JPH04200777A - 艶消しフィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は艶消しフィルムの製造方法に関する。

〔従来の技術］ 所望の艶消し状の外観が現出する艶消しフィルムとして
は、従来、フィルム基材表面に熱エンボス法等により梨
地調、砂目調等の微細な凹凸形状を付した構成のものが
知られている。この種の艶消しフィルムは、各種の表面
化粧材、窓貼り用粘着ソート、ＣＲＴの防眩フィルター
等の用途に使用されている。

（発明が解決しようとする課Ｈ） しかしながら、上記従来の艶消しフィルムは艶消し外観
を現出させるための凹凸形状を熱エンボス法により熱可
塑性のフィルム基材表面に直接賦型形成していたため、
フィルム基材として極端に耐熱性が劣るものは適用でき
ず、また賦型した凹凸は熱的要因等により変形し易い欠
点があった。

また熱エンボス法により得られる凹凸はエンボス版深に
対して通常１０〜２０μｍ程度のエンボス後のもどりが
あるため、特に１０μｍ以下の細かい凹凸形状を忠実に
再現したものは得られ難かった。しかも熱エンボス法で
は賦型形成できる凹凸形状に限界があったり凹凸形状を
微妙に変化させることが困難であるため、艶消し外観を
自在に調整した艷消しフィルムを得ることは不可能に近
いことであった。

本発明は上記従来技術の欠点に鑑みされたもので、かか
る欠点を解消した優れた艶消しフィルムの製造方法を提
供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

すなわち本発明の艷消しフィルムの製造方法は、フィル
ム基材上に電離放射線硬化性樹脂よりなる凹凸艶消層を
設けた艶消しフィルムを製造する方法であって、上記艶
消層の凹凸形状を賦型するための版凹部を形成したロー
ル凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹部に電
離放射線硬化性樹脂を充填させると共にフィルム基材を
接触させ、次いで該フィルム基材がロール凹版に接触し
ている間に電離放射線を照射して凹版と基材の間に介在
している上記樹脂を硬化させて基材側に密着せしめた後
、基材を凹版から剥離することを特徴とするものである
。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。

本発明の製造方法は、第１図に示すように形成すべき艶
消しフィルムの凹凸艶消層における凹凸形状に相応する
版凹部１を製版したロール凹版２を使用することによっ
て艶消しフィルムの製造を行なうものである。図中８は
ロール凹版２と対に設置される押圧ロールを示す。

先ず本発明方法は、図示の如く設置したロール凹版２に
対して艶消しフィルムのフィルム基材３を適宜搬送手段
にて凹版面に当接するように供給し、それと共に電離放
射線硬化性樹脂４を少なくとも版凹部内に充填されるよ
うに供給する。次いで、基材３が凹版２に接触している
間に電離放射線照射装置５により電離放射線を照射する
ことによって、凹版２と基材３の間に介在している上記
樹脂４を硬化させると同時に基材側に密着せしめる。そ
して最後にフィルム基材３をロール凹版２から剥離する
ことにより、第２図に例示する如くフィルム基材３上に
版凹部の形状が賦型された電離放射線硬化性樹脂よりな
る凹凸艶消層６が設けられた構成の艶消しフィルム７が
得られる。

本発明では艶消層６を上述のような手段にて形成してい
るため特に低粘度の液状樹脂が版凹部へ確実に流入する
ことにもなり、その結果、ロール凹版に型取りした凹凸
形状が忠実に且つ均一鮮明に再現された極めて精巧な凹
凸艶消層が得られる。

しかも該艶消層の凹凸形状パターンが極めて複雑で微細
なものであっても何ら支障なく再現性良好に安定して得
ることができる。

艶消層６の凹凸形状としては、半球、五角錐、四角錐等
の円錐や角錐、或いは円錐台や角錐台、砂目、ヘアーラ
イン等の形状が挙げられる。これら凹凸形状における凹
部の開口幅及び深さは０．１〜５μｍ程度が好ましい、
また艶消層は第２図に例示の如き表面部に凹凸形状が付
された連続状の層形前のものに限定されず、凹凸形状に
おける凸部のみが独立して設けられ、それら各凸部間が
凹部となる形態のものであってよい。

上記ロール凹版２における版凹部１の形成は、表面にク
ロムメンキした銅等の金属材料、硝子等のセラミクス、
合成樹脂等からなる版材料に対して電子彫刻、エツチン
グ法、ミル押し、電鋳法等の手段を適用して行うことが
できる。

電離放射線硬化性樹脂４の供給充填は、本実施例の如く
ロール凹版２とフィルム基材３が当接する手前における
該凹版の版面に直接、ロールコート法、Ｔダイ状のノズ
ルによる供給法等にて樹脂を塗布することにより行なわ
れる。塗布された樹脂４はロール凹版の回転とともに移
動供給され、最終的に凹版と基材とに挟持圧入されるよ
うにして充填される。本発明では樹脂を上記のようにロ
ール凹版に直接塗工せしめて供給するため、例えば樹脂
をロール凹版に当接する前のフィルム基材上に予め塗工
廿しめて供給する方法に比べて、気泡混入がきわめて少
ない供給が可能であり、また凹版の版凹部内に樹脂液が
充分に且つ確実に充填されるため再現性良好な凹凸形状
を得やすい等の利点がある。

ｔｍ放射線硬化性樹脂としては、公知の紫外線又は電子
線硬化型樹脂が使用でき、中でも溶剤無添加タイプのも
のを使用すれば硬化による体積収縮、形状変形、気泡発
生等の不具合が生しることがなく、該樹脂の予備乾燥工
程が不要となる上、より再現性良好な凹陥部が確実に得
られ易くなる。

また艶消層を構成する樹脂であるため、必要ムこ応じて
ソリ力、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、ポリエチレン
、ポリウレタン等の微粒子からなる艷消剤を含有せしめ
てもよい。

また照射する電離放射線はフィルム基材３が透明である
場合には紫外線を使用することができるが、該基材が不
透明である場合には電子線を使用することが必要である
。またロール凹版をガラス等のｉｎ放射線透過性材料に
て構成すれば、該凹版内部に設置した照射装置により電
離放射線の照射が可能となる。電子線を使用する場合、
その照射量はフィルム基材の厚み、材質等にもよるが通
常１００〜３００ｋＶ、２〜１０　Ｍｒａｄ程度が好ま
しい。

本発明では樹脂４の硬化を、樹脂４がロール凹版内に存
在する間に行なう１回の電離放射線照射にて完全に行な
ってしまう態様の他、複数回の電離放射線照射により段
階的な硬化を行なってもよい。例えば、樹脂４がロール
凹版内に存在する間の１回目の１ｊＬＨ放射線照射によ
り半硬化させ、凹版から離型した以鋒に２回目の電離放
射線照射を行なって完全に硬化させることができる。

フィルム基材３としては、ロール等を円滑に通過する適
度な可撓性を有するものであれば如何なるものでもよい
。例えば、アクリルフィルム、ポリエステルフィルム、
ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ
塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポ
リカーポ２−トフィルム、ポリアミド（ナイロン）フィ
ルム、ポリスチレンフィルム、エチレン−酢酸ビニルコ
ポリマーフィルム等を使用することができ、中でも加工
適性、強度、コスト等の点に考慮した場合、特にポリエ
チレンテレフタレートフィルムが望ましい、これらのフ
ィルムの艶消層を形成する面には、必要に応してコロナ
放電処理やポリエステル系樹脂等の易接着ブライマー処
理を施すことができる。この基材３の厚さは６〜３００
μｍ程度が好ましい。

上記の如き構成の本発明艶消しフィルムはＣＲＴ防眩フ
ィルター、メンブレンスイッチの表面シート、各種ソー
ト等のようにして使用される。

次に、具体的実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明す
る。

実施例１ 厚さ２５μｍの二輪延伸ポリエステルフィルム（東し製
：Ｔ−６０）の片面に、ポリエステル系二液硬化型プラ
イマーをグラビアコート法にて乾燥時の厚さが０，３μ
ｍとなるように塗布して離型処理を施した。この処理面
に、第１図の図示の如き製造形態を採用して下記の構成
材料および条件にて艶消層を形成し、艶消しフィルムを
得た。

・凹版・・・凹部幅が１μｍ、版深（凹部深さ）が１μ
ｍ、凹部のピンチが１μｍであり、且つ半球形状の版凹
部を形成したロール凹版を使用した。

・を離放射線硬化型樹脂・・・ポリエステルアクリレー
ト系電子硬化型塗料を使用。

・照射条件・・・カーテンビーム型の電子線照射装置に
てｌＯＭｒａｄの電子線を照射。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の製造方法では特に凹凸艶
消層を前記の如＜ｆｔ＃放射線硬化性樹脂がロール凹版
とフィルム基材の間に介在している間に硬化賦型させて
形成しているため、成形状に極めて忠実で鮮明に且つ均
一に再現された所望通りの精巧な艶消層が得られる。従
って、本発明によれば上記の如き凹凸艶消層による所望
通りの各種艶消し外観が一様に発現する艷消しフィルム
を簡便に且つ確実に製造することが可能である。

また本発明は艶消し外観を現出させるための凹凸形状を
従来の如くフィルム基材表面に熱エンボス法により直接
賦型して形成するのではなく、ロール凹版内で既に凹凸
形状に賦型した艶消層を該凹版からフィルム基材側に転
移密着させて形成するため、フィルム基材として非耐熱
性のものも適用可能である。しかも艶消層を電離放射線
硬化性樹脂にて構成しているため、艶消層自体が優れた
耐熱性、耐磨耗性等を備えており、その結果、艶消層の
凹凸形状が変形や損傷する虞れが少ない艮、質の艶消し
フィルムを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明製造方法の一実施例を示す工程説明図、
第２図は本発明方法にて得られる艶消しフィルムの断面
図である。 工・・・版凹部　　　　２・・・ロール凹版３・・・フ
ィルム基材　４・・・電離放射線硬化性樹脂６・・・凹
凸艶消層　　７・・・艶消しフィルム第１図 ６・・・凹凸艶消層 第２図 ７・・・艶消しフイルム

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. フィルム基材上に電離放射線硬化性樹脂よりなる凹凸艶
   消層を設けた艶消しフィルムを製造する方法であって、
   上記艶消層の凹凸形状を賦型するための版凹部を形成し
   たロール凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹
   部に電離放射線硬化性樹脂を充填させると共にフィルム
   基材を接触させ、次いで該フィルム基材がロール凹版に
   接触している間に電離放射線を照射して凹版と基材の間
   に介在している上記樹脂を硬化させて基材側に密着せし
   めた後、基材を凹版から剥離することを特徴とする艶消
   しフィルムの製造方法。