JPH0426780A - 曲面エッチング加工のマスキング方法 - Google Patents
曲面エッチング加工のマスキング方法Info
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- JPH0426780A JPH0426780A JP13308990A JP13308990A JPH0426780A JP H0426780 A JPH0426780 A JP H0426780A JP 13308990 A JP13308990 A JP 13308990A JP 13308990 A JP13308990 A JP 13308990A JP H0426780 A JPH0426780 A JP H0426780A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- curved surface
- work piece
- etching
- printing
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims abstract description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、曲面や凹凸を有するワークの曲面や凹凸の部
分のエツチング加工におけるマスキングに関するもので
ある。
分のエツチング加工におけるマスキングに関するもので
ある。
本発明は、表面が曲面や凹凸のあるワークにレジストを
塗布し、その上に印刷を施したものをマスキングとする
ことによりシャープな像をワークに転写でき従来技術で
は難しいとされていた曲面エツチング加工を容易にする
ことができた。
塗布し、その上に印刷を施したものをマスキングとする
ことによりシャープな像をワークに転写でき従来技術で
は難しいとされていた曲面エツチング加工を容易にする
ことができた。
従来のエツチング加工におけるマスキング方法は周知の
ようにワークの表面に紫外線硬化型のネガおよびポジレ
ジストを塗布し乾燥したものに得ようとする文字、絵な
どの像を現像したフィルムをマスキングとして上に設置
し、紫外線を照射させてレジストを現像する方法である
。。
ようにワークの表面に紫外線硬化型のネガおよびポジレ
ジストを塗布し乾燥したものに得ようとする文字、絵な
どの像を現像したフィルムをマスキングとして上に設置
し、紫外線を照射させてレジストを現像する方法である
。。
従来の方法では、ワーク表面が平坦なものであれば紫外
線照射の段階でフィルムに描かれた文字、絵などの像が
乱れることなくレジストに転写することができる。
線照射の段階でフィルムに描かれた文字、絵などの像が
乱れることなくレジストに転写することができる。
しかしワークの表面が曲面および凹凸のあるもので従来
のフィルムマスクで行うと、ワークの表面において段差
ができて紫外線照射時にフィルムに描かれた像が乱れて
しまい、必要とする文字や絵が得られなかった。従って
、曲面や凹凸面の工ソチング加工は容易にできていなか
った。
のフィルムマスクで行うと、ワークの表面において段差
ができて紫外線照射時にフィルムに描かれた像が乱れて
しまい、必要とする文字や絵が得られなかった。従って
、曲面や凹凸面の工ソチング加工は容易にできていなか
った。
上記課題を解決するために、従来のフィルムマスクに替
える手段として印刷を利用することにした。曲面および
凹凸面のワークに従来と同様に紫外線硬化型ネガ、ポジ
レジストを塗布し、乾燥後必要とする文字や絵はレジス
トの上に印刷インキを施して印刷し、その印刷によって
紫外線照射は遮断されレジストの硬化を防ぎ、その後は
従来のレジスト現像によりエツチング加工のマスキング
となる方法である。
える手段として印刷を利用することにした。曲面および
凹凸面のワークに従来と同様に紫外線硬化型ネガ、ポジ
レジストを塗布し、乾燥後必要とする文字や絵はレジス
トの上に印刷インキを施して印刷し、その印刷によって
紫外線照射は遮断されレジストの硬化を防ぎ、その後は
従来のレジスト現像によりエツチング加工のマスキング
となる方法である。
上記のように構成したマスキング方法により表面が曲面
や凹凸のあるワークでも任意の数字や絵の像をワークに
転写でき、ブレのないシャープなエツチング加工をする
ことができるのである。
や凹凸のあるワークでも任意の数字や絵の像をワークに
転写でき、ブレのないシャープなエツチング加工をする
ことができるのである。
以下にこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図、第２図、第３図は本発明の断面図を示ず。第１
図において曲面および凹凸のあるワークに紫外線硬化型
のネガ、ポジレジスト２を遠心分離機で塗布し乾燥機で
乾燥を行う。次に印刷機を使用して目的とする数字や絵
・模様などの印刷をレジスト２に印刷する。印刷する時
に使用するインキは紫外線の感光でレジストの硬化を防
止するのに有効な黒インキを使用する。第２図において
紫外線照射で第１図のワークに紫外線を照射し、次に所
定のレジスト現像液に所定の時間浸潤させる。この状態
で印刷した部分と紫外線に感光されていないレジストは
剥離される。これによって第３図における曲面および凹
凸面のあるワークにエツチング加工をすることができる
のである。さらに第２図の印刷、レジストの剥離が行わ
れた後にエツチング加工を行いこの状態でめっき処理を
することでエツチング加工凹部にめっきを着けることが
でき装飾品としての多様化も実現することができる。
図において曲面および凹凸のあるワークに紫外線硬化型
のネガ、ポジレジスト２を遠心分離機で塗布し乾燥機で
乾燥を行う。次に印刷機を使用して目的とする数字や絵
・模様などの印刷をレジスト２に印刷する。印刷する時
に使用するインキは紫外線の感光でレジストの硬化を防
止するのに有効な黒インキを使用する。第２図において
紫外線照射で第１図のワークに紫外線を照射し、次に所
定のレジスト現像液に所定の時間浸潤させる。この状態
で印刷した部分と紫外線に感光されていないレジストは
剥離される。これによって第３図における曲面および凹
凸面のあるワークにエツチング加工をすることができる
のである。さらに第２図の印刷、レジストの剥離が行わ
れた後にエツチング加工を行いこの状態でめっき処理を
することでエツチング加工凹部にめっきを着けることが
でき装飾品としての多様化も実現することができる。
以上の説明したようにこの発明は、表面に曲面や凹凸の
あるワークにレジストと印刷を施したマスキングによっ
て従来技術では難しいとされていた曲面および凹凸面の
エツチング加工をすることができた。
あるワークにレジストと印刷を施したマスキングによっ
て従来技術では難しいとされていた曲面および凹凸面の
エツチング加工をすることができた。
第１図、第２図、第３図は本発明の断面図を示す。
１・・・ワーク
２・・・レジスト
３・・・印刷
以上
出願人 セイコー電子工業株式会社
代理人 弁理士 林 敬 之 助
Claims (1)
- 表面が曲面あるいは凹凸のあるワークにレジストを塗
布する工程と、前記レジストの上に数字や絵・模様など
の印刷を施してマスキングする工程と、マスキング部の
レジストを剥離する工程とによりなることを特徴とする
曲面エッチング加工のマスキング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13308990A JPH0426780A (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 曲面エッチング加工のマスキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13308990A JPH0426780A (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 曲面エッチング加工のマスキング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0426780A true JPH0426780A (ja) | 1992-01-29 |
Family
ID=15096595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13308990A Pending JPH0426780A (ja) | 1990-05-23 | 1990-05-23 | 曲面エッチング加工のマスキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0426780A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496267B1 (ko) * | 2002-12-06 | 2005-06-17 | 박영철 | 반도체 레이저 식각공정을 이용한 실리콘에 문자 및 도형인쇄방법 |
| KR100721599B1 (ko) * | 2004-07-15 | 2007-05-25 | 쇼오트 아게 | 곡면을 갖는 코팅 기판 및 그 코팅 기판의 제조 방법과, 그 코팅 기판을 구비하는 스포트라이트와, 기판을 코팅하는 방법 및 장치 |
-
1990
- 1990-05-23 JP JP13308990A patent/JPH0426780A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496267B1 (ko) * | 2002-12-06 | 2005-06-17 | 박영철 | 반도체 레이저 식각공정을 이용한 실리콘에 문자 및 도형인쇄방법 |
| KR100721599B1 (ko) * | 2004-07-15 | 2007-05-25 | 쇼오트 아게 | 곡면을 갖는 코팅 기판 및 그 코팅 기판의 제조 방법과, 그 코팅 기판을 구비하는 스포트라이트와, 기판을 코팅하는 방법 및 장치 |
| US8647710B2 (en) | 2004-07-15 | 2014-02-11 | Schott Ag | Coated substrate with a curved surface, and a method for production of a coated substrate such as this |
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