 24. The fine ruggedness 23a, 23b of a period 2P are formed by the photolithography method on the photosensitive material 23. A hydrophilic polymer layer 27 of polyvinyl alcohol is uniformly applied on the photosensitive material 23 and thereafter, a photosensitive material 28 is applied. Microlenses 1a and microlenses 1b of the period P are then formed by the photolithography method on the photosensitive material 28. The patterns of the mask to be used at this time are analogous with the patterns of the mask used at the time of forming the fine ruggedness 23a, 23b of the period 2P on the photosensitive material 23. The photosensitive material is exposed by setting the installation angles of the patterns at the same angle. Exposing and developing are so executed that the difference in height between two kinds of the microlenses 1a and the microlenses 1b attains about 0.5micron wavelength of light.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【０００１】0001

【産業上の利用分野】この発明は一眼レフカメラ等に使
用される焦点板の製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a focus plate used in single-lens reflex cameras and the like.

【０００２】0002

【従来の技術】従来、一眼レフカメラ等の焦点板は、ガ
ラス等の母材の表面に砂掛けを施すことにより、微細凹
凸を形成させ、これから金型をとってプラスチック材料
の表面に微細凹凸を転写するといった方法で製造されて
いた。このようにして製造された焦点板はボケ味が自然
であるが、反面ザラツキが目立つといった欠点があった
。その原因はこのような焦点板の表面の微細凹凸面は極
めてランダム性が高いことにある。[Prior Art] Conventionally, focus plates for single-lens reflex cameras, etc. are made by sanding the surface of a base material such as glass to form fine irregularities, and then molding it to create fine irregularities on the surface of a plastic material. It was manufactured by a method such as transferring. The focus plate manufactured in this manner has a natural bokeh, but has the disadvantage of noticeable graininess. The reason for this is that the finely uneven surface of such a focusing plate has extremely high randomness.

【０００３】他方、マイクロレンズを周期的に配列しラ
ンダム性を除去した焦点板が特開昭５７−１４８７２８
号公報等に提案されている。図１７はこの種の焦点板の
構成を説明する図である。図１７（ａ）に一定の高さの
マイクロレンズの周期的配列を示す。マイクロレンズの
中心位置（ｘ，ｙ）は周期Ｐと整数の組（ｉ，ｊ）とか
ら決定される次の周期的格子点 ｘ＝Ｐ（ｉ＋ｊ／２）・・・・（１−１）ｙ＝Ｐ（ｊ√
３／２）・・・・（１−２）にある。拡散分布は等方的
であることが望ましく、マイクロレンズの外周形状は円
形である。上述の配置は、同一の円を二次元空間に最も
高い密度で並べる配列である。On the other hand, a focusing plate in which microlenses are arranged periodically to eliminate randomness is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-148728.
It has been proposed in the Publication No. FIG. 17 is a diagram illustrating the configuration of this type of focus plate. FIG. 17(a) shows a periodic array of microlenses of a constant height. The center position (x, y) of the microlens is determined from the period P and the set of integers (i, j) at the next periodic lattice point x=P(i+j/2) (1-1) y=P(j√
3/2)...(1-2). It is desirable that the diffusion distribution is isotropic, and the outer peripheral shape of the microlens is circular. The above arrangement is an arrangement in which identical circles are arranged in two-dimensional space at the highest density.

【０００４】ｘ軸断面図は図１７（ｂ）に示すように各
マイクロレンズは一定の高さを以て連続している。図１
７（ｃ）はマイクロレンズの配列が図１７（ａ）に示す
ようなときの拡散分布の輝点配列である。図１７（ｃ）
は角度座標であり、各々の輝点の中心の角度座標値（θ
ｘ，θｙ）は角度ピッチθｐと整数の組（ｉ，ｊ）とか
ら決定される次の周期的格子点 θｘ＝θｐ（ｉ）・・・・（２−１） 　　θｙ＝θｐ（−ｉ／√３＋２Ｊ／√３）・・・・（
２−２）である。マイクロレンズの周期Ｐと拡散分布の
輝点配列の角度ピッチθｐの関係は θｐ＝λ／Ｐ・・・・（３） で表され、角度ピッチθｐはマイクロレンズの周期Ｐの
逆数に比例する。ここにλは光の波長である。このよう
に構成される焦点板は、ザラツキ感がなく、明るいとい
った長所がある反面、多線ボケを生じるなどボケ味が不
自然であるといった欠点があるが、これは焦点板が周期
性を有するため、回折格子と同等の作用を持つことにな
り、拡散光が回折の次数に対応した特定の方向に限定さ
れてしまうためである。As shown in FIG. 17(b) in an x-axis cross-sectional view, each microlens is continuous at a constant height. Figure 1
7(c) shows the bright spot array of the diffuse distribution when the microlenses are arranged as shown in FIG. 17(a). Figure 17(c)
is the angular coordinate, and the angular coordinate value (θ
x, θy) is the next periodic lattice point θx=θp(i) (2-1) θy=θp(-i/ √3+2J/√3)・・・(
2-2). The relationship between the period P of the microlens and the angular pitch θp of the bright spot array of the diffuse distribution is expressed as θp=λ/P (3), and the angular pitch θp is proportional to the reciprocal of the period P of the microlens. Here, λ is the wavelength of light. A focusing plate constructed in this way has the advantage of not having a grainy feel and being bright, but has the disadvantage of producing an unnatural bokeh such as multi-line blurring, but this is due to the periodic nature of the focusing plate. Therefore, it has the same effect as a diffraction grating, and the diffused light is limited to a specific direction corresponding to the order of diffraction.

【０００５】ここでマイクロレンズの周期的配列による
回折効果について説明する。回折効果により、拡散光が
回折の次数に対応した方向に限定される様子を図１７に
示す。いま、図１７（ａ）に示すようにマイクロレンズ
が周期Ｐで周期配列しているとすると、回折効果により
拡散光は図１７（ｃ）のように輝点はピッチθｐで周期
的に配列される。ここで図１７（ｃ）は角度空間であり
、マイクロレンズの周期Ｐと拡散分布の輝点配列の角度
ピッチθｐとの関係は上述の通り θｐ＝λ／Ｐ・・・・（３） である。このような拡散分布をもつ焦点板で点光源のボ
ケを観察すると、ボケ像も輝点の集まりとして観察され
る。線状物体は点光源が直線状に並んだものと考えられ
るので、線状物体のボケ像も点光源のボケ像が並んだも
のとなり、結果的にいわゆる多線ボケとなる。また任意
の物体は点光源の集まりと考えられるので、同様にその
ボケ像は不自然なものになる。[0005] Here, the diffraction effect due to the periodic arrangement of microlenses will be explained. FIG. 17 shows how the diffused light is limited to the direction corresponding to the order of diffraction due to the diffraction effect. Now, assuming that the microlenses are arranged periodically with a period P as shown in Fig. 17(a), the diffraction effect causes the diffused light to become such that the bright spots are arranged periodically with a pitch θp as shown in Fig. 17(c). Ru. Here, FIG. 17(c) is an angular space, and the relationship between the period P of the microlens and the angular pitch θp of the bright spot array of the diffuse distribution is as described above, θp=λ/P (3) . When observing the blur of a point light source using a reticle with such a diffusion distribution, the blurred image is also observed as a collection of bright spots. Since a linear object is considered to be a line of point light sources, the blurred image of the linear object is also a line of blurred images of point light sources, resulting in a so-called multi-line blur. Furthermore, since any object is considered to be a collection of point light sources, the blurred image will similarly be unnatural.

【０００６】ここで図１７（ｃ）の各々の輝点に番号を
つけ、ｉ番目の輝点の中心のｘ角度座標をθｘｉ、ｙ角
度座標をθｙｉとすると、この輝点に対応する点光源の
ボケ像の輝点の中心のｘ座標ｘｉ，ｙ座標ｙｉはｘｉ＝
β・△ｄ・θｘｉ・・・・（４−１）ｙｉ＝β・△ｄ・
θｙｉ・・・・（４−２）で与えられる。ここにβは観
察系の倍率、△ｄはデフォーカス量である。デフォーカ
ス量△ｄ＝０、すなわちピントが合っている場合、すべ
てのｉに対してｘｉ＝ｙｉ＝０であり、これは点光源の
像が一点に見えることを表している。ところで、（４−
１）式および（４−２）式は、点状物体のボケ像は図１
７（ｃ）の拡散分布と相似形をしていることを表してい
る。Here, each bright spot in FIG. 17(c) is numbered, and if the x angular coordinate of the center of the i-th bright spot is θxi and the y angular coordinate is θyi, then the point light source corresponding to this bright spot is The x-coordinate xi and y-coordinate yi of the center of the bright spot of the blurred image are xi=
β・△d・θxi・・・・(4-1)yi=β・△d・
θyi...(4-2) is given. Here, β is the magnification of the observation system, and Δd is the defocus amount. When the defocus amount Δd=0, that is, when the object is in focus, xi=yi=0 for all i, which means that the image of the point light source appears as one point. By the way, (4-
Equations 1) and (4-2) show that the blurred image of a point-like object is shown in Figure 1.
This indicates that the diffusion distribution is similar to that of 7(c).

【０００７】したがって拡散分布の輝点の間隔が狭いと
ボケ像の輝点間隔も狭くなる。ボケ像の輝点間隔が狭け
れば、相対的に見える輝点の数が増えるとともに各々の
輝点の明るさは数に比例して弱くなり、結果輝点はより
目立たなくなる。輝点が目立たなくなればなるほどボケ
は不自然でなくなる。然し単にマイクロレンズの周期Ｐ
を大きくすると狭角拡散が大きくなるから、周期Ｐはあ
る一定の範囲になければならない。[0007] Therefore, if the interval between the bright spots in the diffuse distribution is narrow, the interval between the bright spots in the blurred image will also be narrow. If the interval between bright spots in a blurred image is narrow, the number of bright spots that are relatively visible increases and the brightness of each bright spot becomes weaker in proportion to the number, and as a result, the bright spots become less noticeable. The less noticeable the bright spots are, the less unnatural the blur will be. However, simply the period P of the microlens
Since narrow-angle diffusion increases as P increases, the period P must be within a certain range.

【０００８】次に焦点板の製造について説明する。周期
的微細凹凸を有する焦点板の製造方法は従来種々提案さ
れていが、その中の一つとしてフォトリソグラフィ法が
ある。フォトリソグラフィ法はマスク原板を用いて感光
材料に露光させ、その感光材料表面に露光量に応じた微
細凹凸を形成させる方法である。今周期的微細パターン
を有するマスク原板を用い、これを基板に塗布された感
光材料の表面に近接させて露光し、その感光材料表面に
露光量に応じた微細凹凸を形成させるプロキシミティ露
光によるフォトリソグラフィ法を説明する。この方法は
、図４に示すような規則的微細パターンのマスク原板と
図３に示すような表面に感光材料を塗布した基板とを図
３に示すように距離△ｄ離して露光する（ｄをプロキシ
ミティと言う）ものである。感光材料表面にマスク原板
の規則的微細パターンとプロキシミティｄに応じた照度
分布ができ、露光後現像処理をすれば、照度分布に応じ
た微細凹凸が感光材料表面に形成され、焦点板又は焦点
板用母型となる。Next, the manufacturing of the focusing plate will be explained. Various methods for manufacturing reticle plates having periodic fine irregularities have been proposed, one of which is a photolithography method. The photolithography method is a method in which a photosensitive material is exposed to light using a mask original plate, and fine irregularities are formed on the surface of the photosensitive material according to the amount of exposure. Using a mask original plate having a periodic fine pattern, this is exposed in close proximity to the surface of a photosensitive material coated on a substrate, and fine irregularities are formed on the surface of the photosensitive material according to the amount of exposure. Describe lithography methods. In this method, a mask original plate with a regular fine pattern as shown in FIG. 4 and a substrate coated with a photosensitive material on the surface as shown in FIG. 3 are exposed at a distance Δd as shown in FIG. (proximity). An illuminance distribution corresponding to the regular fine pattern of the mask original plate and the proximity d is formed on the surface of the photosensitive material, and if development is performed after exposure, fine irregularities corresponding to the illuminance distribution are formed on the surface of the photosensitive material, and the reticle or focal point This becomes the mother mold for the board.

【０００９】プロキシミティ露光によるフォトリソグラ
フィ法によると、微細凹凸が規則正しい周期性或いはラ
ンダム性を有するように自由に且つ容易に形成すること
ができるし、微細凹凸の形状の制御が可能である。そし
てザラツキ感がなく明るい焦点板用母型を製造する長所
がある。According to the photolithography method using proximity exposure, fine irregularities can be freely and easily formed to have regular periodicity or randomness, and the shape of the fine irregularities can be controlled. It also has the advantage of producing a bright reticle matrix with no roughness.

【００１０】しかし反面、多線ボケを生じる等ボケ味が
不自然であり、また、狭角拡散光が多くなりピント合わ
せがしずらいという問題点がある。ボケ味が不自然とな
るのは、規則的微細パターンを有するマスク原板を用い
ているので、焦点板表面の微細凹凸も規則的構造となっ
て回折格子と同等の作用を持つことになり、拡散光が回
折の次数に対応した特定方向に限定されてしまう為であ
る。又狭角拡散光が多いのは、一般に微細凹凸に平坦部
が多いとき、また微細凹凸の高度の差が少ないときには
狭角拡散光が多くなる。プロキシミティ露光によるフォ
トリソグラフィ法で形成される微細凹凸は、プロキシミ
ティｄが小さいときには高度の差は大きいが平坦部が多
く、プロキシミティｄを大きくすると逆に平坦部はなく
なるが高度の差もなくなる傾向を有しているからである
。However, on the other hand, there are problems in that the blurring is unnatural, such as multi-line blurring, and that narrow-angle diffused light increases, making it difficult to focus. The reason for the unnatural bokeh is that a mask original plate with a regular fine pattern is used, so the fine irregularities on the reticle surface also have a regular structure and have the same effect as a diffraction grating. This is because the light is limited to a specific direction corresponding to the order of diffraction. In general, there is a large amount of narrow-angle diffused light when there are many flat parts in the fine asperities, and when there is little difference in height between the fine asperities. When the proximity d is small, the fine irregularities formed by the photolithography method using proximity exposure have a large difference in altitude but many flat areas, and when the proximity d is increased, there are no flat areas but the difference in altitude also disappears. This is because they have a tendency.

【００１１】[0011]

【発明が解決しようとする課題】砂掛け法による焦点板
はボケ味が自然であるが、表面の微細凹凸のランダム性
が強いためザラツキ感がある。周期性を有する焦点板は
ザラツキ感がなく明るいといった長所がある反面、周期
性のため拡散分布が輝点の集まりとなり多線ボケを生じ
る等ボケ味が不自然であるといった問題点がある。[Problems to be Solved by the Invention] A focusing plate produced by the sanding method has a natural blur, but it has a grainy feel due to the strong randomness of the fine irregularities on the surface. A focusing plate with periodicity has the advantage of being bright with no grainy appearance, but has the problem that due to the periodicity, the diffusion distribution becomes a collection of bright spots, resulting in multi-line blurring and unnatural blurring.

【００１２】周期性を有する焦点板の製造法としてのプ
ロキシミティ露光によるフォトリソグラフィ法によると
、多線ボケを生じる等ボケ味が不自然であり、また、狭
角拡散光が多くなりピント合わせがしずらいという問題
点がある。According to the photolithography method using proximity exposure as a manufacturing method for a focusing plate having periodicity, the blurring is unnatural, such as multi-line blurring, and the amount of narrow-angle diffused light increases, making it difficult to focus. There is a problem that it is difficult to do.

【００１３】本発明はザラツキ感及びボケ味の不自然さ
が抑制され、又狭角拡散光の少い焦点板の製造方法を提
供することを目的とする。An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a reticle in which the unnaturalness of roughness and blurring is suppressed and the amount of narrow-angle diffused light is reduced.

【００１４】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明において、第１の
感光材料層の表面に、単位図形が周期的に配置されてな
るパターンが設けられた第１種の露光マスクを使用し、
フォトリソグラフィ法により周期的な微細凹凸を形成し
た後、該第１の感光材料層上に該周期的な微細凹凸を映
し出すように第２の感光材料層を重畳し、該第２の感光
材料層の表面に、単位図形が周期的に配置されてなるパ
ターンが設けられ、単位図形が配置される周期が第１種
の露光マスクの単位図形が配置される周期より小さい第
２種の露光マスクを使用し、重ねてフォトリソグラフィ
法により周期的な微細凹凸を形成して製造することを特
徴とする焦点板の製造方法を構成した。更に請求項１の
製造方法により製造された焦点板を一度又は再度転写し
て焦点板を製造することを特徴とする焦点板の製造方法
を構成した。更に第１の感光材料層の表面に、単位図形
が周期的に配置されてなるパターンが設けられた第１種
の露光マスクを使用し、フォトリソグラフィ法により周
期的な微細凹凸を形成することに代え、第１の感光材料
層の表面に、機械的又は化学的な方法により周期的な微
細凹凸を形成することを特徴とする請求項１の焦点板の
製造方法を構成した。更に単位図形が周期的に配置され
てなるパターンが設けられた第１種の露光マスクに代え
、単位図形が形状、大きさあるいは配列位置がランダム
性を有していることを特徴とする請求項１、２、３の焦
点板の製造方法を構成した。更に単位図形が周期的に配
置されてなるパターンが設けられた第２種の露光マスク
に代え、単位図形が形状、大きさあるいは配列位置がラ
ンダム性を有していることを特徴とする請求項１、２、
３、４の焦点板の製造方法を構成した。更に第１の感光
材料層の表面に、単位図形が周期的に配置されてなるパ
ターンが設けられた第１種の露光マスクを使用し、フォ
トリソグラフィ法により微細凹凸を形成することに代え
、第１の感光材料層を支持する基板に設けられた凹凸の
周期的な配列が第１の感光材料層の表面に出現している
ことを特徴とする請求項１の焦点板の製造方法を構成し
た。更に該基板に設けられた凹凸が形状、大きさあるい
は配列位置がランダム性を有していることを特徴とする
請求項６の製造方法を構成した。[Means for Solving the Problems] In the present invention, a first type of exposure mask is used, in which a pattern in which unit figures are periodically arranged is provided on the surface of a first photosensitive material layer,
After forming periodic fine irregularities by photolithography, a second photosensitive material layer is superimposed on the first photosensitive material layer so as to project the periodic fine irregularities, and the second photosensitive material layer A second type of exposure mask is provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically on the surface of the exposure mask, and the period in which the unit figures are arranged is smaller than the period in which the unit figures are arranged in the first type of exposure mask. A method for manufacturing a focusing plate has been constructed, which is characterized in that it is manufactured by using the same method and forming periodic fine irregularities using the photolithography method. Furthermore, a method for manufacturing a focusing plate has been constructed, characterized in that the focusing plate manufactured by the manufacturing method of claim 1 is transferred once or again to produce a focusing plate. Further, using a first type exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically on the surface of the first photosensitive material layer, periodic fine irregularities are formed by photolithography. Instead, the method for manufacturing a focusing plate according to claim 1 is configured, characterized in that periodic fine irregularities are formed on the surface of the first photosensitive material layer by a mechanical or chemical method. A claim characterized in that, instead of the first type of exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically, the unit figures have randomness in shape, size, or arrangement position. 1, 2, and 3 reticle manufacturing methods were constructed. A claim characterized in that, instead of the second type of exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically, the unit figures have randomness in shape, size, or arrangement position. 1, 2,
3 and 4 reticle manufacturing methods were constructed. Furthermore, instead of forming fine irregularities by photolithography using a first type exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically on the surface of the first photosensitive material layer, 2. The method of manufacturing a focusing plate according to claim 1, wherein a periodic arrangement of irregularities provided on the substrate supporting the first photosensitive material layer appears on the surface of the first photosensitive material layer. . The manufacturing method according to claim 6 is further characterized in that the irregularities provided on the substrate have randomness in shape, size, or arrangement position.

【００１５】[0015]

【作用】微小凹凸が周期性を以て配置されている。かつ
複数の高度差のある凹凸が周期的に配置されて、単位面
積当たりの数が適当にある。又微小凹凸が周期性は２種
類又はそれ以上ある。微小凹凸の位置、高さ、大きさ等
にランダム性がある。二重にフォトリソグラフィ法によ
り製造される。[Operation] Microscopic irregularities are arranged periodically. In addition, a plurality of irregularities with different heights are arranged periodically, and the number per unit area is appropriate. Furthermore, there are two or more types of periodicity of minute irregularities. There is randomness in the position, height, size, etc. of minute irregularities. Manufactured by dual photolithographic methods.

【００１６】[0016]

【実施例】本発明の第一の実施例を図１〜図９により説
明する。図１は焦点板（１）の断面図、図２は転写焦点
板（２）の断面図、図３はフォトリソグラフィ法の説明
図、図４はフォトリソグラフィ法において使用するマス
クパターンの説明図、図５はフォトリソグラフィ法によ
り形成された焦点板（１）の断面図、図６は本実施例に
より製造された焦点板（１）のマイクロレンズ（１ａ）
、（１ｂ）の配置を示す平面図、図７は本実施例により
製造された焦点板（１）の拡散分布の輝点配列を示す分
布図、図８は従来の焦点板（１）のマイクロレンズ（１
ａ）の配置を示す平面図、図９は従来の焦点板（１）の
拡散分布の輝点配列を示す分布図である。[Embodiment] A first embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. 1 to 9. FIG. 1 is a sectional view of the focusing plate (1), FIG. 2 is a sectional view of the transfer focusing plate (2), FIG. 3 is an explanatory diagram of the photolithography method, FIG. 4 is an explanatory diagram of the mask pattern used in the photolithography method, FIG. 5 is a cross-sectional view of the focusing plate (1) formed by photolithography, and FIG. 6 is a microlens (1a) of the focusing plate (1) manufactured according to this example.
, (1b), FIG. 7 is a distribution diagram showing the bright spot arrangement of the diffused distribution of the focusing plate (1) manufactured according to this example, and FIG. 8 is a distribution diagram showing the bright spot arrangement of the conventional focusing plate (1). Lens (1)
FIG. 9 is a plan view showing the arrangement of a), and FIG. 9 is a distribution diagram showing the bright spot arrangement of the diffusion distribution of the conventional reticle (1).

【００１７】焦点板（１）は後に詳述する感光材料（２
８）に微細凹凸が形成されたものである。焦点板（１）
は自体が焦点板の機能を有するが、大量に作成する場合
は通常焦点板（１）の表面をプラスチック等の光学材料
に一度又は再度転写して作成され、同等の機能を持つ転
写焦点板（２）が使用される。The focusing plate (1) is made of a photosensitive material (2) which will be described in detail later.
8) in which fine irregularities are formed. Focus plate (1)
has the function of a focusing plate itself, but when producing in large quantities, it is usually created by transferring the surface of the focusing plate (1) once or again to an optical material such as plastic, and a transferred focusing plate (1) with an equivalent function is created. 2) is used.

【００１８】転写焦点板（２）のマイクロレンズ（２ａ
）とマイクロレンズ（２ｂ）は凹形の略偏平な円形窪み
をなしている。円形窪みの直径はそれぞれ約２０ミクロ
ン、深さは１〜２．５ミクロンであって、マイクロレン
ズ（２ａ）とマイクロレンズ（２ｂ）との深さの差は約
０．５ミクロンである。マイクロレンズ（２ａ）とマイ
クロレンズ（２ｂ）は図示する断面における周期が交互
にそれぞれ直径の２倍の約４０ミクロンで配置されてい
る。Microlens (2a) of transfer focal plate (2)
) and the microlens (2b) form a concave, substantially flat circular depression. Each of the circular depressions has a diameter of about 20 microns and a depth of 1 to 2.5 microns, with the difference in depth between the microlenses (2a) and (2b) being about 0.5 microns. The microlenses (2a) and the microlenses (2b) are arranged alternately at intervals of about 40 microns, which is twice the diameter, in the cross section shown.

【００１９】焦点板（１）の構造を図１に示す断面図に
より説明する。ガラス製の平面基板（２４）の上に感光
材料（２３）の層が重畳し、感光材料（２３）の層には
微細凹凸（２３ａ、２３ｂ）が形成されている。その上
に親水性ポリマー層（２７）が重畳し、微細凹凸（２３
ａ、２３ｂ）と同様な微細凹凸（２７ａ、２７ｂ）が形
成されている。その上に　　感光材料（２８）の層が重
畳し、感光材料（２８）の層の表面には複数種類のマイ
クロレンズ（１ａ）とマイクロレンズ（１ｂ）が形成さ
れている。マイクロレンズ（１ａ）とマイクロレンズ（
１ｂ）は凸形の略偏平な円形丘をなしている。円形丘の
直径はそれぞれ約２０ミクロン、高さは１〜２．５ミク
ロンであって、マイクロレンズ（１ａ）とマイクロレン
ズ（１ｂ）との高さの差は約０．５ミクロンである。マ
イクロレンズ（１ａ）とマイクロレンズ（１ｂ）は図示
する断面における周期が交互にそれぞれ直径の２倍の約
４０ミクロンで配置されている。The structure of the focusing plate (1) will be explained with reference to the sectional view shown in FIG. A layer of photosensitive material (23) is superimposed on a flat glass substrate (24), and fine irregularities (23a, 23b) are formed in the layer of photosensitive material (23). A hydrophilic polymer layer (27) is superimposed on it, and fine irregularities (23) are superimposed on it.
Fine unevenness (27a, 27b) similar to a, 23b) is formed. A layer of photosensitive material (28) is superimposed thereon, and a plurality of types of microlenses (1a) and microlenses (1b) are formed on the surface of the layer of photosensitive material (28). Microlens (1a) and Microlens (
1b) forms a convex, substantially flat circular hill. Each circular hill has a diameter of about 20 microns and a height of 1 to 2.5 microns, and the difference in height between microlens (1a) and microlens (1b) is about 0.5 micron. The microlenses (1a) and the microlenses (1b) are arranged alternately at intervals of about 40 microns, which is twice the diameter, in the illustrated cross section.

【００２０】次にフォトリソグラフィ法について説明す
る。図３に示すように、基板（２４）に塗布された感光
材料（２３）にプロキシミティｄを隔ててマスク（２０
）が配置され、露光光線（２２）がマスク（２０）を通
して感光材料（２３）に照射される。マスク（２０）に
は図４に示すように円形の単位図形が周期Ｐの間隔を置
いて周期的に配置されてなるクロームのパターン（２１
）が設けられ、パターン（２１）の部分は露光光線（２
２）を通さない。ポジティブ形の感光材料（２３）を使
用し適当なプロキシミティ間隔ｄを以て露光すると、露
光後現像処理により露光部分に図５に示すように凸形の
略偏平な円形丘（１ｃ）が周期Ｐで形成される。 ネガティブ形の感光材料（２３）を使用し適当なプロキ
シミティｄを以て露光すると、露光後現像処理により露
光しない部分に図５に示すように凸形の略偏平な円形丘
（１ｃ）が周期Ｐで形成される。Next, the photolithography method will be explained. As shown in FIG. 3, a mask (20
) is arranged, and the exposure light beam (22) is irradiated onto the photosensitive material (23) through the mask (20). As shown in FIG. 4, the mask (20) has a chrome pattern (21) in which circular unit figures are periodically arranged at intervals of period P.
) is provided, and the pattern (21) is exposed to the exposure light beam (2
2) Does not pass. When a positive type photosensitive material (23) is used and exposed with an appropriate proximity interval d, a convex, substantially flat circular hill (1c) is formed in the exposed area with a period P as shown in FIG. 5 through post-exposure development processing. It is formed. When a negative type photosensitive material (23) is used and exposed with an appropriate proximity d, a convex, substantially flat circular hill (1c) is formed with a period P in the unexposed area by post-exposure development processing, as shown in FIG. It is formed.

【００２１】次に焦点板（１）の製造法を図１により説
明する。平面の基板（２４）に感光材料（２３）を塗布
する。感光材料（２３）にフォトリソグラフィ法により
周期２Ｐの微細凹凸（２３ａ、２３ｂ）を形成する。フ
ォトリソグラフィ法によらず打刻法等によることもでき
る。次いで感光材料（２３）にポリビニルアルコールの
親水性ポリマー層（２７）を一様に塗布してから、感光
材料（２８）を塗布する。親水性ポリマー層（２７）は
感光材料（２８）により下層の感光材料（２３）の微細
凹凸の形状が変化しないようするためのものである。次
いで感光材料（２８）にフォトリソグラフィ法により周
期Ｐのマイクロレンズ（１ａ）とマイクロレンズ（１ｂ
）を形成する。この時使用するマスクのパターンは感光
材料（２３）に周期２Ｐの微細凹凸（２３ａ、２３ｂ）
を形成する時使用したマスクのパターンは相似形であり
、パターンの設置角度を同一にして露光する。そして２
種のマイクロレンズ（１ａ）とマイクロレンズ（１ｂ）
高さの差が光の波長約０．５ミクロン程度になるように
露光及び現像を行う。この様にフォトリソグラフィ法に
より微細凹凸（２３ａ、２３ｂ）が形成された感光材料
（２３）に、重ねて感光材料（２８）にフォトリソグラ
フィ法により複合微細凹凸であるマイクロレンズ（１ａ
）とマイクロレンズ（１ｂ）を形成する方法を二重フォ
トリソグラフィ法と呼ぶこととする。Next, a method for manufacturing the focusing plate (1) will be explained with reference to FIG. A photosensitive material (23) is applied to a flat substrate (24). Fine irregularities (23a, 23b) with a period of 2P are formed on the photosensitive material (23) by photolithography. Instead of the photolithography method, an engraving method or the like can also be used. Next, a hydrophilic polymer layer (27) of polyvinyl alcohol is uniformly applied to the photosensitive material (23), and then a photosensitive material (28) is applied. The hydrophilic polymer layer (27) is for preventing the shape of the fine irregularities of the underlying photosensitive material (23) from being changed by the photosensitive material (28). Next, microlenses (1a) and microlenses (1b) with a period P are formed on the photosensitive material (28) by photolithography.
) to form. The pattern of the mask used at this time is fine irregularities (23a, 23b) with a period of 2P on the photosensitive material (23).
The mask patterns used to form the mask have similar shapes, and the patterns are exposed at the same angle. And 2
Seed microlens (1a) and microlens (1b)
Exposure and development are performed so that the difference in height is approximately 0.5 microns in wavelength of light. The photosensitive material (23) on which fine irregularities (23a, 23b) are formed by photolithography in this way is superimposed on the photosensitive material (28), and the microlens (1a), which has composite fine irregularities formed by photolithography, is superimposed on the photosensitive material (28).
) and the microlens (1b) will be referred to as the double photolithography method.

【００２２】次に焦点板（１）のマイクロレンズ（１ａ
）とマイクロレンズ（１ｂ）の配列により生ずる効果に
ついて説明する。焦点板（１）のマイクロレンズ（１ａ
）とマイクロレンズ（１ｂ）の配列は図６に示すように
なる。図６において濃く表示した円が高い丘であるマイ
クロレンズ（１ａ）、淡く表示した円が低い丘マイクロ
レンズ（１ｂ）である。両者の高さの差が光の波長の程
度であると散乱に関し異なったマイクロレンズとして振
舞うことが知られている。従って実質的に２Ｐの配列周
期が形成されている。Next, the microlens (1a) of the focusing plate (1)
) and the effect produced by the arrangement of the microlenses (1b) will be explained. Microlens (1a) of focus plate (1)
) and the microlens (1b) are arranged as shown in FIG. In FIG. 6, the dark circles represent high hills (microlenses 1a), and the light circles represent low hills microlenses (1b). It is known that when the difference in height between the two is on the order of the wavelength of light, they behave as different microlenses with respect to scattering. Therefore, a substantially 2P array period is formed.

【００２３】このようなマイクロレンズ（１ａ、１ｂ）
を有する焦点板（１）の拡散分布の輝点配列は図７に示
すように、角度ピッチθＰ＝λ／２Ｐの輝点配列となる
。周期Ｐが２０ミクロン、即ち周期２Ｐが４０ミクロン
のとき角度ピッチθＰ＝λ／２Ｐは約０．７度であり多
線ボケが目立たない大きさとなる。比較のために深さが
一定のマイクロレンズ（１ｄ）のときの焦点板（１）の
マイクロレンズ（１ｄ）の配列は図８に示すようにＰの
配列周期が形成される。この場合拡散分布の輝点配列は
図９に示すように、角度ピッチθＰ＝λ／Ｐの輝点配列
となる。従って前者の方が後者に比して輝点の数が４倍
に増加し、又各輝点の強度は４分の１と弱くなる。した
がって輝点が目立ち難く、ボケ味が自然なものとなる。[0023] Such microlenses (1a, 1b)
As shown in FIG. 7, the bright spot array of the diffused distribution of the reticle (1) having the following is a bright spot array with an angular pitch θP=λ/2P. When the period P is 20 microns, that is, the period 2P is 40 microns, the angular pitch θP=λ/2P is about 0.7 degrees, which is a size that makes multiline blur inconspicuous. For comparison, when the microlenses (1d) have a constant depth, the microlenses (1d) of the focusing plate (1) are arranged with an arrangement period of P as shown in FIG. In this case, the bright spot array of the diffuse distribution becomes a bright spot array with an angular pitch θP=λ/P, as shown in FIG. Therefore, the number of bright spots in the former increases four times as compared to the latter, and the intensity of each bright spot becomes one-fourth weaker. Therefore, bright spots are less noticeable and the bokeh becomes more natural.

【００２４】次に第２の実施例を図１０〜図１１により
説明する。図１０は本実施例により作成された焦点板（
１）のマイクロレンズ（１ａ）、（１ｂ）の配置を示す
平面図、図１１は本実施例により作成された焦点板（１
）の拡散光の輝点の分布を示す分布図である。第１の実
施例と同一又は類似の部分の説明は省略する。感光材料
（２３）に二重フォトリソグラフィ法により第１段階で
周期３Ｐの微細凹凸（２３ａ、２３ｂ）を形成し、第２
段階で感光材料（２８）にフォトリソグラフィ法により
周期Ｐのマイクロレンズ（１ａ）とマイクロレンズ（１
ｂ）を形成する。感光材料（２８）にフォトリソグラフ
ィ法により周期Ｐのマイクロレンズ（１ａ）とマイクロ
レンズ（１ｂ）を形成する時使用するマスク（２０）の
パターン（２１）は感光材料（２３）に周期３Ｐの微細
凹凸（２３ａ、２３ｂ）を形成する時使用したマスク（
２０）のパターン（２１）と設置角度を同一にして露光
する。得られた焦点板（１）は図１０にマイクロレンズ
（１ａ）とマイクロレンズ（１ｂ）の配置を示す焦点板
（１）が作成され、実質的に３Ｐの配列周期が形成され
ている。このような焦点板（１）の拡散分布の輝点配列
は図１１に示すように、角度ピッチθＰ＝λ／３Ｐの輝
点配列となる。従って輝点の数が９倍に増加し、又各輝
点の強度は９分の１と弱くなり、したがって輝点が目立
ち難く、ボケ味が自然なものとなる。Next, a second embodiment will be explained with reference to FIGS. 10 and 11. FIG. 10 shows the focus plate (
1) is a plan view showing the arrangement of the microlenses (1a) and (1b) in FIG.
) is a distribution diagram showing the distribution of bright spots of diffused light. Description of parts that are the same as or similar to the first embodiment will be omitted. Fine irregularities (23a, 23b) with a period of 3P are formed on the photosensitive material (23) in the first step by a double photolithography method, and in the second step.
In the step, a microlens (1a) with a period P and a microlens (1
b) form. The pattern (21) of the mask (20) used when forming microlenses (1a) and microlenses (1b) with a period of P on the photosensitive material (28) by photolithography is a pattern (21) of a microlens with a period of 3P on the photosensitive material (23). The mask (
Exposure is performed at the same installation angle as pattern (21) in step 20). The obtained focusing plate (1) is shown in FIG. 10 showing the arrangement of microlenses (1a) and microlenses (1b), and a substantially 3P array period is formed. As shown in FIG. 11, the bright spot array of the diffused distribution of the focusing plate (1) is a bright spot array with an angular pitch θP=λ/3P. Therefore, the number of bright spots increases nine times, and the intensity of each bright spot becomes one-ninth weaker, making the bright spots less noticeable and giving a natural blur.

【００２５】次に第３の実施例を図１２〜図１５により
説明する。図１２は本実施例による二重フォトリソグラ
フィ法の第１段階において使用するマスク（２０）のパ
ターン（２１）の説明図、図１３は本実施例による二重
フォトリソグラフィ法の第２段階において使用するマス
ク（２０）のパターン（２１）の説明図、図１４は本実
施例により作成された焦点板（１）のマイクロレンズ（
１ａ）とマイクロレンズ（１ｂ）の配置を示す平面図、
図１５は本実施例により作成された焦点板（１）の拡散
分布の輝点配列を示す分布図である。第１の実施例と同
一又は類似の部分の説明は省略する。本実施例による二
重フォトリソグラフィ法の第１段階において使用するマ
スクパターンは単位図形が周期２Ｐで略規則的に配列し
ているが、個々の大きさ及び位置にランダム性が付与さ
れている。第２段階において使用するマスクパターンは
単位図形が周期Ｐで略規則的に配列しているが、個々の
大きさ及び位置にランダム性が付与されている。これら
のマスクを第１段階と第２段階の一方又は双方に置いて
使用し焦点板（１）を製造し、得られた焦点板（１）の
マイクロレンズの高さ及び配置は図１４に示すようにラ
ンダムになる。マイクロレンズは高さ及び配置にランダ
ム性が付与されているものの、全体としては実質的な周
期２Ｐが形成されている。Next, a third embodiment will be explained with reference to FIGS. 12 to 15. FIG. 12 is an explanatory diagram of the pattern (21) of the mask (20) used in the first step of the double photolithography method according to this example, and FIG. 13 is an explanatory diagram of the pattern (21) used in the second step of the double photolithography method according to this example. FIG. 14 is an explanatory diagram of the pattern (21) of the mask (20) to
1a) and a plan view showing the arrangement of the microlens (1b),
FIG. 15 is a distribution diagram showing the bright spot array of the diffusion distribution of the focusing plate (1) created according to this example. Description of parts that are the same as or similar to the first embodiment will be omitted. In the mask pattern used in the first stage of the double photolithography method according to this embodiment, the unit figures are arranged substantially regularly with a period of 2P, but the individual sizes and positions are given randomness. In the mask pattern used in the second stage, unit figures are arranged substantially regularly with a period P, but the individual sizes and positions are given randomness. A focusing plate (1) was manufactured using these masks by placing them in one or both of the first stage and the second stage, and the height and arrangement of the microlenses of the obtained focusing plate (1) are shown in FIG. It will be random like this. Although the microlenses are given randomness in height and arrangement, a substantial period 2P is formed as a whole.

【００２６】焦点板（１）の拡散光の輝点の分布は図１
５に示すように略角度ピッチθＰ＝λ／２Ｐのやや規則
性が崩れ、且つ各輝点間にも光が拡散されることとなり
、結果的に輝点の強さは弱まる。この規則性の崩れと輝
点間拡散により輝点は目立たなくなり、多線ボケが弱ま
る。規則性の崩れと輝点間拡散が著しいとざらつき感が
生ずるから、ランダム性の付与は過度に強くならないよ
うにする。またランダム性の付与によりフレネルレンズ
の刻線との間に発生するモワレ縞が軽減される。FIG. 1 shows the distribution of bright spots of diffused light on the focus plate (1).
As shown in FIG. 5, the regularity of the approximate angular pitch θP=λ/2P is slightly disrupted, and light is also diffused between each bright spot, resulting in a weakening of the strength of the bright spots. Due to the disruption of this regularity and the diffusion between bright spots, the bright spots become less noticeable and the multi-line blur becomes weaker. If the regularity is significantly disrupted and the diffusion between bright spots is significant, a rough feeling will be produced, so the imparting of randomness should not be too strong. Further, by imparting randomness, moire fringes that occur between the fresnel lens and the scored lines are reduced.

【００２７】次に第４の実施例を図１６により説明する
。図１６は焦点板母型の断面図である。第１の実施例と
同一又は類似の部分の説明は省略する。本実施例におけ
る基板（２４）は表面にランダム性のある微細凹凸を有
している他は、焦点板製作の工程は同一である。基板（
２４）の表面のランダム性のある微細凹凸は基板を砂掛
け後化学腐食を施して形成する。露光工程で使用するマ
スクに第３の実施例で使用したランダム性の付与された
マスクを使用することも可能である。Next, a fourth embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 16 is a cross-sectional view of the reticle matrix. Description of parts that are the same as or similar to the first embodiment will be omitted. The process of manufacturing the reticle is the same except that the substrate (24) in this example has random fine irregularities on its surface. substrate(
24) The random fine irregularities on the surface are formed by sanding the substrate and then chemically etching it. It is also possible to use the random mask used in the third embodiment as the mask used in the exposure step.

【００２８】焦点板母型（２）を転写し作成した焦点板
（１）の拡散分布の輝点配列は第３の実施例の図１５に
示すものと同様に略角度ピッチθＰ＝λ／２Ｐのやや規
則性が崩れ、且つ輝点間にも光が拡散されることとなり
、結果的に輝点の強さは弱まる。この規則性の崩れと輝
点間拡散により輝点は目立たなくなり、多線ボケが弱ま
る。またランダム性の付与によりフレネルレンズの刻線
との間に発生するモワレ縞が軽減される。The bright spot array of the diffused distribution of the focusing plate (1) created by transferring the focusing plate matrix (2) has a substantially angular pitch θP=λ/2P, similar to that shown in FIG. 15 of the third embodiment. The regularity of the brightness is slightly disrupted, and light is also diffused between the bright spots, resulting in a weakening of the bright spots. Due to the disruption of this regularity and the diffusion between bright spots, the bright spots become less noticeable and the multi-line blur becomes weaker. Further, by imparting randomness, moire fringes that occur between the fresnel lens and the scored lines are reduced.

【００２９】又焦点板のマイクロレンズは凸形のものに
ついて説明したが、凹形のマイクロレンズを有する焦点
板についても同様である。Furthermore, although the convex microlenses of the focusing plate have been described, the same applies to focusing plates having concave microlenses.

【００３０】[0030]

【発明の効果】本発明によれば、微小凹凸のランダム性
が強いことによるザラツキ感が抑制され、狭角拡散光が
少く、輝点が増加し目立たなくなってボケ味の不自然さ
が抑制される。又ランダム性を有するものは、ボケ味の
不自然さが減少し、モアレ縞の発生が軽減する。製造は
フォトリソグラフィ法によるから、微細凹凸が規則正し
い周期性或いはランダム性を有するように自由に且つ容
易に形成することができるし、微細凹凸の形状等の制御
が可能である。[Effects of the Invention] According to the present invention, the roughness caused by the strong randomness of minute irregularities is suppressed, narrow-angle diffused light is reduced, bright spots are increased and become less noticeable, and unnaturalness of bokeh is suppressed. Ru. In addition, the randomness reduces the unnaturalness of the blur and reduces the occurrence of moiré fringes. Since the manufacturing method is based on photolithography, it is possible to freely and easily form the micro-asperities so that they have regular periodicity or randomness, and the shape of the micro-asperities can be controlled.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図１】焦点板の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a reticle.

【図２】転写焦点板（２）の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the transfer focus plate (2).

【図３】フォトリソグラフィ法の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a photolithography method.

【図４】フォトリソグラフィ法において使用するマスク
のパターンの説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a mask pattern used in a photolithography method.

【図５】フォトリソグラフィ法により製造された焦点板
の断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a reticle manufactured by photolithography.

【図６】焦点板のマイクロレンズの配置を示す平面図で
ある。FIG. 6 is a plan view showing the arrangement of microlenses on the reticle.

【図７】焦点板の拡散分布の輝点配列を示す分布図であ
る。FIG. 7 is a distribution diagram showing the bright spot arrangement of the diffusion distribution of the reticle.

【図８】従来の焦点板のマイクロレンズの配置を示す平
面図である。FIG. 8 is a plan view showing the arrangement of microlenses in a conventional reticle.

【図９】従来の焦点板の拡散分布の輝点配列を示す分布
図である。FIG. 9 is a distribution diagram showing a bright spot arrangement of a diffusion distribution of a conventional reticle.

【図１０】焦点板のマイクロレンズの配置を示す平面図
である。FIG. 10 is a plan view showing the arrangement of microlenses of the reticle.

【図１１】焦点板の拡散分布の輝点配列を示すである。FIG. 11 shows a bright spot array of a diffusion distribution of a reticle.

【図１２】二重フォトリソグラフィ法の第１段階におい
て使用するマスクのパターンの説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram of a mask pattern used in the first stage of the double photolithography method.

【図１３】二重フォトリソグラフィ法の第２段階におい
て使用するマスクのパターンの説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram of a mask pattern used in the second stage of the double photolithography method.

【図１４】焦点板のマイクロレンズとマイクロレンズの
配置を示す平面図である。FIG. 14 is a plan view showing microlenses of the focusing plate and the arrangement of the microlenses.

【図１５】焦点板の拡散分布の輝点配列を示す図である
。FIG. 15 is a diagram showing a bright spot array of a diffusion distribution of a reticle.

【図１６】焦点板の断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view of a reticle.

【図１７】周期的微細凹凸を持つ焦点板の拡散分布の輝
点配列を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing a bright spot array of a diffusion distribution of a focusing plate having periodic fine irregularities.

【符号の説明】 １　　　　　　焦点板 ２　　　　　　転写焦点板 ２０　　　　マスク ２１　　　　パターン ２２　　　　露光光線 ２３　　　　感光材料 ２４　　　　基板 ２５　　　　微細凹凸 ２６　　　　拡散分布の輝点 ２７　　　　親水性ポリマー ２８　　　　感光材料 ｄ　　　　　　プロキシミティ[Explanation of symbols] 1 Focus plate 2 Transfer focusing plate 20 Mask 21 Pattern 22 Exposure light beam 23 Photosensitive materials 24 Board 25 Fine irregularities 26 Bright spots of diffuse distribution 27 Hydrophilic polymer 28 Photosensitive materials d Proximity

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】　　第１の感光材料層の表面に、単位図形
が周期的に配置されてなるパターンが設けられた第１種
の露光マスクを使用し、フォトリソグラフィ法により周
期的な微細凹凸を形成した後、該第１の感光材料層上に
該周期的な微細凹凸を映し出すように第２の感光材料層
を重畳し、該第２の感光材料層の表面に、単位図形が周
期的に配置されてなるパターンが設けられ、単位図形が
配置される周期が第１種の露光マスクの単位図形が配置
される周期より小さい第２種の露光マスクを使用し、重
ねてフォトリソグラフィ法により周期的な微細凹凸を形
成して製造することを特徴とする焦点板の製造方法。Claim 1: Using a first type exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically on the surface of the first photosensitive material layer, periodic fine irregularities are formed by photolithography. After forming, a second photosensitive material layer is superimposed on the first photosensitive material layer so as to project the periodic fine irregularities, and unit figures are periodically formed on the surface of the second photosensitive material layer. A second type of exposure mask is provided, in which a pattern in which unit figures are arranged is smaller than a period in which unit figures are arranged in the first type of exposure mask, and the unit figures are arranged in a periodic manner by photolithography. 1. A method for manufacturing a focusing plate, characterized in that it is manufactured by forming fine irregularities. 【請求項２】　　請求項１の製造方法により製造された
焦点板を一度又は再度転写して焦点板を製造することを
特徴とする焦点板の製造方法。2. A method for manufacturing a focus plate, comprising the step of manufacturing a focus plate by transferring the focus plate manufactured by the manufacturing method according to claim 1 once or again. 【請求項３】　　第１の感光材料層の表面に、単位図形
が周期的に配置されてなるパターンが設けられた第１種
の露光マスクを使用し、フォトリソグラフィ法により周
期的な微細凹凸を形成することに代え、第１の感光材料
層の表面に、機械的又は化学的な方法により周期的な微
細凹凸を形成することを特徴とする請求項１の焦点板の
製造方法。3. Using a first type exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically on the surface of the first photosensitive material layer, periodic fine irregularities are formed by photolithography. 2. The method of manufacturing a focusing plate according to claim 1, further comprising forming periodic fine irregularities on the surface of the first photosensitive material layer by a mechanical or chemical method. 【請求項４】　　単位図形が周期的に配置されてなるパ
ターンが設けられた第１種の露光マスクに代え、単位図
形が形状、大きさあるいは配列位置がランダム性を有し
ていることを特徴とする請求項１、２、３の焦点板の製
造方法。4. Instead of the first type of exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically, the unit figures have randomness in shape, size, or arrangement position. A method of manufacturing a focusing plate according to any one of claims 1, 2 and 3. 【請求項５】　　単位図形が周期的に配置されてなるパ
ターンが設けられた第２種の露光マスクに代え、単位図
形が形状、大きさあるいは配列位置がランダム性を有し
ていることを特徴とする請求項１、２、３、４の焦点板
の製造方法。5. Instead of the second type of exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically, the unit figures have randomness in shape, size, or arrangement position. A method of manufacturing a focusing plate according to any one of claims 1, 2, 3, and 4. 【請求項６】　　第１の感光材料層の表面に、単位図形
が周期的に配置されてなるパターンが設けられた第１種
の露光マスクを使用し、フォトリソグラフィ法により微
細凹凸を形成することに代え、第１の感光材料層を支持
する基板に設けられた凹凸の周期的な配列が第１の感光
材料層の表面に出現していることを特徴とする請求項１
の焦点板の製造方法。6. Forming fine irregularities on the surface of the first photosensitive material layer by photolithography using a first type exposure mask provided with a pattern in which unit figures are arranged periodically. Claim 1, characterized in that instead of the first photosensitive material layer, a periodic arrangement of irregularities provided on the substrate supporting the first photosensitive material layer appears on the surface of the first photosensitive material layer.
A method of manufacturing a reticle. 【請求項７】　　該基板に設けられた凹凸が形状、大き
さあるいは配列位置がランダム性を有していることを特
徴とする請求項６の製造方法。7. The manufacturing method according to claim 6, wherein the unevenness provided on the substrate has randomness in shape, size, or arrangement position.