JPH0422182A - Qスイッチパルスレーザ出力装置 - Google Patents

Qスイッチパルスレーザ出力装置

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JPH0422182A
JPH0422182A JP12536790A JP12536790A JPH0422182A JP H0422182 A JPH0422182 A JP H0422182A JP 12536790 A JP12536790 A JP 12536790A JP 12536790 A JP12536790 A JP 12536790A JP H0422182 A JPH0422182 A JP H0422182A
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JP
Japan
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switch
excitation
frequency
output
solid
Prior art date
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Application number
JP12536790A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Oka
岡 清
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明はQスイッチパルスレーザ出力装置に関する。
(従来の技術) 第4図はQスイッチパルスレーザ出力装置の構成図であ
る。集光鏡1の内部にはNd:YAGの固体レーザ媒質
2か設けられるとともにこの固体レーザ媒質2に対して
例えばクリプトンアークランプから成る2本の励起ラン
プ3,4か並設されている。固体レーザ媒質2の長手方
向にはそれぞれ共振器5を構成する高反射ミラー6と出
力ミラー7とが配置されている。これら高反射ミラ6及
び出力ミラー7の間には音響光学Qスイッチ(以下、Q
スイッチと省略する)8が配置されている。このQスイ
ッチ8はQスイッチ駆動回路9により任意の繰り返し周
波数でスイッチング動作する。なお、各励起ランプ3,
4は励起ランプ用電源10から電力か供給されて発光す
る。
かかる構成であれば、各励起ランプ3.4が発光するこ
とにより固体レーザ媒質2は励起される。
この状態のとき、Qスイッチ駆動回路9からQスイッチ
8に高周波電力が供給される間は、共振器5内での損失
が大きくなり、レーザ発振は停止する。そして、Qスイ
ッチ駆動回路9からQスイッチ8に高周波電力の供給が
停止すると、共振器5内での損失が急激に低下しレーザ
発振状態になる。
レーザ発振が停止している間もレーザ媒質2への励起は
行われており、レーザ媒質2内に大きな反転分布かでき
る。ここで、急激にレーザ発振状態になると、レーザ媒
質2内の大きな反転分布による誘導放出が一時に行なわ
れ、高いピークのQスイッチパルスレーザ光か出力ミラ
ー7から出力される。しかるに、Qスイッチ8は任意の
周波数でスイッチング動作するので、同周波数の周期毎
に高いピークのQスイッチパルスレーザ光が出力される
ところで、かかるQスイッチレーザ出力装置は例えばレ
ーザ加工に適用される。このレーザ加工ではQスイッチ
レーザ出力装置から高いピークのQスイッチパルスレー
ザ光を出力して被加工物に照射し、このとき被加工物を
加エバターンに従って移動させている。この場合、被加
工物に対するレーザ加工には粗調加工及び微調加工など
があり、このうち粗調加工は被加工物の移動を速度を速
くし、微調加工は被加工物の移動を速度を遅くしている
一方、被加工物に照射される単位長当たりのQスイッチ
パルスレーザ光の数は、粗調加工及び微調加工にかかわ
らず同一の方が良い。従って、粗調加工及び微調加工に
かかわらず被加工物に照射されるQスイッチパルス数を
同一にするために、Qスイッチパルスの繰り返し数を可
変することか行われている。しかしながら、パルスレー
ザ光の繰り返し数を可変すると、繰り返し周波数が高く
なるに従ってIQスイッチパルス当たりの特性つまりエ
ネルギやピーク出力か低下する。従って、粗調加工及び
微調加工を同一特性のQスイッチパルスレーザ光により
行なうことかできない。
(発明が解決しようとする課題) 以上のようにQスイッチパルスレーザ光の繰り返し数を
可変させると、Qスイッチパルスレーザ光のエネルギや
ピーク出力が変化する。
そこで本発明は、Qスイッチパルスレーザ光の繰り返し
数が変化しても一定のエネルギ、ピーク出力のQスイッ
チパルスレーザ光を出力できるQスイッチパルスレーザ
出力装置を提供することを目的とする。
C発明の構成コ (課題を解決するための手段) 本発明は、固体レーザ媒質と、この固体レーザ媒質を励
起する励起ランプと、固体レーザ媒質を間にして相対向
して配置された光共振器と、この光共振器内に配置され
た音響光学Qスイッチと、この音響光学Qスイッチを任
意の繰り返し周波数でスイッチング動作さぜるQスイッ
チ駆動回路と、このQスイッチ駆動回路からの繰り返し
周波数の信号を受けこの繰り返し周波数に応じた励起量
で励起ランプを発光させる励起量制御手段とを備えて上
記目的を達成しようとするQスイッチパルスレーザ出力
装置である。
(作 用) このような手段を備えたことにより、励起ランプの発光
により固体レーザ媒質を励起している状態に音響光学Q
スイッチを任意の繰り返し周波数でスイッチング動作さ
せると、音響光学Qスイッチへの高周波電力の供給が止
まる毎に光共振器からQスイッチパルスレーザ光か出力
される。このとき、励起量制御手段は音響光学Qスイッ
チの繰り返し周波数の信号を受けこの縁り返し周波数に
応じた励起量で励起ランプを発光させる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。なお、第4図と同一部分には同一符号を付してその
詳しい説明は省略する。
第1図はQスイッチレーザ出力装置の構成図である。Q
スイッチ駆動口゛路10はQスイッチ8をスイッチング
動作させるとともにこのスイッチング動作の繰り返し周
波数信号を励起量制御回路20に送出している。
この励起量制御回路20はQスイッチ8のスイッチング
動作の繰り返し周波数信号を受けこの縁り返し周波数に
応じた励起量に励起ランプ34を点灯制御させる機能を
有するものである。具体的には周波数/電圧変換回路2
1、リミッタ回路22及び絶縁アンプ23を有している
。周波数/電圧変換回路21は繰り返し周波数信号を受
け、この繰り返し周波数信号をその周波数に比例したレ
ベルの電圧信号に変換する機能を有している。
この変換回路21から出力される電圧信号はリミッタ回
路22に送られている。このリミッタ回路22は電圧信
号を上下限値により制限する機能を有している。ここで
、Qスイッチパルスレーザ光は繰り返し周波数が固体レ
ーザ媒質2の螢光寿命(約250μs)以下、つまり約
4kHz以下になると、エネルギやピーク値がほとんど
変化はない。
従って、電圧信号は周波数4kHz以下で電圧下限値一
定に制限される。又、各励起ランプ3.4には最大定格
電流があるので、この定格電流を越えない電圧上限値で
電圧信号を制限する必要がある。従って、電圧信号は最
大定格電流に鑑みた繰り返し周波数で電圧上限値に一定
制限される。このリミッタ回路22で制限された電圧信
号は絶縁アンプ23を通して励起ランプ用可変電源30
に送られている。この絶縁アンプ23はその出力端子が
励起ランプ用可変電源30の電流制御端子に接続されて
おり、電圧信号を電流制御端子にフローティングで入力
している。
励起ランプ用可変電源30は電圧信号を電流制御端子に
受け、この電圧信号に比例した値の電流を各励起ランプ
3.4に供給する機能を有している。
次に上記の如く構成された装置の作用について説明する
励起ランプ用可変電源30から電力が各励起ランプ3.
4に供給されてると、各励起ランプ光によりNd:YA
Gの固体レーザ媒質2は励起される。この状態のとき、
Qスイッチ駆動回路10からQスイッチ8に高周波電力
が供給される間は、共振器5内での損失が大きくなり、
レーザ発振は停止する。そして、Qスイッチ駆動回路1
0からQスイッチ8に高周波電力の供給が停止すると、
共振器5内での損失が急激に低下しレーザ発振状態にな
る。レーザ発振が停止している間も固体レーザ媒質2へ
の励起は行われており、固体レーザ媒質2内に大きな反
転分布ができる。ここで、急激にレーザ発振状態になる
と、固体レーザ媒質2内の大きな反転分布による誘導放
出が一時に行なわれ、高いピークのQスイッチパルスレ
ーザ光が出力ミラー7から出力される。しかるに、任意
の繰り返し周波数で高いピークのQスイッチパルスレー
ザ光が出力される。
この状態にQスイッチ駆動回路10はスイッチング動作
の繰り返し周波数信号を送出する。この繰り返し周波数
信号は励起量制御回路20の周波数/電圧変換回路21
に送られる。この周波数/電圧変換回路21は繰り返し
周波数信号をその周波数に応した電圧信号に変換して出
力する。この電圧信号はリミッタ回路22に送られ、こ
のリミッタ回路22は電圧信号を各電圧上下限値により
制限して送出する。そして、このリミッタ回路22を通
った電圧信号は絶縁アンプ23を通って励起ランプ用可
変電源30の電流制御端子に印加される。これにより、
各励起ランプ3,4にはQスイッチ8の繰り返し周波数
に比例した電流か供給される。かくして、各励起ランプ
3,4はQスイッチ8の繰り返し周波数に比例した励起
量で発光する。
ここで、これら励起ランプ3,4の励起量は第2図に示
すようにQスイッチ8の繰り返し周波数が4kHz以下
ではQ+量で一定に制限され、繰り返し周波数4kHz
からXkHzまては繰り返し周波数に比例し、繰り返し
周波数XkHz以上ではQ2量に一定制限される。
この結果、出力ミラー7から出力されるQスイッチパル
スレーザ光は繰り返し周波数が変化しても1バルスレー
サ光のエネルギ、ピーク出力はぼは同一となる。第3図
(a) (b) (c)はそれぞれ繰り返し周波数が1
kHz、5kH’z及び10k Hzの場合の1パルス
レーザ光のピークを示している。
同図から繰り返し周波数が変化しても1パルスレーザ光
のエネルギは変化しないことが分かる。上記Nd:YA
Gの固体レーザ媒質2を用いると、その螢光寿命は約2
50μsである。従って、繰り返し周波数が250μs
よりも短ければ1パルスレーサのピークは減少するが、
上記のように各励起ランプ3,4の励起量を増加するこ
とによって1パルスレーサのピークは繰り返し周波数に
関係なくほぼ同一にてきる。
このように上記一実施例においては、任意の繰り返し周
波数でQスイッチ動作させて高いピークのパルスレーザ
を出力する際にQスイッチ8のスイッチング動作の繰り
返し周波数を受けこの繰り返し周波数に応じた励起量で
各励起ランプ3,4を発光させるようにしたので、繰り
返し周波数が変化しても同一ピーク、同一エネルギのパ
ルスレーザ光を出力できる。従って、レーザ加工に適用
すれば、粗調加工及び微調加工により被加工物の移動速
度が変化しても単位長さに照射されるパルスレーザ光の
数を同一にできるとともにその1バルスレーサ光のエネ
ルギ、ピーク出力を同一にできる。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものでなくそ
の主旨を逸脱しない範囲で変形しても良い。例えば、Y
AGレーレー限らずガラスレーザにも適用できる。
[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、パルスレーザ光の
繰り返し数が変化しても熱定エネルギピーク出力のパル
スレーザ光を出力−できるQスイッチパルスレーザ出力
装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明に係わるQスイッチパルスレ
ーザ出力装置の一実施例を説明するための図であって、
第1図は構成図、第2図は繰り返し数に対する励起量を
示す図、第3図は各繰り返し数のパルスレーザのピーク
を示す図、第4図は従来装置の構成図である。 1・・・集光鏡、2・・・固体レーザ媒質、3,4・・
・励起ランプ、5・・・共振器、6・・・高反射ミラ7
・・・出力ミラー 10・・・Qスイッチ駆動回路、2
0・・・励起量制御回路、21・・・周波数/電圧変換
回路、22・・・リミッタ回路、23・・・絶縁アンプ
、30・・・励起ランプ用可変電源。 第 図 (a) #’ノML 問汲1;さ(【。 第 図 (b) (c) 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 固体レーザ媒質と、この固体レーザ媒質を励起する励起
    ランプと、前記固体レーザ媒質を間にして相対向して配
    置された光共振器と、この光共振器内に配置された音響
    光学Qスイッチと、この音響光学Qスイッチを任意の繰
    り返し周波数でスイッチング動作させるQスイッチ駆動
    回路と、このQスイッチ駆動回路からの繰り返し周波数
    の信号を受けこの繰り返し周波数に応じた励起量で前記
    励起ランプを発光させる励起量制御手段とを具備したこ
    とを特徴とするQスイッチパルスレーザ出力装置。
JP12536790A 1990-05-17 1990-05-17 Qスイッチパルスレーザ出力装置 Pending JPH0422182A (ja)

Priority Applications (1)

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JP12536790A JPH0422182A (ja) 1990-05-17 1990-05-17 Qスイッチパルスレーザ出力装置

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JP12536790A JPH0422182A (ja) 1990-05-17 1990-05-17 Qスイッチパルスレーザ出力装置

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JPH0422182A true JPH0422182A (ja) 1992-01-27

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05259103A (ja) * 1992-03-16 1993-10-08 Fujitsu Ltd 配線用金属形成での前処理方法
JP2013516057A (ja) * 2009-12-23 2013-05-09 テールズ 可変周期及び安定化したエネルギーのパルスを放出するレーザー
JP2015008747A (ja) * 2013-06-26 2015-01-19 キヤノン株式会社 被検体情報取得装置およびレーザ装置
JP2015008743A (ja) * 2013-06-26 2015-01-19 キヤノン株式会社 被検体情報取得装置およびレーザ装置
WO2016181488A1 (ja) * 2015-05-12 2016-11-17 株式会社島津製作所 受動qスイッチレーザ及びその動作最適化方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05259103A (ja) * 1992-03-16 1993-10-08 Fujitsu Ltd 配線用金属形成での前処理方法
JP2013516057A (ja) * 2009-12-23 2013-05-09 テールズ 可変周期及び安定化したエネルギーのパルスを放出するレーザー
JP2015008747A (ja) * 2013-06-26 2015-01-19 キヤノン株式会社 被検体情報取得装置およびレーザ装置
JP2015008743A (ja) * 2013-06-26 2015-01-19 キヤノン株式会社 被検体情報取得装置およびレーザ装置
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