JP3375352B2 - Diffusion plate and method of manufacturing diffusion plate mold - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、一眼レフカメラのフ
ォーカシングスクリーン等に用いられる拡散板およびそ
れを製造する際に用いられる拡散板用母型の作製方法の
改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement of a diffusion plate used for a focusing screen of a single-lens reflex camera and a manufacturing method of a diffusion plate master used for manufacturing the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、一眼レフカメラ等には、フィ
ルム面と光学的に等価な位置にフォーカシングスクリー
ンが配置されている。撮影者は、撮影レンズを介してフ
ォーカシングスクリーン上に形成される像をファインダ
ーを介して観察し、構図や像のボケ具合を確認する。2. Description of the Related Art Conventionally, in a single-lens reflex camera or the like, a focusing screen is arranged at a position optically equivalent to the film surface. The photographer observes the image formed on the focusing screen through the photographic lens through the finder to check the composition and the degree of blurring of the image.

【０００３】フォーカシングスクリーン上での像のボケ
具合を確認する方法として、微細な断面凹凸形状を形成
した拡散板をフォーカシングスクリーンとして用い、こ
の拡散板における光の拡散性を利用するものが知られて
いる。As a method for confirming the degree of blurring of an image on a focusing screen, there is known a method in which a diffusing plate having a fine cross-sectional uneven shape is used as a focusing screen and the light diffusing property of this diffusing plate is utilized. There is.

【０００４】断面凹凸形状を有する拡散板は、表面に砂
摺り加工等により断面凹凸形状を施された金型等の成形
型を用い、例えばアクリル樹脂等のプラスチック光学材
料にその断面凹凸形状を転写成形して製造される。For a diffuser plate having an uneven cross section, a molding die such as a metal mold having a uneven surface formed by sanding is used, and the uneven cross section is transferred to a plastic optical material such as acrylic resin. Manufactured by molding.

【０００５】しかしながら、このようにして得られる拡
散板の断面凹凸形状は、さまざまな頂角の微小プリズム
の集合となっているため、撮影レンズ側から拡散板に入
射する光の頂角の大きな微小プリズムにより屈折された
部分がファインダーの瞳外へ達するため、ファインダー
を介して撮影者の眼に到る光束が少なくなり、像が暗く
なるという問題がある。However, since the uneven shape of the cross section of the diffusing plate thus obtained is a set of minute prisms having various apex angles, the apex angle of the light incident on the diffusing plate from the photographing lens side is large. Since the portion refracted by the prism reaches the outside of the finder's pupil, there is a problem that the light flux reaching the eyes of the photographer through the finder is reduced and the image becomes dark.

【０００６】また、凹凸形状の形や大きさが不揃いであ
るため、撮影絞りを絞った場合には、拡散板面の粒状性
が目立つようになり像画質が良好とは言い難かった。Further, since the irregular shapes and sizes are not uniform, it is difficult to say that the image quality is good because the graininess of the diffusion plate surface becomes conspicuous when the photographing aperture is narrowed down.

【０００７】これらの欠点を改善するため、最近では、
砂摺り等の機械工作的手段ではなく、マスクのパターン
を露光プロセスによりフォトレジスト等の感材が塗布さ
れた基板に転写することにより、微細なレンズが集合す
る拡散板用母型を作製する方法が用いられている。特開
昭55-90931号公報、同57-148728号公報には、このよう
な光学的手段により形成された拡散板用母型を基にして
電鋳法により金型等の成形型を製作し、プラスチック光
学部材に成形型の微細パターンを転写成形して規則的に
配列した微細レンズを有する拡散板を製造する技術が開
示されている。In order to improve these drawbacks, recently,
A method for producing a diffuser plate master block in which fine lenses are assembled by transferring a mask pattern to a substrate coated with a photosensitive material such as a photoresist by an exposure process, rather than a mechanical means such as sanding. Is used. In JP-A-55-90931 and JP-A-57-148728, a molding die such as a metal mold is manufactured by electroforming based on a diffusion plate mother die formed by such optical means. There is disclosed a technique of manufacturing a diffusion plate having fine lenses arranged regularly by transferring a fine pattern of a molding die onto a plastic optical member.

【０００８】さらに、特開昭63-221329号公報には、微
細レンズが周期格子点に対して所定範囲内のバラツキを
もって配置された拡散板が開示され、また、特開平2-22
6201号公報には、微小パターンを複数個不規則に配置し
て単位パターンとし、この単位パターンを複数個規則的
に配置して得られるパターン部を数種類用いた拡散板が
開示される。Further, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 63-221329 discloses a diffusion plate in which fine lenses are arranged with a variation within a predetermined range with respect to periodic lattice points, and Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2-22.
Japanese Patent Publication No. 6201 discloses a diffuser plate in which a plurality of minute patterns are irregularly arranged to form a unit pattern, and several kinds of pattern portions obtained by regularly arranging the plurality of unit patterns are used.

【０００９】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
規則的な(二次元周期的)パターン構造をもった拡散板は
回折格子として機能し、拡散特性が離散的となるため、
焦点の合っていない像を観察する場合に像が多重に見え
る、いわゆる多線ボケを生じる。また、波長によって回
折の角度が変化するため、特にピッチ(二次元格子ベク
トルの長さpおよびq)が小さく回折角度が大きい場合に
は、観察される像の色ムラが顕著となる。However, since the conventional diffuser plate having a regular (two-dimensional periodic) pattern structure functions as a diffraction grating and the diffusion characteristic is discrete,
When observing an out-of-focus image, multiple images appear, so-called multi-line blurring. Further, since the angle of diffraction changes depending on the wavelength, the color unevenness of the observed image becomes remarkable especially when the pitch (the lengths p and q of the two-dimensional lattice vector) is small and the diffraction angle is large.

【００１０】多線ボケおよび色ムラの発生を抑えるため
には、ピッチを大きくすればよいが、この場合にはファ
インダーの視野にマットの周期構造が視認されることに
より、像の観察の妨げになるという問題を生じる。In order to suppress the occurrence of multi-line blurring and color unevenness, the pitch may be increased. In this case, however, the periodic structure of the mat is visually recognized in the field of view of the finder, which hinders image observation. The problem arises.

【００１１】[0011]

【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、砂摺りマット、周期マット
の持つそれぞれの欠点を解消し、明るい視界を多線ボケ
や色ムラを生じることなく得ることができ、かつ、マッ
トの構造等が視認されない拡散板を提供すること、そし
て、このような拡散板を容易に製造できる方法を提供す
ることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and eliminates the disadvantages of the sanding mat and the periodic mat, and produces a bright field of view with multi-line blurring and color unevenness. It is an object of the present invention to provide a diffuser plate that can be obtained without any need, and the structure of a mat is not visually recognized, and to provide a method for easily manufacturing such a diffuser plate.

【００１２】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成させる
ため、本願の請求項１に記載の拡散板は、微小構造物が
多数配置された基本パターンを複数重ね合わせることに
より形成される拡散板において、微小構造物の配置は二
次元周期的であって、二次元周期の格子ベクトルが複数
の基本パターンごとに異なることを特徴とする。 請求項
２に記載の拡散板は、請求項１に記載の拡散板におい
て、同一の配置を有する基本パターンを、当パターンの
平面内で所定角度回転させて、異なる配列方向で重ね合
わせて形成されることを特徴とする。 請求項３に記載の
拡散板は、請求項１に記載の拡散板において、互いに相
似形の基本パターンを、同一の配列方向で重ね合わせて
形成されることを特徴とする。 請求項４に記載の拡散板
は、請求項１に記載の拡散板において、互いに等しい充
填方式の基本パターンを重ね合わせて形成されることを
特徴とする。 請求項５に記載の拡散板は、請求項１に記
載の拡散板において、互いに異なる充填方式の基本パタ
ーンを重ね合わせて形成されることを特徴とする。 請求
項６に記載の拡散板は、請求項１に記載の拡散板におい
て、微小構造物の平面形状が円形であることを特徴とす
る。 請求項７に記載の拡散板は、請求項１に記載の拡散
板において、拡散板は、微細構造をもった物理的にひと
つの面であることを特徴とする。 請求項８に記載の拡散
板は、請求項１に記載の拡散板において、拡散板は、基
本パターンが形成された物理的に異なる複数個の拡散面
を近接して配置して構成されることを特徴とする。 請求
項９に記載の拡散板は、請求項１に記載の拡散板におい
て、基本パターンが形成された複数の拡散板は、互いに
回動可能であることを特徴とする。 請求項１０に記載の
拡散板は、請求項１乃至請求項９のうちいずれか１項に
記載の拡散板において、基本パターンのうちの少なくと
もひとつは、微小構造物の配置が、基準となる二次元周
期にランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴
とする。 請求項１１に記載の拡散板は、請求項１０に記
載の拡散板において、基本パターンの揺らぎ量の標準偏
差をσ、二次元周期の格子ベクトルの長さの平均値をρ
とするとき、 ０．０４＜σ／ρ＜０．２ を満たすことを特徴とする。 [Means for Solving the Problems] To achieve the above object.
Therefore, in the diffusion plate according to claim 1 of the present application, the microstructure is
Overlaying multiple basic patterns
In the diffusion plate formed by the
It is two-dimensionally periodic and has two or more two-dimensional periodic lattice vectors.
It is characterized by different for each basic pattern of. Claim
The diffuser plate according to claim 2 is the diffuser plate according to claim 1.
The basic pattern with the same arrangement as
Rotate a given angle in the plane and stack in different array directions
It is characterized by being formed together. Claim 3
The diffuser plate is a diffuser plate according to claim 1, wherein the diffuser plates are mutually complementary.
Overlay similar basic patterns in the same array direction
It is formed. The diffusion plate according to claim 4.
Are equal to each other in the diffusion plate according to claim 1.
That the basic patterns of the filling method are overlapped
Characterize. The diffusion plate according to claim 5 is the same as that according to claim 1.
In the installed diffusion plate, the basic patterns of different filling methods
It is characterized in that it is formed by stacking layers. Claim
The diffuser plate according to claim 6 is the same as the diffuser plate according to claim 1.
And the planar shape of the microstructure is circular.
It The diffusion plate according to claim 7 is the diffusion plate according to claim 1.
In a plate, the diffuser is a physically structured person with a microstructure.
It is characterized by two sides. Diffusion according to claim 8.
The plate is the diffuser plate according to claim 1, wherein the diffuser plate is a base plate.
A plurality of physically different diffusion surfaces on which this pattern is formed
Are arranged close to each other. Claim
The diffuser plate according to claim 9 is the same as the diffuser plate according to claim 1.
Then, the multiple diffusers with the basic pattern are
It is characterized by being rotatable. Claim 10
The diffusion plate is the one of claims 1 to 9.
In the diffuser described, at least one of the basic patterns
One of them is the two-dimensional circumference where the arrangement of microstructures is the standard.
Characterized by the arrangement with random fluctuation added to the period
And The diffusion plate according to claim 11 is the same as that according to claim 10.
The standard deviation of the fluctuation amount of the basic pattern in the mounted diffusion plate.
Σ is the difference, and ρ is the average value of the length of the two-dimensional lattice vector.
Then, 0.04 <σ / ρ <0.2 is satisfied.

【数１】 請求項１２に記載のフォーカシングスクリーンは、微小
構造物が多数配置された基本パターンを複数重ね合わせ
ることにより形成される拡散板と、拡散板に近接して置
かれたフレネルレンズとを含み、微小構造物の配置は二
次元周期的であって、二次元周期の格子ベクトルは複数
の基本パターンごとに異なり、基本パターンのうちの少
なくともひとつは、微小構造物の配置が、基準となる二
次元周期にランダムな揺らぎを付加した配置であること
を特徴とする。 請求項１３に記載の拡散板用母型の作製
方法は、感光材料が被着された基板と微小構造物が二次
元周期的に多数配置された微細パターンが画成されたマ
スクとを所定間隔をおいて対向させ、マスク側から光照
射を行って基板の感光材料面に 微細パターンを投影して
露光したのち、感光材料を現像処理して基板に微細構造
を形成する拡散板用母型の作製方法であって、基板また
はマスクを同一平面内で所定の方位角度だけ回転変位さ
せて基板に対するマスクの相対位置を少なくとも２つ設
定し、相対位置毎に露光を行い基板に所望の微細構造を
形成することを特徴とする。 請求項１４に記載の拡散板
用母型の作製方法は、請求項１３に記載の拡散板用母型
の作製方法において、微細パターンにおける微小構造物
の配置が、基準となる二次元周期にランダムな揺らぎを
付加した配置であることを特徴とする。 [Equation 1] The focusing screen according to claim 12 is minute.
Overlaying multiple basic patterns with many structures
And the diffuser plate formed by
And a Fresnel lens that has been cut.
There are two or more two-dimensional periodic lattice vectors.
The basic pattern of the
At least one is that the placement of microstructures is the standard.
Arrangement with random fluctuation added to the dimensional period
Is characterized by. Production of the diffusion plate master die according to claim 13.
The method is that the substrate on which the photosensitive material is deposited and the microstructure are secondary.
A pattern that defines a number of fine patterns that are periodically arranged.
Face the disc with a predetermined gap and illuminate from the mask side.
To project a fine pattern onto the photosensitive material surface of the substrate.
After exposure, the photosensitive material is developed and the substrate is microstructured.
A method of manufacturing a mother plate for a diffusion plate for forming a substrate or
Is the rotational displacement of the mask in the same plane by a predetermined azimuth angle.
Set at least two relative positions of the mask to the substrate.
And expose each relative position to form the desired fine structure on the substrate.
It is characterized by forming. The diffusion plate according to claim 14.
The method for producing a master mold for a diffuser plate according to claim 13,
In the manufacturing method of
The arrangement of the random fluctuations in the standard two-dimensional period
It is characterized by an added arrangement.

【００１３】また、本発明にかかる拡散板用母型の作製
方法は、感光材料が被着された基板と微細パターンが画
成されたマスクとを所定間隔をおいて対向させ、マスク
側から光照射を行って基板の感光材料面に微細パターン
を投影して露光したのち、感光材料を現像処理して基板
に微細構造を形成する拡散板用母型の作製方法におい
て、基板またはマスクを同一平面内で所定の方位角度だ
け回転変位させて基板に対するマスクの相対位置を少な
くとも２つ設定し、相対位置毎に露光を行い基板に所望
の微細構造を形成することを特徴とする。Further, in the method for producing a diffusion plate master according to the present invention, the substrate on which the photosensitive material is adhered and the mask on which the fine pattern is defined are opposed to each other at a predetermined interval, and light is applied from the mask side. In a method for producing a master for a diffuser plate, in which a fine pattern is projected on a surface of a photosensitive material of a substrate to be exposed, and then the photosensitive material is developed to form a fine structure on the substrate. It is characterized in that at least two relative positions of the mask with respect to the substrate are set by rotationally displacing by a predetermined azimuth angle, and exposure is performed for each relative position to form a desired fine structure on the substrate.

【００１４】[0014]

【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。実施例
の拡散板は、一眼レフカメラ等のファインダーに設けら
れるフォーカシングスクリーンとして利用されるもので
あり、撮影レンズを介して入射した被写体からの光束が
結像され、撮影者はファインダーのアイピースを介して
その像を観察する。Embodiments of the present invention will be described below. The diffuser plate of the embodiment is used as a focusing screen provided in a viewfinder of a single-lens reflex camera, etc., a light flux from a subject incident through a photographing lens is imaged, and a photographer passes through an eyepiece of the viewfinder. And observe the image.

【００１５】ここでは、まず透過関数のフーリエ変換で
表される拡散板の拡散特性について説明する。規則的な
(二次元周期的)パターン構造をもった拡散板の透過関数
f(x,y) は、微小構造物の透過関数を g(x,y)、 二次元
周期の格子ベクトルを(1)式のように定義すると、(2)式
で表される。Here, the diffusion characteristics of the diffusion plate represented by the Fourier transform of the transmission function will be described first. Regular
Transmission function of diffuser with (two-dimensional periodic) pattern structure
f (x, y) is expressed by Eq. (2) if the transmission function of a microstructure is defined as g (x, y) and the lattice vector of a two-dimensional period is defined as Eq. (1).

【００１６】[0016]

【数２】 [Equation 2]

【００１７】ここで、δはディラックのデルタ関数、**
は二次元の畳み込み積分を意味する。f(x,y) のフーリ
エ変換 F(ω_x,ω_y) は、(3)式のとおりとなり、離散的
な関数になる。Where δ is the Dirac delta function, **
Means two-dimensional convolution integral. The Fourier transform F (ω _x , ω _y ) of f (x, y) is as shown in equation (3) and is a discrete function.

【００１８】[0018]

【数３】 [Equation 3]

【００１９】ここで、G(ω_x,ω_y) は g(x,y) のフーリ
エ変換である。また、(a₁,b₁)、(a₂,b₂)は、拡散特性の
二次元格子ベクトルであり、(p_x,p_y)、(q_x,q_y) との間
には、以下に示す関係がある。 D = a₁b₂-a₂b₁ = (-p_xq_y-p_yq_x)^-1 a₁ = p_yD b₁ = -p_xD a₂ = -q_yD b₂ = q_xDHere, G (ω _x , ω _y ) is the Fourier transform of g (x, y). Further, (a ₁ , b ₁ ), (a ₂ , b ₂ ) are two-dimensional lattice vectors of diffusion characteristics, and between (p _x , p _y ), (q _x , q _y ), It has the following relationships. D = a ₁ b ₂ -a ₂ b ₁ = (-p _x q _y -p _y q _x ) ^-1 a ₁ = p _y D b ₁ = -p _x D a ₂ = -q _y D b ₂ = q _x D

【００２０】また、ω_x,ω_y は拡散の観察方向の方向余
弦(α,β,γ)と波長λとを介して、以下の関係がある。 α = λω_x β = λω_y γ = √(1-α²-β²)Further, ω _x and ω _y have the following relationship via the direction cosine (α, β, γ) of the diffusion observation direction and the wavelength λ. α = λω _x β = λω _y γ = √ (1-α ² -β ² )

【００２１】次に、二次元周期パターンを有する拡散板
の具体的な性能を２例説明する。図１は、ピッチ16μm
の最密充填で直径10μm、高さ1.6μmの微小レンズを配
列した拡散板の構造を示す。そして、図２から図１０
は、図１の拡散板の光学的な性能を示す。Next, two specific examples of the performance of the diffusion plate having the two-dimensional periodic pattern will be described. Figure 1 shows a pitch of 16 μm
Shows the structure of the diffuser plate in which the close-packed are arrayed with microlenses having a diameter of 10 μm and a height of 1.6 μm. Then, from FIG. 2 to FIG.
Shows the optical performance of the diffuser plate of FIG.

【００２２】図２から図４は、それぞれ波長 450nm、55
0nm、650nmにおける拡散の具合、すなわち点光源に対す
るボケ味を視覚的に示したものであり、図中の小さな円
(点)の直径はその方向への回折光強度に相当し、大きな
円は拡散板に入射する光束のＦナンバーで外側から 2.
0、2.8、4.0、5.6、8.0 に相当する。2 to 4 show wavelengths of 450 nm and 55, respectively.
It is a visual indication of the degree of diffusion at 0 nm and 650 nm, that is, the bokeh with respect to a point light source.
The diameter of (dot) corresponds to the intensity of diffracted light in that direction, and the large circle is the F number of the light beam incident on the diffuser plate from the outside 2.
Equivalent to 0, 2.8, 4.0, 5.6, 8.0.

【００２３】図５から図７は、それぞれ波長 450nm、55
0nm、650nmにおける包含光量であり、横軸は角度座標
を、縦軸は図１の拡散板を透過する全光量を1.0 とした
ときの横軸で示される半径の円内に含まれる光量を示
す。5 to 7 show wavelengths of 450 nm and 55, respectively.
It is the included light quantity at 0 nm and 650 nm, the horizontal axis shows the angular coordinate, and the vertical axis shows the quantity of light included in the circle of the radius shown by the horizontal axis when the total quantity of light transmitted through the diffusion plate of FIG. 1 is 1.0. .

【００２４】図８から図１０は、それぞれ波長 450nm、
550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線
は横の線光源)のボケ味であり、横軸は角度座標を、縦
軸はピーク強度を1.0とした時の相対強度を示す。8 to 10 show wavelengths of 450 nm and
The bokeh of a line light source at 550 nm and 650 nm (solid line is a vertical line light source, broken line is a horizontal line light source), the horizontal axis represents angular coordinates, and the vertical axis represents relative intensity when the peak intensity is 1.0.

【００２５】なお、拡散板の性能を示す３種類の図面
は、以下の例においても添付されているが、表現方法は
同一であるので、以下の説明では簡略に記載する。Although three types of drawings showing the performance of the diffuser plate are also attached in the following examples, since the expression method is the same, they are simply described in the following description.

【００２６】図１１は、ピッチ16μmの正方充填で直径1
0μm、高さ1.6μmの微小レンズを配列した拡散板の構造
を示す。FIG. 11 shows a square packing with a pitch of 16 μm and a diameter of 1
The structure of a diffusion plate in which minute lenses of 0 μm and height of 1.6 μm are arranged is shown.

【００２７】図１２から図２０は、図１１の拡散板の光
学的な性能を示し、図１２から図１４はそれぞれ波長45
0nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図１５から図
１７はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける包含
光量、図１８から図２０はそれぞれ波長450nm、550nm、
650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線は横の線
光源)のボケ味を示す。12 to 20 show the optical performance of the diffuser plate of FIG. 11, and FIGS.
The degree of diffusion at 0 nm, 550 nm, and 650 nm, FIGS. 15 to 17 are included light amounts at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, and FIGS. 18 to 20 are wavelengths of 450 nm and 550 nm, respectively.
The bokeh of a line light source at 650 nm (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) is shown.

【００２８】これら２つの例から、二次元周期パターン
を有する拡散板は、拡散特性が離散的で波長依存性も大
きく、したがって、ボケ味が悪く色ムラも発生しやすい
ことが解る。From these two examples, it can be seen that the diffusion plate having a two-dimensional periodic pattern has a discrete diffusion characteristic and a large wavelength dependency, and therefore the blurring is poor and color unevenness is likely to occur.

【００２９】本発明による拡散板の透過関数f(x,y)
は、これを構成する基本パターンの透過関数をf₁(x,y),
f₂(x,y), f₃(x,y)…とするとき、これらの積f(x,y) =
f₁(x,y)・f₂(x,y)・f₃(x,y) … で表される。Transmission function f (x, y) of the diffuser according to the present invention
Is the transmission function of the basic pattern that constitutes this, f ₁ (x, y),
When f ₂ (x, y), f ₃ (x, y)…, their product f (x, y) =
It is represented by f ₁ (x, y) · f ₂ (x, y) · f ₃ (x, y).

【００３０】したがって、拡散板の拡散特性すなわち f
(x,y) のフーリエ変換は、 F(ω_x,ω_y) = F₁(ω_x,ω_y)**F₂(ω_x,ω_y)**F₃(ω_x,ω_y)
** … となる。ここで、F₁(ω_x,ω_y) , F₂(ω_x,ω_y) , F
₃(ω_x,ω_y) … はそれぞれ基本パターンの透過関数 f
₁(x,y) , f₂(x,y) , f₃(x,y) … のフーリエ変換であ
る。Therefore, the diffusion characteristic of the diffusion plate, that is, f
The Fourier transform of (x, y) is F (ω _x , ω _y ) = F ₁ (ω _x , ω _y ) ** F ₂ (ω _x , ω _y ) ** F ₃ (ω _x , ω _y ).
** ... Where F ₁ (ω _x , ω _y ), F ₂ (ω _x , ω _y ), F
₃ (ω _x , ω _y ) ... is the transmission function f of the basic pattern.
It is the Fourier transform of ₁ (x, y), f ₂ (x, y), f ₃ (x, y).

【００３１】それぞれの基本パターンの拡散特性は離散
的ではあるが、互いに二次元格子ベクトルが異なるの
で、これらの畳み込み積分をした結果である合成された
拡散板の拡散特性は元の基本パターンの拡散特性の離散
性よりも間が詰まったものになり、ボケ味等が改善され
る。Although the diffusion characteristics of each basic pattern are discrete, since the two-dimensional lattice vectors are different from each other, the diffusion characteristics of the synthesized diffuser plate which is the result of convolution integration of these are the diffusion characteristics of the original basic pattern. The characteristics are closer to each other than the discreteness, and the blur and the like are improved.

【００３２】次に、畳み込み積分による離散性の改善を
簡単な模式図を用いて以下に説明する。Next, the improvement of discreteness by convolutional integration will be described below with reference to a simple schematic diagram.

【００３３】図２１に示すような７個の離散的スペクト
ルが得られる拡散特性を有する基本パターンＡと、基本
パターンＡを９０゜回転して得られる基本パターンＢと
を用意する。基本パターンＢの拡散特性は、図２１を９
０゜回転した図２２のようになる。There are prepared a basic pattern A having a diffusion characteristic capable of obtaining seven discrete spectra as shown in FIG. 21 and a basic pattern B obtained by rotating the basic pattern A by 90 °. The diffusion characteristic of the basic pattern B is shown in FIG.
It looks like Figure 22 rotated by 0 °.

【００３４】そして、基本パターンＡと基本パターンＢ
とを重ね合わせて得られる拡散板の拡散特性は、図２１
と図２２の畳み込み積分を行ったものであり、図２３に
示すように７×７＝４９個の離散的スペクトルになる。
この結果を見れば、図２１、図２２の拡散特性の離散性
が図２３で改善されていることが明かである。Then, basic pattern A and basic pattern B
The diffusion characteristics of the diffusion plate obtained by superimposing
And the convolutional integration of FIG. 22 is performed, and 7 × 7 = 49 discrete spectra are obtained as shown in FIG.
From this result, it is clear that the discreteness of the diffusion characteristics of FIGS. 21 and 22 is improved in FIG.

【００３５】以下、この発明の拡散板の具体的な実施例
を説明する。Specific examples of the diffusion plate of the present invention will be described below.

【００３６】[0036]

【実施例１】図２４は、実施例１の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図２５
は実施例１のもうひとつの基本パターンを示す。図２５
の基本パターンは、図２４と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に30゜回転させて配列方向を異ならせたも
のである。[Embodiment 1] FIG. 24 shows one of the basic patterns of Embodiment 1, in which the arrangement is a close packing with a pitch of 16 μm, and the microstructure is a microlens having a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm. Figure 25
Shows another basic pattern of the first embodiment. Figure 25
The basic pattern is a pattern having the same arrangement as that shown in FIG. 24 but rotated in a relative direction by 30 ° so that the arrangement direction is different.

【００３７】図２６は、図２４と図２５の基本パターン
を重ね合わせた実施例１の拡散板の構造を示す。重ね合
わせパターンには一見周期性があるように見えるが、実
際この方向での重ね合わせの場合には周期性が存在しな
い。FIG. 26 shows the structure of the diffusion plate of Example 1 in which the basic patterns of FIGS. 24 and 25 are superposed. Although the superposition pattern seems to have periodicity at first glance, in the case of superposition in this direction, there is actually no periodicity.

【００３８】図２７から図３５は、図２６の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図２７から図２９はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図３
０から図３２はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図３３から図３５はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。なお、図３３から図
３５では線光源の方向による分布の違いがないため、実
線と破線が重ねて表されている。27 to 35 are diagrams showing the optical performance of the diffusion plate of FIG. 27 to 29 show the diffusion states at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively.
0 to FIG. 32 are included light amounts at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, and FIG. 33 to FIG.
The bokeh of line light sources (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) at m, 550 nm, and 650 nm is shown. Since there is no difference in the distribution depending on the direction of the linear light source in FIGS. 33 to 35, the solid line and the broken line are shown in an overlapping manner.

【００３９】図２から図１０と、図２７から図３５を比
較すると、二次元の周期的拡散板より実施例１の拡散板
の方が拡散特性が連続的であり、波長依存性が少なく、
良好なボケ味になることが理解できる。Comparing FIG. 2 to FIG. 10 with FIG. 27 to FIG. 35, the diffusion plate of Example 1 has a continuous diffusion characteristic and less wavelength dependency than the two-dimensional periodic diffusion plate.
It can be understood that a good bokeh is obtained.

【００４０】図３６および図３７は、図１に示した周期
的拡散板と図２６に示した実施例１の拡散板とにおけ
る、入射光束のＦナンバーと配光比率との関係を示す。
絞り開放のときには、いずれの拡散板も波長450nm、550
nm、650nmのそれぞれの光束が等比率でアイピースレン
ズを介して撮影者の眼に入射する。FIGS. 36 and 37 show the relationship between the F number of the incident light flux and the light distribution ratio in the periodic diffuser plate shown in FIG. 1 and the diffuser plate of Example 1 shown in FIG.
When the aperture is opened, both diffusion plates have wavelengths of 450 nm and 550.
The light fluxes of nm and 650 nm enter the photographer's eye through the eyepiece lens in equal proportion.

【００４１】しかしながら、光束を絞ってゆくに従い、
すなわち、Ｆナンバーが大きくなるに従い、周期的拡散
板の場合には配光比率が不均等となる。このため、ファ
インダーを介して観察される被写体像に色のムラが発生
する。これに対して、実施例１の拡散板を用いる場合に
は、Ｆナンバーが変化しても配光比率がほとんど変化せ
ず、色ムラが発生しないことが理解できる。However, as the luminous flux is reduced,
That is, as the F number increases, the light distribution ratio becomes uneven in the case of the periodic diffuser plate. Therefore, color unevenness occurs in the subject image observed through the viewfinder. On the other hand, when the diffuser plate of Example 1 is used, it can be understood that the light distribution ratio hardly changes even if the F number changes, and color unevenness does not occur.

【００４２】[0042]

【実施例２】図３８は、実施例２の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図３９
は実施例２のもうひとつの基本パターンを示す。図３９
の基本パターンは、図３８と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に21.78゜回転させて配列方向を異ならせた
ものである。[Embodiment 2] FIG. 38 shows one of the basic patterns of Embodiment 2, in which the arrangement is the closest packing with a pitch of 16 μm, and the microstructure is a microlens having a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm. FIG. 39
Shows another basic pattern of the second embodiment. FIG. 39
The basic pattern is a pattern having the same arrangement as that of FIG. 38, but the arrangement direction is changed by relatively rotating it by 21.78 °.

【００４３】図４０は、図３８と図３９の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例２の拡散板の構造を示
す。この相対的回転角度においては、重ね合わせパター
ンもまた周期的になる。FIG. 40 shows the structure of the diffusion plate of Example 2 obtained by superimposing the basic patterns of FIGS. 38 and 39. At this relative rotation angle, the overlay pattern is also periodic.

【００４４】図４１から図４９は、図４０の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図４１から図４３はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図４
４から図４６はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図４７から図４９はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。41 to 49 are views showing the optical performance of the diffusion plate of FIG. 41 to 43 show the diffusion states at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively.
4 to FIG. 46 are the included light amounts at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively, and FIGS. 47 to 49 are the wavelengths of 450 n respectively.
The bokeh of line light sources (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) at m, 550 nm, and 650 nm is shown.

【００４５】実施例２では、重ね合わせパターンも周期
的となるため、拡散特性に離散性は残るが、図２から図
１０で示される最密充填単独の拡散板の性能と比較する
と、特性が非常に改良されているのが解る。また、単純
に周期構造のピッチを大きくしただけのものと違い、拡
散板の構造は視認されにくい。In the second embodiment, since the superposition pattern is also periodical, the diffusion characteristics remain discrete, but the characteristics are different as compared with the performance of the close-packing-only diffusion plate shown in FIGS. You can see that it has been greatly improved. Further, unlike the structure in which the pitch of the periodic structure is simply increased, the structure of the diffusion plate is hard to be visually recognized.

【００４６】[0046]

【実施例３】図５０は、実施例３の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図５１
は実施例３のもうひとつの基本パターンを示し、配列は
ピッチ10.67μmの最密充填、微小構造物は直径6.67μ
m、高さ1.2μmの微小レンズであり、配列方向は図５０
のパターンと同一である。[Third Embodiment] FIG. 50 shows one of the basic patterns of the third embodiment, in which the arrangement is the closest packing with a pitch of 16 μm, and the fine structure is a fine lens having a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm. FIG. 51
Shows another basic pattern of Example 3, where the arrangement is the closest packing with a pitch of 10.67 μm, and the microstructure has a diameter of 6.67 μm.
It is a micro lens of m and height of 1.2 μm, and the arrangement direction is as shown in FIG.
Is the same as the pattern.

【００４７】図５２は、図５０と図５１の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例３の拡散板の構造を示
す。この実施例の場合には、重ね合わせパターンもまた
周期的になる。FIG. 52 shows the structure of the diffusion plate of Example 3 obtained by superposing the basic patterns of FIGS. 50 and 51. In the case of this embodiment, the overlay pattern is also periodic.

【００４８】図５３から図６１は、図５２の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図５３から図５５はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図５
６から図５８はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図５９から図６１はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。53 to 61 are diagrams showing the optical performance of the diffusion plate of FIG. 53 to 55 show the diffusion states at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively.
6 to FIG. 58 are included light amounts at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively, and FIGS. 59 to 61 are at wavelengths of 450 n.
The bokeh of line light sources (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) at m, 550 nm, and 650 nm is shown.

【００４９】実施例３では、重ね合わせパターンも周期
的となるため、拡散特性に離散性は残るが、図２から図
１０で示される最密充填単独の拡散板の性能と比較する
と、特性が非常に改良されているのが解る。また、単純
に周期構造のピッチを大きくしただけのものと違い、拡
散板の構造は視認されにくい。In the third embodiment, since the superposition pattern is also periodical, the diffusion characteristic remains discrete, but compared with the performance of the diffuser plate of the closest packing alone shown in FIG. 2 to FIG. You can see that it has been greatly improved. Further, unlike the structure in which the pitch of the periodic structure is simply increased, the structure of the diffusion plate is hard to be visually recognized.

【００５０】なお、実施例３では、ピッチの異なる基本
パターンを同一の方向性を持たせて重ね合わせることに
より拡散板を形成しているが、さらにこれを実施例１や
２のように所定角度相対的に回転させて重ね合わせても
良い。In the third embodiment, the diffuser plate is formed by stacking the basic patterns having different pitches with the same directionality, but the diffuser plate is formed at a predetermined angle as in the first and second embodiments. You may rotate relatively and may pile up.

【００５１】[0051]

【実施例４】図６２は、実施例４の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの正方充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図６３
は実施例４のもうひとつの基本パターンを示す。図６３
の基本パターンは、図６２と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に４５゜回転させて配列方向を異ならせた
ものである。[Embodiment 4] FIG. 62 shows one of the basic patterns of Embodiment 4, wherein the array is a square filling with a pitch of 16 μm, and the microstructure is a microlens with a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm. Fig. 63
Shows another basic pattern of the fourth embodiment. Fig. 63
The basic pattern of (1) is a pattern having the same arrangement as that of FIG.

【００５２】図６４は、図６２と図６３の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例４の拡散板の構造を示
す。重ね合わせパターンには一見周期性があるように見
えるが、実際この方向での重ね合わせの場合には周期性
が存在しない。FIG. 64 shows the structure of the diffusion plate of Example 4 obtained by superimposing the basic patterns of FIGS. 62 and 63. Although the superposition pattern seems to have periodicity at first glance, in the case of superposition in this direction, there is actually no periodicity.

【００５３】図６５から図７３は、図６４の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図６５から図６７はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図６
８から図７０はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図７１から図７３はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。65 to 73 are views showing the optical performance of the diffusion plate of FIG. 65 to 67 show the diffusion states at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively.
8 to 70 are included light amounts at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, respectively, and FIGS. 71 to 73 are at wavelengths of 450 n, respectively.
The bokeh of line light sources (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) at m, 550 nm, and 650 nm is shown.

【００５４】なお、図７１から図７３では、線光源の方
向による分布の違いがないため、実線と破線とが重ねて
表されている。71 to 73, since there is no difference in distribution depending on the direction of the linear light source, the solid line and the broken line are shown in an overlapping manner.

【００５５】[0055]

【実施例５】図７４は、実施例５の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図７５
は実施例５のもうひとつの基本パターンを示し、配列は
ピッチ16μmの正方充填、微小構造物は直径10μm、高さ
1.2μmの微小レンズである。これらの格子ベクトルは、
以下の表１に示される。[Embodiment 5] FIG. 74 shows one of the basic patterns of Embodiment 5, in which the arrangement is a close packing with a pitch of 16 μm, and the microstructure is a microlens with a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm. Fig. 75
Shows another basic pattern of Example 5, the arrangement is square filling with a pitch of 16 μm, the microstructure is 10 μm in diameter, and the height is
It is a 1.2 μm micro lens. These lattice vectors are
It is shown in Table 1 below.

【００５６】[0056]

【表１】 [Table 1]

【００５７】図７６は、図７４と図７５の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例５の拡散板の構造を示
す。重ね合わせパターンには一見周期性があるように見
えるが、実際この配列の重ね合わせの場合には周期性が
存在しない。FIG. 76 shows the structure of the diffusion plate of Example 5 obtained by superimposing the basic patterns of FIGS. 74 and 75. Although the superposition pattern seems to have periodicity at first glance, in the case of superposition of this array, there is actually no periodicity.

【００５８】図７７から図８５は、図７６の拡散板の光
学的な性能を示す。図７７から図７９はそれぞれ波長45
0nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図８０から図
８２はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける包含
光量、図８３から図８５はそれぞれ波長450nm、550nm、
650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線は横の線
光源)のボケ味を示す。77 to 85 show the optical performance of the diffuser plate of FIG. 77 to 79 show wavelengths of 45
The degree of diffusion at 0 nm, 550 nm, and 650 nm, FIGS. 80 to 82 are the included light amounts at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, and FIGS. 83 to 85 are the wavelengths of 450 nm and 550 nm, respectively.
The bokeh of a line light source at 650 nm (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) is shown.

【００５９】以上の実施例に示した微小構造物は、すべ
て微小レンズで、基本パターンに垂直な方向から見た形
状は円形であり、これがもっとも好ましい形状ではある
が、図８６に示すような六角錐を並び詰めたような基本
パターンの複数を配列方向を変えて重ね合わせても、畳
み込み積分により、拡散特性の離散性が改善され、ボケ
味が良くなり、色ムラが少なくなるという本発明の効果
はある。The microstructures shown in the above embodiments are all microlenses, and the shape viewed from the direction perpendicular to the basic pattern is circular, which is the most preferable shape, but it is not limited to the hexagonal shape shown in FIG. Even when a plurality of basic patterns, such as pyramids arranged side by side, are overlapped by changing the array direction, the convolution integration improves discreteness of diffusion characteristics, improves blurring, and reduces color unevenness. There is an effect.

【００６０】周期的基本パターンの拡散特性の各離散ス
ペクトルの相対的強度を決めているもの(包絡面)は、微
小構造物の透過関数g(x,y) のフーリエ変換G(ω_x,ω_y)
であるから、g(x,y)が回転対称であればG(ω_x,ω_y)も回
転対称になる。基本パターンを重ね合わせた拡散板の拡
散特性の包絡面は、回転対称な関数の畳み込み積分であ
るから、これもまた回転対称となる。したがって、微小
構造物の、基本パターンに垂直な方向から見た形状は、
円形であるとより好ましいボケ味になる。What determines the relative intensity of each discrete spectrum of the diffusion characteristic of the periodic basic pattern (envelope surface) is the Fourier transform G (ω _x , ω) of the transmission function g (x, y) of the microstructure. _y )
Therefore, if g (x, y) is rotationally symmetric, then G (ω _x , ω _y ) is also rotationally symmetric. The envelope surface of the diffusion characteristics of the diffuser plate on which the basic patterns are superposed is a convolution integral of a rotationally symmetric function, and thus is also rotationally symmetric. Therefore, the shape of the microstructure seen from the direction perpendicular to the basic pattern is
A circular shape provides a more preferable bokeh.

【００６１】[0061]

【実施例６】図８７は、実施例６の拡散板の具体的な配
置の断面形状を示す。この例では、第１の基本パターン
が形成された第１の拡散板１と第２の基本パターンが形
成された第２の拡散板２とが向い合わせて配置されてい
る。本発明の拡散板は、後述する作製方法によって、物
理的にひとつの面内に形成することもできるが、図８７
に示すように基本パターンが形成された物理的に異なる
複数個の拡散面を近接して配置して構成することもでき
る。[Embodiment 6] FIG. 87 shows a cross-sectional shape of a specific arrangement of the diffusion plate of the embodiment 6. In this example, the first diffuser plate 1 having the first basic pattern formed thereon and the second diffuser plate 2 having the second basic pattern formed thereon are arranged to face each other. The diffusing plate of the present invention can be physically formed in one plane by the manufacturing method described later.
It is also possible to arrange a plurality of physically different diffusion surfaces on which the basic pattern is formed, as shown in FIG.

【００６２】なお、図８７では凹の微小構造物３が配列
されているように描かれているが、同じ形状の凸の微小
構造物の配列でも拡散効果は同一である。In FIG. 87, the concave microstructures 3 are drawn as arrayed, but the diffusion effect is the same even when the convex microstructures of the same shape are arrayed.

【００６３】[0063]

【実施例７】図８８は、実施例７の拡散板の平面図を示
す。この実施例では、基本パターンが形成された部材４
と、部材４と同じ基本パターンが形成された部材５が、
パターン面と垂直な回転軸回りに互いに回転可動になっ
ている。φは両部材のなす角度で-15゜から+15゜の範囲を
取り、φ=-15゜のときに両部材に形成されている基本パ
ターンが同じ配列方向になるように設定されている。Seventh Embodiment FIG. 88 shows a plan view of a diffusion plate of the seventh embodiment. In this embodiment, the member 4 on which the basic pattern is formed
And the member 5 having the same basic pattern as the member 4,
It is mutually rotatable about a rotation axis perpendicular to the pattern surface. φ is an angle formed by both members and ranges from -15 ° to + 15 °. When φ = -15 °, the basic patterns formed on both members have the same arrangement direction.

【００６４】基本パターンは図２４と同一であり、ピッ
チ16μmの最密充填で直径10μm、高さ1.2μmの微小レン
ズが配列して構成されている。The basic pattern is the same as that shown in FIG. 24, and it is constructed by arranging microlenses having a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm by the closest packing with a pitch of 16 μm.

【００６５】図８９から図９７は、実施例７の拡散板の
φ=-15゜の場合の光学的な性能を示す図である。図８９
から図９１はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおけ
る拡散の具合、図９２から図９４はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける包含光量、図９５から図９７
はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける線光源(実
線は縦の線光源、破線は横の線光源)のボケ味を示す。89 to 97 are diagrams showing the optical performance of the diffuser plate of Example 7 when φ = −15 °. Fig. 89
91 to FIG. 91 show the degree of diffusion at wavelengths of 450 nm, 550 nm and 650 nm, respectively, and FIGS.
Inclusion light intensity at m, 550 nm, and 650 nm, FIGS. 95 to 97
Shows the blurring of line light sources (solid line is vertical line light source, broken line is horizontal line light source) at wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, respectively.

【００６６】回動角度φを変化させることにより、図４
０の拡散板(φ=6.78゜)や図２６の拡散板(φ=15゜)を含
む、様々な光学性能を有する拡散板を作り出すことが可
能となる。撮影者は例えば、よりきれいなボケ味を好む
場合にはφ=15゜、より滑らかなマット構造を好む場合に
はφ=6.78゜、意図的に多線ボケを利用してピントを確認
したい場合にはφ=-15゜というように、自分の好みとす
る拡散状態を選択できるようになる。By changing the rotation angle φ, as shown in FIG.
It is possible to create diffusers having various optical performances, including a diffuser of 0 (φ = 6.78 °) and a diffuser of FIG. 26 (φ = 15 °). For example, the photographer can use φ = 15 ° if he / she wants a cleaner bokeh, or φ = 6.78 ° if he / she wants a smoother matte structure. Will be able to select the diffusion state you like, such as φ = -15 °.

【００６７】以上のように、微小構造物が二次元周期的
に配列された基本パターンを複数重ね合わせることによ
り、明るく、ボケ味が良く、色ムラのない拡散板を作製
することができる。しかし、この拡散板には、(周期的
ではない重ね合わせパターンができる場合にも)パター
ンに規則性が存在し、一眼レフカメラのフォーカシング
スクリーンとして用いる場合、コンデンサレンズとして
スクリーンの手前に配置されるフレネルレンズのパター
ンとの間でモアレ縞を発生させ、構図や像のボケ具合の
確認が妨げられる虞がある。As described above, by superimposing a plurality of basic patterns in which minute structures are arranged two-dimensionally and periodically, it is possible to manufacture a diffuser plate which is bright, has good blurring, and has no color unevenness. However, this diffuser plate has regularity in the pattern (even when a non-periodic overlapping pattern is formed), and when used as a focusing screen of a single-lens reflex camera, it is arranged as a condenser lens in front of the screen. Moire fringes may be generated between the pattern of the Fresnel lens and confirmation of the composition and the degree of blurring of the image may be hindered.

【００６８】図９８は、フレネルレンズの３６×２４mm
の範囲を示す模式図であり、図９９は図２６に示した拡
散板と図９８のフレネルレンズとを重ねた場合に視認さ
れるモアレ縞を示す。FIG. 98 shows a Fresnel lens 36 × 24 mm.
99 is a schematic diagram showing the range of FIG. 99, and FIG. 99 shows moire fringes visually recognized when the diffusion plate shown in FIG. 26 and the Fresnel lens shown in FIG. 98 are overlapped.

【００６９】上記欠点を解決するため、重ね合わせられ
る基本パターンのうちの少なくともひとつは、微小構造
物の配置が、基準となる二次元周期にランダムな揺らぎ
を付加した配置であるようにすることにより、非規則的
な重ね合わせパターンを形成し、モアレ縞の発生を防止
している。In order to solve the above-mentioned drawback, at least one of the basic patterns to be superposed is arranged such that the microstructures are arranged such that random fluctuations are added to the reference two-dimensional period. By forming an irregular superposition pattern, generation of moire fringes is prevented.

【００７０】[0070]

【数４】 [Equation 4]

【００７１】フレネルレンズとの間で発生するモアレ縞
を目だたなくするには揺らぎ量を大きくすれば良いが、
大きくし過ぎるとザラツキ感が現れフォーカシングスク
リーンとしての品位を損なうことになる。To suppress the moire fringes generated between the Fresnel lens and the Fresnel lens, it is sufficient to increase the fluctuation amount.
If it is made too large, a grainy feeling will appear and the quality as a focusing screen will be impaired.

【００７２】発明者らの実験によれば、格子ベクトルの
長さが16μmの最密充填の基本パターンを互いに 90゜回
転して重ね合わせた拡散板に対して、揺らぎ量の標準偏
差σ[μm]とフレネルレンズとのモアレ縞の目だちにく
さ・ザラツキ感のなさの関係は以下の表２の通りであっ
た。表中の記号×は、モアレが目立つこと、ザラツキ感
があること、△はモアレがほぼ目立たないこと、ザラツ
キ感がほぼないこと、○はモアレが目立たないこと、ザ
ラツキ感がないことを意味する。According to the experiments by the inventors, a standard deviation σ [μm of the fluctuation amount is obtained with respect to the diffuser plate in which the close-packed basic patterns each having a lattice vector length of 16 μm are rotated by 90 ° and superposed on each other. ] And the Fresnel lens have a relationship between moire fringes that are not noticeable and have no feeling of roughness, as shown in Table 2 below. The symbol x in the table means that the moire is noticeable and has a feeling of roughness, △ means that the moire is hardly noticeable, that there is almost no feeling of roughness, and ○ means that the moire is not noticeable and there is no feeling of roughness. .

【００７３】[0073]

【表２】 [Table 2]

【００７４】この表から、適当な性能の拡散板を得るた
めには、揺らぎ量に適正な範囲があることがわかる。具
体的には、揺らぎ量の標準偏差σは、格子ベクトルの長
さの平均値ρに対して以下の範囲にあることが望まし
い。 ０．０４＜σ／ρ＜０．２From this table, it can be seen that the fluctuation amount has an appropriate range in order to obtain a diffusion plate having appropriate performance. Specifically, it is desirable that the standard deviation σ of the fluctuation amount be in the following range with respect to the average value ρ of the lengths of the lattice vectors. 0.04 <σ / ρ <0.2

【００７５】[0075]

【数５】 [Equation 5]

【００７６】[0076]

【実施例８】図１０１は、実施例８の第１の基本パター
ンを示す直径０．４mmの範囲の拡大図である。微小構造
物は直径１０μm、高さ１．２μmの微小レンズである。
そして、図１０２は、第１の基本パターンを９０°回転
してできる第２の基本パターンの説明図である。これら
の基本パターンの格子ベクトル及び揺らぎ量の標準偏差
は以下の表３のとおりである。[Embodiment 8] FIG. 101 is an enlarged view showing a first basic pattern of Embodiment 8 in a range of a diameter of 0.4 mm. The microstructure is a microlens having a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm.
FIG. 102 is an explanatory diagram of a second basic pattern formed by rotating the first basic pattern by 90 °. Table 3 below shows the standard deviations of the lattice vector and fluctuation amount of these basic patterns.

【００７７】[0077]

【表３】 [Table 3]

【００７８】図１０３は、図１０１と図１０２との基本
パターンを重ね合わせた拡散板の実施例８の構造でσ／
ρ＝0.088 となっている。FIG. 103 shows the structure of Example 8 of the diffusion plate in which the basic patterns of FIGS.
ρ = 0.088.

【００７９】[0079]

【実施例９】図１０４は、実施例９の第１の基本パター
ンを示す直径０．４mmの範囲の拡大図である。微小構造
物は直径１０μm、高さ１．２μmの微小レンズである。
そして、図１０５は、第２の基本パターンの説明図であ
る。これらの基本パターンの格子ベクトル及び揺らぎ量
の標準偏差は以下の表４のとおりである。[Embodiment 9] FIG. 104 is an enlarged view of a first basic pattern of Embodiment 9 in a range of a diameter of 0.4 mm. The microstructure is a microlens having a diameter of 10 μm and a height of 1.2 μm.
FIG. 105 is an explanatory diagram of the second basic pattern. Table 4 below shows the standard deviations of the lattice vector and the fluctuation amount of these basic patterns.

【００８０】[0080]

【表４】 [Table 4]

【００８１】図１０６は、図１０４と図１０５との基本
パターンを重ね合わせた拡散板の実施例８の構造でσ／
ρ＝0.044となっている。FIG. 106 shows the structure of Example 8 of the diffusion plate in which the basic patterns of FIGS.
ρ = 0.044.

【００８２】上記のように重ね合わせられる基本パター
ンの少なくともひとつに揺らぎを付加することにより、
得られる重ね合わせパターンは非規則的となり、フレネ
ルレンズとのモアレ縞が発生し難くなる。また、揺らぎ
のないパターンを重ね合わせて得られる拡散板よりも、
より自然なボケ味を出すことができると共に、色ムラも
減少させることができる。By adding fluctuation to at least one of the basic patterns that are superimposed as described above,
The resulting superposition pattern becomes irregular, and moire fringes with the Fresnel lens are less likely to occur. In addition, compared to a diffusion plate obtained by overlapping patterns without fluctuation,
A more natural bokeh can be produced, and color unevenness can be reduced.

【００８３】[0083]

【実施例１０】図１０７は、実施例１０のフォーカシン
グスクリーンの断面形状を示す。複数のパターンを重ね
合わせた拡散板７を物理的にひとつの面内に形成し、拡
散面でない側にフレネルレンズ８を形成したものであ
る。[Embodiment 10] FIG. 107 shows a sectional shape of a focusing screen according to Embodiment 10. A diffuser plate 7 in which a plurality of patterns are superposed is physically formed on one surface, and a Fresnel lens 8 is formed on the side not on the diffuser surface.

【００８４】[0084]

【実施例１１】図１０８は、実施例１１のフォーカシン
グスクリーンの断面形状を示す。基本パターン９および
１０を異なる部材１１および１２の向かい合う面に形成
し、部材１２の拡散面でない側にフレネルレンズ１３を
形成したものである。[Embodiment 11] FIG. 108 shows a sectional shape of a focusing screen according to an embodiment 11. The basic patterns 9 and 10 are formed on the surfaces of different members 11 and 12 that face each other, and the Fresnel lens 13 is formed on the side of the member 12 that is not the diffusion surface.

【００８５】[0085]

【実施例１２】以下に、本発明に係わる拡散板用母型の
作製方法の実施例を説明する。[Embodiment 12] An embodiment of a method for producing a diffusion plate master according to the present invention will be described below.

【００８６】図１０９において、１４は例えばガラスか
らなる基板で、基板１４には感光材料として２〜３μｍ
程度の膜厚範囲で均一なポジ型フォトレジスト膜１５が
スピンコート法により被着されている。In FIG. 109, 14 is a substrate made of, for example, glass, and the substrate 14 has a photosensitive material of 2 to 3 μm.
A positive photoresist film 15 having a uniform film thickness range is deposited by spin coating.

【００８７】１６は、ポジ型フォトレジスト膜１５に所
定のパターンを露光するためのガラスからなるマスク
で、マスク１６には図１１０に示すようにクロムからな
るドット状の微細パターン１７が断面凸状に形成されて
いる。微細パターン１７は１０〜２０μｍの直径を有
し、互いに１５〜２０μｍのピッチで離間している。Reference numeral 16 denotes a mask made of glass for exposing the positive photoresist film 15 to a predetermined pattern. The mask 16 has a dot-shaped fine pattern 17 made of chromium as shown in FIG. Is formed in. The fine patterns 17 have a diameter of 10 to 20 μm and are spaced from each other at a pitch of 15 to 20 μm.

【００８８】マスク１６は図１０９に示すように、ポジ
型フォトレジスト膜１５に微細パターン１７を対向させ
て基板１４から所定間隔Δｔ(約７５μｍ)をおいて位置
合わせされている。As shown in FIG. 109, the mask 16 is aligned with the positive photoresist film 15 so that the fine pattern 17 is opposed to the substrate 14 with a predetermined distance Δt (about 75 μm) from the substrate 14.

【００８９】このような基板１４とマスク１６の位置関
係を保ちつつ、マスク１６の微細パターン１７の背後か
ら紫外光１８を所定時間照射してポジ型フォトレジスト
膜１５の表面に微細パターン１７を投影して露光する。While maintaining such a positional relationship between the substrate 14 and the mask 16, ultraviolet light 18 is irradiated from behind the fine pattern 17 of the mask 16 for a predetermined time to project the fine pattern 17 on the surface of the positive photoresist film 15. Exposure.

【００９０】次に、図１１１に示すように、マスク１６
を同一平面内で(紙面に直交する回転軸Ｌを中心として)
所定の方位角度θ(図１１０では５゜)だけ回転変位させ
て前述と同様の露光を行う。Next, as shown in FIG. 111, the mask 16
In the same plane (centering on the rotation axis L orthogonal to the paper surface)
The same exposure as described above is performed by rotationally displacing a predetermined azimuth angle θ (5 ° in FIG. 110).

【００９１】これらの工程を経た後、基板１４を現像処
理することによってポジ型フォトレジスト膜１５には、
図１１２(ａ)に示すような微細パターンの重なりを持っ
た新たな微細パターン１９が投影された凹凸レリーフが
形成される。After passing through these steps, the substrate 14 is developed to form a positive type photoresist film 15 with
An uneven relief is formed by projecting a new fine pattern 19 having fine pattern overlaps as shown in FIG. 112 (a).

【００９２】このようにして得られた凹凸レリーフは、
単純な形状ではなく、凹凸の大きさや起伏の度合いが適
度に異なったものとなっている。つまり、図１１２(ａ)
中Ａ−Ａ部によって形成される凹凸形状断面は、図１１
２(ｂ)に示すように、微細パターン１９を構成するドッ
ト２０が重なり合って投影される部分Ｘ、ドット２０が
単独で投影される部分Ｙ、ドット２０の他の部分Ｚの順
で低くなっている。The uneven relief thus obtained is
The shape is not a simple one, but the size of the unevenness and the degree of undulation are moderately different. That is, FIG. 112 (a)
The uneven cross section formed by the middle AA portion is shown in FIG.
As shown in FIG. 2 (b), a portion X in which the dots 20 constituting the fine pattern 19 are projected in an overlapping manner, a portion Y in which the dots 20 are individually projected, and a portion Z in which the dots 20 are projected become lower in this order. There is.

【００９３】また、ポジ型フォトレジスト膜１５とマス
ク１６との間隔Δｔは、紫外光１８が散乱して微細パタ
ーン１７に回り込める程度に約７５μｍとされているの
で、ドット２０以外の部分も直線的な形状ではなく曲線
的で緩やかな斜面を呈し、微細パターン１９全体は緩や
かな起伏となっている。Further, the interval Δt between the positive photoresist film 15 and the mask 16 is set to about 75 μm so that the ultraviolet light 18 can be scattered and flow into the fine pattern 17, so that the portion other than the dot 20 is also a straight line. The fine pattern 19 as a whole has a gentle undulation, which is not a regular shape but a curved and gentle slope.

【００９４】こうして基板１４は拡散板用母型として成
形され、基板１４をもとにして電鋳金型を製造し、射出
成形等を用い光学樹脂に転写することにより、拡散性に
優れ、粒状性のない明るく自然なボケを呈する拡散板を
製造することができる。Thus, the substrate 14 is formed as a mother plate for a diffusion plate, an electroformed mold is manufactured based on the substrate 14, and transferred to an optical resin by injection molding or the like, so that the substrate 14 has excellent diffusivity and granularity. It is possible to manufacture a diffuser plate that exhibits a bright and natural blur without any blur.

【００９５】なお、マスク１６は典型的には、フォトリ
ソグラフ法により製造する。図１の規則的パターンや図
１０１に示したような位置の揺らぎを持ったパターンを
フォトプロッタ等で描き、レチクルを作製する。このレ
チクルを縮小投影し、段階的に移動させつつ露光を繰り
返して所望の大きさのマスクを作製する。微細パターン
の寸法、間隔等は、拡散板に求められる性能に応じて任
意に選択でき、また、ランダムな位置の揺らぎも計算機
による疑似乱数で任意にコントロールできる。The mask 16 is typically manufactured by a photolithography method. A reticle is manufactured by drawing a regular pattern shown in FIG. 1 or a pattern having positional fluctuations shown in FIG. 101 with a photoplotter or the like. This reticle is projected on a reduced scale, and exposure is repeated while moving the reticle stepwise to manufacture a mask of a desired size. The dimensions, intervals, etc. of the fine patterns can be arbitrarily selected according to the performance required for the diffusion plate, and random position fluctuations can also be controlled arbitrarily by a pseudo-random number generated by a computer.

【００９６】以上、基本パターンとしては二次元周期パ
ターン、または二次元周期を基準としてランダムな位置
の揺らぎを付加した基本パターンを重ね合わせて、拡散
板を構成したが、拡散板全体に渡って均一の周期である
必要はない。すなわち、拡散板の中央部分と周辺部分と
で、異なる構造の基本パターンを用いて、特性の異なる
拡散板を得るなどの変形も可能である。As described above, as the basic pattern, the two-dimensional periodic pattern or the basic pattern with random position fluctuations added thereto based on the two-dimensional period is overlapped to form the diffuser plate, but it is uniform over the entire diffuser plate. It does not have to be a cycle of. That is, it is possible to make modifications such as obtaining diffuser plates having different characteristics by using basic patterns having different structures in the central portion and the peripheral portion of the diffuser plate.

【００９７】母型の作製方法においてはマスクを相対的
に回転して多重露光を行う方法について示したが、最初
から重ね合わせパターンが描画されたマスクを用いて一
回で露光する方法でもほぼ同様の結果が得られる。In the method of manufacturing the master block, the method of performing multiple exposure by relatively rotating the mask has been described, but the method of performing exposure at once using the mask on which the overlay pattern is drawn is almost the same. The result of is obtained.

【００９８】また、重ね合わせの多重度は２段でかなり
の効果があるが、３段以上重ねたものも本発明の範囲外
ではない。Further, when the multiplicity of superposition is two stages, a considerable effect is obtained, but a superposition of three or more stages is not outside the scope of the present invention.

【００９９】[0099]

【効果】この発明の拡散板によれば、拡散特性をコント
ロールしてザラツキ感のない明るい視界を確保すること
ができ、多線ボケや色ムラを生じることなく、かつ、拡
散板の構造やフレネルレンズとのモアレ縞が視認されな
い拡散板を提供することができる。According to the diffusion plate of the present invention, it is possible to control the diffusion characteristics to secure a bright field of view without graininess, without causing multi-line blurring and color unevenness, and in the structure and Fresnel of the diffusion plate. It is possible to provide a diffuser plate in which moire fringes with the lens are not visually recognized.

【０１００】また、周期的拡散板では微小構造物に僅か
でも構造的欠陥があると目だつが、この発明の拡散板で
は多少の欠陥があっても目だたないため、結果的に良品
率を向上させることができる。Further, in the periodic diffuser plate, it is noticeable that the microstructure has a slight structural defect, but in the diffuser plate of the present invention, it is not noticeable even if there are some defects. Can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】 最密充填による拡散板の構造を示す図であ
る。FIG. 1 is a diagram showing a structure of a diffusion plate by closest packing.

【図２】 図１の拡散板による波長450nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 2 is a diagram visually showing the blurring of a point image at a wavelength of 450 nm by the diffusion plate of FIG.

【図３】 図１の拡散板による波長550nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 3 is a diagram visually showing the blurring of a point image at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of FIG.

【図４】 図１の拡散板による波長650nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。4 is a diagram visually showing the blurring of a point image at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of FIG.

【図５】 図１の拡散板による波長450nmにおける拡散
光の分布を、図２の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。5 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of FIG. 1 as a relationship between the radius from the center of FIG. 2 and the amount of light within a circle of that radius.

【図６】 図１の拡散板による波長550nmにおける拡散
光の分布を、図３の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。6 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of FIG. 1 as a relationship between the radius from the center of FIG. 3 and the amount of light within a circle of that radius.

【図７】 図１の拡散板による波長650nmにおける拡散
光の分布を、図４の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。7 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of FIG. 1 as a relationship between the radius from the center of FIG. 4 and the amount of light within a circle of that radius.

【図８】 図１の拡散板による波長450nmにおける拡散
光の分布を、図２の縦軸、横軸方向に積分したもので、
それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。FIG. 8 is a distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm obtained by the diffuser plate of FIG. 1 integrated in the vertical axis and the horizontal axis direction of FIG.
It is a graph which shows the blurring of a vertical line and a horizontal line, respectively.

【図９】 図１の拡散板による波長550nmにおける拡散
光の分布を、図３の縦軸、横軸方向に積分したもので、
それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。FIG. 9 is a graph in which the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of FIG. 1 is integrated in the vertical axis and the horizontal axis direction of FIG.
It is a graph which shows the blurring of a vertical line and a horizontal line, respectively.

【図１０】 図１の拡散板による波長650nmにおける拡
散光の分布を、図４の縦軸、横軸方向に積分したもの
で、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。10 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of FIG. 1 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 4 and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図１１】 正方充填による拡散板の構造を示す図であ
る。FIG. 11 is a diagram showing a structure of a diffusion plate by square filling.

【図１２】 図１１の拡散板による波長450nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 12 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of FIG. 11.

【図１３】 図１１の拡散板による波長550nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 13 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of FIG.

【図１４】 図１１の拡散板による波長650nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。14 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of FIG.

【図１５】 図１１の拡散板による波長450nmにおける
拡散光の分布を、図１２の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。15 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of FIG. 11 as a relationship between the radius from the center of FIG. 12 and the amount of light within a circle of that radius.

【図１６】 図１１の拡散板による波長550nmにおける
拡散光の分布を、図１３の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。16 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of FIG. 11 as a relationship between the radius from the center of FIG. 13 and the amount of light within a circle of that radius.

【図１７】 図１１の拡散板による波長650nmにおける
拡散光の分布を、図１４の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。17 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of FIG. 11 as a relationship between the radius from the center of FIG. 14 and the amount of light within a circle of that radius.

【図１８】 図１１の拡散板による波長450nmにおける
拡散光の分布を、図１２の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 18 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of FIG. 11 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 12 and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図１９】 図１１の拡散板による波長550nmにおける
拡散光の分布を、図１３の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 19 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of FIG. 11 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 13 and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図２０】 図１１の拡散板による波長650nmにおける
拡散光の分布を、図１４の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。20 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of FIG. 11 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 14 and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図２１】 離散的な拡散特性の模式図である。FIG. 21 is a schematic diagram of discrete diffusion characteristics.

【図２２】 離散的な拡散特性の模式図で、図２１を９
０゜回転したものである。FIG. 22 is a schematic diagram of a discrete diffusion characteristic, which is shown in FIG.
It was rotated 0 °.

【図２３】 図２１の拡散特性と図２２の拡散特性を畳
み込み積分した拡散特性であり、本発明の原理を説明す
る図である。FIG. 23 is a diffusion characteristic obtained by convolving the diffusion characteristic of FIG. 21 and the diffusion characteristic of FIG. 22, and is a diagram for explaining the principle of the present invention.

【図２４】 実施例１の基本パターンのひとつを示す図
である。FIG. 24 is a diagram showing one of the basic patterns of the first embodiment.

【図２５】 実施例１の基本パターンの他のひとつを示
す図である。FIG. 25 is a diagram showing another one of the basic patterns of the first embodiment.

【図２６】 図２４の基本パターンと図２５の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例１の構
造を示す図である。26 is a diagram showing the structure of Example 1 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 24 and the basic pattern of FIG. 25 are superposed.

【図２７】 実施例１の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 27 is a diagram visually showing the bokeh of a point image at a wavelength of 450 nm formed by the diffusion plate of Example 1.

【図２８】 実施例１の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。28 is a diagram visually showing the blurring of a point image at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of Example 1. FIG.

【図２９】 実施例１の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 29 is a view visually showing the blur of a point image at a wavelength of 650 nm by the diffusion plate of Example 1.

【図３０】 実施例１の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図２７の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。30 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 1 as a relationship between the radius from the center of FIG. 27 and the amount of light within a circle of that radius.

【図３１】 実施例１の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図２８の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。31 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of Example 1 as a relationship between the radius from the center of FIG. 28 and the amount of light within a circle of that radius.

【図３２】 実施例１の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図２９の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。32 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 1 as a relationship between the radius from the center of FIG. 29 and the amount of light within a circle of that radius.

【図３３】 実施例１の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図２７の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 33 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffusion plate of Example 1 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 27, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図３４】 実施例１の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図２８の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 34 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of Example 1 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 28, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図３５】 実施例１の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図２９の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 35 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffusion plate of Example 1 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 29, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図３６】 図１の拡散板に入射する光束のＦナンバー
と拡散光の配光比率との関係を示すグラフである。36 is a graph showing the relationship between the F number of a light beam incident on the diffusion plate of FIG. 1 and the light distribution ratio of diffused light.

【図３７】 実施例１の拡散板に入射する光束のＦナン
バーと拡散光の配光比率との関係を示すグラフである。FIG. 37 is a graph showing the relationship between the F number of a light beam incident on the diffusion plate of Example 1 and the light distribution ratio of diffused light.

【図３８】 実施例２の基本パターンのひとつを示す図
である。FIG. 38 is a diagram showing one of the basic patterns of the second embodiment.

【図３９】 実施例２の基本パターンの他のひとつを示
す図である。FIG. 39 is a diagram showing another one of the basic patterns of the second embodiment.

【図４０】 図３８の基本パターンと図３９の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例２の構
造を示す図である。40 is a diagram showing the structure of Example 2 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 38 and the basic pattern of FIG. 39 are superimposed.

【図４１】 実施例２の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 41 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 450 nm formed by the diffusion plate of Example 2.

【図４２】 実施例２の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 42 is a diagram visually showing the blurring of a point image at a wavelength of 550 nm formed by the diffusion plate of Example 2.

【図４３】 実施例２の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 43 is a diagram visually showing the blurring of a point image at a wavelength of 650 nm by the diffusion plate of Example 2.

【図４４】 実施例２の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図４１の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。FIG. 44 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 2 as a relationship between the radius from the center of FIG. 41 and the amount of light within a circle of that radius.

【図４５】 実施例２の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図４２の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。45 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of Example 2 as a relationship between the radius from the center of FIG. 42 and the amount of light within a circle of that radius.

【図４６】 実施例２の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図４３の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。FIG. 46 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 2 as a relationship between the radius from the center of FIG. 43 and the amount of light within a circle of that radius.

【図４７】 実施例２の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図４１の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。47 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 2 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 41, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図４８】 実施例２の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図４２の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 48 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of Example 2 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 42, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図４９】 実施例２の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図４３の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 49 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 2 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 43, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図５０】 実施例３の基本パターンのひとつを示す図
である。FIG. 50 is a diagram showing one of the basic patterns of the third embodiment.

【図５１】 実施例３の基本パターンの他のひとつを示
す図である。FIG. 51 is a diagram showing another one of the basic patterns of the third embodiment.

【図５２】 図５０の基本パターンと図５１の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例３の構
造を示す図である。52 is a diagram showing the structure of Example 3 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 50 and the basic pattern of FIG. 51 are superimposed.

【図５３】 実施例３の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 53 is a diagram visually showing the bokeh of a point image at a wavelength of 450 nm by the diffusion plate of Example 3.

【図５４】 実施例３の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 54 is a diagram visually showing the bokeh of a point image at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of Example 3.

【図５５】 実施例３の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 55 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 650 nm formed by the diffusion plate of Example 3.

【図５６】 実施例３の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図５３の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。FIG. 56 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 3 as a relationship between the radius from the center of FIG. 53 and the amount of light within the circle of that radius.

【図５７】 実施例３の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図５４の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。FIG. 57 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of Example 3 as a relationship between the radius from the center of FIG. 54 and the amount of light within a circle of that radius.

【図５８】 実施例３の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図５５の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。58 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 3 as a relationship between the radius from the center of FIG. 55 and the amount of light within the circle of that radius.

【図５９】 実施例３の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図５３の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 59 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffusion plate of Example 3 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 53, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図６０】 実施例３の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図５４の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 60 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of Example 3 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 54, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図６１】 実施例３の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図５５の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 61 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 3 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 55, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図６２】 実施例４の基本パターンのひとつを示す図
である。FIG. 62 is a diagram showing one of the basic patterns of the fourth embodiment.

【図６３】 実施例４の基本パターンの他のひとつを示
す図である。FIG. 63 is a diagram showing another one of the basic patterns of the fourth embodiment.

【図６４】 図６２の基本パターンと図６３の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例４の構
造を示す図である。64 is a diagram showing the structure of Example 4 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 62 and the basic pattern of FIG. 63 are superimposed.

【図６５】 実施例４の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 65 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 450 nm formed by the diffusion plate of Example 4.

【図６６】 実施例４の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 66 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 550 nm formed by the diffusion plate of Example 4.

【図６７】 実施例４の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 67 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 650 nm formed by the diffusion plate of Example 4.

【図６８】 実施例４の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図６５の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。68 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 4 as a relationship between the radius from the center of FIG. 65 and the amount of light within a circle of that radius. FIG.

【図６９】 実施例４の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図６６の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。FIG. 69 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of Example 4 as a relationship between the radius from the center of FIG. 66 and the amount of light within a circle of that radius.

【図７０】 実施例４の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図６７の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。70 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 4 as a relationship between the radius from the center of FIG. 67 and the amount of light within a circle of that radius.

【図７１】 実施例４の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図６５の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。71 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 4 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 65, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図７２】 実施例４の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図６６の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。72 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of Example 4 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 66, and showing the blurring of the vertical and horizontal lines, respectively.

【図７３】 実施例４の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図６７の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 73 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffusion plate of Example 4 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 67, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図７４】 実施例５の基本パターンのひとつを示す図
である。FIG. 74 is a diagram showing one of the basic patterns of the fifth embodiment.

【図７５】 実施例５の基本パターンの他のひとつを示
す図である。FIG. 75 is a diagram showing another one of the basic patterns of the fifth embodiment.

【図７６】 図７４の基本パターンと図７５の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例５の構
造を示す図である。76 is a diagram showing the structure of Example 5 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 74 and the basic pattern of FIG. 75 are superimposed.

【図７７】 実施例５の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。77 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 450 nm formed by the diffusion plate of Example 5. FIG.

【図７８】 実施例５の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。78 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 550 nm formed by the diffusion plate of Example 5. FIG.

【図７９】 実施例５の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 79 is a diagram visually showing the blur of a point image at a wavelength of 650 nm formed by the diffusion plate of Example 5.

【図８０】 実施例５の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図７７の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。80 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffuser plate of Example 5 as a relationship between the radius from the center of FIG. 77 and the amount of light within a circle of that radius. FIG.

【図８１】 実施例５の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図７８の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。81 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffuser plate of Example 5 as a relationship between the radius from the center of FIG. 78 and the amount of light within a circle of that radius.

【図８２】 実施例５の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図７９の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。82 is a graph showing the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffuser plate of Example 5 as a relationship between the radius from the center of FIG. 79 and the amount of light within a circle of that radius.

【図８３】 実施例５の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図７７の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。83 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 450 nm by the diffusion plate of Example 5 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 77, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図８４】 実施例５の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図７８の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 84 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 550 nm by the diffusion plate of Example 5 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 78, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図８５】 実施例５の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図７９の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。FIG. 85 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at a wavelength of 650 nm by the diffusion plate of Example 5 in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 79, and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図８６】 六角錐を最密充填に配列した基本パターン
を示す図である。FIG. 86 is a diagram showing a basic pattern in which hexagonal pyramids are arranged in the closest packing.

【図８７】 実施例６の拡散板の断面形状を示す図であ
る。FIG. 87 is a diagram showing a cross-sectional shape of the diffusion plate of Example 6;

【図８８】 実施例７の拡散板の平面図を示す図であ
る。FIG. 88 is a diagram showing a plan view of the diffusion plate of Example 7;

【図８９】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。89 is a wavelength 4 of the diffuser plate of Example 7 when φ = -15 °.
It is a figure which visually shows the bokeh of a point image in 50 nm.

【図９０】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。90] A wavelength of 5 when φ = -15 ° of the diffusion plate of Example 7.
It is a figure which visually shows the bokeh of a point image in 50 nm.

【図９１】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。FIG. 91 shows the wavelength 6 when φ = −15 ° of the diffusion plate of Example 7.
It is a figure which visually shows the bokeh of a point image in 50 nm.

【図９２】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける拡散光の分布を、図８９の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。92 is a wavelength 4 of the diffuser plate of Example 7 when φ = -15 °.
FIG. 90 is a graph showing the distribution of diffused light at 50 nm as a relationship between the radius from the center of FIG. 89 and the amount of light within a circle of that radius.

【図９３】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける拡散光の分布を、図９０の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。93 is a wavelength of 5 in the case of φ = -15 ° of the diffusion plate of Example 7. FIG.
90 is a graph showing the distribution of diffused light at 50 nm as a relationship between the radius from the center of FIG. 90 and the amount of light within a circle of that radius.

【図９４】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける拡散光の分布を、図９１の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。94 is a wavelength of 6 when φ = −15 ° of the diffusion plate of Example 7. FIG.
92 is a graph showing the distribution of diffused light at 50 nm as a relationship between the radius from the center of FIG. 91 and the amount of light within a circle of that radius.

【図９５】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける拡散光の分布を、図８９の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。95 is a wavelength 4 of the diffuser plate of Example 7 when φ = -15 °.
FIG. 90 A graph obtained by integrating the distribution of diffused light at 50 nm in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 89 and showing the blurring of vertical lines and horizontal lines, respectively.

【図９６】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける拡散光の分布を、図９０の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。96] A wavelength of 5 when φ = -15 ° of the diffusion plate of Example 7.
90 is a graph obtained by integrating the distribution of diffused light at 50 nm in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 90 and showing the blurring of the vertical and horizontal lines, respectively.

【図９７】 実施例７の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける拡散光の分布を、図９１の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。[FIG. 97] Wavelength 6 in the case where φ = −15 ° of the diffusion plate of Example 7
91 is a graph showing the blurring of vertical lines and horizontal lines obtained by integrating the distribution of diffused light at 50 nm in the vertical axis and horizontal axis directions of FIG. 91, respectively.

【図９８】 フレネルレンズの３６×２４mmの範囲を示
す模式図である。98 is a schematic diagram showing a range of 36 × 24 mm of the Fresnel lens. FIG.

【図９９】 図２６の拡散板と図９８のフレネルレンズ
を重ねた場合にみられるモアレ縞の模式図である。99 is a schematic diagram of moire fringes observed when the diffusion plate in FIG. 26 and the Fresnel lens in FIG. 98 are overlapped with each other.

【図１００】 二次元周期配列に付加されたランダムな
位置の揺らぎの説明図である。100 is an explanatory diagram of random position fluctuations added to a two-dimensional periodic array. FIG.

【図１０１】 実施例８の基本パターンのひとつを示す
図である。FIG. 101 is a diagram showing one of the basic patterns of the eighth embodiment.

【図１０２】 実施例８の基本パターンの他のひとつを
示す図である。FIG. 102 is a diagram showing another one of the basic patterns of the eighth embodiment.

【図１０３】 図１０１の基本パターンと図１０２の基
本パターンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例
８の構造を示す図である。103 is a diagram showing a structure of Example 8 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 101 and the basic pattern of FIG. 102 are overlapped.

【図１０４】 実施例９の基本パターンのひとつを示す
図である。FIG. 104 is a diagram showing one of the basic patterns of the ninth embodiment.

【図１０５】 実施例９の基本パターンの他のひとつを
示す図である。FIG. 105 is a diagram showing another one of the basic patterns of the ninth embodiment.

【図１０６】 図１０４の基本パターンと図１０５の基
本パターンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例
９の構造を示す図である。FIG. 106 is a diagram showing the structure of Example 9 of the diffusion plate according to the present invention in which the basic pattern of FIG. 104 and the basic pattern of FIG. 105 are superimposed.

【図１０７】 実施例１０のフォーカシングスクリーン
の断面形状を示す図である。FIG. 107 is a diagram showing a cross-sectional shape of a focusing screen of Example 10.

【図１０８】 実施例１１のフォーカシングスクリーン
の断面形状を示す図である。FIG. 108 is a diagram showing a sectional shape of a focusing screen of Example 11;

【図１０９】 基板とマスクの位置関係を示す断面図で
ある。FIG. 109 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the substrate and the mask.

【図１１０】 マスクに形成された微細パターンを示す
平面図である。FIG. 110 is a plan view showing a fine pattern formed on a mask.

【図１１１】 マスクの同一平面内での回転変位による
基板に対するマスクの相対位置を示す平面図である。FIG. 111 is a plan view showing the relative position of the mask with respect to the substrate due to rotational displacement of the mask in the same plane.

【図１１２】 (ａ)は、規則的微細パターンの重なりに
よって生じる新たな投影微細パターンを示す平面図であ
る。(ｂ)は、新たな投影微細パターンによって形成され
た凹凸レリーフの断面図である。FIG. 112 (a) is a plan view showing a new projected fine pattern generated by overlapping of regular fine patterns. (b) is a cross-sectional view of an uneven relief formed by a new projected fine pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１…基本パターンの拡散板 ２…基本パターンの拡散板 ３…微小構造物 ４…基本パターンが形成された部材 ５…基本パターンが形成された部材 ６…ファインダーの視野範囲 φ…部材４と部材５のなす角 ７…重ね合わせパターンによる拡散面 ８…フレネルレンズ ９…基本パターン １０…基本パターン １１…基本パターン９が形成された部材 １２…基本パターン１０とフレネルレンズ１３が別の面
に形成された部材 １３…フレネルレンズ １４…基板 １５…ポジ型フォトレジスト膜(感光材料) １６…マスク １７…微細パターン １８…紫外光 Δｔ…所定間隔 θ…方位角度 Ｌ…回転軸 １９…新たな微細パターン ２０…ドットパターン Ｘ…ドットパターン２０が重なり合って投影される部分 Ｙ…ドットパターン２０が単独で投影される部分 Ｚ…ドットパターン２０の他の部分DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Basic pattern diffuser plate 2 ... Basic pattern diffuser plate 3 ... Microstructure 4 ... Basic pattern formed member 5 ... Basic pattern formed member 6 ... Finder visual field range φ ... Member 4 and member 5 Angle 7 formed by the overlapping pattern 8: Fresnel lens 9: basic pattern 10: basic pattern 11: basic pattern 9 formed member 12: basic pattern 10 and Fresnel lens 13 formed on different surfaces Member 13 ... Fresnel lens 14 ... Substrate 15 ... Positive photoresist film (photosensitive material) 16 ... Mask 17 ... Fine pattern 18 ... Ultraviolet light Δt ... Predetermined interval θ ... Azimuth angle L ... Rotation axis 19 ... New fine pattern 20 ... Dot pattern X ... Portion where dot pattern 20 is projected overlapping Y ... Portion where dot pattern 20 is projected alone Z ... Dot pattern Other parts of the 0

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白柳 守康 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光 学工業株式会社内 (72)発明者 丸山 晃一 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光 学工業株式会社内 (72)発明者 冷牟田 輝明 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光 学工業株式会社内 (72)発明者 泉水 隆之 東京都板橋区前野町２丁目36番９号旭光 学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−226201（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−88002（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−221329（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−148728（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−90931（ＪＰ，Ａ) 実開 昭52−109834（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/02 G03B 13/24 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Moriyasu Shirayanagi 2-36-9 Maeno-cho, Itabashi-ku, Tokyo Within Asahi Kogaku Kogyo Co., Ltd. (72) Koichi Maruyama 2-36-9 Maeno-cho, Itabashi-ku, Tokyo No. Asahi Kogaku Kogyo Co., Ltd. (72) Inventor Teruaki Cold Muta 2-36-9 Maeno-cho, Itabashi-ku, Tokyo No. 36 Asahi Kogaku Kogyo Co., Ltd. (72) Takayuki Izumi Mizuno 36-36 Maeno-cho, Itabashi-ku, Tokyo No. 56 Asahi Kogaku Kogyo Co., Ltd. (56) Reference JP-A-2-226201 (JP, A) JP-A-55-88002 (JP, A) JP-A-63-221329 (JP, A) JP-A-57- 148728 (JP, A) JP-A-55-90931 (JP, A) Actually developed 52-109834 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) G02B 5/02 G03B 13 /twenty four

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】微小構造物が多数配置された基本パターン
を複数重ね合わせることにより形成される拡散板におい
て、前記微小構造物の配置は二次元周期的であって、該
二次元周期の格子ベクトルが前記複数の基本パターンご
とに異なることを特徴とする拡散板。1. A diffuser plate formed by stacking a plurality of basic patterns in which a large number of microstructures are arranged, wherein the arrangement of the microstructures is two-dimensionally periodic, and the lattice vector of the two-dimensional periodicity is used. Is different for each of the plurality of basic patterns. 【請求項２】同一の配置を有する基本パターンを、当該
パターンの平面内で所定角度回転させて、異なる配列方
向で重ね合わせて形成されることを特徴とする請求項１
に記載の拡散板。2. A basic pattern having the same arrangement is rotated by a predetermined angle in the plane of the pattern and is formed by overlapping in different arrangement directions.
The diffuser plate described in. 【請求項３】互いに相似形の基本パターンを、同一の配
列方向で重ね合わせて形成されることを特徴とする請求
項１に記載の拡散板。3. The diffuser plate according to claim 1, wherein basic patterns having similar shapes are overlapped with each other in the same arrangement direction. 【請求項４】互いに等しい充填方式の基本パターンを重
ね合わせて形成されることを特徴とする請求項１に記載
の拡散板。4. The diffusing plate according to claim 1, wherein the diffusing plate is formed by overlapping basic patterns of the same filling method. 【請求項５】互いに異なる充填方式の基本パターンを重
ね合わせて形成されることを特徴とする請求項１に記載
の拡散板。5. The diffusion plate according to claim 1, wherein the diffusion patterns are formed by stacking different basic patterns of different filling methods. 【請求項６】前記微小構造物の平面形状が円形であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の拡散板。6. The diffusion plate according to claim 1, wherein the microstructure has a circular planar shape. 【請求項７】前記拡散板は、微細構造をもった物理的に
ひとつの面であることを特徴とする請求項１に記載の拡
散板。7. The diffusion plate according to claim 1, wherein the diffusion plate is one surface having a fine structure and physically. 【請求項８】前記拡散板は、基本パターンが形成された
物理的に異なる複数個の拡散面を近接して配置して構成
されることを特徴とする請求項１に記載の拡散板。8. The diffuser plate according to claim 1, wherein the diffuser plate is formed by arranging a plurality of physically different diffuser surfaces on which a basic pattern is formed close to each other. 【請求項９】前記基本パターンが形成された複数の拡散
板は、互いに回動可能であることを特徴とする請求項８
に記載の拡散板。9. The plurality of diffusion plates having the basic pattern formed thereon are rotatable with respect to each other.
The diffuser plate described in. 【請求項１０】前記基本パターンのうちの少なくともひ
とつは、前記微小構造物の配置が、基準となる二次元周
期にランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴
とする請求項１乃至請求項９のうちいずれか１項に記載
の拡散板。10. At least one of the basic pattern, the arrangement of the micro-structures, according to claim 1 to claim, characterized in that the two-dimensional periodic serving as a reference is an arrangement obtained by adding the random fluctuations 9. The diffuser plate according to any one of 9 . 【請求項１１】前記基本パターンの揺らぎ量の標準偏差
をσ、二次元周期の格子ベクトルの長さの平均値をρと
するとき、 ０．０４＜σ／ρ＜０．２ を満たすことを特徴とする請求項１０に記載の拡散板。 【数１】 11. When the standard deviation of the fluctuation amount of the basic pattern is σ and the average value of the lengths of two-dimensional periodic lattice vectors is ρ, 0.04 <σ / ρ <0.2 is satisfied. The diffusion plate according to claim 10, which is characterized in that. [Equation 1] 【請求項１２】微小構造物が多数配置された基本パター
ンを複数重ね合わせることにより形成される拡散板と、
該拡散板に近接して置かれたフレネルレンズとを含み、
前記微小構造物の配置は二次元周期的であって、該二次
元周期の格子ベクトルは前記複数の基本パターンごとに
異なり、前記基本パターンのうちの少なくともひとつ
は、前記微小構造物の配置が、基準となる二次元周期に
ランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴とす
るフォーカシングスクリーン。12. A diffuser plate formed by stacking a plurality of basic patterns having a large number of microstructures arranged thereon,
A Fresnel lens placed in proximity to the diffuser plate,
The arrangement of the microstructure is two-dimensional periodic, the lattice vector of the two-dimensional period is different for each of the plurality of basic patterns, at least one of the basic pattern, the arrangement of the microstructure, A focusing screen characterized by an arrangement in which random fluctuations are added to the reference two-dimensional period. 【請求項１３】感光材料が被着された基板と微小構造物
が二次元周期的に多数配置された微細パターンが画成さ
れたマスクとを所定間隔をおいて対向させ、前記マスク
側から光照射を行って前記基板の感光材料面に前記微細
パターンを投影して露光したのち、該感光材料を現像処
理して前記基板に微細構造を形成する拡散板用母型の作
製方法であって、 前記基板または前記マスクを同一平面内で所定の方位角
度だけ回転変位させて前記基板に対する前記マスクの相
対位置を少なくとも２つ設定し、該相対位置毎に前記露
光を行い前記基板に所望の微細構造を形成することを特
徴とする拡散板用母型の作製方法。13. A substrate on which a photosensitive material is applied and a microstructure.
A plurality of two-dimensionally arranged minute patterns are opposed to a mask defining a fine pattern at a predetermined interval, and light is irradiated from the mask side to project the fine pattern on the photosensitive material surface of the substrate. A method for manufacturing a diffusion plate master mold, comprising exposing the photosensitive material to light and developing the photosensitive material to form a fine structure on the substrate, wherein the substrate or the mask is rotationally displaced by a predetermined azimuth angle in the same plane. Then, at least two relative positions of the mask with respect to the substrate are set, and the exposure is performed at each of the relative positions to form a desired fine structure on the substrate. 【請求項１４】前記微細パターンにおける前記微小構造14. The fine structure in the fine pattern.
物の配置が、基準となる二次元周期にランダムな揺らぎArrangement of objects randomly fluctuates in the standard two-dimensional cycle
を付加した配置であることを特徴とする請求項１３に記14. The arrangement according to claim 13, characterized in that
載の拡散板用母型の作製方法。A method of manufacturing a master die for a diffusing plate.