JPH04260342A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH04260342A
JPH04260342A JP2130491A JP2130491A JPH04260342A JP H04260342 A JPH04260342 A JP H04260342A JP 2130491 A JP2130491 A JP 2130491A JP 2130491 A JP2130491 A JP 2130491A JP H04260342 A JPH04260342 A JP H04260342A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
insulating film
integrated circuit
circuit device
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP2130491A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Okinaga
隆幸 沖永
Yasuyuki Uchiumi
内海 康行
Kanji Otsuka
寛治 大塚
Hitoshi Horiuchi
整 堀内
Hiromichi Suzuki
博通 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP2130491A priority Critical patent/JPH04260342A/ja
Publication of JPH04260342A publication Critical patent/JPH04260342A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置に
関し、特に、エリアTAB方式の半導体集積回路装置に
適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、ゲートアレイやマイクロコンピュ
ータなどの論理LSIは、多機能化、高速化の進行に伴
って外部端子(入出力端子、電源端子)の数が著しく増
加しているため、半導体チップのボンディングパッドに
ワイヤを接続して外部回路との接続を行うワイヤボンデ
ィング方式が限界に達している。そのため、薄い絶縁フ
ィルム上にCu箔を微細加工したリードを形成し、この
リードを介してチップを基板に実装するTAB(フィル
ムキャリヤ)方式が注目されている。
【0003】しかしながら、TAB方式は、チップの四
辺に端子(バンプ電極)を設けるので、チップの辺長と
端子のピッチとによって端子の数が決まってしまい、端
子の増加には限界があった。そこで、絶縁フィルムの一
面または両面に形成したリードのインナーリード部を上
記絶縁フィルムの中央に配置したチップの下方に延在し
、上記チップとインナーリード部とをバンプ電極を介し
て電気的に接続する、いわゆるエリアTAB方式が注目
されている。
【0004】エリアTAB方式は、チップの四辺のみな
らず、中央部にも端子を設けることができるので、通常
のTAB方式よりも端子の数を増やすことができる利点
がある。なお、エリアTABについては、株式会社工業
調査会、1990年1月25日発行の「TAB技術入門
」P52に記載がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来、TAB方式では
、チップを保護するために、チップを絶縁フィルムのリ
ードに接続した後、ポッティング樹脂あるいはモールド
樹脂で封止していた。ところが、前記エリアTAB方式
の場合は、チップと絶縁フィルムとの間の狭い隙間に樹
脂が入り込み難い構造となっているため、ここにボイド
が発生し、エリアTABの信頼性を低下させるという問
題のあることが本発明者によって見出された。
【0006】本発明は、上記した問題点に着目してなさ
れたものであり、その目的は、エリアTABのチップ封
止工程で、チップと絶縁フィルムとの隙間にボイドが発
生するのを防止することのできる技術を提供することに
ある。
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のエリアTABは
、チップと対向する領域の絶縁フィルムの一部に貫通孔
を設けたものである。
【0009】
【作用】上記した手段によれば、チップと対向する領域
の絶縁フィルムの一部に貫通孔を設けることにより、チ
ップを樹脂で封止する際に、チップと絶縁フィルムとの
隙間の空気が上記貫通孔を通じて抜けるので、この隙間
に樹脂が流れ込み易くなる。
【0010】以下、実施例により本発明を説明する。な
お、実施例を説明するための全図において、同一機能を
有するものは同一の符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
【0011】
【実施例】本実施例によるエリアTAB方式の半導体集
積回路装置を図1および図2に示す。ポリイミド樹脂な
どの耐熱性合成樹脂からなる絶縁フィルム1の一面には
、複数本のリード2が放射状にパターン形成されている
。上記リード2の一端(インナーリード部)は、上記絶
縁フィルム1の中央に配置された半導体チップ3の下方
に延在し、他端(アウターリード部)は、絶縁フィルム
1の外側に延在している。リード2は、例えばCu箔か
らなり、その表面には、AuあるいはSnなどのメッキ
が施されている。上記リード2とチップ3とは、チップ
3またはリード2に形成されたAuなどからなるバンプ
電極4を介して電気的に接続されている。
【0012】上記チップ3およびリード2のインナーリ
ード部は、パッケージ本体5により封止されている。上
記パッケージ本体5は、エポキシ樹脂などの合成樹脂を
モールドしたものである。パッケージ本体5の外形寸法
は、絶縁フィルム1のそれよりも小さく、パッケージ本
体5の側面からは、絶縁フィルム1の一部およびリード
2のアウターリード部が外方に延在している。
【0013】上記パッケージ本体5の内部において、チ
ップ3の下方領域の絶縁フィルム1の一部には、多数の
貫通孔6が設けられている。図2に示すように、これら
の貫通孔6は、チップ3の下方領域のうち、リード2が
形成されていない領域に所定の間隔を置いて設けられて
いる。
【0014】このように、本実施例では、チップ2の下
方領域の絶縁フィルム1に多数の貫通孔6を設けたこと
により、チップ2をモールド樹脂で封止する際、チップ
2の下方領域と絶縁フィルム1との隙間の空気がこれら
の貫通孔6を通じて抜けるので、この隙間に樹脂が流れ
込み易くなる。
【0015】これにより、チップ2と絶縁フィルム1と
の隙間にボイドが発生するのを確実に防止することがで
きるので、エリアTABの信頼性および製造歩留りを向
上させることができる。
【0016】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0017】前記実施例では、チップをモールド樹脂で
封止する場合について説明したが、例えば図3に示すよ
うに、チップをポッティング樹脂7で封止するエリアT
ABに適用することもできる。この場合も、チップ2と
対向する領域の絶縁フィルム1に貫通孔6を設けること
により、チップ2と絶縁フィルム1との隙間の空気がこ
れらの貫通孔6を通じて抜けるので、この隙間にポッテ
ィング樹脂7が流れ込み易くなる。
【0018】前記実施例では、絶縁フィルムの片面にリ
ードを形成したエリアTABについて説明したが、絶縁
フィルムの両面にリードを形成したエリアTABにも適
用することができることは勿論である。
【0019】
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0020】チップと対向する領域の絶縁フィルムの一
部に貫通孔を設けた本発明のエリアTABによれば、チ
ップを樹脂で封止する際に、チップと絶縁フィルムとの
隙間の空気が上記貫通孔を通じて抜ける。これにより、
チップと絶縁フィルムとの隙間に樹脂が流れ込み易くな
るので、この隙間にボイドが発生するのを確実に防止す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である半導体集積回路装置の
断面図である。
【図2】この半導体集積回路装置の概略平面図である。
【図3】本発明の他の実施例である半導体集積回路装置
の断面図である。
【符号の説明】
1  絶縁フィルム 2  リード 3  半導体チップ 4  バンプ電極 5  パッケージ本体 6  貫通孔 7  ポッティング樹脂

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  絶縁フィルムの一面または両面に形成
    したリードのインナーリード部を前記絶縁フィルムの中
    央に配置した半導体チップの下方に延在し、前記半導体
    チップと前記リードのインナーリード部とをバンプ電極
    を介して電気的に接続したエリアTAB方式の半導体集
    積回路装置であって、前記半導体チップと対向する領域
    の前記絶縁フィルムの一部に貫通孔を設けたことを特徴
    とする半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】  前記半導体チップをモールド樹脂によ
    り封止したことを特徴とする請求項1記載の半導体集積
    回路装置。
  3. 【請求項3】  前記半導体チップをポッティング樹脂
    により封止したことを特徴とする請求項1記載の半導体
    集積回路装置。
JP2130491A 1991-02-15 1991-02-15 半導体集積回路装置 Pending JPH04260342A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998018161A1 (en) * 1996-10-17 1998-04-30 Seiko Epson Corporation Semiconductor device, method of its manufacture, circuit substrate, and film carrier tape
EP1075025A2 (en) * 1999-08-04 2001-02-07 Hitachi, Ltd. Electronic device and method of fabricating the same

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998018161A1 (en) * 1996-10-17 1998-04-30 Seiko Epson Corporation Semiconductor device, method of its manufacture, circuit substrate, and film carrier tape
WO1998018162A1 (en) * 1996-10-17 1998-04-30 Seiko Epson Corporation Film carrier tape and semiconductor device, method for manufacturing them, and circuit board
US6262473B1 (en) 1996-10-17 2001-07-17 Seiko Epson Corporation Film carrier tape and semiconductor device, method of making the same and circuit board
US6274405B1 (en) 1996-10-17 2001-08-14 Seiko Epson Corporation Semiconductor device, method of making the same, circuit board, and film carrier tape
US6452257B2 (en) 1996-10-17 2002-09-17 Seiko Epson Corporation Film carrier tape
US6867068B2 (en) 1996-10-17 2005-03-15 Seiko Epson Corporation Semiconductor device, method of making the same, circuit board, and film carrier tape
KR100459968B1 (ko) * 1996-10-17 2005-04-28 세이코 엡슨 가부시키가이샤 반도체장치및그제조방법,회로기판및필름캐리어테이프
EP1075025A2 (en) * 1999-08-04 2001-02-07 Hitachi, Ltd. Electronic device and method of fabricating the same
EP1075025A3 (en) * 1999-08-04 2003-12-17 Hitachi, Ltd. Electronic device and method of fabricating the same

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